JPS58159263A - 磁気テ−プ走行系のテ−プガイド - Google Patents
磁気テ−プ走行系のテ−プガイドInfo
- Publication number
- JPS58159263A JPS58159263A JP57041762A JP4176282A JPS58159263A JP S58159263 A JPS58159263 A JP S58159263A JP 57041762 A JP57041762 A JP 57041762A JP 4176282 A JP4176282 A JP 4176282A JP S58159263 A JPS58159263 A JP S58159263A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tape
- guide
- magnetic tape
- projection
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B15/00—Driving, starting or stopping record carriers of filamentary or web form; Driving both such record carriers and heads; Guiding such record carriers or containers therefor; Control thereof; Control of operating function
- G11B15/60—Guiding record carrier
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気テープ走行糸のテープガイドに係り、テ
ープガイド★肉に、１嫌または長径がα０５〜α５ｓ鯛
の略半球状の凸起をもうけることにより磁気テープの走
行安定化を効果的に図り。
ープガイド★肉に、１嫌または長径がα０５〜α５ｓ鯛
の略半球状の凸起をもうけることにより磁気テープの走
行安定化を効果的に図り。
しかも磁気テープが一傷を受けないテープガイドｔｉ：
捉供することを目的とする。
捉供することを目的とする。
本発明でいう「磁気テープ走行系のテープガイド」とは
、磁気テープの記録再生装置、ダビング＠蝋、饋皐・―
集などの加工装置などの各確磁気テープ走行餉蝋で健Ｊ
！ｌｉされるテープガイド、および磁気チー１カセツＦ
内で懐崩されるテープガイドをいう。
、磁気テープの記録再生装置、ダビング＠蝋、饋皐・―
集などの加工装置などの各確磁気テープ走行餉蝋で健Ｊ
！ｌｉされるテープガイド、および磁気チー１カセツＦ
内で懐崩されるテープガイドをいう。
近年、塗料分散技術、塗布技揄、：Ａレンダ−（衣崗−
出し）技術などの進歩により、磁気テープ、特にビデオ
テープの表−性はますます向上し、表向粗さがαＱ２〜
１０８μ鯛のＨ６の磁気テープが生麺されつつある。こ
のような高い表向性を磁気テープの高普度記録特性とし
て生かすためには、高い表絢性を保持した１！ま磁気テ
ープを円滑に走行させる必要がある。そのため−気テー
プ走行系のテープガイドにおいても、ｍ気チー１面が接
触する表向はなめらかにし、磁気テープがテープガイド
により擦傷を受けないようにしなければいけない。
出し）技術などの進歩により、磁気テープ、特にビデオ
テープの表−性はますます向上し、表向粗さがαＱ２〜
１０８μ鯛のＨ６の磁気テープが生麺されつつある。こ
のような高い表向性を磁気テープの高普度記録特性とし
て生かすためには、高い表絢性を保持した１！ま磁気テ
ープを円滑に走行させる必要がある。そのため−気テー
プ走行系のテープガイドにおいても、ｍ気チー１面が接
触する表向はなめらかにし、磁気テープがテープガイド
により擦傷を受けないようにしなければいけない。
従来使用されている磁気テープ走行糸のテープガイドの
一つとして、Ｍ１ｈｉ￥Ｉに示すガイドビンを例として
考える。ガイドビンは主として非磁性ステンレス−の円
筒体の外周−を研摩および超仕上げを行なって加工され
ている。しかし、このガイドビンの外Ｍｉｉ向を拡大し
て見ると、第２図に示すようにＩＭＦｋＪにかなりの尖
点２を肴゛シている。このようなガイドビンの表−を磁
気テープが走行すると、磁気チー１向に擦傷を生じたり
、表−の磁性皮膜を損傷し、ひいてはテープの破損を純
生させてテープの寿命を縮小するなどの１１１１ｉ１を
生じる。
一つとして、Ｍ１ｈｉ￥Ｉに示すガイドビンを例として
考える。ガイドビンは主として非磁性ステンレス−の円
筒体の外周−を研摩および超仕上げを行なって加工され
ている。しかし、このガイドビンの外Ｍｉｉ向を拡大し
て見ると、第２図に示すようにＩＭＦｋＪにかなりの尖
点２を肴゛シている。このようなガイドビンの表−を磁
気テープが走行すると、磁気チー１向に擦傷を生じたり
、表−の磁性皮膜を損傷し、ひいてはテープの破損を純
生させてテープの寿命を縮小するなどの１１１１ｉ１を
生じる。
本＠明は、テープガイド表向を処理することにより上記
の８−を解決し、磁気テープの走行安定化を効果的に図
り、磁気テープが擦傷を受けないテープガイドを提供す
ることを目的とするものである。
の８−を解決し、磁気テープの走行安定化を効果的に図
り、磁気テープが擦傷を受けないテープガイドを提供す
ることを目的とするものである。
すなわち本発明においては、テープガイドの表面は直径
または長径がα０５〜α５声購の略半球状の凸起を有し
ているため、磁気テープ向との接触は丸みのある−で起
り、磁気チー１崗が擦傷を受けることがない。また凸起
を影威する物質は５１０８、Ｔｉｅ、ＷＣ，Ｂ、Ｃ，１
ｉ量Ｃ１ＴｉＮ、ＢＮ ｔたはＳ量、１−籠、１のいず
れかを主成分とし、硬度が高い物質である。
または長径がα０５〜α５声購の略半球状の凸起を有し
ているため、磁気テープ向との接触は丸みのある−で起
り、磁気チー１崗が擦傷を受けることがない。また凸起
を影威する物質は５１０８、Ｔｉｅ、ＷＣ，Ｂ、Ｃ，１
ｉ量Ｃ１ＴｉＮ、ＢＮ ｔたはＳ量、１−籠、１のいず
れかを主成分とし、硬度が高い物質である。
そのため、凸起が磁気テープとの摺動により削られて、
削りくずが磁気テープに付着してド四ツブアウトを駒起
するということもない。
削りくずが磁気テープに付着してド四ツブアウトを駒起
するということもない。
また本発明の他の特徴は、凸起の形成がメッキのような
湿式プリセスではなくプラズマＣＶＤ法という乾式プレ
セスで簡単に行なえ、主として基体としで使われるステ
ンレス鋼の腐食劣化という観点からも有理であるという
点にある。
湿式プリセスではなくプラズマＣＶＤ法という乾式プレ
セスで簡単に行なえ、主として基体としで使われるステ
ンレス鋼の腐食劣化という観点からも有理であるという
点にある。
以下、本発明に係るテープガイド表面の処理方法につい
て、ガイドビンを例にとって説明するＯまず、非磁性ス
テンレス鋼の円筒体の外周面を研摩し、表面粗さをＣＬ
４ｇ以下に仕上げる。従来の方イドビンにおいては表両
粗さα２〜α４８に仕上げられているが１本発明ではス
テンレス綱基体の上にざらに験を形成するので基体の表
−臘ざはα６８以下にすれば十分に本発明の目的は應威
される。次に該円輪状基体をプラズｖｃＶＤ装置に配置
し、その＊ｔ！＆ｉに１クズｌＣＶＤ決により１〜１０
声隅の厚さで麟を腰威する。このようにして形成した膜
の表向は、１１ｋ５−に示すように略半球状の凸起５を
なしており、そのｔ７Ｌ径またはＩｋ極は１フズマＣＶ
Ｄの条件によってコントロールすることができる。この
径は、α２〜α４８ｇが望ましい。径がａＱ５Ｊ＠以下
の場合は、ガイドビンのｌ！肉が平謝化しすぎて磁気テ
ープ＆１１１とガイドビン＊＊との層動順線が大きくな
り、磁気テープの走行不良を生じる。また径が１５ＪＩ
−以上になるとＩＭ向粗さは機械的研摩によ・り得られ
る従来のガイドビンの表向粗さと一路以上になるために
不適切である。
て、ガイドビンを例にとって説明するＯまず、非磁性ス
テンレス鋼の円筒体の外周面を研摩し、表面粗さをＣＬ
４ｇ以下に仕上げる。従来の方イドビンにおいては表両
粗さα２〜α４８に仕上げられているが１本発明ではス
テンレス綱基体の上にざらに験を形成するので基体の表
−臘ざはα６８以下にすれば十分に本発明の目的は應威
される。次に該円輪状基体をプラズｖｃＶＤ装置に配置
し、その＊ｔ！＆ｉに１クズｌＣＶＤ決により１〜１０
声隅の厚さで麟を腰威する。このようにして形成した膜
の表向は、１１ｋ５−に示すように略半球状の凸起５を
なしており、そのｔ７Ｌ径またはＩｋ極は１フズマＣＶ
Ｄの条件によってコントロールすることができる。この
径は、α２〜α４８ｇが望ましい。径がａＱ５Ｊ＠以下
の場合は、ガイドビンのｌ！肉が平謝化しすぎて磁気テ
ープ＆１１１とガイドビン＊＊との層動順線が大きくな
り、磁気テープの走行不良を生じる。また径が１５ＪＩ
−以上になるとＩＭ向粗さは機械的研摩によ・り得られ
る従来のガイドビンの表向粗さと一路以上になるために
不適切である。
表向に形成する物質としては、８１０．％ＴＩＣ，ＷＣ
。
。
Ｂ、Ｃ，ｇｉｃ、 ＴｉＮ、 ＢＮまたは８１．Ｎ、の
いずれかを主成分とする物質が適している。これは、こ
れらの物質がプフズＹＣＶＤ法により論単に形成が可能
であり、かつ、硬度が高いものであるという理由による
。
いずれかを主成分とする物質が適している。これは、こ
れらの物質がプフズＹＣＶＤ法により論単に形成が可能
であり、かつ、硬度が高いものであるという理由による
。
上記の物質は、ＣＶＤ法によっても形成することができ
る。しかし、ＣＶＤ法は基体温度を１０００℃柵度まで
加熱しなければならず、昇温するまでに時間がかかり生
産コストも１Ｉｉｉ蟲になる。
る。しかし、ＣＶＤ法は基体温度を１０００℃柵度まで
加熱しなければならず、昇温するまでに時間がかかり生
産コストも１Ｉｉｉ蟲になる。
一方プフズマＣｖＤ法によれば、４９０℃一度までの比
較的低温条件で膜の形成が可能であり、生産性、生産コ
ストともにすぐれた方法である。
較的低温条件で膜の形成が可能であり、生産性、生産コ
ストともにすぐれた方法である。
次にステンレス−基体上に１クズマＣＶＤ１により８１
．Ｎ４１１を形成する方法を、本発明で使用したプラズ
マＣＶＤ装置１Ｎ第４ｍ）で説明する。
．Ｎ４１１を形成する方法を、本発明で使用したプラズ
マＣＶＤ装置１Ｎ第４ｍ）で説明する。
表向粗さをＣＬ４ｇ以下に仕上げられたガイドビン１を
１反応管４の中に置かれたホルダー１３に配置する。配
電されたガイドビン１は、ガイドビン圓転用モーター１
１により自転するしくみになっている。この−転のため
にガイドビン１には全開にわたって均一な層厚で農の形
成ができる。ガイドビン１の配置が＃Ｔしたら掴−転ポ
ン１１２で反応ｗ４の中を真空にひき、外部ヒーター７
によりガイドビンを所定の温度まで加熱する。次にボン
ベ８および９より？ＩＪＨ，ガスおよびＮ、ガスを反応
管４の中に流し、ＲＦコイル５により反応管４の中に１
ツス！を発生させる。このときの反応管４の中の真空度
はａ１〜１Ｔ・ｒｒ である。プラズマが安定したら
ボンベ１０から８１４ガスを流し反応を開始する。プラ
ズマ励起されたＮＨ，およびＮ。
１反応管４の中に置かれたホルダー１３に配置する。配
電されたガイドビン１は、ガイドビン圓転用モーター１
１により自転するしくみになっている。この−転のため
にガイドビン１には全開にわたって均一な層厚で農の形
成ができる。ガイドビン１の配置が＃Ｔしたら掴−転ポ
ン１１２で反応ｗ４の中を真空にひき、外部ヒーター７
によりガイドビンを所定の温度まで加熱する。次にボン
ベ８および９より？ＩＪＨ，ガスおよびＮ、ガスを反応
管４の中に流し、ＲＦコイル５により反応管４の中に１
ツス！を発生させる。このときの反応管４の中の真空度
はａ１〜１Ｔ・ｒｒ である。プラズマが安定したら
ボンベ１０から８１４ガスを流し反応を開始する。プラ
ズマ励起されたＮＨ，およびＮ。
と８１）１．が反応して８１．Ｎ４が生威し、ガイドビ
ン１上に８１ａＮ４Ｍが形成される。
ン１上に８１ａＮ４Ｍが形成される。
このようにして形成された簾のｊＩ！向は略半球状の凸
起を有しており、その径はＲＦコイル５に如えるＲＦパ
ワー、外部ヒーター１による加熱温度など、プラズマＣ
ＶＤの条件によってコントロールすることができる。ま
た、使用する原料ガスの１１頼によっても径は員なって
くる。
起を有しており、その径はＲＦコイル５に如えるＲＦパ
ワー、外部ヒーター１による加熱温度など、プラズマＣ
ＶＤの条件によってコントロールすることができる。ま
た、使用する原料ガスの１１頼によっても径は員なって
くる。
次に実施例および比較例により本発明の効果を述べる。
〔夷り例１〕
ステンレスｆｌ１４８ＵＢｓ１６の円筒体の外周を責−
粗さｃＬ６８以下に仕上げたｌイドビンの表面に、ＳＩ
Ｃ，ＴＩＮ、 ＩＮおよび８に、Ｎ４膜を５μ燭の厚さ
でＩＣ成した。形成された展ｆｋ鈎の略字球状の凸起の
直径は表−１に示したようになった。ただし、プラズマ
ＣＶＤの条件はすべての物質でｍ−とし。
粗さｃＬ６８以下に仕上げたｌイドビンの表面に、ＳＩ
Ｃ，ＴＩＮ、 ＩＮおよび８に、Ｎ４膜を５μ燭の厚さ
でＩＣ成した。形成された展ｆｋ鈎の略字球状の凸起の
直径は表−１に示したようになった。ただし、プラズマ
ＣＶＤの条件はすべての物質でｍ−とし。
ＲＦバ’７−２ＱＱＷ％加ａｍ度２００℃とした。
上記のようにして作製されたガイドビンを■Ｈｓチー１
カセットに組込み、ｖｎｓ＊セットデツキぐ表細粗さα
０５ｊＩ鴬の磁気テープを走行させた。
カセットに組込み、ｖｎｓ＊セットデツキぐ表細粗さα
０５ｊＩ鴬の磁気テープを走行させた。
ｉｄｉ気テープを２０Ｑ＆＆Ｉｌ走行させた後に、磁気
テープに生じた擦傷を調べた。１１茸あたりの擦傷の故
を表−１に示した。
テープに生じた擦傷を調べた。１１茸あたりの擦傷の故
を表−１に示した。
〔比４ＩＨ１’ｉｌ）
実施例１と―じ円筒体の外ｊＩｉ１面を従来の研摩方法
により責ｗＩＪ粗さく１４５１に仕上げた。このガイド
ビンを■Ｈ８テープカセットに組込み、実施例１と同じ
試験を行なった。結果を表−１に示す。
により責ｗＩＪ粗さく１４５１に仕上げた。このガイド
ビンを■Ｈ８テープカセットに組込み、実施例１と同じ
試験を行なった。結果を表−１に示す。
〔比較例２〕
実施例１と同じく表面粗さ１６ｇ以下に仕上げたガイド
ビンのｉＭ面に、プフズｖＣＶＤ法にょう８１ｍＮａ
ＩＩ！ ｔｒ Ｓ声解の厚さで形成した。たたしプフズ
’ｒｃＶＤｆ）条件は、ＲＦパ’７−５ＯＷ、加＃１１
１１！度１００℃とした。このガイドビンのｔｉ園の凸
起の１径はα口Ｓ声講であり、実施例１と同じ試験を行
なったところ走行不良を生じた。
ビンのｉＭ面に、プフズｖＣＶＤ法にょう８１ｍＮａ
ＩＩ！ ｔｒ Ｓ声解の厚さで形成した。たたしプフズ
’ｒｃＶＤｆ）条件は、ＲＦパ’７−５ＯＷ、加＃１１
１１！度１００℃とした。このガイドビンのｔｉ園の凸
起の１径はα口Ｓ声講であり、実施例１と同じ試験を行
なったところ走行不良を生じた。
〔比較例５〕
１フズｖ ＣＶ Ｄ Ｑ）条件を８Ｆパ’７−５００Ｗ
。
。
加熱温度５００℃とした。以外は比較−２と−じように
してガイドビンを作成した。このガイドビンのＩ！！向
の凸起の直径は（Ｌ７１購であり、実施例１と崗じ試験
を行なった結果を１ｌ−１に示す。
してガイドビンを作成した。このガイドビンのＩ！！向
の凸起の直径は（Ｌ７１購であり、実施例１と崗じ試験
を行なった結果を１ｌ−１に示す。
表−１
表−１の結果かられかるように、１ツズマＣＶＤにより
形成された略字球状の凸起の直径がαｏ５〜０．５ｆｉ
肩の閾にあれば、磁気デー１は擦傷を受けに〈＜、かつ
走行も安定している。
形成された略字球状の凸起の直径がαｏ５〜０．５ｆｉ
肩の閾にあれば、磁気デー１は擦傷を受けに〈＜、かつ
走行も安定している。
・ ｌｋ１図は従来のガイドビンの斜視図、１１１２図
はｌｌｍ１図の表向を拡大して示した断−図、亀Ｓ図は
本発明をガイドビンに適用した時の表向の拡大断麹図、
第４図は本発明で使用したプラズマＣＶＤ装置を示す図
である。図中型な部分は次の遺りである。 １ニガイドビン ５：凸起をｉする表向 ４：反応管 １：ＲＦコイル ＲＦｌｌ１ ７：ヒーター ８．９．１０：ガス鑞 １１：モーター １２：ポンプ １５：ホルダー 一 倉 僑 −、、′）第【図
箭２ｔ］ 第３図
はｌｌｍ１図の表向を拡大して示した断−図、亀Ｓ図は
本発明をガイドビンに適用した時の表向の拡大断麹図、
第４図は本発明で使用したプラズマＣＶＤ装置を示す図
である。図中型な部分は次の遺りである。 １ニガイドビン ５：凸起をｉする表向 ４：反応管 １：ＲＦコイル ＲＦｌｌ１ ７：ヒーター ８．９．１０：ガス鑞 １１：モーター １２：ポンプ １５：ホルダー 一 倉 僑 −、、′）第【図
箭２ｔ］ 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁気テープ走行系において、走行中のテープ面が接
触するテープガイドの表面に、ｌｉｔ佳または長径がα
０５〜α５岸ｍの略半球状の凸起を有することを特徴と
するｉｉｉ気テープ走行糸のテープガイド。 ２、 ５ｉｆｔ、ＴｊＣ，ＷＣ，Ｂ、 Ｃ，ＳｉＣ％Ｔ
ＩＮ、 ＢＮまたは８１．Ｎ、のいずれかを主成分とす
る凸起であることを特徴とするｖ＃ｌ−舖求の範囲第１
塙紀叡のテープガイド。 五 非磁性基体上に、プラズマＣＶＤ法により凸起を有
する験を形成することを特徴とする特許−求の範囲ｌｈ
１項又は第２項１械のテープガイド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57041762A JPS58159263A (ja) | 1982-03-18 | 1982-03-18 | 磁気テ−プ走行系のテ−プガイド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57041762A JPS58159263A (ja) | 1982-03-18 | 1982-03-18 | 磁気テ−プ走行系のテ−プガイド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58159263A true JPS58159263A (ja) | 1983-09-21 |
Family
ID=12617409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57041762A Pending JPS58159263A (ja) | 1982-03-18 | 1982-03-18 | 磁気テ−プ走行系のテ−プガイド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58159263A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54116906A (en) * | 1978-03-03 | 1979-09-11 | Youzaburou Umehara | Tape guide for recorder*reproducer |
| JPS54123007A (en) * | 1978-03-17 | 1979-09-25 | Hitachi Ltd | Magnetic tape fixing guide |
| JPS56127536A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Travel guide means for magnetic tape |
| JPS5727914A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-15 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of thin silicon carbide film |
-
1982
- 1982-03-18 JP JP57041762A patent/JPS58159263A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54116906A (en) * | 1978-03-03 | 1979-09-11 | Youzaburou Umehara | Tape guide for recorder*reproducer |
| JPS54123007A (en) * | 1978-03-17 | 1979-09-25 | Hitachi Ltd | Magnetic tape fixing guide |
| JPS56127536A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Travel guide means for magnetic tape |
| JPS5727914A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-15 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of thin silicon carbide film |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4228940A (en) | Tape guide means for recording and/or reproducing apparatus and method of manufacturing the same | |
| JPH0432730B2 (ja) | ||
| JPS58159263A (ja) | 磁気テ−プ走行系のテ−プガイド | |
| US4882238A (en) | Die for use in forming lens | |
| US3620841A (en) | Process for making continuous magnetite films | |
| US5833871A (en) | Method of finishing the surface of a floating type magnetic head | |
| EP0216543A1 (en) | Method of manufacturing of an anodized memory disc substrate | |
| JPH02110826A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH05228845A (ja) | 磁気ディスク基板テクスチャリング用研磨フィルム | |
| JPH0734884B2 (ja) | 鋳鉄管の内面粉体塗装方法およびその装置 | |
| JPS62229526A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2004029833A (ja) | 感光体 | |
| JPH0882945A (ja) | 感光ドラム用アルミニウム基体の製造方法 | |
| JPS63219984A (ja) | 真空用フランジ継手に使用されるアルミニウム製フランジの表面処理方法 | |
| JPS63275031A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH10134340A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0636267A (ja) | 磁気記録媒体用金属磁性粉末、ならびにその金属磁性粉末を用いた磁気記録媒体 | |
| JPH0636278A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60111364A (ja) | 記録再生用装置のテ−プガイドの製造方法 | |
| JPH04248122A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPH0449520A (ja) | 磁気テープ | |
| JPS6069829A (ja) | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01241304A (ja) | プラグミル圧延におけるリーリング方法 | |
| JPH02304714A (ja) | 磁気記憶媒体及びその製造方法 | |
| JPS6085425A (ja) | 磁気記録媒体 |