JPS58157154A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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Publication number
JPS58157154A
JPS58157154A JP4124682A JP4124682A JPS58157154A JP S58157154 A JPS58157154 A JP S58157154A JP 4124682 A JP4124682 A JP 4124682A JP 4124682 A JP4124682 A JP 4124682A JP S58157154 A JPS58157154 A JP S58157154A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
semiconductor substrate
integrated circuit
metal wiring
wiring layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4124682A
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Kawanaka
川中 裕
Eijiro Toyoda
豊田 栄次郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP4124682A priority Critical patent/JPS58157154A/ja
Publication of JPS58157154A publication Critical patent/JPS58157154A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体集積回路の機能回路ブロックに印加さ
れる電源を半導体基板より得ることができる構成の半導
体集積回路装置に関するものである。
一般に、相補型MO8集積回路ではその消費電流が電源
電圧あるいは動作速度に比例する゛。従って、低消費電
力にするためには、電源電圧あるいは動作速度は使用目
的を達成する範囲内において可能な限り低くすることが
望まれる。ところで、汎用の集積回路では仕様に記載さ
れている電源電圧の範囲内で仕様を満足する高速動作を
確保するだめに内部機能ブロックは全て高速仕様で設計
される。しかし、使用目的によっては必ずしも高速を必
要としない場合が生じる。この場合には高速仕様のもの
を使用せざるを得ないが、かかる高速仕様の集積回路に
とっては高速仕様の電源電圧より低い電圧を印加しても
充分に使用目的を満たす動作速度で機能を果すことが可
能である。しかしこの集積回路のみに使用される特別な
電源を集積回路の外部で実現しようとすると外部におい
て別の電圧の電源を用意する必要が生じる。
本発明は従来の欠点にかんがみなされたもので本発明は
複数個の電源電圧を必要とすることなく低消費電力化が
計れる新規な構成の半導体集積回路装置を提供すること
を目的とするものである。
すなわち本発明は半導体集積回路の外部から供給される
単一の電源電圧に対して予め外部電源入力端子電極を半
導体基板と直接接触させることにより電気的導通をとっ
ておき、半導体集積回路装置の素子製造過程の段階で金
属配線をプログラマグルに選択できるようになしたもの
である。これにより外部電源入力端子と内部機能回路ブ
ロック群の電源ラインとを所要の動作速度において高速
が要求される場合は金属配線で直接接続し、また、低速
でよい場合はこの間を金属配線では接続せず前記金属配
線を直接接触させた半導体基板を介して電源電圧を供給
する。この様に、半導体基板を介して電源電圧を供給す
ると外部電源入力端子と機能回路ブロックとの間に基板
抵抗と拡散抵抗が介在し、2つの抵抗が相補型MOSゲ
ートの動作過渡期に於ける貫通電流の電流制限をするた
め低消費電力化が計れる。したがって、消費電力に無駄
の少ないシステムが実現できる。
以下、本発明に係る構成を図面を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例の外部電源入力端子部及び内
部機能回路ブロック部への供給電源端子部の断面図を示
す。この図で、1,1′は金属配線層、2はリードワイ
ア、3,4はコンタクト拡散領域、5は半導体基板、6
,7は絶縁膜である。
外部電源は、外部端子より前記リードワイア2を通じて
、外部金属配線層1に正電位VDDなる電源が印加され
る。金属配線層1下には前記半導体基板5と同導電型の
前記拡散領域3が形成されている。その結果、半導体基
板6の電位は正電位VDDと等しくなる。ところで、同
図(a)は機能回路ブロック部への供給電源配線が配線
用金属部材による前記金属配線層1により直接接続され
ている場合を示す。同図(b)は機能回路ブロック部へ
の供給電源配線が金属配線断絶部8により外部電源入力
端子側の前記金属配線層1と前記機能回路ブロックへの
供給電源配線層1′とに分離されている場合を示す。従
って、同図(a)では機能プOツク部へ高電圧が、同図
(b)では機能ブロック部へ低電圧が印加される。
第2図は、本発明は外部から供給される単一の電源電圧
を接点対10.11をオン、オフすることにより機能回
路ブロック12.13に充分な電源電圧を選択して供給
するものである。ここで、上記接点対10.11は素子
製造過程の段階で金属配線を接続、或は断線することに
よシ接続、遮断形成される。接点対10.11は集積回
路の外部から電源電圧を供給するだめの外部電源入力端
子部14を機能ブロック12あるいは13へ接続するた
めのものである。相補型MO5集積回路を含むシステム
に於いて、外部電源入力端子14から電源電圧VDDを
供給すると接点対10.11を介することにより、接点
対1oまたは11を接続または遮断させて、抵抗R1,
R2またはR3を介在させることにより使用目的に合っ
た電源電圧に変換して機能ブロック12、インタフェイ
ス回路13の電源ライン15.16に供給する。
第3図は、第2図示の接点対10.11をMOSインバ
ータで構成した場合を示し、一対のMOSトランジスタ
17.18のうち、一方のトランジスタを導通させると
、抵抗Rが介在することになるので、その出力電圧Vo
は使用目的に合った電源電圧に変換できる。
以上の如く、機能ブロックを高速で使用する場合は第1
図(IL)のように金属配線で直接接続し、低速でよい
場合は第1図(b)のように基板内の抵抗Rを介して接
続することが可能である。
さて、第3図の様にMOSインパークを接点対として用
いた場合第4図のごとく、貫通電流Innを減らすこと
ができ、消費電力を一段と減らすことができる。尚、第
4図でのRは第1図のRに対応する。
以上の如く、本発明は金属配線部材のマスクを変更する
ことにより、相補型MO8集積回路の内部での電源電圧
を容易に変換することを可能とし低消費電力を志向する
システムの実現に大きな効果をもたらすものである。又
、金属配線部材をレーーザ等により任意の個所を断線さ
せても同様に実現できる。
機能回路ブロック部への電源ライン構造を示す断面図、
第2図は本発明実施例の回路構成のブロック図、第3図
は本発明の実施例構成中の接点対として用いられるイン
バータ回路図、第4図はインバータ回路の特性図である
1.1′・・・・・・金属配線層、2・・・・・・リー
ドワイア、3.4・・・・・・拡散抵抗、5・・・・・
・N−型半導体基板、6.7・・・・・・絶縁膜、8・
・・・・・金属配線断絶部。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名II
図 第2図 第3図 第4図 人、θ’it/EIh(V)0

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体基板上に形成された前記半導体基板と同一導電型
    の第1.第2のコンタクト拡散領域と、前記第1のコン
    タクト拡散領域に接続された外部電源用第1の金属配線
    層と、前記第2のコンタクト拡散領域に接続された機能
    ブロック回路電源用第2の金属配線層とを備え、前記第
    1.第2の金属配線層を選択的に接続することにより前
    記機能ブロック回路への供給電源を所定値に設定するこ
    とを特徴とする半導体集積回路装置。
JP4124682A 1982-03-15 1982-03-15 半導体集積回路装置 Pending JPS58157154A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4124682A JPS58157154A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 半導体集積回路装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP4124682A JPS58157154A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 半導体集積回路装置

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JPS58157154A true JPS58157154A (ja) 1983-09-19

Family

ID=12603076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4124682A Pending JPS58157154A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 半導体集積回路装置

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JP (1) JPS58157154A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05145071A (ja) * 1991-09-30 1993-06-11 Fujitsu Ltd Mis電界効果半導体装置及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05145071A (ja) * 1991-09-30 1993-06-11 Fujitsu Ltd Mis電界効果半導体装置及びその製造方法

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