JPS58153917A - パタ−ン欠陥検出信号の補正装置 - Google Patents

パタ−ン欠陥検出信号の補正装置

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Publication number
JPS58153917A
JPS58153917A JP3634882A JP3634882A JPS58153917A JP S58153917 A JPS58153917 A JP S58153917A JP 3634882 A JP3634882 A JP 3634882A JP 3634882 A JP3634882 A JP 3634882A JP S58153917 A JPS58153917 A JP S58153917A
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JP
Japan
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pattern
laser light
inspected
fourier transform
transmitted
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Pending
Application number
JP3634882A
Other languages
English (en)
Inventor
Kennosuke Sugizaki
杉崎 堅之助
Shunsuke Mukasa
武笠 俊介
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPS58153917A publication Critical patent/JPS58153917A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/46Systems using spatial filters

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザー元回折パターン空間−波数フィルタ
リング方式を用いて単位開口の規則性パターン中の形状
欠陥を検出する装置において、光学系の光軸のずれ、を
空間フィルタのゆらぎおよび被検査物のゆらぎなどの影
響により生ずる欠陥に対応する輝点の輝点レベルの変化
を補償可能にするパターン欠陥検出信号の補正装置に関
する。
つまり、本発明は、光情報処理の一応用分野である光学
計測系を用いて、パターン計測や検査をする装置の信号
処理系における測定精ft−同上させる手段に係る。
光学計測装置における測定精度低下の主な原因には、被
#J定物を含む光学系の物理的な変化である光軸ズレヤ
振動、被#j定物の形状偏差などによるもの、芥電気変
換装置や特性の経時的変化ヤ、周囲温度の影響による特
性のゆらぎ、さらには装置に含まれる雑音成分などが考
えられる。
そこで、本発明は、光学針側系を介して受光する光学的
信号を電気的信号に変換するときに、その中に含まれる
測定精度低下の原因になる前記元軸ズレ、空間フィルタ
のゆらぎ及び被検査物のゆらぎなどの補正を、逆フーリ
エ変換面上のパターンを走査するフォトディテクタアレ
イの開口アレイ部の周辺にさらに光検出用開口Sを設け
、それから得られる元慄報を基にこれを行ない、パター
ン針側の測定11[向上をする装置を得ようとするもの
である◎ すなわち、光学針側系を用いたパターン計l1ll系を
用いたパターン針a、41に規則性パターンの開口形状
欠陥の判別を行なう場合、時間的、空間的なコE−レン
ジ−をもったレーザー光を利用したレーザー元回折パタ
ーン空間同波数フィルタリング方式が多く用いら九るが
、本発明は、単位開口の規則的配列で成るパターン中の
欠陥の有無および位置を空間フィルタリング方式によっ
て逆フーリエ変換面上に生ずる輝点から検出する場合K
11l!緻率を向上させる光軸ズレの補正装置を提供す
ることを、その目的とする。□ 先ず、空間フィルタリング方式の基本構成を第1図によ
0説明する。
レーず発振器lを出たレーザビーム2は、コリメータ3
によって拡大さ九た平行光4となって被検査物5に照射
さ九る。被検査物5はフーリエ変換レンズ7の前焦点面
上Ktかれてあり、後焦点面上には被検査物5を通過す
る時に回折した光6によって、被検査物5のフーリエ変
換スペクトルが現われる。しかして、フーリエ変換レン
ズ7の後焦点面上には、被検査物5の正常パターン(フ
ーリエ変換レンズ7による)のフーリエ質換スペクトル
装置分布を記録したネガ写真フィルム、つまり空関崗波
数フィルタ8が置かれてjIPす、被検査物5のフーリ
エ変換スペクトルのうち、正常パー ターンに相当する
スペクトルのみが空間周波数フィルタ8によって吸収さ
れ、欠陥パターンに相当するスペクトルは透過する。
ところで、この空間間波数フィルタ8は逆フーリエ変換
レンズ1Gの前焦点面上に設けられているため、空間周
波数フィルタ8を透過した党9は逆フーリエ変換レンズ
IOKよって逆フーリエ変換され、逆7−リエ変換レン
ズの後焦点Ei[+(逆フーリエ変換面)上に置かれた
スクリーンIIK、空間フィルタリングされな逆フーリ
エ変換書、すなわち被検査物5の欠陥部分屑けの儂とな
って現われる。以上が空間フィルタリング方式の基本構
成である。
一方、第2図は矩形状の単位開口の規則的配列で成るパ
ターンの一例を示すものであり、かかるパターンの欠陥
はその大!8が予め決められた一定歓以上のものと定義
される。しかして、111図で述べた空間フィルタリン
グ方式を利用した欠陥検査装置では、第3因(ム)〜(
D)の欠陥部分D1〜D4だけが、その欠陥面積に対応
した明るさの点となって再回折像面上に現われる。なお
、第3IQ(E )は正常なパターンを示している。
逆フーリエ変換向に現われる被検査パターン5の逆像の
欠陥部分だけの像は、第4図に示すように、フォトディ
テクタアレイ41によって検出される。
とこにおいて、被検査パターン5を平行光4内で元軸1
2に直角に平行移動してもフーリエ変換の移行側により
、フーリエ変換レンズ7の後焦点面上に現われるフーリ
エ変換パターンに変化はない。
したがって、被検査パターン5を平行移動しても同様に
、被検査パターン5の7−リエ変換スペクトルのうち正
常パターンに相当するスペクトルのみが空間フィルタ8
によって吸収され、欠陥パターンに相当するスペクトル
は透過する。かくして、被検査パターン5の平行移動に
より逆フーリエ変換像は光軸対称の逆方向に移動、つま
り被検査パターン5の逆像の欠陥部分だけの像が、光軸
12を挾んで被検査パターン5の移動方向と反対の方向
に逆フーリエ便換面上を移動する。
第1図KJrいて、被検査パターン5の移動方向を紙面
に直角な方向とし、逆フーリエ変換面上のフォトディテ
クタアレイ11の配列方向を紙1iK平行な方向とすれ
ば、逆フーリエ変換面上を移動する欠l!儂はフォトデ
ィテクタアレイ11を直角に横切ることになり、欠陥部
の出力信号として検出される。
また、被検査パターン5の移動に伴ない、その移動距離
Kllする情報を出力する装置を本欠陥検査装置111
K設置するととにより、被検査パターン中の移動方向に
直角な方向をX方向、平行な方向をY方向とすれば、X
方向の欠陥位置成分は、逆フーリエ変換面上において欠
陥像が横切る単位フォトディテクタのフオシデイテタタ
アレイ方向の位置によって検出でき、Y方向のそれは、
被検査パターンの固定台及び本体に位置スケール、さら
に高精度゛が〜要求される場合には一新格子の峰アレ縞
を利用した位置変位検出装置等を設ける、あるいは被検
査パターンを移動させるための毫−夕等の駆動軸部分に
1−タリエンコーダを設ける、等の手段によって検出可
能である。これら以外にも、Y方向の欠陥位置成分は、
被検査パターン等が等速移動するため移動開始時を起点
として時間を計数することによっても求めることカニで
きろ。
フォトディテクタアレイ11は矩形開口を持つ複数の単
位フォトデイテタタ13の配列で構成され、被検査パタ
ーンの移動により得られる出力信号は欠陥の最大杵容面
積に相当したスレッショルドを持つコンパレータにより
2値化され、これにより欠陥検出が行なわれる。
以上の如(して、被検査パターンにおける欠陥部分に対
応する信号が得られる。
そこで、本発明はたとえばwi5図に表わすフォトディ
テクタアレイ1lt−適用する。これには横(伸長)方
向に単位フォトディテクタアレイが並んだフォトディテ
クタ開口アレイ部111Ly)li5辺にさらK111
辺党検出用開口部112t−具えている。
第6図は、本発明の一実施例の構成を示すブロック図で
ある。
図面において同一符号は同一もしくは相西部分を表わす
逆フーリエ変換レンズを透過したレーザ党は、フォトデ
ィテクタアレイ11を収納する受光部110〜入る。 
         ″: ここで、フォトディテクタ開口アレイ部111を透過し
たレーザー党は、光ファイバー111を介しして伝送さ
れ、また周辺光検出用開口部112を透過したレーザー
党は、元ファイバー112を経て伝送される。
ft7アイパー111からのレーデ−元101は第1の
光→電気変換器1021 Kより電気信号103へ変換
され欠陥判別回路であるコンパレータ104へ入り、こ
こで予め設定されたしきい値電圧と比較され2値化gM
号105が出力される。
一部、ft、7フイパー112カらル−ザ光107はj
1!2の党→電気変換器】o22により電気信号108
へ変換され、増幅11106により勇整出カ109とさ
れ、このwI#整出力出力109記しきい値電圧または
電気信号103の輝度レベルYtIi11節し制御する
したがって1光軸12のズレはレーデ−′yt、103
 K影et与するとともに、 レーず−[109も同時
に影響を与えるので、コンパレータ104のしきい値電
圧ま九は電気信号103の輝度レベルをレーデ−光10
1に対応して刺整するから、光軸12のズレ。
空間フィルタのゆらぎ及び被検査物のゆらぎなどによる
測定精度低下の要因は相殺され遍正を形状欠陥の2値化
信号105が得られる。
かくして本発明によれば、前記測定精度低下の要因が完
全に払拭され、形状欠陥の検出の信幀性と能率の向上に
資すところが大きい。
【図面の簡単な説明】
第1幽は空間フィルタリング方式の基本構Fit図、1
1!2図は矩形状の単位開口の規則的配列で成るパター
ンの一例を示す図、第3図囚〜■はノリーンの欠陥、正
常を表わす図、纂4−は逆フーリエ変換面に現わ九る被
検査パターンの逆像の欠陥部分の像のlI!f!i4図
、纂5図は本発明の一実施例におけるフォトディテクタ
アレイの平向図、第6図は本発明の一実施例の構成を示
すプ四ツク和である。 l−レーデ発振−12−レーザビーム、3−コリメータ
、4・−平行光、5−被検査物、6−回折した光、7−
・フーリエ変換レンズ、8−空間周波数フィルタ、9−
そのフィルタ8を透過した党、10・−逆フーリエ変換
レンズ、11・−7オトデイテタタアレイ(スクリーン
)、1!一光軸、 13一単位フオドディテクタ、14
−・スロット、15・・・形状欠陥、101,107・
・・レーザー光、102,1021.1022−・・光
→−気変*器、 103,108,109−越気信号、
104−欠陥判別回路(コンパレータ)、105−2値
化信−1,111・・・フォトディテクタ開口アレイ部
、112・・・フォトディテクタ周辺光検出用開口部。 出鵬人代理人  旙 股    清

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 規則性パターンの開口形状欠陥、の判別をレーザー!回
    折パターン空間周波数7ブルタリング方式により逆、フ
    ーリエ変換面上に生ずる輝点の検出により行なう装置に
    おいて、欠陥に対応する輝点を受光する@lの受光部で
    ある7オトデイテクタ開ロアレイの外側に周辺光検出用
    り、第2の受光部を設ける手段と、この82の受光部に
    より検出した光を磁気信号に変換し、欠陥判別回路のし
    きい値の制御または前記8111の受光部により検出し
    た輝贋レベルに対応しな電気信号のレベルを制御する手
    段とを具備することを特徴とするパターン欠陥検出信号
    の補正装置。
JP3634882A 1982-03-10 1982-03-10 パタ−ン欠陥検出信号の補正装置 Pending JPS58153917A (ja)

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JP3634882A JPS58153917A (ja) 1982-03-10 1982-03-10 パタ−ン欠陥検出信号の補正装置

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JPS58153917A true JPS58153917A (ja) 1983-09-13

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JP3634882A Pending JPS58153917A (ja) 1982-03-10 1982-03-10 パタ−ン欠陥検出信号の補正装置

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS545750A (en) * 1977-06-15 1979-01-17 Fujitsu Ltd Pattern inspecting method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS545750A (en) * 1977-06-15 1979-01-17 Fujitsu Ltd Pattern inspecting method

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