JPS58148874A - 置換ビシクロラクトン誘導体 - Google Patents
置換ビシクロラクトン誘導体Info
- Publication number
- JPS58148874A JPS58148874A JP3064582A JP3064582A JPS58148874A JP S58148874 A JPS58148874 A JP S58148874A JP 3064582 A JP3064582 A JP 3064582A JP 3064582 A JP3064582 A JP 3064582A JP S58148874 A JPS58148874 A JP S58148874A
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- Japan
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- substituted
- butanolide
- solvent
- formula iii
- bicyclolactone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
（式中、Ｒバーｃｎ＝ｃｘ、ｘ２又１ｉ−ＣＨ，α１Ｘ
２Ｘ５テ表わされる基であり、Ｘ、、Ｘ２及びＸ、共、
同−又は異なるハロゲン原子である。）で表わされる置
換ビシクロツクトン鱒導体に関する。
２Ｘ５テ表わされる基であり、Ｘ、、Ｘ２及びＸ、共、
同−又は異なるハロゲン原子である。）で表わされる置
換ビシクロツクトン鱒導体に関する。
前記一般式（１）で表わされる化合倫社、必要表らば塩
基処理後、ラクトン環を開環させ、エステル化したのち
ハロゲン化剤を作用させるとと（より、一般式 （式中、Ｙは一ロゲン原子であり、Ｂｌは置換もしくは
未置換のベンジル基、置換もしくは未鐙換Ｏα−シアノ
ベ／ジル基叉紘置換４しくは未置換Ｏα−シアノー２−
ピリジルメチル基である。）で表わされる３ −（２，
２−ジハクエテニル）シタ謬プ薗パンカルボン酸エステ
ル鱒導体に４＜ζトカできる（下記参考例参ｍｌ）。
基処理後、ラクトン環を開環させ、エステル化したのち
ハロゲン化剤を作用させるとと（より、一般式 （式中、Ｙは一ロゲン原子であり、Ｂｌは置換もしくは
未置換のベンジル基、置換もしくは未鐙換Ｏα−シアノ
ベ／ジル基叉紘置換４しくは未置換Ｏα−シアノー２−
ピリジルメチル基である。）で表わされる３ −（２，
２−ジハクエテニル）シタ謬プ薗パンカルボン酸エステ
ル鱒導体に４＜ζトカできる（下記参考例参ｍｌ）。
前記一般式（１）で表わされる化合物はＨ失調として有
用であり、その効果は現在、殺虫剤として−般に汎用さ
れているアレスリンと同等乃至それ以上の効果を示すも
のである（下記参考側参照）。
用であり、その効果は現在、殺虫剤として−般に汎用さ
れているアレスリンと同等乃至それ以上の効果を示すも
のである（下記参考側参照）。
本発明の化合物は次式に従い製造できる。
（１）
（式中、Ｘ４、Ｘ２、ｘ３及びｘ４は同−又は異なる）
・ロゲン原子である。）。
・ロゲン原子である。）。
本工程はラジカル発生条件下、鎗記構造式（２）で表ワ
サれる６−ピニルー４−ブタノリドに四ハロ出発原料で
ある３−ビニル−４−ブタノリドは２−ブテン−１，４
−ジオールとオルト詐酸エステルよ参容易に得ることが
できる化合物である（Ｋ。
サれる６−ピニルー４−ブタノリドに四ハロ出発原料で
ある３−ビニル−４−ブタノリドは２−ブテン−１，４
−ジオールとオルト詐酸エステルよ参容易に得ることが
できる化合物である（Ｋ。
Ｋｏａｄｏ、 Ｆ、 Ｍｏｒｉ、 Ｃｈｅｗ、 Ｌｅｔ
ｔ、 、 １９７４．７４１参照）。また、四／％０ゲ
ン化巌素としては四塩化縦索、−臭化ミ塩化炭素、四臭
化炭素、二車化ニア１化炭素を例示することができる。
ｔ、 、 １９７４．７４１参照）。また、四／％０ゲ
ン化巌素としては四塩化縦索、−臭化ミ塩化炭素、四臭
化炭素、二車化ニア１化炭素を例示することができる。
ラジカル発生条件としては、例えばラジカル発生剤を存
在させるか、又は光照射下において容易に達成すること
ができる。ラジカル発生剤としては、過酸化べ／ジイル
、過酸化ジアセチル又はジーＣ−プチルバージウム錯体
、ロジウム錯体等Ｏ遷移金属化合物あるいはそれらとア
ミンとの組合せ等を例示できる。
在させるか、又は光照射下において容易に達成すること
ができる。ラジカル発生剤としては、過酸化べ／ジイル
、過酸化ジアセチル又はジーＣ−プチルバージウム錯体
、ロジウム錯体等Ｏ遷移金属化合物あるいはそれらとア
ミンとの組合せ等を例示できる。
本工程の実施にあたっては、溶媒を使用することができ
る。溶媒としては四塩化ＩｉＩ票、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ヘキ
サ／、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ア七ト二ト
リル等で反応に関与しない溶媒を好適に使用することが
できる。
る。溶媒としては四塩化ＩｉＩ票、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ヘキ
サ／、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ア七ト二ト
リル等で反応に関与しない溶媒を好適に使用することが
できる。
反応温度はその他の反応条件によっても異なるが、一般
に０υ乃至１５０υで目的化合物を高収率ことが好まし
い。
に０υ乃至１５０υで目的化合物を高収率ことが好まし
い。
〔第二工程〕−
木工１は前記一般式ｑイで表わされるテトラハロラクト
ンに塩基を作用させて前記一般式中で表わされる１換ビ
シクロラクトンを製造する工程である。
ンに塩基を作用させて前記一般式中で表わされる１換ビ
シクロラクトンを製造する工程である。
塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム
の如きアルカリ金属水素化物、ナトνりムアζド、カリ
ウムアミドの如きアルカリ金属アミド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシ
ドの如きアルカダ会馬アルコキシドを使用することがで
きる。塩基のン 量はテトラ−・ラクト★−に対して１．５〜３轟量、好
オしくＦｉｌ、８〜２．５癲量用いる。
の如きアルカリ金属水素化物、ナトνりムアζド、カリ
ウムアミドの如きアルカリ金属アミド、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシ
ドの如きアルカダ会馬アルコキシドを使用することがで
きる。塩基のン 量はテトラ−・ラクト★−に対して１．５〜３轟量、好
オしくＦｉｌ、８〜２．５癲量用いる。
本工程を実施するに＃ｉ溶媒の使用が望ましく、例えば
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の
エーテル類、エタノール、ｔ−ブチルアルコール等のア
ルコール類、ベンゼン、トル本工程は前記一般式省で表
わされるテトラハロて前記一般式■で表わされるトリハ
ロビシクロラクトンを製造する工程である。
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の
エーテル類、エタノール、ｔ−ブチルアルコール等のア
ルコール類、ベンゼン、トル本工程は前記一般式省で表
わされるテトラハロて前記一般式■で表わされるトリハ
ロビシクロラクトンを製造する工程である。
本工程において三級アルコキシドとしては、ナトリウム
ｔ−アミルオキシド、カリウムｔ−ブトキシド等を用い
ることができ、テトラハロラクトン作に対して０．７〜
１．３当量好オしくＦｉｌ、０〜１．２当着用いるもの
である。
ｔ−アミルオキシド、カリウムｔ−ブトキシド等を用い
ることができ、テトラハロラクトン作に対して０．７〜
１．３当量好オしくＦｉｌ、０〜１．２当着用いるもの
である。
本工程では溶媒の使用が好ましく、Ｓ＊としては−・キ
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアンド等を例示でき
る。
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアンド等を例示でき
る。
反応は一３０〜５０℃で進行するが、選択性、経済性の
点で一１０′Ｏ〜室温で行うのが好ましい。
点で一１０′Ｏ〜室温で行うのが好ましい。
本工程における生成物であるトリハロビシクロラクトン
やは更にピペリジン、ピロリジン、ジアザビシクロ（２
，２，２）オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５−等のアミ
ン類で処理することによ砂蓋換ビシクロラクトン中に変
換することができる。このｌｌｌ１ｌｌＩ媒としてヘキ
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロ７うｙ等のエーテル系溶媒、Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムアンド等を用いることができ、−
１０℃〜室温で円滑に反応が進行する。
やは更にピペリジン、ピロリジン、ジアザビシクロ（２
，２，２）オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５−等のアミ
ン類で処理することによ砂蓋換ビシクロラクトン中に変
換することができる。このｌｌｌ１ｌｌＩ媒としてヘキ
サン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロ７うｙ等のエーテル系溶媒、Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムアンド等を用いることができ、−
１０℃〜室温で円滑に反応が進行する。
以下、本発明を実施例及び参考例により更に詳細に説明
する。
する。
ＩＩ施何例
１
Ｓ−ビニル−４−ブタノリド２５．７ ｊＦ （２２９
，Ｏｍｍｏｌ）の西塩化縦嵩３００ｍ溶液に過酸化ベン
ゾイル１．５ＩＩ（６，２ｍｍｏｌ ）ｔｍＪＬ、 フ
ル：＝ｒｙｌｆｌｌｌＬ下で２２時間加熱還流した。溶
媒を留去し、残留物をエーテルに溶解し、重曹水及び食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥俵、溶媒
を留去し、３−（１，５，！１．５−テトラクロロプロ
ピル）−４−ブタノリドの粗生成物５５．６９ （粗部
率９１Ｓ）を得た。
，Ｏｍｍｏｌ）の西塩化縦嵩３００ｍ溶液に過酸化ベン
ゾイル１．５ＩＩ（６，２ｍｍｏｌ ）ｔｍＪＬ、 フ
ル：＝ｒｙｌｆｌｌｌＬ下で２２時間加熱還流した。溶
媒を留去し、残留物をエーテルに溶解し、重曹水及び食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥俵、溶媒
を留去し、３−（１，５，！１．５−テトラクロロプロ
ピル）−４−ブタノリドの粗生成物５５．６９ （粗部
率９１Ｓ）を得た。
ＮＭＲｘ ベクトル（ＣＤＣ” ｌ ｓ ） ； Ｊ
２−５７〜２−７７ （ｆｆｌ。
２−５７〜２−７７ （ｆｆｌ。
２Ｈ）、３．０３〜３．３５ （鵬３Ｈ）、３．９７〜
４．６７（ｍ、３Ｈ）。
４．６７（ｍ、３Ｈ）。
実施例２
Ｉ
アルゴン雰囲気下、５− （１，３，３，３−テトラク
ロロプロピル）−４−ブタノ台ド０．２６６ｇ（１ｍｍ
ｏ ｌ ）の無水） ／Ｉ／ 工ｙ ２ ＩＩｔＩ液に
、−１０℃でカリウムｔ−ブトキシド［１，１５４９（
１，２ｍｍａ ｌ ）を加え、５０分間槽押し丸。反応
液ＫＩＮＩ酸を加えて酸性ＫＬ、生成物をエーテル抽出
した。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
九。
ロロプロピル）−４−ブタノ台ド０．２６６ｇ（１ｍｍ
ｏ ｌ ）の無水） ／Ｉ／ 工ｙ ２ ＩＩｔＩ液に
、−１０℃でカリウムｔ−ブトキシド［１，１５４９（
１，２ｍｍａ ｌ ）を加え、５０分間槽押し丸。反応
液ＫＩＮＩ酸を加えて酸性ＫＬ、生成物をエーテル抽出
した。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
九。
溶媒を留去し、６−（２，２，２−）リクロ四プロピル
）−２−オキソ−３−オキナビシクロ（３，１，０）ヘ
キサンの粗生成物０，２１ｊ（粗部率９１参）を得た。
）−２−オキソ−３−オキナビシクロ（３，１，０）ヘ
キサンの粗生成物０，２１ｊ（粗部率９１参）を得た。
Ｎ）ｔＢスペクトル（ＣＤＣｌ２）：Ｊｌ、５〜１．８
（鴫１ＨＸ２．０〜２．３（鳩ＩＨ）、２．５〜２．５
（鶴ＩＨ）２．６６（ｄｄ、１）１）、２．８６（ｄｄ
、ＩＨ）。
（鴫１ＨＸ２．０〜２．３（鳩ＩＨ）、２．５〜２．５
（鶴ＩＨ）２．６６（ｄｄ、１）１）、２．８６（ｄｄ
、ＩＨ）。
４．３３（ｂｓ、２Ｈ）。
実施例５
アルゴン雰囲気下、実施例２で得た６−（２，２゜２−
トリクロロプロピル）−１−オキンー３−オキサビシク
ロ（３，１，０）ヘキサンの粗生成物０．２１９の無水
トルエン３ｄ溶液に、−５℃でＤＢＵ（１２２８，Ｓｊ
（１，５ｍｍｏ ｌ ）を加えて３０分間攪拌し、更
に室温で１．５時間、７０℃で４時間攪拌した。
トリクロロプロピル）−１−オキンー３−オキサビシク
ロ（３，１，０）ヘキサンの粗生成物０．２１９の無水
トルエン３ｄ溶液に、−５℃でＤＢＵ（１２２８，Ｓｊ
（１，５ｍｍｏ ｌ ）を加えて３０分間攪拌し、更
に室温で１．５時間、７０℃で４時間攪拌した。
反応液に１Ｎ塩酸を加えて酸性にし、生成物をエーテル
抽出した。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムて乾
燥した。溶媒を留去し、６−（２，２−ジクロロエチニ
ル）−２−オキソ−３−オキナビシクμ［３，１，０］
へキサンの粗生成物ｏ、ｉｏｇ（粗収率５２チ）を得た
。
抽出した。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムて乾
燥した。溶媒を留去し、６−（２，２−ジクロロエチニ
ル）−２−オキソ−３−オキナビシクμ［３，１，０］
へキサンの粗生成物ｏ、ｉｏｇ（粗収率５２チ）を得た
。
実施例４
クロロプロピル）−４〜ブタノ−ｊド２．６６Ｎ（１０
ｍｍｏｌ）及びジメチルホルムア建ド１−のテト２〜−
４０℃で加え、更［５０分間襦袢した。反応液を１Ｎ塩
酸で酸性にし、生成物を酢酸エチルて抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ｍｍｏｌ）及びジメチルホルムア建ド１−のテト２〜−
４０℃で加え、更［５０分間襦袢した。反応液を１Ｎ塩
酸で酸性にし、生成物を酢酸エチルて抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去し、残留物を蒸留によ抄精製し、６−（２，
２−ジクロロエチニル）−２−オキソ−５−オキサビシ
タロ（３，１，０）へｄＰ１＋−ン０．７０１１（収率
３６−）を得た。
２−ジクロロエチニル）−２−オキソ−５−オキサビシ
タロ（３，１，０）へｄＰ１＋−ン０．７０１１（収率
３６−）を得た。
実施例５
ル
３−ビニル−４−ブタノリド２．２４４Ｆ（２（１ｍｍ
ｏ ｌ）５孟化三塩化メタン２５ｍ溶液に過酸化ベンゾ
イル０．０２５１１（０，１ｍｍｏｌ）を加え、アルゴ
ン雰囲気下で７時間加熱還流し丸。溶媒を留去し、残留
物をエーテルに溶解し、重曹水及び食塩水で洗浄した。
ｏ ｌ）５孟化三塩化メタン２５ｍ溶液に過酸化ベンゾ
イル０．０２５１１（０，１ｍｍｏｌ）を加え、アルゴ
ン雰囲気下で７時間加熱還流し丸。溶媒を留去し、残留
物をエーテルに溶解し、重曹水及び食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、５−（
１−ブロモ−３，３，３−）リクＯａグロビル）−４−
ブタノリドの粗生成物５．７４ＪＦ（収率９２チ）を得
た。
１−ブロモ−３，３，３−）リクＯａグロビル）−４−
ブタノリドの粗生成物５．７４ＪＦ（収率９２チ）を得
た。
ＮＭ几スペクトル（ＣＤＣＩ、）；Ｊ２．５５〜２．８
４（ｍ、 ２Ｈ）、 ５．２６〜３．５１ （ｍ、 ５
８）。
４（ｍ、 ２Ｈ）、 ５．２６〜３．５１ （ｍ、 ５
８）。
４．２７〜４．７０ （ｍ、 ５Ｈ）。
実施例６
原料としてろ−（１−ブロモ−５，５，３−）リクロロ
グロビル）−４−ブタノリド１．５５ｐ （５ｍｍｏｌ
）を用い九以外は実施例４と同様の操作を行ない、沸点
１１０〜１１５℃／ｆ）、２ｍｍＨｇＯ６−（２，２−
ジクロロエチニル）−２−オキソ−６−オキサピシクμ
（３，１，０１ヘキナン０．５９Ｎ（収率６１−）を得
九〇 参考例１ ６−（２，２−ジクロロエチニル）−２−オキツー３−
オキサビシタロ（３，１，０）ヘキサン４．５５ｊＦ（
２５，６ｍｍｏ １ ）のメタノール５０ｄｌｌｊｆｌ
Ｋ水酸化カリウム１．３８２ｇ（２４，７ｍｍｏｌ 斎
加えて１．５時間加熱還流した。メタノールを留去し、
クス−２−（２，２−ジクロロエチニル）−５−ヒドロ
キシメチルシフ霞プロパンカルボン酸カリウムを得え。
グロビル）−４−ブタノリド１．５５ｐ （５ｍｍｏｌ
）を用い九以外は実施例４と同様の操作を行ない、沸点
１１０〜１１５℃／ｆ）、２ｍｍＨｇＯ６−（２，２−
ジクロロエチニル）−２−オキソ−６−オキサピシクμ
（３，１，０１ヘキナン０．５９Ｎ（収率６１−）を得
九〇 参考例１ ６−（２，２−ジクロロエチニル）−２−オキツー３−
オキサビシタロ（３，１，０）ヘキサン４．５５ｊＦ（
２５，６ｍｍｏ １ ）のメタノール５０ｄｌｌｊｆｌ
Ｋ水酸化カリウム１．３８２ｇ（２４，７ｍｍｏｌ 斎
加えて１．５時間加熱還流した。メタノールを留去し、
クス−２−（２，２−ジクロロエチニル）−５−ヒドロ
キシメチルシフ霞プロパンカルボン酸カリウムを得え。
このカリウム塩を無水ジメチルホルムアミド４５ｍＫ１
１解した後、ｍ−フェノキシベンジルプａｉドロ、８１
ｇを加え、アルゴン１１囲気下、室温で２４時間攪拌
した。反応液を１Ｎ塩酸で酸性にし、生酸物を酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去１７、残留物をカラム
クロマ）（ｆｌ−ヘキデ／：酢酸エチル＝４：１）によ
り精製し、２−（２，２−ジクロロエチニル）−５−ヒ
ドロキシメチルシクロプロパンカルボン酸ｍ −７ｘツ
キジベンジル８．７Ｉｉ（収率９３．７チ）を得九。
１解した後、ｍ−フェノキシベンジルプａｉドロ、８１
ｇを加え、アルゴン１１囲気下、室温で２４時間攪拌
した。反応液を１Ｎ塩酸で酸性にし、生酸物を酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去１７、残留物をカラム
クロマ）（ｆｌ−ヘキデ／：酢酸エチル＝４：１）によ
り精製し、２−（２，２−ジクロロエチニル）−５−ヒ
ドロキシメチルシクロプロパンカルボン酸ｍ −７ｘツ
キジベンジル８．７Ｉｉ（収率９３．７チ）を得九。
ここに得られた生成物の各置換基の立体配置は、エステ
ル基に対してヒドロキシメチル基は全てシスでアリ、ジ
クロロエチニル基はシス−トランス１対１０割合であつ
九。
ル基に対してヒドロキシメチル基は全てシスでアリ、ジ
クロロエチニル基はシス−トランス１対１０割合であつ
九。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤｃｔ５）；ａ １．６５〜２
．６５（ｍ、４Ｈ）、５．７５〜４．１２（ｍ、２Ｈ）
。
．６５（ｍ、４Ｈ）、５．７５〜４．１２（ｍ、２Ｈ）
。
５゜１２（−，２Ｈ）、５．４２（ｄ、０．５Ｈ）。
６．１８（ｄ、 ０．５）（）、 ６．８０〜７．５５
（ｍ。
（ｍ。
９Ｈ）。
参考例２
２−（２，２−ジクロロエチニル）−３−ヒドロキシメ
チルシフ筒プロパ／カルｌン酸ｍ−フ眞ノキシベｙジル
２．６０ｆｉ（６，６ｍｍｏｌ）Ｊｊび無水ピリジン０
．５２７ （６，６ｍｍｏ １ ）を混合しＬｏ ｔｏ
ｍ液Ｋｙルゴン雰囲気下、氷−食塩で冷却しながら、Ｍ
ＩＩし丸環化チオニル０．７４ｄ （９，９ｍｍｏ １
）を２分間で滴下した。その後、約１時間で室温まで
加温し、更に４時間攪拌した。反応混合物に氷水を加え
先後、生成物を酢酸エチルで抽出し、食塩水て洗浄した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残
留物をカラムりａＹ）（鳳−ヘキナｙ：酢酸エチル−１
０：１）Ｋよ抄精製し、２−クロロメチル−５−（２，
２−ジクロロエチニル）−フクロプロパンカルボン酸ｍ
−フェノキシベンジル２．２７ ｇ（収率８６．５嘔）
を得た。
チルシフ筒プロパ／カルｌン酸ｍ−フ眞ノキシベｙジル
２．６０ｆｉ（６，６ｍｍｏｌ）Ｊｊび無水ピリジン０
．５２７ （６，６ｍｍｏ １ ）を混合しＬｏ ｔｏ
ｍ液Ｋｙルゴン雰囲気下、氷−食塩で冷却しながら、Ｍ
ＩＩし丸環化チオニル０．７４ｄ （９，９ｍｍｏ １
）を２分間で滴下した。その後、約１時間で室温まで
加温し、更に４時間攪拌した。反応混合物に氷水を加え
先後、生成物を酢酸エチルで抽出し、食塩水て洗浄した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残
留物をカラムりａＹ）（鳳−ヘキナｙ：酢酸エチル−１
０：１）Ｋよ抄精製し、２−クロロメチル−５−（２，
２−ジクロロエチニル）−フクロプロパンカルボン酸ｍ
−フェノキシベンジル２．２７ ｇ（収率８６．５嘔）
を得た。
ＮＭｆ’Ｌスペクトル（ＣＤＣＩ、）； ａ（シス体
）１．８３〜２．７０（ｍ、３Ｈ）、３．８７（ｄ、２
Ｈ）。
）１．８３〜２．７０（ｍ、３Ｈ）、３．８７（ｄ、２
Ｈ）。
５．１０（ｓ、２Ｈ）、６．１７（ｄ、ＩＨ）。
６．７７〜７．５０（ｍ、９）ｆ）。
トランス体 １．７０〜２．６３（ｍ、３Ｈ）、５．６
７〜３．９７（ｍ、２Ｈ）、５．１０（ｓ、２Ｈ）、５
．５７（ｄ、ＩＨ）、６．７７〜７．５０（ｍ、９Ｈ）
。
７〜３．９７（ｍ、２Ｈ）、５．１０（ｓ、２Ｈ）、５
．５７（ｄ、ＩＨ）、６．７７〜７．５０（ｍ、９Ｈ）
。
参考例６
ル１．２０４Ｆ （３，０４ｍｔｒｕｓ ｌ→の無水エ
ーテル１０ａ＃濤液にアルゴン雰囲気下、−１０℃で三
臭化ダンｏ、ａ２ｓＩｉ（３，０４ｍｍｏ ｌ ）のエ
ーテルＪｍｊｌ液を４分間で滴下し、５時間攪拌した。
ーテル１０ａ＃濤液にアルゴン雰囲気下、−１０℃で三
臭化ダンｏ、ａ２ｓＩｉ（３，０４ｍｍｏ ｌ ）のエ
ーテルＪｍｊｌ液を４分間で滴下し、５時間攪拌した。
反応液に食塩水を加え先後、生成物を酢酸エチルで抽出
しえ。抽出液を食塩水で洗浄し 無水硫酸マグネシウム
て乾燥した。溶媒を留去し、残留物をカラムクロマ）（
１−ヘキｔンニ酢酸エチル＝１５：１）Ｋよ）精刺し、
２−ブロモメチル−５−（２，２−ジクロロエチニル）
−シフはプロパンカルゼン酸ｍ−フェノ中ジベンジル０
．４７ＪＦ（収＄３４優）を得丸。
しえ。抽出液を食塩水で洗浄し 無水硫酸マグネシウム
て乾燥した。溶媒を留去し、残留物をカラムクロマ）（
１−ヘキｔンニ酢酸エチル＝１５：１）Ｋよ）精刺し、
２−ブロモメチル−５−（２，２−ジクロロエチニル）
−シフはプロパンカルゼン酸ｍ−フェノ中ジベンジル０
．４７ＪＦ（収＄３４優）を得丸。
ＮＭレベクトル（ＣＤＣ輸）；Ｊ １．６７〜２．６
７（鶴３Ｈ）、５．４７〜！１．８０（弓２Ｈ）。
７（鶴３Ｈ）、５．４７〜！１．８０（弓２Ｈ）。
５．０８（ａ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、０．６Ｈ）。
６．１４（ｄ、０．４Ｈ）、６．７０〜７．４５（鶴９
Ｈ）。
Ｈ）。
参考例４
微量滴下試験によるイエバエに対する殺虫テスト所定量
の化合物を精秤し、１ ％ （１０ｓｌ／匹の場合）お
よび０．１１（１μｙ／匹の場合）のアセトン溶液を調
製した。炭酸ガス麻酔したイエバエ雌成虫０ム１」６皿
Ｌ１１臼、）の前脚背部に上記の調製液１μノを滴下し
た。その後、腰高シャーレに餌とともに入れ、ガーゼ蓋
をして２５℃のＩＭ麿下に保存した。２４時間後に供試
虫の生死を観察し、その致死率を求めた。結果を第１表
に示す◇第１表
の化合物を精秤し、１ ％ （１０ｓｌ／匹の場合）お
よび０．１１（１μｙ／匹の場合）のアセトン溶液を調
製した。炭酸ガス麻酔したイエバエ雌成虫０ム１」６皿
Ｌ１１臼、）の前脚背部に上記の調製液１μノを滴下し
た。その後、腰高シャーレに餌とともに入れ、ガーゼ蓋
をして２５℃のＩＭ麿下に保存した。２４時間後に供試
虫の生死を観察し、その致死率を求めた。結果を第１表
に示す◇第１表
Claims (1)
- （１）一般式 テ表ワサれる置換ビシクロラクトン鐸導体（式中、ａバ
ーＣＨ＝ＣＸ、ｘ２又ｉ −ＣＨ３ＯＫ、Ｘ、Ｘ、 ｆ
ｉｌわされる基であり、ｘｌ、ｘ２及びＸ５は同−又は
異なるハロゲン原子である。）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3064582A JPS58148874A (ja) | 1982-03-01 | 1982-03-01 | 置換ビシクロラクトン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3064582A JPS58148874A (ja) | 1982-03-01 | 1982-03-01 | 置換ビシクロラクトン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58148874A true JPS58148874A (ja) | 1983-09-05 |
Family
ID=12309551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3064582A Pending JPS58148874A (ja) | 1982-03-01 | 1982-03-01 | 置換ビシクロラクトン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58148874A (ja) |
-
1982
- 1982-03-01 JP JP3064582A patent/JPS58148874A/ja active Pending
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