JPS58147143A - プラスチツクicチツプパツケ−ジ - Google Patents
プラスチツクicチツプパツケ−ジInfo
- Publication number
- JPS58147143A JPS58147143A JP3026482A JP3026482A JPS58147143A JP S58147143 A JPS58147143 A JP S58147143A JP 3026482 A JP3026482 A JP 3026482A JP 3026482 A JP3026482 A JP 3026482A JP S58147143 A JPS58147143 A JP S58147143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- activated
- synthetic resin
- plastic
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims abstract description 10
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 abstract description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4835—Cleaning, e.g. removing of solder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はリードフレームとこのリードフレームと一体モ
ールドされた合成樹脂との密着性の改良されたプラスチ
ック製のICチップパッケージに関する。
ールドされた合成樹脂との密着性の改良されたプラスチ
ック製のICチップパッケージに関する。
一般に微小なICチップの取扱いや取付けを容易にする
ために、これを気密構造の絶縁体容器内に収容し、金体
として取扱いや取付けを容易にすることが行なわれてい
る。
ために、これを気密構造の絶縁体容器内に収容し、金体
として取扱いや取付けを容易にすることが行なわれてい
る。
しかしてこのようなICチップパッケージとしては、従
来からセラミック製のものが知られているが、これは小
型で信頼性の高いものが得られる反面、製造プロセスが
複雑でコストが高くなるばかりでなく、焼結時に収縮が
起こりやすく寸法精度をあまり上げることができないと
いう欠点があった。
来からセラミック製のものが知られているが、これは小
型で信頼性の高いものが得られる反面、製造プロセスが
複雑でコストが高くなるばかりでなく、焼結時に収縮が
起こりやすく寸法精度をあまり上げることができないと
いう欠点があった。
また絶縁体容器を合成樹脂により構成したプラスチック
パッケージも開発されているが、これは上記セラミック
パッケージに比べて製造方法が簡単で安価である反面、
リードフレームとこのリードフレームと一体モールドさ
れる合成樹脂との密着性が充分でなく、両者の界面から
水分等が内部に侵入し、ICチップのコレクタ接合が汚
染されたり電極が腐食されたりしやすいという欠点があ
った。
パッケージも開発されているが、これは上記セラミック
パッケージに比べて製造方法が簡単で安価である反面、
リードフレームとこのリードフレームと一体モールドさ
れる合成樹脂との密着性が充分でなく、両者の界面から
水分等が内部に侵入し、ICチップのコレクタ接合が汚
染されたり電極が腐食されたりしやすいという欠点があ
った。
本発明はこのような欠点を解消するためになされたもの
で、リードフレームとこのリードフレームと一体モール
ドされる合成樹脂との密着性が数珠された信頼性の高い
プラスチックICチップパッケージを提供するものであ
る。
で、リードフレームとこのリードフレームと一体モール
ドされる合成樹脂との密着性が数珠された信頼性の高い
プラスチックICチップパッケージを提供するものであ
る。
すなわち本発明のプラスチックICチップパッケージは
、リードフレームの一端がICチップの端子とボンディ
ングワイヤにより接続され、かつこれらがリードフレー
ムの他端を突出させて合成樹脂により一体モールドされ
ているグラスチックICチップパッケージにおいて、前
記合成樹脂と接するリードフレームの表面を、減圧下で
マイクロ波放電により活性化させた酸素ガスにより処理
して成ることを特徴としている。
、リードフレームの一端がICチップの端子とボンディ
ングワイヤにより接続され、かつこれらがリードフレー
ムの他端を突出させて合成樹脂により一体モールドされ
ているグラスチックICチップパッケージにおいて、前
記合成樹脂と接するリードフレームの表面を、減圧下で
マイクロ波放電により活性化させた酸素ガスにより処理
して成ることを特徴としている。
以下図面に示す実施例に基づいて本発明をさらに説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。図面に示す
ように、この実施例のXCチップパッケージは、電気伝
導性材料からなる逆り字形のリードフレーム1の上側直
線部とICチップ2、およ□びこれらを電気的に接続す
るボンディングワイヤ6が、流動性の高いエポキV系樹
脂等のモールド成形により形成された封止体4により空
隙なく一体化された構造を有しており、リードフレーム
1の封止体4と密接する表面は、1〜5〒errの減圧
下で酸素ガスをマイクロ波放電により活性化された活性
化酸素雰囲気に所定時間さらされ、低温プラズマ処理が
なされている。
ように、この実施例のXCチップパッケージは、電気伝
導性材料からなる逆り字形のリードフレーム1の上側直
線部とICチップ2、およ□びこれらを電気的に接続す
るボンディングワイヤ6が、流動性の高いエポキV系樹
脂等のモールド成形により形成された封止体4により空
隙なく一体化された構造を有しており、リードフレーム
1の封止体4と密接する表面は、1〜5〒errの減圧
下で酸素ガスをマイクロ波放電により活性化された活性
化酸素雰囲気に所定時間さらされ、低温プラズマ処理が
なされている。
上記の処理によりリードフレーム1の表面の、封止樹脂
との接触角は小さくなり両者の密着性は著しく向上する
。
との接触角は小さくなり両者の密着性は著しく向上する
。
また本発明のICチップパッケージにおいては、第2図
に示すように、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリ
スルフォン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、4フ
ツ化エチレン樹脂、6フツ化プロピレン樹脂のような耐
熱性の高い熱可塑性樹脂で封止体4を構成すると共に、
封止体4の形状を収容部5および蓋部6からなり、内部
にICチップ2とボッディングワイヤ3を収容する空隙
を設けた箱形とすることもできる。
に示すように、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリ
スルフォン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、4フ
ツ化エチレン樹脂、6フツ化プロピレン樹脂のような耐
熱性の高い熱可塑性樹脂で封止体4を構成すると共に、
封止体4の形状を収容部5および蓋部6からなり、内部
にICチップ2とボッディングワイヤ3を収容する空隙
を設けた箱形とすることもできる。
このような構造の実施例においても、リードフレーム1
の表面は、第1図に示す構造のものと同様に、マイクロ
波放電により活性化酸素にさらされ、密着性を増すため
の処理がなされている。
の表面は、第1図に示す構造のものと同様に、マイクロ
波放電により活性化酸素にさらされ、密着性を増すため
の処理がなされている。
以上のように構成される本発明のプラスチックICチッ
プバッグごジにおいては、リードフレームの樹脂封止体
と密接する表面が活性化酸素により処理されているので
、これらの密着性が改善されて一番番暑、ここから水分
が浸透し内部のICチップ等を汚染することが全くない
。従って信頼性の極めて高いものといえる。
プバッグごジにおいては、リードフレームの樹脂封止体
と密接する表面が活性化酸素により処理されているので
、これらの密着性が改善されて一番番暑、ここから水分
が浸透し内部のICチップ等を汚染することが全くない
。従って信頼性の極めて高いものといえる。
第1図および第2図は本発明のICチップパッケージの
実施例の断面図である。 1 ・・・・・・ リードフレーム 2 ・・・・・・ ICテップ 3 ・・・・−・ ボンディングワイヤ4−・・・・・
樹脂封止体 代理人弁理士 須 山 佐 一 端 1 図 4
実施例の断面図である。 1 ・・・・・・ リードフレーム 2 ・・・・・・ ICテップ 3 ・・・・−・ ボンディングワイヤ4−・・・・・
樹脂封止体 代理人弁理士 須 山 佐 一 端 1 図 4
Claims (1)
- リードフレームの一端がICチップの端子とボンディン
グワイヤにより接続され、かつこれらが、リードフレー
ムの他端を突出させて合成樹脂により一体モールドされ
ているプラスチックICチップパッケージにおいて、前
記合成樹脂と接するリードフレームの表面を、減圧下で
マイクロ波放電により活性化させた酸素ガスにより処理
して成ることを特徴とするプラスチックICチップパッ
ケージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3026482A JPS58147143A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | プラスチツクicチツプパツケ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3026482A JPS58147143A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | プラスチツクicチツプパツケ−ジ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58147143A true JPS58147143A (ja) | 1983-09-01 |
Family
ID=12298841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3026482A Pending JPS58147143A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | プラスチツクicチツプパツケ−ジ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58147143A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0414852A1 (en) * | 1989-03-14 | 1991-03-06 | Motorola, Inc. | Method for improving the adhesion of a plastic encapsulant to copper containing leadframes |
JPH03145754A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-20 | Toray Ind Inc | 半導体装置 |
CN102354670A (zh) * | 2011-10-13 | 2012-02-15 | 无锡世一电力机械设备有限公司 | 一种提高半导体封装可靠性的综合表面处理方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5379381A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-13 | Hitachi Ltd | Production of resin seal type semiconductor device and lead frame used forthe same |
-
1982
- 1982-02-26 JP JP3026482A patent/JPS58147143A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5379381A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-13 | Hitachi Ltd | Production of resin seal type semiconductor device and lead frame used forthe same |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0414852A1 (en) * | 1989-03-14 | 1991-03-06 | Motorola, Inc. | Method for improving the adhesion of a plastic encapsulant to copper containing leadframes |
EP0414852A4 (en) * | 1989-03-14 | 1993-01-20 | Motorola, Inc. | Method for improving the adhesion of a plastic encapsulant to copper containing leadframes |
JPH03145754A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-20 | Toray Ind Inc | 半導体装置 |
CN102354670A (zh) * | 2011-10-13 | 2012-02-15 | 无锡世一电力机械设备有限公司 | 一种提高半导体封装可靠性的综合表面处理方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3591839A (en) | Micro-electronic circuit with novel hermetic sealing structure and method of manufacture | |
US6459145B1 (en) | Semiconductor device having an improved structure for preventing cracks, and improved small-sized semiconductor | |
US5703407A (en) | Resin-sealed type semiconductor device | |
US4303934A (en) | Molded lead frame dual in line package including a hybrid circuit | |
US4167647A (en) | Hybrid microelectronic circuit package | |
EP1137066A3 (en) | Semiconductor device and process of production of same | |
US4864470A (en) | Mounting device for an electronic component | |
JPS58147143A (ja) | プラスチツクicチツプパツケ−ジ | |
JPH01196153A (ja) | 樹脂封止半導体装置 | |
US5930653A (en) | Method of manufacturing a semiconductor device for surface mounting suitable for comparatively high voltages, and such a semiconductor device | |
JPS58148440A (ja) | プラスチツクicチツプパツケ−ジ | |
JPS5776867A (en) | Semiconductor device | |
JP2001177007A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPS58148438A (ja) | プラスチツクicチツプパツケ−ジ | |
JPS6336699Y2 (ja) | ||
JPS6236299Y2 (ja) | ||
JP2752803B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS60115248A (ja) | 気密封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JPS6148952A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6130424B2 (ja) | ||
US9040356B2 (en) | Semiconductor including cup-shaped leadframe packaging techniques | |
JPH085473A (ja) | 中空型樹脂封止半導体圧力センサ | |
JPH0689946A (ja) | 半導体装置、その製造方法およびその製造に使用されるケースユニット | |
KR920010849B1 (ko) | Eprom장치의 제조 방법 | |
JPS62120053A (ja) | 樹脂封止半導体装置の製造方法 |