JPS5814645B2 - 積層型光結合器の製造方法 - Google Patents

積層型光結合器の製造方法

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JPS5814645B2
JPS5814645B2 JP51086191A JP8619176A JPS5814645B2 JP S5814645 B2 JPS5814645 B2 JP S5814645B2 JP 51086191 A JP51086191 A JP 51086191A JP 8619176 A JP8619176 A JP 8619176A JP S5814645 B2 JPS5814645 B2 JP S5814645B2
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JP
Japan
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intermediate layer
refractive index
ion implantation
optical
region
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JP51086191A
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JPS5311045A (en
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黒田研一
西川啓
浜中宏一
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 従来の積層型光結合器は第１図に示すような構成になっ
ており、主導波路１と副導波路２に中間層３を配し、中
間層をエッチング等により膜厚差を持たせることで結合
領域４と非結合領域５を形成している。
この結合領域４と非結合領域５との中間層の段差は、光
導波路の損失を増すばかりでなく結合特性にも影響する
。
この段差による損失等を小さくする方法として緩傾斜を
有する形状の段を形成することは可能であるが、この緩
傾斜部分で結合領域と非結合領域との分離が困難となる
。
本発明は上記欠点をイオン・インプランテーション（
ｉｏｎ ｉｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎ）を利用することに
よって改良したもので、次にその製造工程に従って説明
する。
第２図において、光屈折率ｎ１を有する誘電体基板６、
例えば石英基板に光屈折率ｎ２を有する主光導波路１、
例えばＴａ２０５の膜を形成後、光屈折率ｎ３を有する
中間層３を例えばＳｉＯ２を非結合になる膜厚にＲＦス
パタリング（ＲＦ−Ｓ ｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ）あるい
は真空蒸着等を施して形成する。
次いで第３図に示すように、非結合領域となる中間層３
にイオン注入防止膜７、例えばホトレジストで被い、結
合領域とする部分のみを開孔してイオン注入防止膜７を
除去する。
この開孔部分から結合領域の光屈折率を非結合領域の光
屈折率より大きくできるようなイオン例えばＢ＋イオン
を注入する。
かくして結合領域の光屈折率ｎ４ぱ非結合領域の光屈折
率ｎ３に対し大きな屈折率を持たすことができ、その光
屈折率ｎ４はイオンの注入量及び注入エネルギによって
変化することができ、結合度に応じた結合層８を形成で
きる。
所定のイオン注入後、第４図に示すようにイオン注入防
止膜７を取り除き、第５図に示すように光屈折率ｎ５を
有する副導波路２、例えばＴａ２０５の膜を形成し、結
合領域８と非結合領域３を分離し、段差のない積層型光
結合器を形成できる。
かくしてイオン注入による積層型光結合器の構成例を示
したが、本発明は各層の光屈折率がｎ２）ｎ ５ ＞
ｎ ４ ＞ ｎ ３二ｎ１の関係を満足し、中間層の光
屈折率ｎ４とｎ３をイオン注入によって変えて作る積層
型結合器に対し各構成層の材料のいかにかかわらず適用
できるものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のものの要部断面図、第２図乃至第５図は
この発明の一実施例を工程順に示した要部断面図である
。 図において、１は主光導波路、２は副光導波路、３は中
間層、４は光結合領域、５は光非結合領域、６は誘電体
基板、７はイオン注入防止膜、８は光結合層を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 誘電体基板上に主光導波路を形成し、この主光導波
    路上に非光結合領域となる中間層を形成し、この中間層
    上にイオン注入防止膜を形成し、光結合領域とすべき前
    記中間層部分の前記イオン注入防止膜部分に開孔を施し
    、この開孔部分から光結合領域の屈折率を非光結合領域
    の屈折率より大ならしめるイオンを前記中間層に注入し
    、ついで、前記中間層上に副光導波路を形成することを
    特徴とする積層型光結合器の製造方法。
JP51086191A 1976-07-19 1976-07-19 積層型光結合器の製造方法 Expired JPS5814645B2 (ja)

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JPS5311045A JPS5311045A (en) 1978-02-01
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0421231Y2 (ja) * 1984-02-14 1992-05-14

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JPH0421231Y2 (ja) * 1984-02-14 1992-05-14

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