JPS58143858A - 集塵装置 - Google Patents

集塵装置

Info

Publication number
JPS58143858A
JPS58143858A JP2597582A JP2597582A JPS58143858A JP S58143858 A JPS58143858 A JP S58143858A JP 2597582 A JP2597582 A JP 2597582A JP 2597582 A JP2597582 A JP 2597582A JP S58143858 A JPS58143858 A JP S58143858A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
case
dust
electrostatic field
voltage source
adhered
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2597582A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirobumi Yoshida
吉田 寛文
Osamu Takahashi
理 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NITSUKAN DENSHI KK
Hitachi Ltd
Original Assignee
NITSUKAN DENSHI KK
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NITSUKAN DENSHI KK, Hitachi Ltd filed Critical NITSUKAN DENSHI KK
Priority to JP2597582A priority Critical patent/JPS58143858A/ja
Publication of JPS58143858A publication Critical patent/JPS58143858A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集塵装置に関するものである。
一般に、たとえば集積回路の如き半導体製品の製造にお
いては、塵埃による不良の発生を防止するため、非常に
厳格な清浄度を維持しながら作業を行う必要がある。
そこで、従来は、密封式の保管箱を用意し、またその中
にクリーンエアーを流して外部や空気中の浮遊塵埃が半
導体製品に付着することを防止している。
ところが、クリーンエアの場合、外部から侵入しようと
する塵埃に対しては効果があるが、保管治具の内部から
発生する塵埃に対しては効果が薄いという問題がある。
また、内部に溜まった塵埃は再び浮遊塵埃となって半導
体製品に付着してしまう。
このような内部に溜まった塵埃は清掃により取り除くし
かなく、凹み等の清掃しにくい箇所では取り除くことが
非常に困難である。
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決し、塵埃
を積極的かつ確実に捕集し、塵埃の付着による不良を低
減させることのできる集塵装置を提供することにある。
この目的を達成するため、本発明は、静電気および粘着
材料を用いて、帯電した塵埃を積極的に引きつけて粘着
させるよう構成したものである。
以下、本発明を図面に示す一実施例にしたがって詳細に
説明する。
図は本発明による集塵装置の一実施例を示す断面図であ
る。
本実施例において、金属材料で作られた保管箱用のケー
ス1の外側と内側の両側は、それぞれ絶縁材2.3によ
り覆われている。また5ケース1には、該ケース1に対
して負電圧を印加して塵埃引き付は用の静電場を作り出
すための可変電圧源4が接続されている。
さらに、ケース1の内側の絶縁材3の内側には、粘着テ
ープ5が交換可能に粘り付けられている。
したがって、本実施例においては、金属のケース1に対
して可変電圧源4でたとえば400〜800Vの負電圧
を印加すると、ケース1の内部にハ静電場が形成され、
ケース1内の正(プラス)に帯電した塵埃は静電気でケ
ース1の内壁面方向に引き付けられる。その結果、塵埃
は粘着テープ5の内表面に達して付着し、再び浮遊する
ことはなくなる。勿論、静電気によらずに、重力で粘着
テープ5に当たったりあるいは偶然に粘着テープ5に当
った塵埃も該粘着テープ5の内表面に確実に捕縛される
このように、本実施例によれば、積極的に静電気で塵埃
を引きつけて、それを粘着テープ5で確実処捕縛できる
ので5極めて良好な集塵を行うことができる。
また、本実施例においては、粘着テープ5を用いている
ので、新しいものと容易に交換でき、常に良好な集塵効
果を保つことができる。もっとも、粘着テープ5の代り
に他の粘着性材料を使用してもよい。
本実施例では、たとえば半導体ウエノ・に付着して異物
不良を生じてしまう0.2μm程度の塵埃や、たとえば
軸受部の金属と金属のこすれにより発生する10μm以
上の塵埃等、広範臼に捕集できるが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。
以上説明したように、本発明によれば、積極的かつ確実
な集塵を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明による集塵装置の一実施例を示す断面図であ
る。   、。 1・・・ケース、2・・・絶縁材、3・・・絶縁材、4
・・・可変電圧源、5・・・粘着テープ。 代理人 弁理士  薄 1)利 幸

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、静電場を作りうる面上を粘着性材料で覆ってなるこ
    とを特徴とする集塵装置。 2、粘着性材料は交換可能な粘着テープよりなることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の集塵装置。
JP2597582A 1982-02-22 1982-02-22 集塵装置 Pending JPS58143858A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2597582A JPS58143858A (ja) 1982-02-22 1982-02-22 集塵装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2597582A JPS58143858A (ja) 1982-02-22 1982-02-22 集塵装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58143858A true JPS58143858A (ja) 1983-08-26

Family

ID=12180724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2597582A Pending JPS58143858A (ja) 1982-02-22 1982-02-22 集塵装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58143858A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02218456A (ja) * 1987-10-09 1990-08-31 Nitto Denko Corp 混入異物の除去方法
JP2013513473A (ja) * 2009-12-15 2013-04-22 アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト オーバースプレーを静電分離するための方法及び装置
JP2013514160A (ja) * 2009-12-15 2013-04-25 アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト 吸収剤でオーバースプレーを静電分離するための方法及び装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02218456A (ja) * 1987-10-09 1990-08-31 Nitto Denko Corp 混入異物の除去方法
JP2013513473A (ja) * 2009-12-15 2013-04-22 アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト オーバースプレーを静電分離するための方法及び装置
JP2013514160A (ja) * 2009-12-15 2013-04-25 アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト 吸収剤でオーバースプレーを静電分離するための方法及び装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bakhtari et al. Experimental and numerical investigation of nanoparticle removal using acoustic streaming and the effect of time
US5565179A (en) Electrostatic particle removal and characterization
US4677704A (en) Cleaning system for static charged semiconductor wafer surface
KR910008707B1 (ko) 방진필름
WO2010109261A1 (en) Dust cleaning and collecting device based on electrostatic principles
JP4105778B2 (ja) 気流搬送装置
JPS58143858A (ja) 集塵装置
JP2015126092A (ja) クリーニング用基板および基板処理装置のクリーニング方法
JPS63777B2 (ja)
JP3453707B2 (ja) 基板又はシート表面洗浄装置
JP2000260671A (ja) ダスト吸着用ウエハ及び半導体装置内のクリーニング方法
JP2834097B2 (ja) レチクル洗浄装置
JPH03276480A (ja) フロッピーディスクのクリーニング装置
JPH0364072B2 (ja)
JP3589550B2 (ja) 基板処理装置
JPH11260900A (ja) 製造ライン掃除用物体、製造ライン掃除用物体洗浄方法および製造ラインの運用方法
JPS59155861A (ja) 粒子除去装置
JPH04193362A (ja) 電気集塵器
JP2803634B2 (ja) 半導体ウェハー収納カセット及びボックス
Rapa Surface Migrating Particulate Contamination in Clean Rooms
JPH0364071B2 (ja)
JPH05206255A (ja) 半導体用治具
JPH0257156B2 (ja)
JPH03127831A (ja) 半導体基板処理装置のクリーニング方法
JPS6255939A (ja) 塵埃除去方法