JPS58143858A - 集塵装置 - Google Patents
集塵装置Info
- Publication number
- JPS58143858A JPS58143858A JP2597582A JP2597582A JPS58143858A JP S58143858 A JPS58143858 A JP S58143858A JP 2597582 A JP2597582 A JP 2597582A JP 2597582 A JP2597582 A JP 2597582A JP S58143858 A JPS58143858 A JP S58143858A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- case
- dust
- electrostatic field
- voltage source
- adhered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は集塵装置に関するものである。
一般に、たとえば集積回路の如き半導体製品の製造にお
いては、塵埃による不良の発生を防止するため、非常に
厳格な清浄度を維持しながら作業を行う必要がある。
いては、塵埃による不良の発生を防止するため、非常に
厳格な清浄度を維持しながら作業を行う必要がある。
そこで、従来は、密封式の保管箱を用意し、またその中
にクリーンエアーを流して外部や空気中の浮遊塵埃が半
導体製品に付着することを防止している。
にクリーンエアーを流して外部や空気中の浮遊塵埃が半
導体製品に付着することを防止している。
ところが、クリーンエアの場合、外部から侵入しようと
する塵埃に対しては効果があるが、保管治具の内部から
発生する塵埃に対しては効果が薄いという問題がある。
する塵埃に対しては効果があるが、保管治具の内部から
発生する塵埃に対しては効果が薄いという問題がある。
また、内部に溜まった塵埃は再び浮遊塵埃となって半導
体製品に付着してしまう。
体製品に付着してしまう。
このような内部に溜まった塵埃は清掃により取り除くし
かなく、凹み等の清掃しにくい箇所では取り除くことが
非常に困難である。
かなく、凹み等の清掃しにくい箇所では取り除くことが
非常に困難である。
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決し、塵埃
を積極的かつ確実に捕集し、塵埃の付着による不良を低
減させることのできる集塵装置を提供することにある。
を積極的かつ確実に捕集し、塵埃の付着による不良を低
減させることのできる集塵装置を提供することにある。
この目的を達成するため、本発明は、静電気および粘着
材料を用いて、帯電した塵埃を積極的に引きつけて粘着
させるよう構成したものである。
材料を用いて、帯電した塵埃を積極的に引きつけて粘着
させるよう構成したものである。
以下、本発明を図面に示す一実施例にしたがって詳細に
説明する。
説明する。
図は本発明による集塵装置の一実施例を示す断面図であ
る。
る。
本実施例において、金属材料で作られた保管箱用のケー
ス1の外側と内側の両側は、それぞれ絶縁材2.3によ
り覆われている。また5ケース1には、該ケース1に対
して負電圧を印加して塵埃引き付は用の静電場を作り出
すための可変電圧源4が接続されている。
ス1の外側と内側の両側は、それぞれ絶縁材2.3によ
り覆われている。また5ケース1には、該ケース1に対
して負電圧を印加して塵埃引き付は用の静電場を作り出
すための可変電圧源4が接続されている。
さらに、ケース1の内側の絶縁材3の内側には、粘着テ
ープ5が交換可能に粘り付けられている。
ープ5が交換可能に粘り付けられている。
したがって、本実施例においては、金属のケース1に対
して可変電圧源4でたとえば400〜800Vの負電圧
を印加すると、ケース1の内部にハ静電場が形成され、
ケース1内の正(プラス)に帯電した塵埃は静電気でケ
ース1の内壁面方向に引き付けられる。その結果、塵埃
は粘着テープ5の内表面に達して付着し、再び浮遊する
ことはなくなる。勿論、静電気によらずに、重力で粘着
テープ5に当たったりあるいは偶然に粘着テープ5に当
った塵埃も該粘着テープ5の内表面に確実に捕縛される
。
して可変電圧源4でたとえば400〜800Vの負電圧
を印加すると、ケース1の内部にハ静電場が形成され、
ケース1内の正(プラス)に帯電した塵埃は静電気でケ
ース1の内壁面方向に引き付けられる。その結果、塵埃
は粘着テープ5の内表面に達して付着し、再び浮遊する
ことはなくなる。勿論、静電気によらずに、重力で粘着
テープ5に当たったりあるいは偶然に粘着テープ5に当
った塵埃も該粘着テープ5の内表面に確実に捕縛される
。
このように、本実施例によれば、積極的に静電気で塵埃
を引きつけて、それを粘着テープ5で確実処捕縛できる
ので5極めて良好な集塵を行うことができる。
を引きつけて、それを粘着テープ5で確実処捕縛できる
ので5極めて良好な集塵を行うことができる。
また、本実施例においては、粘着テープ5を用いている
ので、新しいものと容易に交換でき、常に良好な集塵効
果を保つことができる。もっとも、粘着テープ5の代り
に他の粘着性材料を使用してもよい。
ので、新しいものと容易に交換でき、常に良好な集塵効
果を保つことができる。もっとも、粘着テープ5の代り
に他の粘着性材料を使用してもよい。
本実施例では、たとえば半導体ウエノ・に付着して異物
不良を生じてしまう0.2μm程度の塵埃や、たとえば
軸受部の金属と金属のこすれにより発生する10μm以
上の塵埃等、広範臼に捕集できるが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。
不良を生じてしまう0.2μm程度の塵埃や、たとえば
軸受部の金属と金属のこすれにより発生する10μm以
上の塵埃等、広範臼に捕集できるが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。
以上説明したように、本発明によれば、積極的かつ確実
な集塵を行うことができる。
な集塵を行うことができる。
図は本発明による集塵装置の一実施例を示す断面図であ
る。 、。 1・・・ケース、2・・・絶縁材、3・・・絶縁材、4
・・・可変電圧源、5・・・粘着テープ。 代理人 弁理士 薄 1)利 幸
る。 、。 1・・・ケース、2・・・絶縁材、3・・・絶縁材、4
・・・可変電圧源、5・・・粘着テープ。 代理人 弁理士 薄 1)利 幸
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、静電場を作りうる面上を粘着性材料で覆ってなるこ
とを特徴とする集塵装置。 2、粘着性材料は交換可能な粘着テープよりなることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の集塵装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2597582A JPS58143858A (ja) | 1982-02-22 | 1982-02-22 | 集塵装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2597582A JPS58143858A (ja) | 1982-02-22 | 1982-02-22 | 集塵装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58143858A true JPS58143858A (ja) | 1983-08-26 |
Family
ID=12180724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2597582A Pending JPS58143858A (ja) | 1982-02-22 | 1982-02-22 | 集塵装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58143858A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02218456A (ja) * | 1987-10-09 | 1990-08-31 | Nitto Denko Corp | 混入異物の除去方法 |
JP2013513473A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-22 | アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト | オーバースプレーを静電分離するための方法及び装置 |
JP2013514160A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-25 | アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト | 吸収剤でオーバースプレーを静電分離するための方法及び装置 |
-
1982
- 1982-02-22 JP JP2597582A patent/JPS58143858A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02218456A (ja) * | 1987-10-09 | 1990-08-31 | Nitto Denko Corp | 混入異物の除去方法 |
JP2013513473A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-22 | アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト | オーバースプレーを静電分離するための方法及び装置 |
JP2013514160A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-25 | アイゼンマン アクチェンゲゼルシャフト | 吸収剤でオーバースプレーを静電分離するための方法及び装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Bakhtari et al. | Experimental and numerical investigation of nanoparticle removal using acoustic streaming and the effect of time | |
US5565179A (en) | Electrostatic particle removal and characterization | |
US4677704A (en) | Cleaning system for static charged semiconductor wafer surface | |
KR910008707B1 (ko) | 방진필름 | |
WO2010109261A1 (en) | Dust cleaning and collecting device based on electrostatic principles | |
JP4105778B2 (ja) | 気流搬送装置 | |
JPS58143858A (ja) | 集塵装置 | |
JP2015126092A (ja) | クリーニング用基板および基板処理装置のクリーニング方法 | |
JPS63777B2 (ja) | ||
JP3453707B2 (ja) | 基板又はシート表面洗浄装置 | |
JP2000260671A (ja) | ダスト吸着用ウエハ及び半導体装置内のクリーニング方法 | |
JP2834097B2 (ja) | レチクル洗浄装置 | |
JPH03276480A (ja) | フロッピーディスクのクリーニング装置 | |
JPH0364072B2 (ja) | ||
JP3589550B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH11260900A (ja) | 製造ライン掃除用物体、製造ライン掃除用物体洗浄方法および製造ラインの運用方法 | |
JPS59155861A (ja) | 粒子除去装置 | |
JPH04193362A (ja) | 電気集塵器 | |
JP2803634B2 (ja) | 半導体ウェハー収納カセット及びボックス | |
Rapa | Surface Migrating Particulate Contamination in Clean Rooms | |
JPH0364071B2 (ja) | ||
JPH05206255A (ja) | 半導体用治具 | |
JPH0257156B2 (ja) | ||
JPH03127831A (ja) | 半導体基板処理装置のクリーニング方法 | |
JPS6255939A (ja) | 塵埃除去方法 |