JPS58138046A - ウエハ移替装置 - Google Patents
ウエハ移替装置Info
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- JPS58138046A JPS58138046A JP2160382A JP2160382A JPS58138046A JP S58138046 A JPS58138046 A JP S58138046A JP 2160382 A JP2160382 A JP 2160382A JP 2160382 A JP2160382 A JP 2160382A JP S58138046 A JPS58138046 A JP S58138046A
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67754—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a batch of workpieces
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体ウェハの皮膜、不純物拡散、化学エツチ
ング、ＳＳ去等に使用されるウェハ移替装置に胸するも
のである。
ング、ＳＳ去等に使用されるウェハ移替装置に胸するも
のである。
半導体集積同略装置ｌｌ（以下ＩＣと称する。）。
大規模半導体集積回路装［（以下ＬＳＩと称する。）等
の半導体装菖は、円形のシリコンウェハにシリコン酸化
膜、窒化膜等の皮膜形成処理、ＰＮ接合を作るための不
純物拡散処理及び写真製版処理を繰返して作られる。こ
の皮膜形成処理、不純物拡散処理は耐熱性の材料（例え
は石英ガラス、多結晶シリコン）等に細溝を形成した整
列治具（以下ボートと称す）にシリコンウェハを整列支
持させ、こｎを加熱炉中に挿入して行なわれる。尚この
処理は通常８０分乃至数時間を要するものであるため、
１８ｔに多数処理が行なわｎ、従って前記ボートには数
十乃至百獣上の細溝が形成さｎている。
の半導体装菖は、円形のシリコンウェハにシリコン酸化
膜、窒化膜等の皮膜形成処理、ＰＮ接合を作るための不
純物拡散処理及び写真製版処理を繰返して作られる。こ
の皮膜形成処理、不純物拡散処理は耐熱性の材料（例え
は石英ガラス、多結晶シリコン）等に細溝を形成した整
列治具（以下ボートと称す）にシリコンウェハを整列支
持させ、こｎを加熱炉中に挿入して行なわれる。尚この
処理は通常８０分乃至数時間を要するものであるため、
１８ｔに多数処理が行なわｎ、従って前記ボートには数
十乃至百獣上の細溝が形成さｎている。
ここで前記ボートと加熱炉を用いた従来の皮膜形成処理
及び不純物拡散処理におけるシリコンウェハ及びボート
のハンドリング方法を説明しておく。
及び不純物拡散処理におけるシリコンウェハ及びボート
のハンドリング方法を説明しておく。
第１−はシリコンウェハ（以下ウェハと称す）。
第２１はボート、第８内は皮膜形成処理及び不純物拡散
処理の前後でウェハを収納保管するカセットを示し、こ
のカセットには２６枚のウェハが収納でき、このカセッ
ト１ヶ分が１単位（１０ツト）として扱わｎる。
処理の前後でウェハを収納保管するカセットを示し、こ
のカセットには２６枚のウェハが収納でき、このカセッ
ト１ヶ分が１単位（１０ツト）として扱わｎる。
第４図は加熱炉及びその相識機器からなる加熱装置を示
す。第４図中でＯＱは加熱炉、（２）は耐熱材料例えは
石英ガラス或いは多結晶シリコンよ構成る円形管で一端
は加熱炉ＯＩに付属したガスドーピング装置と管で接続
され、他端は前記ボート（３）を挿入できるように開放
さｎている。この円形管（２）は１台の加熱炉αＱに４
本備えらｎている。翰は同じく加熱炉０１に付属したク
リーンステージで塵埃を除去した清浄空気を供給するク
リーンエアー供給袋Ｗａυを備えている。（至）は円形
管（２）の各々の開放端に備えらｎたボート受台で、ク
リーンステージ翰に取付けられている。ａ４はボート（
３）をボート受台（至）から円形管（２）に挿入したり
引出したシするボート挿引棒で、躯動部は加熱炉Ｑ（Ｉ
の背面に取付けらｎている。（ト）は前記挿引棒ａ４が
真直に運動するためにクリーンステージ■に取付けらｎ
た案内コロである。（至）はボート挿引棒ａ４に連結具
（ＩＩを介して取付けられた引掛棒で棒Ｑ７）と２ケの
引掛爪ａ・よシ檎成さｎている。
す。第４図中でＯＱは加熱炉、（２）は耐熱材料例えは
石英ガラス或いは多結晶シリコンよ構成る円形管で一端
は加熱炉ＯＩに付属したガスドーピング装置と管で接続
され、他端は前記ボート（３）を挿入できるように開放
さｎている。この円形管（２）は１台の加熱炉αＱに４
本備えらｎている。翰は同じく加熱炉０１に付属したク
リーンステージで塵埃を除去した清浄空気を供給するク
リーンエアー供給袋Ｗａυを備えている。（至）は円形
管（２）の各々の開放端に備えらｎたボート受台で、ク
リーンステージ翰に取付けられている。ａ４はボート（
３）をボート受台（至）から円形管（２）に挿入したり
引出したシするボート挿引棒で、躯動部は加熱炉Ｑ（Ｉ
の背面に取付けらｎている。（ト）は前記挿引棒ａ４が
真直に運動するためにクリーンステージ■に取付けらｎ
た案内コロである。（至）はボート挿引棒ａ４に連結具
（ＩＩを介して取付けられた引掛棒で棒Ｑ７）と２ケの
引掛爪ａ・よシ檎成さｎている。
以上のような構成の装置とボート（３）及びカセット（
８）とを用い前記した皮膜形成処理及び不純物拡散処理
を行なう従来の方法は、まずクリーステージ翰の作業テ
ーブル（２）にボート（３）を載置しカセット（８）に
収［１またウェハ（１）を１枚づつピンセットで取出し
ボート（３）の細溝（６）に第２図で図示した如くに直
立させる。通常１ケのボート（３）には４〜６力士ット
分のウェハ（１）が積載されろ。次に、このボート（３
）をボート受台（至）に載置する。この時、ボー ）
（３）の一端に設けらｎた連結棒（７）がボート引掛棒
０θの引掛爪叫に狭ｔｏる如くに載置する。次にボート
挿引装置を駆動させボート（３）を円形管曹内に挿入し
、ガスドーピング装置１ｔＱ１よシガスを供給し、所定
の皮膜形成処理或いは不純物拡散処理を行なう。処理が
経口は同じくボート挿引装置によってボート（３）はボ
ート受台Ｑｌ上に戻さｎ、ボート受台Ｑ３よりボート（
３）を元の作業テーブル翰上に決して、ピンセットでボ
ート（３）上のウェハ（１）を１枚づつカセット（８）
に収納する。
８）とを用い前記した皮膜形成処理及び不純物拡散処理
を行なう従来の方法は、まずクリーステージ翰の作業テ
ーブル（２）にボート（３）を載置しカセット（８）に
収［１またウェハ（１）を１枚づつピンセットで取出し
ボート（３）の細溝（６）に第２図で図示した如くに直
立させる。通常１ケのボート（３）には４〜６力士ット
分のウェハ（１）が積載されろ。次に、このボート（３
）をボート受台（至）に載置する。この時、ボー ）
（３）の一端に設けらｎた連結棒（７）がボート引掛棒
０θの引掛爪叫に狭ｔｏる如くに載置する。次にボート
挿引装置を駆動させボート（３）を円形管曹内に挿入し
、ガスドーピング装置１ｔＱ１よシガスを供給し、所定
の皮膜形成処理或いは不純物拡散処理を行なう。処理が
経口は同じくボート挿引装置によってボート（３）はボ
ート受台Ｑｌ上に戻さｎ、ボート受台Ｑ３よりボート（
３）を元の作業テーブル翰上に決して、ピンセットでボ
ート（３）上のウェハ（１）を１枚づつカセット（８）
に収納する。
従来、υ上の作業中、ボート（３）の円形管（２）中へ
の挿入からボート受台ａ１への引出までの作業は自動で
行なわｎるが他は手作業に依っていた。ボート（３）を
作業テーブル（２）とボート受台（至）との闇で運搬す
る作業を省略し、ボート受台（２）上にボート（３）を
載置した状−でウェハ（１）をピンセットでハンドリン
グする方法も用いらｎていたが、伺れの方法にしても、
ボート（３）とカセット（８）との間で行なうウェハ（
１）の人手によるハンドリングは下記の如く多くの欠点
を有している。すなわち、 １、 ウェハ（１）が極薄で割れ易いのでピンセットで
はハンドリングし難く、多くの作業時間を委する。
の挿入からボート受台ａ１への引出までの作業は自動で
行なわｎるが他は手作業に依っていた。ボート（３）を
作業テーブル（２）とボート受台（至）との闇で運搬す
る作業を省略し、ボート受台（２）上にボート（３）を
載置した状−でウェハ（１）をピンセットでハンドリン
グする方法も用いらｎていたが、伺れの方法にしても、
ボート（３）とカセット（８）との間で行なうウェハ（
１）の人手によるハンドリングは下記の如く多くの欠点
を有している。すなわち、 １、 ウェハ（１）が極薄で割れ易いのでピンセットで
はハンドリングし難く、多くの作業時間を委する。
２、 加熱炉の近くであり熱く作業環境が患い。
８、 ウェハ（１）が人体が発する鴎埃によって汚され
る。
る。
゛特に上記８．が工ＪＬ８Ｉ−にとっては歩留を低下さ
せる大きな部内となっていた。
せる大きな部内となっていた。
本発明は前記したような従来の装部の欠点を除去するた
めになさｎたものであシ、ウェハのハンドリングは一切
自動で行ない、且つウェハが人体から発する秦埃の影響
を受けないで処理できるつエバ移替装置を提供せんとす
るものである。
めになさｎたものであシ、ウェハのハンドリングは一切
自動で行ない、且つウェハが人体から発する秦埃の影響
を受けないで処理できるつエバ移替装置を提供せんとす
るものである。
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第６図は本発明の一実施例の全体構成を示すプローツク
斜視図、第６図はカセットストッカ及びカセットハンド
リングの各機構を示す斜視図、第７囚は本発明の一実施
例のボートハンドリングの機構を示す斜視図、第８図は
ウェハをカセットとボート間で移替える機構を示す断面
図、第９図はウェハの移替え位置におけるボートの位置
決め機構を示す斜視図である。
斜視図、第６図はカセットストッカ及びカセットハンド
リングの各機構を示す斜視図、第７囚は本発明の一実施
例のボートハンドリングの機構を示す斜視図、第８図は
ウェハをカセットとボート間で移替える機構を示す断面
図、第９図はウェハの移替え位置におけるボートの位置
決め機構を示す斜視図である。
＃１６図において、ＱＯは加熱炉、翰はクリーンステー
ジ、（２）はボート挿引棒、（至）はボート引掛棒でこ
ｎらは１記従来のものと同じである。（ホ）はカセット
を収納するカセットストッカ、（ホ）はカセットをカセ
ットストッカ（至）とファセットアライナ（財）闇で搬
送する力士ット搬送機構、翰は加熱炉の前に取付けられ
たボート受台、（７）はボートを移送するボート送少機
構、ＧＩυはボートをボート受台四とボート送シ機構■
との間で運ぶボートエレベータ、（至）はファセットア
ライナ（財）上のカセットを把持してウェハ移替部に送
シ、ピッチ送シするカセット送シ機構、（２）はウェハ
をカセットとボート間で移替えるウェハ移替機構である
。
ジ、（２）はボート挿引棒、（至）はボート引掛棒でこ
ｎらは１記従来のものと同じである。（ホ）はカセット
を収納するカセットストッカ、（ホ）はカセットをカセ
ットストッカ（至）とファセットアライナ（財）闇で搬
送する力士ット搬送機構、翰は加熱炉の前に取付けられ
たボート受台、（７）はボートを移送するボート送少機
構、ＧＩυはボートをボート受台四とボート送シ機構■
との間で運ぶボートエレベータ、（至）はファセットア
ライナ（財）上のカセットを把持してウェハ移替部に送
シ、ピッチ送シするカセット送シ機構、（２）はウェハ
をカセットとボート間で移替えるウェハ移替機構である
。
以下餉６−〜第９図によってさらに詳述する。
まず第６図において、カセット（８）を収納するカセッ
トストッカ四の構造及び機能は次の如くである。すなわ
ち、■は角パイプで組ｔｎた枠で、この枠−にはスライ
ドレール−によって引出可能な棚四が６段×４列＝ｇｏ
ケ取付けらｎてお夛、１ケの棚−には４ケのカセット（
８）が載置できる。従ってカセットストッカ（至）には
総数８０ケのカセット（８）を収納することができる。
トストッカ四の構造及び機能は次の如くである。すなわ
ち、■は角パイプで組ｔｎた枠で、この枠−にはスライ
ドレール−によって引出可能な棚四が６段×４列＝ｇｏ
ケ取付けらｎてお夛、１ケの棚−には４ケのカセット（
８）が載置できる。従ってカセットストッカ（至）には
総数８０ケのカセット（８）を収納することができる。
−一は後述のカセット把持機構（８９ａ）（８９ｂ）に
よシカセット（８）を把持し前記棚−と、後述のカセッ
ト搬送機構（ホ）に含まれるカセット搬送台単一との間
を運ぶカセット移載機構でＩＤシ、前記枠特の上部に取
付けられたガイドレール■でガイドされ同じく枠瞬の下
部に取付けらｎた前後方向駆動機構−によってカセット
ストッカに）の中で前後移動を行なう。（８９ａ）（８
９ｂ）は前記カセット移載機構Ｇ／ａ（至）の各々の上
下方向駆動機構（８７ａ）（８７ｂ）によって上下に１
勤するカセット把持機構で、こむにはカセット（８）を
把持する把持アーム（４１ａ）〜（４１ｈ）が取付けら
ｎている。把持アーム （４１ａ）と（４１ｂ）、（４
１ｃ）と（４１＋１）、（４ｔｅ）と（４１ｆ）。
よシカセット（８）を把持し前記棚−と、後述のカセッ
ト搬送機構（ホ）に含まれるカセット搬送台単一との間
を運ぶカセット移載機構でＩＤシ、前記枠特の上部に取
付けられたガイドレール■でガイドされ同じく枠瞬の下
部に取付けらｎた前後方向駆動機構−によってカセット
ストッカに）の中で前後移動を行なう。（８９ａ）（８
９ｂ）は前記カセット移載機構Ｇ／ａ（至）の各々の上
下方向駆動機構（８７ａ）（８７ｂ）によって上下に１
勤するカセット把持機構で、こむにはカセット（８）を
把持する把持アーム（４１ａ）〜（４１ｈ）が取付けら
ｎている。把持アーム （４１ａ）と（４１ｂ）、（４
１ｃ）と（４１＋１）、（４ｔｅ）と（４１ｆ）。
（４１ｇ）と（４１ｈ）はカセット把持機構（８９ａ）
（８９ｂ）に内蔵した計４ヶのエアーシリンダ（図示せ
ず）によって夫々独立に開閉ができるようになっている
。
（８９ｂ）に内蔵した計４ヶのエアーシリンダ（図示せ
ず）によって夫々独立に開閉ができるようになっている
。
次に（２）はカセット（８）をカセットストッカ（至）
とウェハ移替位置との間を運ぶ搬送機構で、−は力士ッ
ト（８）を積載してガイドレール−上を走行する搬送台
車である。争υは駆動機構−によってガイドレール−上
を往復するワイヤローブで前記搬送台車−とつながれて
いる。
とウェハ移替位置との間を運ぶ搬送機構で、−は力士ッ
ト（８）を積載してガイドレール−上を走行する搬送台
車である。争υは駆動機構−によってガイドレール−上
を往復するワイヤローブで前記搬送台車−とつながれて
いる。
＠はカセット（８）内のウェハのファセットを揃えるフ
ァセットアライナである。（４７ａＸ４？ｂ）は前記搬
送台車−によって（蜀の位＊ｔで運ｔｆｆ’したカセッ
ト（８）を載置する載飄爪、−は上下動板−に一端を支
持されモータ（図示せず）によって同転されるファセッ
トローラで前記２ケの載瀧爪（４？ａ）（４７ｂ）のほ
ぼ中間に位置している。このファセットアライナ（財）
は全体で上下するようになっていてカセット（８）のフ
ァセットアライナ（財）へのセットを容易にしてお９、
さらに載箪爪（４？ａＸ４７ｂ）に載置さｎた複数のウ
ェハ（１）が入ったカセット（８）の下方からファセト
ローラーが上昇しウェハ（１）に接触した後（ロ）転す
ることによシカセット（８）に入った複数のウェハ（１
）を同時に位置合わせできる。（Ｍｉｌ＆）（６！ｂ）
はメネジ−とｉに左右動し、メネジ−に関しほぼ７５°
回転すると共にエアーシリンダー輪によって開閉動作を
行なうチャック爪である。−は前記チャック爪（６２ａ
）（５２ｂ）を同転させ且つ左右動するために設けられ
たスプライン軸でモーターによって駆動される。■はオ
ネジ、緒はこのオネジ■を駆動するパルスモータで、前
記チャック爪（１２ａ）（６２に＋）を左右動するもの
である。これらは前記搬送台車−によって搬送の後、フ
ァセットアライナ−の載璽爪（４７ａ）（４７ｂ）上に
載せらｎファセットアライメントさｎたカセット（８）
を把持してほぼ７６°回転させ、このカセット（８）よ
シボートに或いはその逆にウェハを１枚づつ移替える位
置に力士ット送シ機構（至）によシ順次横送シさせ、移
替えを１力セツト分完了すると、第６図のＢ位置に待機
させた搬送台単一上にカセット（８）を載置させるもの
である。
ァセットアライナである。（４７ａＸ４？ｂ）は前記搬
送台車−によって（蜀の位＊ｔで運ｔｆｆ’したカセッ
ト（８）を載置する載飄爪、−は上下動板−に一端を支
持されモータ（図示せず）によって同転されるファセッ
トローラで前記２ケの載瀧爪（４？ａ）（４７ｂ）のほ
ぼ中間に位置している。このファセットアライナ（財）
は全体で上下するようになっていてカセット（８）のフ
ァセットアライナ（財）へのセットを容易にしてお９、
さらに載箪爪（４？ａＸ４７ｂ）に載置さｎた複数のウ
ェハ（１）が入ったカセット（８）の下方からファセト
ローラーが上昇しウェハ（１）に接触した後（ロ）転す
ることによシカセット（８）に入った複数のウェハ（１
）を同時に位置合わせできる。（Ｍｉｌ＆）（６！ｂ）
はメネジ−とｉに左右動し、メネジ−に関しほぼ７５°
回転すると共にエアーシリンダー輪によって開閉動作を
行なうチャック爪である。−は前記チャック爪（６２ａ
）（５２ｂ）を同転させ且つ左右動するために設けられ
たスプライン軸でモーターによって駆動される。■はオ
ネジ、緒はこのオネジ■を駆動するパルスモータで、前
記チャック爪（１２ａ）（６２に＋）を左右動するもの
である。これらは前記搬送台車−によって搬送の後、フ
ァセットアライナ−の載璽爪（４７ａ）（４７ｂ）上に
載せらｎファセットアライメントさｎたカセット（８）
を把持してほぼ７６°回転させ、このカセット（８）よ
シボートに或いはその逆にウェハを１枚づつ移替える位
置に力士ット送シ機構（至）によシ順次横送シさせ、移
替えを１力セツト分完了すると、第６図のＢ位置に待機
させた搬送台単一上にカセット（８）を載置させるもの
である。
第７図はボート−を加熱炉ＱＱ内の円形管斡からウェハ
の移替位置へ、又その逆に運ぶ機構を説明するものであ
る。輪はボート−を受けるボート受台であシボートーは
従来と同様の機構で円形管慶とこのボート受台−との間
で受渡しさｎる。このボート−の前記受渡し作業の間は
ボート受台輪はクリーンステージ■に取付けらｎたボー
ト受棚−１に箪かｎている。ｃＩυは前記ボート受台輪
とボート−をボート受棚−からクリーンステージ翰上の
ボート走行レール（７７ａ）（７７ｂ）へ、又その逆に
運ぶボートエレベータである。（２）は２本のガイド軸
（６８ａ）（６８ｂ）をガイドとして上下動するボート
ハンドリングアームで、その一部を構成する板（ハ）は
下部の軸受−内のスプロケット３Ｑと上部軸９ｔ（図示
せず）内のスプロケット（−示せず）との間で張ったロ
ーラチェインｎと連結さｎ、前記スプロケットＱＱの回
転運動によって上下動さｎる。同じくボートハンドリン
グアーム四中のボート受アーム（７６ａ）（？６ｂ）は
２ケのリンクｑ４（ハ）をモータ（図示せず）で回転さ
せることによって呻後動する。
の移替位置へ、又その逆に運ぶ機構を説明するものであ
る。輪はボート−を受けるボート受台であシボートーは
従来と同様の機構で円形管慶とこのボート受台−との間
で受渡しさｎる。このボート−の前記受渡し作業の間は
ボート受台輪はクリーンステージ■に取付けらｎたボー
ト受棚−１に箪かｎている。ｃＩυは前記ボート受台輪
とボート−をボート受棚−からクリーンステージ翰上の
ボート走行レール（７７ａ）（７７ｂ）へ、又その逆に
運ぶボートエレベータである。（２）は２本のガイド軸
（６８ａ）（６８ｂ）をガイドとして上下動するボート
ハンドリングアームで、その一部を構成する板（ハ）は
下部の軸受−内のスプロケット３Ｑと上部軸９ｔ（図示
せず）内のスプロケット（−示せず）との間で張ったロ
ーラチェインｎと連結さｎ、前記スプロケットＱＱの回
転運動によって上下動さｎる。同じくボートハンドリン
グアーム四中のボート受アーム（７６ａ）（？６ｂ）は
２ケのリンクｑ４（ハ）をモータ（図示せず）で回転さ
せることによって呻後動する。
（７？ａ）（ｙ７ｂ）はボート走行レールでその内伺に
はフリーに回転するガイドローラ６１）が所定の間隔で
設けらｎている。（ハ）はオネジ、四はメネジ、鉤はメ
ネジ（へ）に取付けらｎたテーパ軸で、オネジ（至）の
一端にはこｎを回転させるパルスモータ（図示せず）が
取付けらｎている。
はフリーに回転するガイドローラ６１）が所定の間隔で
設けらｎている。（ハ）はオネジ、四はメネジ、鉤はメ
ネジ（へ）に取付けらｎたテーパ軸で、オネジ（至）の
一端にはこｎを回転させるパルスモータ（図示せず）が
取付けらｎている。
尚、前記テーパ軸■はボート受台−の一端に設けられた
抜穴−と嵌合する寸法となっておシ、ボート受台輪がボ
ートエレベータ供によってボート受棚■よシ取シ出され
ボート走行レール（７７ａ）（？７ｂ）のガイドローラ
ｅυ上に載せらｎた時、前記テーパ軸−と抜穴−が嵌合
する。
抜穴−と嵌合する寸法となっておシ、ボート受台輪がボ
ートエレベータ供によってボート受棚■よシ取シ出され
ボート走行レール（７７ａ）（？７ｂ）のガイドローラ
ｅυ上に載せらｎた時、前記テーパ軸−と抜穴−が嵌合
する。
次に第８図によシウエハをボート■とカセット（８）と
の間で移替える部分の機構を説明する。記号ａυ以下は
第６１Ｑ、 ｆＩＡ？図で説明したものであシ、カセッ
ト送シ機構（２）及びボート送シ機構曽によってカセッ
ト（８）を実線で図示した位置に、ボート−も同じく図
示した位置に運はれる。−一はこの状態でカセット（８
）とボート■の間に位置するように設けられた一対のＶ
溝レールで、Ｖ溝の底がウェハ（１）の外縁を挟む如く
に、且つウェハ（１）が転勤できる間隙をあけて固定さ
ｎている。尚、第８図のＡ−ム線を頂点として両側に勾
配が設けられている。鉤はカセット（８）内のウェハ（
１）を１枚づつ前記Ｖ溝レール＠−内に送り込むための
回転ブツシャであり、アーム輪は１１７字状に屈曲して
お）、その一端に、外周ＫＶ溝が設けられたＶ溝ローラ
ーを持ち、軸−を同転軸として、モータ（図示せず）に
よって、回転運動を行なう。−は前記同転ブツシャ鋳に
よってＶ溝レール−■内に送９込まれたウェハ（１）を
支持し、ボート−の細溝に案内する直進ブツシャで往違
運動する棒状のアーム■の先端に設けらｎたＶｆｉａ−
ラ鉤が９エバ（１）を支持する。
の間で移替える部分の機構を説明する。記号ａυ以下は
第６１Ｑ、 ｆＩＡ？図で説明したものであシ、カセッ
ト送シ機構（２）及びボート送シ機構曽によってカセッ
ト（８）を実線で図示した位置に、ボート−も同じく図
示した位置に運はれる。−一はこの状態でカセット（８
）とボート■の間に位置するように設けられた一対のＶ
溝レールで、Ｖ溝の底がウェハ（１）の外縁を挟む如く
に、且つウェハ（１）が転勤できる間隙をあけて固定さ
ｎている。尚、第８図のＡ−ム線を頂点として両側に勾
配が設けられている。鉤はカセット（８）内のウェハ（
１）を１枚づつ前記Ｖ溝レール＠−内に送り込むための
回転ブツシャであり、アーム輪は１１７字状に屈曲して
お）、その一端に、外周ＫＶ溝が設けられたＶ溝ローラ
ーを持ち、軸−を同転軸として、モータ（図示せず）に
よって、回転運動を行なう。−は前記同転ブツシャ鋳に
よってＶ溝レール−■内に送９込まれたウェハ（１）を
支持し、ボート−の細溝に案内する直進ブツシャで往違
運動する棒状のアーム■の先端に設けらｎたＶｆｉａ−
ラ鉤が９エバ（１）を支持する。
■溝ローラ＠＊ ｖ溝レール−＠、ｖ溝ローラー各々の
Ｖ溝中心は全て同一線上に位置する如くに設けらｎてお
如、ウェハ（１）の移替動作を行なう際は更にカセット
（８）のウェハ収納溝及びボート■のウェハ収納溝も前
記Ｖ溝中心に合うように位置決めさｎる。
Ｖ溝中心は全て同一線上に位置する如くに設けらｎてお
如、ウェハ（１）の移替動作を行なう際は更にカセット
（８）のウェハ収納溝及びボート■のウェハ収納溝も前
記Ｖ溝中心に合うように位置決めさｎる。
９エバ（１）をカセット（８）からボート■に移替する
場合は、回転ブツシャ■によってウェハ（１）をその重
心がカセット（８）よＪ）Ｖ溝し−ルーーのムーム締を
越える点Ｇ１まで転動させて送ル込み、このウェハ（１
）を回転ブツシャ輪の動作よシ先行して前進させ一点鎖
線で図示した位置で待機している直進ブツシャ−のｌｉ
クローラ−受ける。次に直進プッシャーを後退させると
ウェハ（１）はＶ溝ローラーに渠内さｎなからＶ溝レー
ル■■内を転動し、ボート−の細溝に挿入される。ボー
ト■の細溝の入口部は面取シが施されており、ｖ溝レー
ルｔ！Ｉ＃鋤のＶ溝中心とボートＩＩの細溝中心が正確
に一致していなくてもウェハ（１）は無理なく挿入さｎ
る。逆にウェハ（１）をボート■よシカセット（８）に
移替える場合は直進ブツシャ■のＶ溝ローラーによって
ボート−円のウェハ（１）をその重心がＶ溝レール■■
内のムーム線を越える点０３筐で送り込み、回転プツシ
ヤ■のＶ溝ローラーで受けてカセット（８）内に案内す
る。
場合は、回転ブツシャ■によってウェハ（１）をその重
心がカセット（８）よＪ）Ｖ溝し−ルーーのムーム締を
越える点Ｇ１まで転動させて送ル込み、このウェハ（１
）を回転ブツシャ輪の動作よシ先行して前進させ一点鎖
線で図示した位置で待機している直進ブツシャ−のｌｉ
クローラ−受ける。次に直進プッシャーを後退させると
ウェハ（１）はＶ溝ローラーに渠内さｎなからＶ溝レー
ル■■内を転動し、ボート−の細溝に挿入される。ボー
ト■の細溝の入口部は面取シが施されており、ｖ溝レー
ルｔ！Ｉ＃鋤のＶ溝中心とボートＩＩの細溝中心が正確
に一致していなくてもウェハ（１）は無理なく挿入さｎ
る。逆にウェハ（１）をボート■よシカセット（８）に
移替える場合は直進ブツシャ■のＶ溝ローラーによって
ボート−円のウェハ（１）をその重心がＶ溝レール■■
内のムーム線を越える点０３筐で送り込み、回転プツシ
ヤ■のＶ溝ローラーで受けてカセット（８）内に案内す
る。
ウェハ（１）１枚の移替が終るとボート■及びカセット
（８）を各々次の溝まで送ルー次前記移替動作を繰返す
。
（８）を各々次の溝まで送ルー次前記移替動作を繰返す
。
このような移替機構によｎは比較的簡単な構造で能率よ
くウェハ（１）の移し替ができる。
くウェハ（１）の移し替ができる。
第９図はウェハ（１）の移替位置に、ボート■を位置決
めする機構を示す図である。ボート−は一般に１０００
℃以上の加熱と洗滌液である強酸薬品に耐える材料でな
け１はならず、石英ガラス、多結晶シリコン等が使わｎ
る。従ってとｎらの機械加工を全長に亘って精度よく行
なうことは甚々困難なことである。更に、ボート■をウ
ェハ（１）の移替位置に運ぶ機構（この場合ネジ送少）
の送シ精度も送り鳳が大きい場合間−となる。
めする機構を示す図である。ボート−は一般に１０００
℃以上の加熱と洗滌液である強酸薬品に耐える材料でな
け１はならず、石英ガラス、多結晶シリコン等が使わｎ
る。従ってとｎらの機械加工を全長に亘って精度よく行
なうことは甚々困難なことである。更に、ボート■をウ
ェハ（１）の移替位置に運ぶ機構（この場合ネジ送少）
の送シ精度も送り鳳が大きい場合間−となる。
この実施例では以上の難点を解消するために、ボート−
の数ケ所に光を連断する透光板−を設けている。この透
光板−はカセット（８）１ヶ分のウェハ（１）が収納さ
ｎる間隔で設けら１、この透光板−とこれと隣接するボ
ート■の細溝までの寸法及び次の透光板＠までの各細溝
間の寸法は±０．８ｍｍ 程度の寸法許容差に加工さｎ
ている。透光板−とζｎを基準にして加工された細溝は
前記寸法許容差に加工されているが、前記透光板がら最
も―れたＳ＊から次の透光板−までの寸法は以下に詳細
に示すようなボートの位置決め寸法を採用するのでいく
らであってもよいように加工されている。
の数ケ所に光を連断する透光板−を設けている。この透
光板−はカセット（８）１ヶ分のウェハ（１）が収納さ
ｎる間隔で設けら１、この透光板−とこれと隣接するボ
ート■の細溝までの寸法及び次の透光板＠までの各細溝
間の寸法は±０．８ｍｍ 程度の寸法許容差に加工さｎ
ている。透光板−とζｎを基準にして加工された細溝は
前記寸法許容差に加工されているが、前記透光板がら最
も―れたＳ＊から次の透光板−までの寸法は以下に詳細
に示すようなボートの位置決め寸法を採用するのでいく
らであってもよいように加工されている。
尚透光板−はその先端がボート−側面よシ張シ出シてい
、る。輪は赤外線投光器、鉤はフォトトランジスタであ
り夫々ブロックｅυに取付けられている。仁のブロック
鉤には第８図で説明した直進ブツシャ−も取付けらｎて
おシ、この直進ブツシャに取付けられたＶ溝ローラーの
Ｖ溝中心と、赤外線投光器−及びフォトトランジスタ輪
の夫々の中心を結ぶ線までの寸法は前記透光板−とそれ
に隣接するボート−の細溝までの寸法と同一になるよう
に配さｎている。
、る。輪は赤外線投光器、鉤はフォトトランジスタであ
り夫々ブロックｅυに取付けられている。仁のブロック
鉤には第８図で説明した直進ブツシャ−も取付けらｎて
おシ、この直進ブツシャに取付けられたＶ溝ローラーの
Ｖ溝中心と、赤外線投光器−及びフォトトランジスタ輪
の夫々の中心を結ぶ線までの寸法は前記透光板−とそれ
に隣接するボート−の細溝までの寸法と同一になるよう
に配さｎている。
次にボート−の位置決め方法について記す。
ボート受台−の一端に設けられた抜穴−とメネジ四重の
テーパ軸■とが嵌合した状態で、ボート−はパルスモー
タ（図示せず）でオネジ（至）を回転することによって
第９図の矢印方向に送らｎ１遍透光板がフォトトランジ
スタ■への赤外線を遮光する。このフォトトランジスタ
匈は動作し前記パルスモータを停止させる。この時、透
光板−に隣接するボート■の細溝は丁度移替位＊にある
。以後法の透光板１１４まではボート■の細溝間寸法に
相当する量をパルスモータで送９位皺決めする。さらに
める透光板−から次の透光板−までの距離、ボート■が
送られたならは、再びフォトトランジスターの動作によ
りパルスモータが停止すると共に図示しない移送制御用
カウンタが０点に復帰し、あらためて移送を行なう。し
たがって前記ボート−〇溝ピッチの累積誤差による問題
は除去さｎ正確に移送できる。
テーパ軸■とが嵌合した状態で、ボート−はパルスモー
タ（図示せず）でオネジ（至）を回転することによって
第９図の矢印方向に送らｎ１遍透光板がフォトトランジ
スタ■への赤外線を遮光する。このフォトトランジスタ
匈は動作し前記パルスモータを停止させる。この時、透
光板−に隣接するボート■の細溝は丁度移替位＊にある
。以後法の透光板１１４まではボート■の細溝間寸法に
相当する量をパルスモータで送９位皺決めする。さらに
める透光板−から次の透光板−までの距離、ボート■が
送られたならは、再びフォトトランジスターの動作によ
りパルスモータが停止すると共に図示しない移送制御用
カウンタが０点に復帰し、あらためて移送を行なう。し
たがって前記ボート−〇溝ピッチの累積誤差による問題
は除去さｎ正確に移送できる。
以上説明してきたような各々の機構を組合せて成る半導
体ウェハハンドリング装置は加熱炉、ガスドーピング装
置とも連動しておシ、ストッカ（至）の棚−にウェハ（
１）入りのカセット（８）を載置するだけでウェハ（１
）はカセット（８）からボート−への移替え、皮膜形成
処理或いは不純物拡散処理、ボート−からカセット（８
）への移替え、カセット（８）のストッカ四の棚輪への
載置を全て自動で行なうととができる。従って、人の作
業としては、カセット（８）のストッカ（支）への出し
入れのみとなシ、大きな省人効果がもたらされる。更に
、このような半導体ウェハハンドリング装置によれは、
従来の手作業によるウェハハンドリングによるウェハ破
損、汚損等が皆無となる。
体ウェハハンドリング装置は加熱炉、ガスドーピング装
置とも連動しておシ、ストッカ（至）の棚−にウェハ（
１）入りのカセット（８）を載置するだけでウェハ（１
）はカセット（８）からボート−への移替え、皮膜形成
処理或いは不純物拡散処理、ボート−からカセット（８
）への移替え、カセット（８）のストッカ四の棚輪への
載置を全て自動で行なうととができる。従って、人の作
業としては、カセット（８）のストッカ（支）への出し
入れのみとなシ、大きな省人効果がもたらされる。更に
、このような半導体ウェハハンドリング装置によれは、
従来の手作業によるウェハハンドリングによるウェハ破
損、汚損等が皆無となる。
以上、説明のように、本発明によれとウェハの処理工程
におけるハンドリングを一切自動化したので、人体から
発する塵埃は皆無となシ、従って半導体装置の歩留向上
を著しく改善することができる。
におけるハンドリングを一切自動化したので、人体から
発する塵埃は皆無となシ、従って半導体装置の歩留向上
を著しく改善することができる。
第１図はシリコンウェハを示す平面図、第２図は従来の
ボートの斜視図、第８図はカセットの斜視図、第４図は
従来の皮膜形成処理、不純物拡散処理等を行なう加熱装
置を示す斜視図、第６図は本発明の一実施例の全体構成
を示すブロック斜視図、第６図は本発明の一実施例のカ
セットストッカ及びカセットハンドリングの各機構を示
す斜視図、第７図は本発明の一実施例のボートハンドリ
ングの機構を示す斜視図、第８図はウェハをカセットと
ボート間で移替える機構を示す断面図、第９図はクエへ
の移替え位置におけるボートの位置決め機構を示す斜視
図である。 輪はボート受台、（至）はボート送シ機構、（５２ａ）
（５２ｔ＋）はチャック爪、輪はスプライン軸、−はモ
ータ、■はカセット送り機構、−■はＶ溝レール、輪は
回転ブツシャ、■は直進ブツシャである。 代理人 葛野信− 第１図 第３図
ボートの斜視図、第８図はカセットの斜視図、第４図は
従来の皮膜形成処理、不純物拡散処理等を行なう加熱装
置を示す斜視図、第６図は本発明の一実施例の全体構成
を示すブロック斜視図、第６図は本発明の一実施例のカ
セットストッカ及びカセットハンドリングの各機構を示
す斜視図、第７図は本発明の一実施例のボートハンドリ
ングの機構を示す斜視図、第８図はウェハをカセットと
ボート間で移替える機構を示す断面図、第９図はクエへ
の移替え位置におけるボートの位置決め機構を示す斜視
図である。 輪はボート受台、（至）はボート送シ機構、（５２ａ）
（５２ｔ＋）はチャック爪、輪はスプライン軸、−はモ
ータ、■はカセット送り機構、−■はＶ溝レール、輪は
回転ブツシャ、■は直進ブツシャである。 代理人 葛野信− 第１図 第３図
Claims (3)
- （１）複数のウェハを収納する第１の収納具を積載する
積載手段と、この第１の積載手段を所定ピッチで移送す
る第１の移送手段と、前記第１の収納具から前記ウェハ
が移し替えられる第２の収納具を支持する支持手段と、
この支持手段に所定角回転を与える回転手段と、前記支
持手段によシ支持さ口た第２の収納具を前記所定ピッチ
で移送する第２の移送手段と、前記支持手段に支持さ口
ると共に前記回転手段によって前記所定角回転さｎたｔ
ｓ２の収納具にその端部が対置するように設けられ一対
のＶ溝を有するウェハ案内手段と、前記案内手段゛へ前
記ウェハを押し出しまたは前記案内手段から前記ウェハ
を支持しながら引き出すと共にＶ溝を有するローラを持
つ第１．第２のウェハ押出支持手段とを備えたウェハ移
替装置。 - （２）ｉｋ、１の移送手段は発光手段と、第１の収納具
にこｎから１！１９出すように所定間隔で設けられ前記
発光手段からの光を遣えぎる透光手段と、この透光手段
によってリセットする光検出手段と、この光検出手段の
リセットによって０点に復帰するカウンタ手段とを備え
た移送制御手段によって移送の制御がなさｎることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のウェハ移替装置。 - （３）第２の収納具に収納され予めファセットが設けら
れた複数のウェハはこの第２の収納具の下部からこの収
納具の近傍に上昇するローラによって同時にファセット
の位置決めがなされることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のウェハ移替装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2160382A JPS58138046A (ja) | 1982-02-12 | 1982-02-12 | ウエハ移替装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2160382A JPS58138046A (ja) | 1982-02-12 | 1982-02-12 | ウエハ移替装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58138046A true JPS58138046A (ja) | 1983-08-16 |
Family
ID=12059608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2160382A Pending JPS58138046A (ja) | 1982-02-12 | 1982-02-12 | ウエハ移替装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58138046A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61131523A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-19 | Koyo Rindobaagu Kk | 半導体製造装置におけるウエハボ−トの移送装置 |
| JPS6197833U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-23 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS543477A (en) * | 1977-06-10 | 1979-01-11 | Hitachi Ltd | Manufacture of schottky diode |
| JPS55151418A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-26 | Mitsubishi Electric Corp | Arranging device for laminar member |
-
1982
- 1982-02-12 JP JP2160382A patent/JPS58138046A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS543477A (en) * | 1977-06-10 | 1979-01-11 | Hitachi Ltd | Manufacture of schottky diode |
| JPS55151418A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-26 | Mitsubishi Electric Corp | Arranging device for laminar member |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61131523A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-19 | Koyo Rindobaagu Kk | 半導体製造装置におけるウエハボ−トの移送装置 |
| JPS6197833U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-23 | ||
| JPH0220825Y2 (ja) * | 1984-11-30 | 1990-06-06 |
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