JPS58130127A - 耐放射線光フアイバの製造方法 - Google Patents
耐放射線光フアイバの製造方法Info
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- JPS58130127A JPS58130127A JP969182A JP969182A JPS58130127A JP S58130127 A JPS58130127 A JP S58130127A JP 969182 A JP969182 A JP 969182A JP 969182 A JP969182 A JP 969182A JP S58130127 A JPS58130127 A JP S58130127A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- radiation
- exposure
- loss
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/10—Non-chemical treatment
- C03B37/14—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape
- C03B37/15—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape with heat application, e.g. for making optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/20—Irradiation of the base fibre during drawing to modify waveguide properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ファイバの製造方法に係り、特に、耐放射線
光フアイバ製造方法に関するものである。
光フアイバ製造方法に関するものである。
光ファイバは放射線にさらされると次のような現象を生
じる。
じる。
（１） ドープトコアの光ファイバは被爆による伝送
損失の増加が極めて大きい。その損失レベルはＧｅドー
プしたコアをもつ光ファイバで、λ＝０−８２／ｊｍ
、 １０’ｒａｄで約８ｏｏｄＢ／Ｋｆｆ＋である。
損失の増加が極めて大きい。その損失レベルはＧｅドー
プしたコアをもつ光ファイバで、λ＝０−８２／ｊｍ
、 １０’ｒａｄで約８ｏｏｄＢ／Ｋｆｆ＋である。
また、ＧｅとＢをドープしたコアをもつ光ファイバでは
、５００〜１０００ｄＢ／−１ＧｅとＰをドープしたコ
アをもつ光ファイバでは、約２５００ｄ滴、ＧｅとＰと
Ｂをドープしたコアをもつ光ファイバでは、４０００〜
１０００ｏａＢ、％、Ｐをドープしたコアをもつ光ファ
イバの場合は約１２０００ｄＢ／１ｍ程度である。また
、一般に長波長帯での損失量は短波長帯の１／２〜１／
４程度であり、特にＰが含まれる場合は被爆量に比例し
て損失が増加する。
、５００〜１０００ｄＢ／−１ＧｅとＰをドープしたコ
アをもつ光ファイバでは、約２５００ｄ滴、ＧｅとＰと
Ｂをドープしたコアをもつ光ファイバでは、４０００〜
１０００ｏａＢ、％、Ｐをドープしたコアをもつ光ファ
イバの場合は約１２０００ｄＢ／１ｍ程度である。また
、一般に長波長帯での損失量は短波長帯の１／２〜１／
４程度であり、特にＰが含まれる場合は被爆量に比例し
て損失が増加する。
（２）石英コアの光ファイバの被爆による伝送損失の増
加は比較的小さく、λ＝０．８２μｍ、 １０’ｒａｄ
で１００〜２００ ａ Ｂ／Ｋｍ程度である。
加は比較的小さく、λ＝０．８２μｍ、 １０’ｒａｄ
で１００〜２００ ａ Ｂ／Ｋｍ程度である。
（３）一般に材料中にＯＨ基を多く含有するものの被爆
による伝送損失の増加は小さい。
による伝送損失の増加は小さい。
（４）被爆後の回復特性は、ドープトコア光ファイバの
回復力は非常に小さい。それに対して石英コア光ファイ
バの回復力は大きい。この現象は被爆中から現われ、石
英コア光ファイバでは或被爆量以上になると横這いとな
るか、或いは減少する。
回復力は非常に小さい。それに対して石英コア光ファイ
バの回復力は大きい。この現象は被爆中から現われ、石
英コア光ファイバでは或被爆量以上になると横這いとな
るか、或いは減少する。
上記の如（ＯＨ基を含む石英コア光ファイバの耐放射線
性が最も優れていることは知られているが、線引温度、
ＯＨ基量や被爆履歴等については未だ検討されていない
現状である。
性が最も優れていることは知られているが、線引温度、
ＯＨ基量や被爆履歴等については未だ検討されていない
現状である。
本発明は上記従来技術の問題点を解明し、被爆しても光
伝送特性の低下が少い耐放射線光フアイバ製造方法を提
供することを目的とし、その特徴とするところは、石英
コア中に含まれるＯＨ基が３０〜１１０００ｐｐであり
、かつ、少くとも１回は被爆させることにある。
伝送特性の低下が少い耐放射線光フアイバ製造方法を提
供することを目的とし、その特徴とするところは、石英
コア中に含まれるＯＨ基が３０〜１１０００ｐｐであり
、かつ、少くとも１回は被爆させることにある。
第１図および第２図は石英コアプラスチック光ファイバ
の耐放射線性を示す線図で、横軸は被爆状況を分で示し
、縦軸は損失量を示している。また、第１表は各試料光
ファイバの材質および線引温度の比較衣である。
の耐放射線性を示す線図で、横軸は被爆状況を分で示し
、縦軸は損失量を示している。また、第１表は各試料光
ファイバの材質および線引温度の比較衣である。
（註〕 Ｐファイバとは石英コアをプラスチック−？’
被被覆だ光ファイバをいう。
被被覆だ光ファイバをいう。
第１図において、５Ｆ２０３７は５Ｆ１８４０よりも線
引き温度が約２００℃高いだけの違いであるが、線引き
温度が低い５Ｆ１８４０の方が光伝送損失量が小さい。
引き温度が約２００℃高いだけの違いであるが、線引き
温度が低い５Ｆ１８４０の方が光伝送損失量が小さい。
このことは低温線引きの方が構造欠陥が少ないことを示
している。しかしながら、線引き可能な１８４０〜１８
６０℃の限界があるのでこれ以下にすることはできない
。
している。しかしながら、線引き可能な１８４０〜１８
６０℃の限界があるのでこれ以下にすることはできない
。
また、ＯＨ基含有量についてはこれが多い５Ｆ２０３人
５Ｆ１８４０が耐放射線性が優れている。更に、被爆時
間が長くなると損失量は減少している。即ち、ＯＨ基の
多い方が回復力が大きいことを示しているが、ＯＨ基を
多く混入したも°のは長波長帯における特性が不安定と
なるという問題点をもっている。
５Ｆ１８４０が耐放射線性が優れている。更に、被爆時
間が長くなると損失量は減少している。即ち、ＯＨ基の
多い方が回復力が大きいことを示しているが、ＯＨ基を
多く混入したも°のは長波長帯における特性が不安定と
なるという問題点をもっている。
したがって、使用対象となる光波長範囲を考慮して、Ｏ
Ｈ基含有量を３０〜１１０００ｐｐの範囲で調節する必
要がある。
Ｈ基含有量を３０〜１１０００ｐｐの範囲で調節する必
要がある。
更に、第１図において５Ｆ１８４０の第２回目の被爆で
は第１回目に現われたような損失量のピークが生じてい
ない。これは第１回目の被爆によって損失に関係する要
素が除かれるためと考えられるので、Ｐファイバ製造後
少くとも１回１時間被爆されることは有効な手段である
。なお、第１図は線量率５．４ Ｘ １０’Ｒ／ｈ ｒ
の放射線で被爆させ、光波長０，８５μｍの光に関する
伝送損失量を測定したものである。
は第１回目に現われたような損失量のピークが生じてい
ない。これは第１回目の被爆によって損失に関係する要
素が除かれるためと考えられるので、Ｐファイバ製造後
少くとも１回１時間被爆されることは有効な手段である
。なお、第１図は線量率５．４ Ｘ １０’Ｒ／ｈ ｒ
の放射線で被爆させ、光波長０，８５μｍの光に関する
伝送損失量を測定したものである。
第２図は２種のＰファイバの長時間被爆特性を示す線図
で、この場合は被爆時間を中段の実線として示しである
。即ち、約６０分間被爆した後、６０分間被爆を中止し
、その後１５．５時間被爆させた後暫時体止し、再び約
６０分間被爆させている。
で、この場合は被爆時間を中段の実線として示しである
。即ち、約６０分間被爆した後、６０分間被爆を中止し
、その後１５．５時間被爆させた後暫時体止し、再び約
６０分間被爆させている。
このようにするとＯＨ基を含まないＰｌ １ ｌ ｂ光
ファイバの光伝送損失量は、５００ ｄ Ｂ／Ｋｍ程度
となっているが、被爆を中止すると急速に回復する。
ファイバの光伝送損失量は、５００ ｄ Ｂ／Ｋｍ程度
となっているが、被爆を中止すると急速に回復する。
まだ、再度被爆されると第１回目と同等の損失量となる
が徐々に損失量は低下して１５．５時間後には１５０ｄ
Ｂ／ＫＩ１１程度まで低下し、次の６０分間の被爆時は
１５０ａＢ／Ｋｍ程度の損失量を維持している。
が徐々に損失量は低下して１５．５時間後には１５０ｄ
Ｂ／ＫＩ１１程度まで低下し、次の６０分間の被爆時は
１５０ａＢ／Ｋｍ程度の損失量を維持している。
即ち、反覆被爆によって損失量は徐々に低下するが、こ
れを急速に減少させることは困難である。
れを急速に減少させることは困難である。
しかるにＯＨ基を含んでいる５Ｆ１８４０は総線量が１
０’ｒａｄとなっても損失量は２０ｄＢ／Ｋｍ以下であ
り、極めて良好な耐放射線特性を示している。
０’ｒａｄとなっても損失量は２０ｄＢ／Ｋｍ以下であ
り、極めて良好な耐放射線特性を示している。
また、被爆をくり返すと損失量のレベルが減少する傾向
にあることを知ることができる。なお、この場合の被爆
線量率は１．０５ Ｘ １０’Ｒ／ｈｒ、 ｏ、 ８５
μｍの波長光で測定したものである。
にあることを知ることができる。なお、この場合の被爆
線量率は１．０５ Ｘ １０’Ｒ／ｈｒ、 ｏ、 ８５
μｍの波長光で測定したものである。
本実施例の耐放射線光ファイバの製造方法は、ＯＨ基を
６０〜１［１［１０ｐｐｍ含有させた石英コアＰファイ
バに、少くとも１時間程度、１０’ｒａｄの被爆操作を
実施することによって、２ｏａＢｚ％以下の低損失光フ
ァイバが得られるという効果をもっている。
６０〜１［１［１０ｐｐｍ含有させた石英コアＰファイ
バに、少くとも１時間程度、１０’ｒａｄの被爆操作を
実施することによって、２ｏａＢｚ％以下の低損失光フ
ァイバが得られるという効果をもっている。
本発明の耐放射線光フアイバ製造方法は、被爆しても光
伝送特性が低下させることが極めて少いという効果が得
られる。
伝送特性が低下させることが極めて少いという効果が得
られる。
第１図および第２図は石英コアプラスチック光ファイバ
の耐放射線性を示す線図である。
の耐放射線性を示す線図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 高純度石英コア中に含まれるＯＨ基が３０〜１１
０００ｐｐであシ、かつ、少くとも１回は被爆させるこ
とを特徴とする耐放射線光ファイバの製造方法。 ２、上記耐放射線光ファイバは、１８４０〜１８６０℃
の温度範囲内で線引きされることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の耐放射線光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP969182A JPS58130127A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 耐放射線光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP969182A JPS58130127A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 耐放射線光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130127A true JPS58130127A (ja) | 1983-08-03 |
| JPS611380B2 JPS611380B2 (ja) | 1986-01-16 |
Family
ID=11727239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP969182A Granted JPS58130127A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 耐放射線光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58130127A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH035338A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-11 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光用光学部材 |
| US7645074B2 (en) | 2005-04-28 | 2010-01-12 | Jtekt Corporation | Fluid-lubricated type tapered roller bearing device and vehicle pinion shaft supporting assembly |
-
1982
- 1982-01-25 JP JP969182A patent/JPS58130127A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH035338A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-11 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光用光学部材 |
| JPH0530775B2 (ja) * | 1989-05-30 | 1993-05-10 | Shinetsu Sekiei Kk | |
| US7645074B2 (en) | 2005-04-28 | 2010-01-12 | Jtekt Corporation | Fluid-lubricated type tapered roller bearing device and vehicle pinion shaft supporting assembly |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS611380B2 (ja) | 1986-01-16 |
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