JPS5812815Y2 - 輻射伝熱式活性炭再生装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、輻射伝熱式活性炭再生装置に関する。

従来のこの種装置は、炉体に垂直反応筒が貫通状に設け
られ、かつこの反応筒にバーナーかのぞむように配置さ
れてかり、炉体内は１つの燃焼室のみであった。

そのために、つぎの理由によシ熱効率が悪かった。

すなわち、活性炭の再生は、反応筒にその上端から被処
理活性炭を投入し、これが・・・下する過程で、加熱に
よシ順次乾燥および賦活を行ない、同下端から再生活性
炭を取出すことによシ果されるものである。

ところで、賦活域では、反応ガスを反応筒内に供給し、
これを被処理活性炭と反応させるために、８００〜９０
０”０の高温が必要であるが、それよシ上方の乾燥域で
は１００″Ｃ程度の温度で充分である。

ところが従来装置では、炉体内が１つの燃焼室のみであ
るために、乾燥域までも不必要な高温となシ、熱損失を
もたらす。

この考案の目的は、熱をきわめて有効に利用しうる輻射
伝熱式活性炭再生装置を提供することにある。

この考案による装置は、横断面長方形の偏平な垂直反応
筒１を貫通状に備えた炉体２が水平仕切壁３により複数
の炉室４，５に分割せられ、下の炉室５に炉壁□そって
扁平状に燃焼し、扁平な反応筒１を巾方向に均一に加熱
するように配置せられるとともに、燃焼ガスが下の炉室
５から上の炉室４に流入しうるよ□うに仕切壁３に反応
筒１を囲む通路７が形成せう五でいるものである。

そして上下の尿量□゛４，５は反応筒１を流下する被処
理活性炭に対し、上から下にかけて低温から高温に加熱
すべき温度域に対応して区分せられている。

すなわち、上の炉室４は乾燥域に対応し、下の炉室５は
賦活域に対応する。

反応筒１の上端には被処理活性炭投入口１２がが、同下
端には再生活性炭取出口８がそれぞれ設られている。

反応筒１の一対の巾広対向壁内面に、流下する被処理活
性炭の混合をよくするための邪魔板９が、斜め下向きに
交互喰違い状に多数設けられている。

反応筒１内の下端部には賦活用反応ガス供給管１０が挿
入配置されている。

上の炉室４の一側上端には、燃焼ガス排気管１１が接続
されている。

なか、上記実施例では炉室は上下２つであるが、反応筒
の形状によっては３つ以上となしてもよい。

この考案は、上述のような構成を有するので下の炉室５
はバーナー６によ、９８００〜９００″Ｃの必要温度に
加熱せられるが、上の炉室４は下の炉室５と仕切壁３に
よってさえぎられているため、不必要に高温にならない
ばかりか、仕切壁３が輻射伝熱上の反射壁になるから、
きわめて効率のよい加熱を行なうことができる。

しかも仕切壁３にば、燃焼ガスが下の炉室５から上の炉
室４に流入しうるように通路７が形成せられているので
、乾燥に必要な熱は充分に得られる。

以上の次第で、この考案による輻射伝熱式活性炭再生装
置は、熱をきわめて効率よく利用できるものである。

【図面の簡単な説明】

図面はこの考案の実施例を示すもので、第１図は縦断面
図、第２図は第１図の■−■線にそう断面図である。 １・・・反応筒、２・・・炉体、３・・・仕切壁、４，
５・・・炉室、６・・・バー九

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 垂直反応筒１を貫通状に備えた炉体２が水平仕切壁３に
   よシ複数の炉室４，５に分割せられ、下の炉室５にバー
   ナー６が配置せられるとともに、燃焼ガスが下の炉室５
   から上の炉室４に流入しうるように仕切壁３に通路７が
   形成せられており、上下の炉室４，５は反応筒１を流下
   する被処理活性炭に対し、上から下にかけて低温から高
   温□加熱すべき温度域に対応して区分せられている輻射
   伝熱式活性炭再生装置。