JPS5812304A - 被膜抵抗器の製造方法 - Google Patents
被膜抵抗器の製造方法Info
- Publication number
- JPS5812304A JPS5812304A JP56111395A JP11139581A JPS5812304A JP S5812304 A JPS5812304 A JP S5812304A JP 56111395 A JP56111395 A JP 56111395A JP 11139581 A JP11139581 A JP 11139581A JP S5812304 A JPS5812304 A JP S5812304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- platinum
- laser
- resistance
- film
- temperature coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Thermistors And Varistors (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は被膜抵抗器の製造方法に係りＪ特に温度センサ
などに使用される薄線抵抗器の製造方法に関する。
などに使用される薄線抵抗器の製造方法に関する。
近年、マイクロプルセッサの普及やアナログＩＣの性能
の向上につれて、センサの利用度が高まってきている。
の向上につれて、センサの利用度が高まってきている。
センサの中で最も身近なものは温度センサである。この
種のセンサは、一般に正の温度係数をもつ金属の比抵抗
を利用した測温抵抗器を具備しており、高純度の細い白
金線をコイル状に巻いた白金測温センサは、安定性や再
現性等の点で最も優れており、実用化が進んでいる。し
かしながら、該測温上ンサはコイル状に白金線を巻く構
造であるために量産化が困難であると共に、発熱あるい
は振動等の悪条件下では故障を発生し易く、更に高精度
化が要求される機器１例えば自動車用等の精密２１！ｌ
温センサとしては不適当であっ・た。
種のセンサは、一般に正の温度係数をもつ金属の比抵抗
を利用した測温抵抗器を具備しており、高純度の細い白
金線をコイル状に巻いた白金測温センサは、安定性や再
現性等の点で最も優れており、実用化が進んでいる。し
かしながら、該測温上ンサはコイル状に白金線を巻く構
造であるために量産化が困難であると共に、発熱あるい
は振動等の悪条件下では故障を発生し易く、更に高精度
化が要求される機器１例えば自動車用等の精密２１！ｌ
温センサとしては不適当であっ・た。
本発明の目的は、量産性を具備した高精能なセンサを低
価格で再現性よく製造できる被膜状抵抗器の製造方法を
提供することにある。
価格で再現性よく製造できる被膜状抵抗器の製造方法を
提供することにある。
本発明の特徴は、スパッタリング法、蒸着法。
印刷法等の手段により薄膜状あるいは厚膜状に導電性被
膜を付着させ、この導電性被膜にレーザあるいは電子ビ
ームを照射してこの被膜の抵抗温度係数を調整する製造
方法にある。
膜を付着させ、この導電性被膜にレーザあるいは電子ビ
ームを照射してこの被膜の抵抗温度係数を調整する製造
方法にある。
以下１本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
ｊｌｌｖＡはスパッタリング法により薄膜状に白金を付
着させたときの、白金測温抵抗器の白金膜厚と白金抵抗
温度係数との関係をレーザ照射時間をパラメータとして
示したものである。図より明らかなように、レーザを照
射しない場合の白金層抵抗温度係数は、白金のバルクの
抵抗温度係数＋３８５０ｐｐｒｎ／℃に較ぺて２００
Ｐｐｍ／Ｃ以上も低く、而も白金膜厚依存性を示すもの
であった。ところで、白金測温センサの規格は、例えば
日−ロツバでの棹準的な規格（ＤＩＮ４３７６０など）
は＋３８５０ｐｐｍ／℃であるために、前記レーザ無照
射のセンサは実用に供し得ないものであった。本発明に
より白金薄膜にレーザを１秒、３秒及び５秒間照射した
場合、第１図に示すように該薄膜の抵抗温度係数は各々
正の方向へ増大し、バルクの値に近づくとともに膜厚依
存性が小さくなるものであった。本発明の実施例におい
て、白金膜厚が４ｏｏｏＸ以上で、かつレーザ照射時間
が５秒間の場合には、＋３８５０ｐｐｍ／’Ｃの抵抗温
度係数を得ることができた。
着させたときの、白金測温抵抗器の白金膜厚と白金抵抗
温度係数との関係をレーザ照射時間をパラメータとして
示したものである。図より明らかなように、レーザを照
射しない場合の白金層抵抗温度係数は、白金のバルクの
抵抗温度係数＋３８５０ｐｐｒｎ／℃に較ぺて２００
Ｐｐｍ／Ｃ以上も低く、而も白金膜厚依存性を示すもの
であった。ところで、白金測温センサの規格は、例えば
日−ロツバでの棹準的な規格（ＤＩＮ４３７６０など）
は＋３８５０ｐｐｍ／℃であるために、前記レーザ無照
射のセンサは実用に供し得ないものであった。本発明に
より白金薄膜にレーザを１秒、３秒及び５秒間照射した
場合、第１図に示すように該薄膜の抵抗温度係数は各々
正の方向へ増大し、バルクの値に近づくとともに膜厚依
存性が小さくなるものであった。本発明の実施例におい
て、白金膜厚が４ｏｏｏＸ以上で、かつレーザ照射時間
が５秒間の場合には、＋３８５０ｐｐｍ／’Ｃの抵抗温
度係数を得ることができた。
従って本発明によれば一小型で耐振、耐衝撃性に優れた
薄膜抵抗器に精度良く所要の抵抗温度係数を具備させる
ことができ、応答速度が高く再現性に優れた測温センサ
を大量に低価格で提供できるものである。
薄膜抵抗器に精度良く所要の抵抗温度係数を具備させる
ことができ、応答速度が高く再現性に優れた測温センサ
を大量に低価格で提供できるものである。
なお、以上に述べた実施例は本発明の一例であり、実験
によれば、銅、ニッケル、タングステン等一般に用いら
れる金属材料を用いて形成させた導電性被膜に対しても
本発明の製造方法によって大きな効果が得られる。また
、例えば前記材料にシリコン、フパルト、 窒素、ｍ素
、アルミニウム”等の不純物を添加しても同様の効果が
得られる。
によれば、銅、ニッケル、タングステン等一般に用いら
れる金属材料を用いて形成させた導電性被膜に対しても
本発明の製造方法によって大きな効果が得られる。また
、例えば前記材料にシリコン、フパルト、 窒素、ｍ素
、アルミニウム”等の不純物を添加しても同様の効果が
得られる。
また導電性波−の゛付着方法も特に限定されるものでは
なく、活性スパッタリング法９反応性堆積法。
なく、活性スパッタリング法９反応性堆積法。
プラズマ気相成長法等を用いることができる。ざらにレ
ーザ照射時間は当然レーザ強度や導電性被膜の膜厚ある
いは基板加熱温度等により自由に可変できるものであり
、レーザの照射方法もパルス状照射、連続照射あるいは
これらの組合わせによる照射、更にはまたレーザの吸収
効率を高めるために表面に二酸化シリコン薄膜等のレー
ザ透過性被膜を付着させた導電性被膜にレーザを照射す
る方法等を用いることができる。更にはまた、導電性被
膜の用途も特に限定されるべきものではなく。
ーザ照射時間は当然レーザ強度や導電性被膜の膜厚ある
いは基板加熱温度等により自由に可変できるものであり
、レーザの照射方法もパルス状照射、連続照射あるいは
これらの組合わせによる照射、更にはまたレーザの吸収
効率を高めるために表面に二酸化シリコン薄膜等のレー
ザ透過性被膜を付着させた導電性被膜にレーザを照射す
る方法等を用いることができる。更にはまた、導電性被
膜の用途も特に限定されるべきものではなく。
測温センサ、流量測定センサ等の他に通常の抵抗器ある
いは捕整用抵抗器等として眉いることも当然できるもの
である。
いは捕整用抵抗器等として眉いることも当然できるもの
である。
また１本発明の他の実施例としてレーザの代りに電子ビ
ームを用いたところ、レーザを用いた場合と１＃４等の
効果を呈することが判明した。従って本発明においては
レーザの代りに電子ビームを用いることもできる。
ームを用いたところ、レーザを用いた場合と１＃４等の
効果を呈することが判明した。従って本発明においては
レーザの代りに電子ビームを用いることもできる。
第１図は白金薄膜の抵抗温度係数と白金膜厚との関係を
レーザ照射時間をパラメータとして示しくり、／寛ｄｄ
）８啼＞７ｙグ＃すｔ
レーザ照射時間をパラメータとして示しくり、／寛ｄｄ
）８啼＞７ｙグ＃すｔ
Claims (1)
- スパッタリング法、蒸着法、印刷法、メッキ法等の方法
により厚膜状あるいは厚膜状に付着させた導電性被膜に
レーザあるいは電子ビームを照射して該導電性被膜の抵
抗温度係数を調節することを特徴とする被膜抵抗器の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56111395A JPS5812304A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 被膜抵抗器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56111395A JPS5812304A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 被膜抵抗器の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5812304A true JPS5812304A (ja) | 1983-01-24 |
Family
ID=14560062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56111395A Pending JPS5812304A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 被膜抵抗器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812304A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8115587B2 (en) | 2008-03-28 | 2012-02-14 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | NTC thermistor ceramic, method for producing NTC thermistor ceramic, and NTC thermistor |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51113148A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-06 | Hitachi Ltd | Laser trimming method |
| JPS5436564A (en) * | 1977-08-29 | 1979-03-17 | Sony Corp | Method of making winding parts |
-
1981
- 1981-07-16 JP JP56111395A patent/JPS5812304A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51113148A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-06 | Hitachi Ltd | Laser trimming method |
| JPS5436564A (en) * | 1977-08-29 | 1979-03-17 | Sony Corp | Method of making winding parts |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8115587B2 (en) | 2008-03-28 | 2012-02-14 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | NTC thermistor ceramic, method for producing NTC thermistor ceramic, and NTC thermistor |
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