JPS58118B2 - semiconductor storage device - Google Patents
semiconductor storage deviceInfo
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- JPS58118B2 JPS58118B2 JP52152367A JP15236777A JPS58118B2 JP S58118 B2 JPS58118 B2 JP S58118B2 JP 52152367 A JP52152367 A JP 52152367A JP 15236777 A JP15236777 A JP 15236777A JP S58118 B2 JPS58118 B2 JP S58118B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体記憶装置、特に情報書込み用スイッチ
(以後、ライト・スイッチと称する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device, particularly a switch for writing information (hereinafter referred to as a write switch).
)に関するものである。).
従来、この種の半導体記憶装置ではライト・スイッチに
はソース及びドレインの両方に二重拡散を行なったMO
Sトランジスタ(以後、
D2SAMO8Tと称する。Conventionally, in this type of semiconductor memory device, the light switch uses an MO whose source and drain are double-diffused.
S transistor (hereinafter referred to as D2SAMO8T).
)を使用していた。D2SAMO8Tは、ソース領域及
びドレイン領域に同種のpn接合を有しているので電気
的特性がドレイン・ソース間の電流方向に対して対称で
ある。) was used. D2SAMO8T has the same type of pn junction in the source region and drain region, so its electrical characteristics are symmetrical with respect to the direction of current between the drain and source.
この電気的特性の対称性が、従来D2SAMO8Tを半
導体記憶装置のライト・スイッチとして用いる理由であ
った。This symmetry of electrical characteristics is the reason why D2SAMO8T is conventionally used as a light switch in semiconductor memory devices.
従来例に関する詳細な説明は、1977年に発行された
刊行物アイ・ニス・ニス・シー・シー・ダイジェスト・
オプ・テクニカル・ペイバーズ(15SCCDIGES
T OF TECHNICALPAPER3)の76頁
、77頁及び240頁に掲載されたケイ・シモトリ(K
、 Shimotori )氏等の論文(特にFIGU
RE4(a))に記載されている。A detailed explanation of the conventional example can be found in the publication I Nis Nis C Digest published in 1977.
Op Technical Pavers (15SCCDIGES)
Kei Shimotori (K) published on pages 76, 77, and 240 of
, Shimotori) et al. (especially the FIGU
RE4(a)).
しかしながら、本発明者が記憶セル及びその周辺回路を
詳細に検討した結果、必ずしもライト・スイッチに電気
的特性の対称性は要求されないことが判明した。However, as a result of a detailed study of the memory cell and its peripheral circuits, the inventor found that the light switch does not necessarily require symmetry in electrical characteristics.
むしろ、対称性を備えたD2SAMO8Tではドレイン
領域にもソース領域と同様に高濃度のpn接合を有して
いるためにドレイン電極、ソース電極ともに大きな寄生
容量が付随し、書込み駆動線には多数のライト・スイッ
チが接続されるので、D2SAMO8Tをライト・スイ
ッチに用いた従来の回路では書込み駆動線の容量が極め
て太き(なり、書込みの時間が著しく増大するという欠
点があった。On the contrary, in the symmetrical D2SAMO8T, the drain region also has a high concentration pn junction like the source region, so both the drain electrode and the source electrode have a large parasitic capacitance, and the write drive line has a large number of parasitic capacitances. Since a write switch is connected, a conventional circuit using D2SAMO8T as a write switch has the drawback that the capacity of the write drive line is extremely large (which results in a significant increase in write time).
本発明の目的は、寄生容量の小さなトランジスタをライ
ト・スイッチとして用いることによって書込み駆動線の
寄生容量を減少せしめ、しかして書込み時間が小さく高
速の半導体記憶装置を提供することにある。An object of the present invention is to reduce the parasitic capacitance of a write drive line by using a transistor with a small parasitic capacitance as a write switch, thereby providing a high-speed semiconductor memory device with a short write time.
本発明によれば、情報線にはソース電極が、書込匁駆動
線にはドレイン電極が、桁選択線にはゲート電極が、そ
れぞれ接続されたDSAMO8Tを情報書込み用スイッ
チとして備えたことを特徴とする半導体記憶装置を得る
ことができる。According to the present invention, a DSAMO8T is provided as an information write switch, with a source electrode connected to the information line, a drain electrode connected to the write momme drive line, and a gate electrode connected to the digit selection line. A semiconductor memory device can be obtained.
次に図によって本発明を説明する。Next, the present invention will be explained with reference to the figures.
第1図は従来の半導体記憶装置のライト・スイッチ及び
1トランジスタ型のメモリ・セルの部分を示したもので
ある。FIG. 1 shows a light switch and a one-transistor type memory cell of a conventional semiconductor memory device.
書込み駆動線10には2値信号”1”又は”0”に対応
する電圧レベルが書込み駆動回路によって印加される。A voltage level corresponding to a binary signal "1" or "0" is applied to the write drive line 10 by a write drive circuit.
この時、桁駆動線11に高レベル電圧が印加されるとラ
イト・スイッチ100のゲート電極2に高レベル電圧が
印加され、ライト・スイッチ100が導通状態になる。At this time, when a high level voltage is applied to the digit drive line 11, a high level voltage is applied to the gate electrode 2 of the light switch 100, and the light switch 100 becomes conductive.
ライト・スイッチ100が導通状態になると書込み駆動
線10の2値信号が情報線13に伝達される。When the write switch 100 becomes conductive, the binary signal on the write drive line 10 is transmitted to the information line 13.
更に情報線13の2直信号は語線12の電位が高レベル
になると導通状態になったトランスファー・ゲート20
0を介して容量300に記憶される。Further, the 2-channel signal on the information line 13 causes the transfer gate 20 to become conductive when the potential on the word line 12 becomes high level.
0 is stored in the capacity 300.
容量300の端子14は電源に接続されている。Terminal 14 of capacitor 300 is connected to a power source.
この従来の回路ではライト・スイッチ100にD2SA
NO8Tを用いるために、ソース電極3及びドレイン電
極1には共に高濃度のpn接合が接続されており、大き
い寄生容量が付随している。In this conventional circuit, the light switch 100 has a D2SA
Since NO8T is used, a high concentration pn junction is connected to both the source electrode 3 and the drain electrode 1, and a large parasitic capacitance is attached thereto.
一方において、書込み駆動線10には多数のライト・ス
イッチが接続されているので、書込み駆動線10の寄生
容量は極めて大きい。On the other hand, since a large number of write switches are connected to the write drive line 10, the parasitic capacitance of the write drive line 10 is extremely large.
そのために書込み駆動線10の容量の充放電に時間がか
かり、書込み時間が著しく大きいという欠点があった。Therefore, it takes time to charge and discharge the capacitance of the write drive line 10, resulting in a drawback that the write time is extremely long.
第2図は本発明による半導体記憶装置の一実施例を示し
たものである。FIG. 2 shows an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.
回路動作は従来のものと全く同一であるので、ここでは
説明を省略する。Since the circuit operation is exactly the same as the conventional one, the explanation will be omitted here.
ここではライトスイッチ400にDSAMO8T を用
いている。Here, DSAMO8T is used for the light switch 400.
そして、DSAのソース電極6は情報線18に接続され
、ゲート電極5は桁駆動線15に、ドレイン電極4は書
き込み駆動線16に接続されている。The source electrode 6 of the DSA is connected to an information line 18 , the gate electrode 5 is connected to a digit drive line 15 , and the drain electrode 4 is connected to a write drive line 16 .
DSAMO8Tはソース側に高濃度のpn接合を有して
いるが、ドレイン側のpn接合は低濃度接合であるため
にドレイン側の寄生容量は極めて小さい。DSAMO8T has a highly doped pn junction on the source side, but since the pn junction on the drain side is a lightly doped junction, the parasitic capacitance on the drain side is extremely small.
この非対称性故に従来は採用されていなかった。Because of this asymmetry, it has not been used in the past.
しかし、これは無用の心配であることが本発明者によっ
て改めて確認されたのである。However, the inventor has once again confirmed that this is an unnecessary concern.
本発明は従来の常識を破る結果となったがその効果は大
きく特筆すべきものである。Although the present invention broke the conventional wisdom, its effects are significant and noteworthy.
例えば、かようなライト・スイッチが多数接続されても
書込み駆動線に付随する寄生容量は従来の回路と比較し
て極めて小さい。For example, even if a large number of such light switches are connected, the parasitic capacitance associated with the write drive line is extremely small compared to conventional circuits.
それ故に、本発明による回路では書込み駆動線に付随す
る寄生容量の充放電に要する時間は短かく高速の書込み
動作が可能である。Therefore, in the circuit according to the present invention, the time required to charge and discharge the parasitic capacitance associated with the write drive line is short, and a high-speed write operation is possible.
なお、ここでは1トランジスタ型のダイナミック・メモ
リセルを有する半導体記憶装置について述べたが、本発
明はこれに限定されるものではなく6トランジスタ型ス
タテイツク・メモリセルを有する半導体記憶装置にも適
用できるものである。Note that although a semiconductor memory device having a one-transistor type dynamic memory cell has been described here, the present invention is not limited thereto and can also be applied to a semiconductor memory device having a six-transistor type static memory cell. It is.
第1図は従来の半導体記憶装置のライト−スイッチ及び
メモリセルの部分を示したものである。
10は書込み駆動線、100はライト・スイッチ、11
は桁選択線、12は語線、13は情報線、200はトラ
ンスファー・ゲートであり、300は情報記憶用の容量
である。
第2図は本発明による半導体記憶装置のライト・スイッ
チ及びメモリセルの部分を示したものである。
16は書込み駆動線、400はライト・スイッチ、15
は桁選択線、17は語線、18は情報線、500はトラ
ンスファー・ゲートであり、600は情報記憶用の容量
である。FIG. 1 shows the write-switch and memory cell portions of a conventional semiconductor memory device. 10 is a write drive line, 100 is a light switch, 11
12 is a word line, 13 is an information line, 200 is a transfer gate, and 300 is a capacity for information storage. FIG. 2 shows the write switch and memory cell portion of the semiconductor memory device according to the present invention. 16 is a write drive line, 400 is a light switch, 15
17 is a digit selection line, 17 is a word line, 18 is an information line, 500 is a transfer gate, and 600 is a capacity for information storage.
Claims (1)
込み駆動線にはドレイン電極が、桁選択線にはゲート電
極が、それぞれ接続されたDSAMOSトランジスタを
情報書込み用スイッチとして備えたことを特徴とする半
導体記憶装置。1. A DSAMOS transistor is provided as an information write switch, with a double-diffused source electrode connected to the information line, a drain electrode connected to the write drive line, and a gate electrode connected to the digit selection line. Characteristic semiconductor memory device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52152367A JPS58118B2 (en) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52152367A JPS58118B2 (en) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | semiconductor storage device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5484933A JPS5484933A (en) | 1979-07-06 |
JPS58118B2 true JPS58118B2 (en) | 1983-01-05 |
Family
ID=15538969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52152367A Expired JPS58118B2 (en) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | semiconductor storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58118B2 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5291622A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-02 | Nec Corp | Static memory cell |
-
1977
- 1977-12-20 JP JP52152367A patent/JPS58118B2/en not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5291622A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-02 | Nec Corp | Static memory cell |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5484933A (en) | 1979-07-06 |
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