JPS58118593A - 液状の単一および2官能性オルガノシロキサンを分解する方法 - Google Patents
液状の単一および2官能性オルガノシロキサンを分解する方法Info
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- JPS58118593A JPS58118593A JP57227839A JP22783982A JPS58118593A JP S58118593 A JPS58118593 A JP S58118593A JP 57227839 A JP57227839 A JP 57227839A JP 22783982 A JP22783982 A JP 22783982A JP S58118593 A JPS58118593 A JP S58118593A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/123—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-halogen linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、オルガノシロキサ/を、塩化水素を使用し分
解する方法に関する。
解する方法に関する。
この場合、例えば合成ペニシリンを製造する際に使用さ
れる保護基作用剤を製造するための重要な出発生成物で
あるオルガノクロルシランが生じる。さらに、オルガノ
クロルシラ/は、大きい応用分野のオルガノ珪素エステ
ルおよびシリコーンの前生成物である。
れる保護基作用剤を製造するための重要な出発生成物で
あるオルガノクロルシランが生じる。さらに、オルガノ
クロルシラ/は、大きい応用分野のオルガノ珪素エステ
ルおよびシリコーンの前生成物である。
オルガノシロキサンは、多くの応用分野でしばしば汚染
された状態で生じ、この状態でその処理が不可能である
かまたは高められた費用で可能であるにすぎない。従っ
て、例えばヘキサメチルシフ0キサンは、保穫基化学に
おける廃産生成物として生じるか、またこれは他のソロ
キサンとともに、例えば熱媒体または油圧用オイルとし
て使用された使用済のシリコーンオイル中に含有されて
いる。従来よシ実際に、この使用済の7リコーンオイル
は用途がなく、従ってこれらは大量に無害とされるかま
たは廃却されなければならなかった。
された状態で生じ、この状態でその処理が不可能である
かまたは高められた費用で可能であるにすぎない。従っ
て、例えばヘキサメチルシフ0キサンは、保穫基化学に
おける廃産生成物として生じるか、またこれは他のソロ
キサンとともに、例えば熱媒体または油圧用オイルとし
て使用された使用済のシリコーンオイル中に含有されて
いる。従来よシ実際に、この使用済の7リコーンオイル
は用途がなく、従ってこれらは大量に無害とされるかま
たは廃却されなければならなかった。
すでに、ソロキサンをクロルシランに分解することによ
シ、有用なオルガノシロキサン廃産物を再び使用可能に
することが繰返し試みられた。他方で例えはメチルクロ
ルシラ/は、大規模工業的に従来よりすでにロコウ合成
(Rocow−8ynthese ) を経て得られ
、従ってこの合成法に依存する。分解試薬としては、す
でに塩化チオニル、塩化アルミニウムまたは三塩化燐が
記載されている。これら化合物を使用する場合の欠点は
、この場合生じる大分量の副次生成物が影響を及ぼしそ
の分離が付加的な費用を生じる。
シ、有用なオルガノシロキサン廃産物を再び使用可能に
することが繰返し試みられた。他方で例えはメチルクロ
ルシラ/は、大規模工業的に従来よりすでにロコウ合成
(Rocow−8ynthese ) を経て得られ
、従ってこの合成法に依存する。分解試薬としては、す
でに塩化チオニル、塩化アルミニウムまたは三塩化燐が
記載されている。これら化合物を使用する場合の欠点は
、この場合生じる大分量の副次生成物が影響を及ぼしそ
の分離が付加的な費用を生じる。
さらにまた、70キサンを塩化水素を使用し分解するこ
とが公知である。しかしこの試験はさもないときは不完
全に進行する反応に作用させるため、濃硫酸またはZr
cJ!2 のような水結合性の添加物の存在において実
施された。この場合も不利な副次生成物が生じる。
とが公知である。しかしこの試験はさもないときは不完
全に進行する反応に作用させるため、濃硫酸またはZr
cJ!2 のような水結合性の添加物の存在において実
施された。この場合も不利な副次生成物が生じる。
西ドイツ国特許公開明細書第6013920号には、さ
もないときは室温で達せられないクロルシラ/への完全
な反応を得るため、分解を、塩化水素を使用し塩化水素
の過剰圧力で実施する方法が記載されている。この明細
書に記載された方法によれば、所望のクロルシランの大
きい収率が得られるのではあるが、但しこの作業方法は
、塩素化水素の圧力下の作業に際し必要である工業的費
用が大きいという欠点を有する。
もないときは室温で達せられないクロルシラ/への完全
な反応を得るため、分解を、塩化水素を使用し塩化水素
の過剰圧力で実施する方法が記載されている。この明細
書に記載された方法によれば、所望のクロルシランの大
きい収率が得られるのではあるが、但しこの作業方法は
、塩素化水素の圧力下の作業に際し必要である工業的費
用が大きいという欠点を有する。
従って本発明の課題は、オルガノクロルシラ/の塩化水
素による分解を、この反応に際し所望のオルガノクロル
シランが直接に大きい収率で得られかつこの反応におけ
る装置的費用ができるたけわずかであるように実施する
ことである。
素による分解を、この反応に際し所望のオルガノクロル
シランが直接に大きい収率で得られかつこの反応におけ
る装置的費用ができるたけわずかであるように実施する
ことである。
ところで、この課題を解決するため、式(R35l)2
0の、または(R2S10−]−x 単位を有するオ
ルガノソロキサ/〔式中、Rは、同じかまたは異なる、
場合によジノ\ロケ″/またはアリールにより置換され
た炭素原子数1〜18を有するアルキルまたはアルケニ
ル基、またはアリール基であり、かつχは任意の重合度
である〕を、塩化水素を使用しオルガノクロル7ランの
形成下に分解するに当り、塩化水素を、20°Cを下廻
る温度で付加的な過剰圧力を適用せずにオルガノシラン
と反応させ、この反応の際に生じる含水塩化水素を液相
として沈殿させかつこの液状の、塩化水素で飽和せる相
を混合物から除去することを特徴とする液状の単一およ
び2官能性オルガノシロキサン分解する方法が見出され
た。
0の、または(R2S10−]−x 単位を有するオ
ルガノソロキサ/〔式中、Rは、同じかまたは異なる、
場合によジノ\ロケ″/またはアリールにより置換され
た炭素原子数1〜18を有するアルキルまたはアルケニ
ル基、またはアリール基であり、かつχは任意の重合度
である〕を、塩化水素を使用しオルガノクロル7ランの
形成下に分解するに当り、塩化水素を、20°Cを下廻
る温度で付加的な過剰圧力を適用せずにオルガノシラン
と反応させ、この反応の際に生じる含水塩化水素を液相
として沈殿させかつこの液状の、塩化水素で飽和せる相
を混合物から除去することを特徴とする液状の単一およ
び2官能性オルガノシロキサン分解する方法が見出され
た。
一般にこの反応は、オルガノシランに塩化水素を、20
℃を下廻る反応温度で飽和させる方法で実施される。こ
の場合生じる反応中に、自体公知の含水塩化水素が生じ
、これが重質相として沈殿する。明白に、混合物の均質
攪拌は回避しなければならない。
℃を下廻る反応温度で飽和させる方法で実施される。こ
の場合生じる反応中に、自体公知の含水塩化水素が生じ
、これが重質相として沈殿する。明白に、混合物の均質
攪拌は回避しなければならない。
本発明による作業方法で生じる液相は、もっばら塩化水
素のニーおよび三水化物の混合物より成る。含水分は適
用された飽和温度と関連する;0°Cで、これら2つの
水化物がほぼ同じ重量比で存在する。
素のニーおよび三水化物の混合物より成る。含水分は適
用された飽和温度と関連する;0°Cで、これら2つの
水化物がほぼ同じ重量比で存在する。
軽質の有機相中に所望のオルガノクロルシラ/があシ、
このものが以下の反応によシ生じる:1、 3(R2
s1)2o+7Hc+峠6R3Si(J+ HCJ・ろ
H2O2、2(−R2SiO−)x+5xHcJ→2x
R2SiCf2 + XHCJ・2H20しかしながら
、これら方程式において、含水塩化水素形成の温度依存
性を考慮すべきであるニー20℃でとくに三水化物が沈
殿し;−20℃で三水化物の分量はわずかである。0℃
で2つの水化物がほぼ同じ分量で存在するとともに、2
0°Cで三水化物の分量がはるかに優りかつ三水化物の
分量が極めてわずかである。
このものが以下の反応によシ生じる:1、 3(R2
s1)2o+7Hc+峠6R3Si(J+ HCJ・ろ
H2O2、2(−R2SiO−)x+5xHcJ→2x
R2SiCf2 + XHCJ・2H20しかしながら
、これら方程式において、含水塩化水素形成の温度依存
性を考慮すべきであるニー20℃でとくに三水化物が沈
殿し;−20℃で三水化物の分量はわずかである。0℃
で2つの水化物がほぼ同じ分量で存在するとともに、2
0°Cで三水化物の分量がはるかに優りかつ三水化物の
分量が極めてわずかである。
本発明による反応は、20℃を下廻る任意の温度で、こ
れらの温度で重質相が液状の凝集状態である場合に実施
されることができる;このことは、含水塩化水素の凍結
点までのこのような温度に低下するまで作業しうろこと
を表わし、この凍結点は、必要に応じ、場合によシ存在
する融点降下を惹起しうる混合物の存在によりさらに低
められる。従って、−25°Cの温度に低下するまで作
業することが可能である。しかしながら、−10’C〜
+10°Cの温度範囲が殊に有利である。
れらの温度で重質相が液状の凝集状態である場合に実施
されることができる;このことは、含水塩化水素の凍結
点までのこのような温度に低下するまで作業しうろこと
を表わし、この凍結点は、必要に応じ、場合によシ存在
する融点降下を惹起しうる混合物の存在によりさらに低
められる。従って、−25°Cの温度に低下するまで作
業することが可能である。しかしながら、−10’C〜
+10°Cの温度範囲が殊に有利である。
もっばらジアルキルジクロルシランを生じさせる場合、
有利な温度範囲は00C〜−10°Cであり、それぞれ
の場合はまたさらに若干低く、それとともに本発明によ
る分解法でトリアルキルクロルシランを単独に生じさせ
る場合は、有利にすでにO0C〜+io’cの温度範囲
で作業されることができる。
有利な温度範囲は00C〜−10°Cであり、それぞれ
の場合はまたさらに若干低く、それとともに本発明によ
る分解法でトリアルキルクロルシランを単独に生じさせ
る場合は、有利にすでにO0C〜+io’cの温度範囲
で作業されることができる。
本発明による反応は、不連続にもまた連続的にも実施さ
れることができる。これら2つの場合、有利にはじめに
、塩化水素を前装入されたオルガノシロキサ/中へ所望
の反応温度で導入するように実施する。この導入中に、
第2の液この 相が分解反応の速度で生じるンV2の相は、その大きい
比重により底部に沈殿しかつそこで短かい間隔で連続的
または不連続的に排出される。
れることができる。これら2つの場合、有利にはじめに
、塩化水素を前装入されたオルガノシロキサ/中へ所望
の反応温度で導入するように実施する。この導入中に、
第2の液この 相が分解反応の速度で生じるンV2の相は、その大きい
比重により底部に沈殿しかつそこで短かい間隔で連続的
または不連続的に排出される。
前装入されたオルガノシラ/中への塩化水素の導入は、
オルガノシロキサンにより塩化水素がもはや吸収されず
かつ塩化水素が反応混合物からガス状で流出し;同時に
重質液相の連続的な形成および沈殿がなくなるまで行な
われる。
オルガノシロキサンにより塩化水素がもはや吸収されず
かつ塩化水素が反応混合物からガス状で流出し;同時に
重質液相の連続的な形成および沈殿がなくなるまで行な
われる。
不連続的な作業方法の場合、この時点で、反応の終了時
に終点検出を改善するため念のためにすでに減速された
塩化水素供給を停止しかつ下側の相を完全に排出する。
に終点検出を改善するため念のためにすでに減速された
塩化水素供給を停止しかつ下側の相を完全に排出する。
上側の相は99%以上が所望のクロルシランより成る。
本発明による方法を連続的に形成する場合、装置の上部
で、装入されたオルガノシロキサンの充填水準の上方に
、所望のオルガノクロルシランのための溢流管がある。
で、装入されたオルガノシロキサンの充填水準の上方に
、所望のオルガノクロルシランのための溢流管がある。
この溢流部からオルガノクロル/う/が流出すると直ち
にオルガノシロキサンの付加的な供給が開始されるが、
これは有利に下方の反応部分を経て供給される。
にオルガノシロキサンの付加的な供給が開始されるが、
これは有利に下方の反応部分を経て供給される。
この場合、供給すべきオルガノシロキサンの量は、溢流
するオルガノクロル7ランの量と一致する。この場合明
白に、塩化水素量が、導入すべきオルガノシロキサンの
量に、前記方程式相応に適合される必要がある。
するオルガノクロル7ランの量と一致する。この場合明
白に、塩化水素量が、導入すべきオルガノシロキサンの
量に、前記方程式相応に適合される必要がある。
出発生成物として使用可能なオルガノ70キサンは一般
式: (R25iO÷X の構造単位を含有するか、ま
たはこれは一般式: (R35l )20に相応する。
式: (R25iO÷X の構造単位を含有するか、ま
たはこれは一般式: (R35l )20に相応する。
これらの式中、Rは、同じかまたは異なるアリール−、
アルケニル−またはアルキル基であり、その場合後者は
、場合によジノ・ロブ/またはアリール基により置換さ
れていてよくかつ炭素原子数合計1〜18を有すること
ができる。指数Xはポリシロキサ/の重合度を表わすが
、これは公知のように極めて異なることがある(例えば
2〜約2DOO);また指数xVi、例えば異なる重合
度を有する種々の2官能性ボリア0キサンの混合物が使
用された場合、平均値をとることができる。
アルケニル−またはアルキル基であり、その場合後者は
、場合によジノ・ロブ/またはアリール基により置換さ
れていてよくかつ炭素原子数合計1〜18を有すること
ができる。指数Xはポリシロキサ/の重合度を表わすが
、これは公知のように極めて異なることがある(例えば
2〜約2DOO);また指数xVi、例えば異なる重合
度を有する種々の2官能性ボリア0キサンの混合物が使
用された場合、平均値をとることができる。
分解可能なオルガノソロキサンとして挙けられるのが:
ヘキサエチルジシロキサンお上びヘキサエチルジシロキ
サンのような全てのヘキサアルキルジシロキ−+j7、
ヘキサチェニルジシロキサン並びにジメチルポリシロキ
サンおよび線状シリコーン並びに分枝または環式の70
キサンおよびシリコーンより成る線状成分であり、また
これらは、例えば、ビニル−、フェニル−、トリフルオ
ルプロぎルー、クロルプロピル−、クロルメチル−、フ
ェニルエチル−1するいはまたエチル−ないしはオクタ
デシル基を含有することができる。
ヘキサエチルジシロキサンお上びヘキサエチルジシロキ
サンのような全てのヘキサアルキルジシロキ−+j7、
ヘキサチェニルジシロキサン並びにジメチルポリシロキ
サンおよび線状シリコーン並びに分枝または環式の70
キサンおよびシリコーンより成る線状成分であり、また
これらは、例えば、ビニル−、フェニル−、トリフルオ
ルプロぎルー、クロルプロピル−、クロルメチル−、フ
ェニルエチル−1するいはまたエチル−ないしはオクタ
デシル基を含有することができる。
使用すべきシロキサン化合物は、純粋な化合物として使
用されることを要しない。本発明による方法は、塩化水
素の反応性の配慮下に、例えばシロキサン中の塩素化炭
化水素または炭化水素の含分の°ような全く高濃度の不
純物を許容する。この事実が、極めて歓迎され、本発明
の場合は複雑でない、例えはシロキサン廃産物の処理を
簡単な方法で可能にする。
用されることを要しない。本発明による方法は、塩化水
素の反応性の配慮下に、例えばシロキサン中の塩素化炭
化水素または炭化水素の含分の°ような全く高濃度の不
純物を許容する。この事実が、極めて歓迎され、本発明
の場合は複雑でない、例えはシロキサン廃産物の処理を
簡単な方法で可能にする。
以下に、本発明を実施例につき詳説する。
例1
内径50mmおよび高さ800mmの約1.51の容積
の、同じく二重壁が設けられた底部排出栓、通気管、内
部温度計および下端部のガス導入管が取付けられた直立
型の二重壁管に、もはや使用不能なボリジメチルンリコ
ーンオイル900Iを充填した。このものは、その前に
液状熱媒体として約200 ’Cの温度で使用され、か
つクロシン約6係で汚染されていた。
の、同じく二重壁が設けられた底部排出栓、通気管、内
部温度計および下端部のガス導入管が取付けられた直立
型の二重壁管に、もはや使用不能なボリジメチルンリコ
ーンオイル900Iを充填した。このものは、その前に
液状熱媒体として約200 ’Cの温度で使用され、か
つクロシン約6係で汚染されていた。
この混合物を一10℃に降温冷却しかつその後に6時間
にわたりガス状のHcz32qg/時間を、−10℃の
反応温度の維持下およびその間に沈殿する比較的重質な
液相の、約20分の間隔をおいた底部排出栓による1回
分ずつの分離下に送入した。
にわたりガス状のHcz32qg/時間を、−10℃の
反応温度の維持下およびその間に沈殿する比較的重質な
液相の、約20分の間隔をおいた底部排出栓による1回
分ずつの分離下に送入した。
6時間の経過後に、塩化水素供給の速度を130.9/
時間に減じ、かつこの速度でさらに同じ反応条件下に、
塩化水素が飽和によシもはや吸収されず、通気管中へ流
出しはじめるまで供給を続行した。このことは、さらに
約30分後に該当し、その後にH(J供給を停止した。
時間に減じ、かつこの速度でさらに同じ反応条件下に、
塩化水素が飽和によシもはや吸収されず、通気管中へ流
出しはじめるまで供給を続行した。このことは、さらに
約30分後に該当し、その後にH(J供給を停止した。
反応装置の充填物が、反応中に約1.51に増大した。
このパッチを約1時間0°Cで放置し、かつその後に下
相の最後の液滴を分離しかつ上相を帛圧で短かいカラム
を経て蒸溜した。70℃の沸点で、数グラムの前溜後に
純粋なジメチルジクロル7;77合計1412.9(使
用したポリジメチルシロキサン約840gに対し約95
%)を蒸溜した。
相の最後の液滴を分離しかつ上相を帛圧で短かいカラム
を経て蒸溜した。70℃の沸点で、数グラムの前溜後に
純粋なジメチルジクロル7;77合計1412.9(使
用したポリジメチルシロキサン約840gに対し約95
%)を蒸溜した。
反応中に分離された比較的重質の相合計388gは、H
ci 47.3 %を含有し、従って約70%がH(J
・2H20より成シかつわずかに約60%がH(J−ろ
H2Cより成っていた。合計で、ガス状HCJ約105
0が使用された。
ci 47.3 %を含有し、従って約70%がH(J
・2H20より成シかつわずかに約60%がH(J−ろ
H2Cより成っていた。合計で、ガス状HCJ約105
0が使用された。
例2
例1と類似に、例1に記載せる反応装置に、1.2−ジ
クロルメチルテトラメチルジンロキサン1156.9(
5モル)を装入し、かつ+1000で2時間にわたシH
cz190g/時間、その後に60分にわた5Hcz1
00g/時間で飽和させるとともに、約20分の間隔で
下側の相合剖約160I(H(J濃度−約43.2%、
H(J・2H2062%およびH(J・3H2068%
に相応)を分離した。この場合反応装置の充填率が、反
応進行中に生じる容積増大によシ約70%から約90%
に増大した。上側の相のガスクロマトグラフ分析はクロ
ルメチルジメチルクロルシラン約98%を示した。蒸溜
によシ、この生成物を合計16899単離した。
クロルメチルテトラメチルジンロキサン1156.9(
5モル)を装入し、かつ+1000で2時間にわたシH
cz190g/時間、その後に60分にわた5Hcz1
00g/時間で飽和させるとともに、約20分の間隔で
下側の相合剖約160I(H(J濃度−約43.2%、
H(J・2H2062%およびH(J・3H2068%
に相応)を分離した。この場合反応装置の充填率が、反
応進行中に生じる容積増大によシ約70%から約90%
に増大した。上側の相のガスクロマトグラフ分析はクロ
ルメチルジメチルクロルシラン約98%を示した。蒸溜
によシ、この生成物を合計16899単離した。
例ろ
直径801mおよび高さ1000u+で内部温度計を有
する約51容量の直立円筒型二重壁反応装置に、上端に
通気管および溢流管を設は一下端に、温度調節可能な底
部排出栓およびその後方にある微量計量弁を取付けた、
この計量弁が容量測定センサを使用し下相の流出金を制
御する。塩化水素用のガス導入管および/ロキサ/用の
供給管を底面の上方約200酎で反応管中へ接続した。
する約51容量の直立円筒型二重壁反応装置に、上端に
通気管および溢流管を設は一下端に、温度調節可能な底
部排出栓およびその後方にある微量計量弁を取付けた、
この計量弁が容量測定センサを使用し下相の流出金を制
御する。塩化水素用のガス導入管および/ロキサ/用の
供給管を底面の上方約200酎で反応管中へ接続した。
この反応装置を、ヘキサメチルシフ0キサン3.4Kp
を送入し、0℃に内部温度を調節しかつHcz620f
i/時間を導入しかつ1時間当9下相260gを分離す
ることによシ運転した。約1時間当シヘキサメテルゾシ
ロキサン11409を供給することによ多連続運転を続
行した。
を送入し、0℃に内部温度を調節しかつHcz620f
i/時間を導入しかつ1時間当9下相260gを分離す
ることによシ運転した。約1時間当シヘキサメテルゾシ
ロキサン11409を供給することによ多連続運転を続
行した。
下相の1時間当シ沈殿速度230!jを維持した。
それによシ、上流および溢流分からは1時間当シ上相約
150(L9が流出した。
150(L9が流出した。
この上相は、平均して96〜98%がトリメチルクロル
シランおよびわずかな残分がヘキサジ成る、平均H(J
含分45.2を有する混合物より成っていた。
シランおよびわずかな残分がヘキサジ成る、平均H(J
含分45.2を有する混合物より成っていた。
運転時間82時間にわたり、合計でヘキサメチルシフ0
キサン93.1 Kyおよび塩化水素50.8に9を力
ロエしかつこれからトリメチルクロルシラン120.5
に9(収率96,8%)を製造し;ヘキサメチルジンロ
キサン2.8に9を単離回収した。副次生成物として、
45.2%H(4水化物18.8に9が生じた。
キサン93.1 Kyおよび塩化水素50.8に9を力
ロエしかつこれからトリメチルクロルシラン120.5
に9(収率96,8%)を製造し;ヘキサメチルジンロ
キサン2.8に9を単離回収した。副次生成物として、
45.2%H(4水化物18.8に9が生じた。
例4
例1と類似に、もっばら1.1,5.3−テトラフェニ
ル−1,3−ジメチルジシロキサンよシ成る拡散ポンプ
用オイル821!!(2モル)を−10℃で1時間以内
に塩化水素で飽和させた、そのためHCJ約1709を
要した。その間に、下相約70gを多数の分量に分けて
分離した(Hci含分約47チ)。上相を引続き蒸溜し
沸点128〜161℃(1ミリバール)でメチルジフェ
ニルクロルシラン902gが得られた、これは生成物収
率約97%に相応する。
ル−1,3−ジメチルジシロキサンよシ成る拡散ポンプ
用オイル821!!(2モル)を−10℃で1時間以内
に塩化水素で飽和させた、そのためHCJ約1709を
要した。その間に、下相約70gを多数の分量に分けて
分離した(Hci含分約47チ)。上相を引続き蒸溜し
沸点128〜161℃(1ミリバール)でメチルジフェ
ニルクロルシラン902gが得られた、これは生成物収
率約97%に相応する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 式(R3Si)20の、 または+R2Sユ0−
)x 単位を有するオルガノシロキサ/〔式中、Rは
、同じかまたは異なる、場合によジハロゲンまたはアリ
ールによシ置換された炭素原子数1〜18を有するアル
キルまたはアルケニル基、またはアリール基であシ、か
つXは任意の重合度である〕を、塩化水素を使用しオル
ガノクロルシランの形成下に分解するに当り、塩化水素
を、20°Cを下廻る温度で付加的な過剰圧力を適用せ
ずにオルガノシラ/と反応させ、この反応の際に生じる
含水塩化水素を液相として沈殿させかつこの液状の、塩
化水素で飽和せる相を混合物から除去することを特徴と
する液状の単一および2官能性オルガノシロキサンを分
解する方法。 2、分解を一10°C〜+10℃の温度で実施すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の単一および2
官能性オルガノシロキサンを分解する方法。 6、塩化水素を、オルガノシロキサン中へ飽和浴液が得
られるまで導入することを特徴とする特許請求の範囲第
1または第2項のいずれかに記載の液状の単一および2
官能性オルガノシロキサンを分解する方法。 4、含水塩化水素相を連続的に分離しかつ同時に相応す
る量の塩化水素お本ひオルガノシランを混合物に連続的
に添加することを特徴とする特許請求の範囲第1〜第3
項のいずhかに記載の液状の単一および2官能性オルガ
ノシロキサ/を分解する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE31516777 | 1981-12-28 | ||
DE19813151677 DE3151677A1 (de) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | Verfahren zur spaltung von organosiloxanen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58118593A true JPS58118593A (ja) | 1983-07-14 |
Family
ID=6149902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57227839A Pending JPS58118593A (ja) | 1981-12-28 | 1982-12-28 | 液状の単一および2官能性オルガノシロキサンを分解する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4417067A (ja) |
EP (1) | EP0082969B1 (ja) |
JP (1) | JPS58118593A (ja) |
AT (1) | ATE18052T1 (ja) |
CA (1) | CA1205084A (ja) |
DE (2) | DE3151677A1 (ja) |
ES (1) | ES518572A0 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4780556A (en) * | 1987-02-06 | 1988-10-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing chlorosilanes |
US5095131A (en) * | 1990-11-19 | 1992-03-10 | Dow Corning Corporation | Metal assisted alkylation of silica |
JP2798317B2 (ja) * | 1992-02-18 | 1998-09-17 | 信越化学工業株式会社 | モノクロロシラン類の製造方法 |
US5292912A (en) * | 1993-07-19 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride |
KR100190752B1 (ko) * | 1997-01-22 | 1999-06-01 | 한정련 | 폴리오르가노실록산 화합물의 분해 촉진제, 이 분해 촉진제에 의한 그 분해방법 및 분해 생성물의 회수방법 |
US6284908B1 (en) * | 2000-09-25 | 2001-09-04 | Sandia Corporation | Method for making polysilsesquioxanes and organohydridosilanes |
CN106883258B (zh) * | 2017-01-19 | 2019-11-15 | 浙江硕而博化工有限公司 | 六甲基二硅氧烷生产三甲基氯硅烷工艺 |
WO2021180308A1 (de) | 2020-03-10 | 2021-09-16 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur aufarbeitung von (m/d/t)-methylpolysiloxan-mischungen aus wärmeträgeranwendungen |
CN111804130A (zh) * | 2020-07-20 | 2020-10-23 | 江苏帕斯玛环境科技有限公司 | 合成有机硅氧烷时产生的废弃物的处理方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2500761A (en) * | 1947-06-19 | 1950-03-14 | Gen Electric | Preparation of organo-substituted halogenosilanes |
US2615034A (en) * | 1951-09-21 | 1952-10-21 | Dow Corning | Method of preparation of trimethylchlorosilane |
US2897220A (en) * | 1955-05-28 | 1959-07-28 | Kali Chemie Ag | Preparation of triorganosilanes |
GB881179A (en) * | 1959-07-29 | 1961-11-01 | Ici Ltd | Organosilicon hydrides |
DE1217954B (de) * | 1963-05-09 | 1966-06-02 | Gen Electric | Verfahren zur Herstellung von Dialkyldichlorsilanen |
DE3013920C2 (de) * | 1980-04-11 | 1986-03-27 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von Triorganomonochlorsilan |
-
1981
- 1981-12-28 DE DE19813151677 patent/DE3151677A1/de not_active Ceased
-
1982
- 1982-11-30 DE DE8282111056T patent/DE3269250D1/de not_active Expired
- 1982-11-30 EP EP82111056A patent/EP0082969B1/de not_active Expired
- 1982-11-30 AT AT82111056T patent/ATE18052T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-12-03 US US06/446,756 patent/US4417067A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-12-22 CA CA001205084A patent/CA1205084A/en not_active Expired
- 1982-12-27 ES ES518572A patent/ES518572A0/es active Granted
- 1982-12-28 JP JP57227839A patent/JPS58118593A/ja active Pending
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---|---|
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US4417067A (en) | 1983-11-22 |
DE3151677A1 (de) | 1983-07-14 |
EP0082969A3 (en) | 1984-04-25 |
DE3269250D1 (en) | 1986-03-27 |
ES8308887A1 (es) | 1983-10-01 |
EP0082969B1 (de) | 1986-02-19 |
EP0082969A2 (de) | 1983-07-06 |
ES518572A0 (es) | 1983-10-01 |
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