JPS58117558A - 電子写真による画像形成方法 - Google Patents
電子写真による画像形成方法Info
- Publication number
- JPS58117558A JPS58117558A JP40382A JP40382A JPS58117558A JP S58117558 A JPS58117558 A JP S58117558A JP 40382 A JP40382 A JP 40382A JP 40382 A JP40382 A JP 40382A JP S58117558 A JPS58117558 A JP S58117558A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- exposed
- photoreceptor
- image
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真法に関する。特に本発明はBi、2X
sO,。(ココテX &iG* 、Si 又ハTi f
表ワt、。
sO,。(ココテX &iG* 、Si 又ハTi f
表ワt、。
算は0.7〜t5の数を表わす)を用いた電子写真法に
よる画像形成方法に関する。
よる画像形成方法に関する。
B&□2G−〇□。等の結晶性酸化ビスマス化合物をX
線又はrlmの線量計用センナとして用いることやゼロ
ツジオ〆ツフイーに用いることが特開昭55−4553
1号に開示されている。後者は上記の如き結晶性酸化ビ
スマス化合物を導電性支持体上に設け、これを暗室内で
コロナ帯電した後VcX、iiを照射し、トナー現像し
て画像を得ている。この方式は、X線の照射を受は九部
分が導電性になり。
線又はrlmの線量計用センナとして用いることやゼロ
ツジオ〆ツフイーに用いることが特開昭55−4553
1号に開示されている。後者は上記の如き結晶性酸化ビ
スマス化合物を導電性支持体上に設け、これを暗室内で
コロナ帯電した後VcX、iiを照射し、トナー現像し
て画像を得ている。この方式は、X線の照射を受は九部
分が導電性になり。
帯電した電荷が暗減衰を起こす現象を利用している。本
発明者等はB & tzG g Ox。の上記のIEO
IX線照射による暗減衰に及ぼす光前照射効果について
検射し、7QQss付近の光前照射がx!!照射による
暗減衰効果を遅<L、450%農付近の光前照射効果が
同暗減衰効果を速めることを見出し九。
発明者等はB & tzG g Ox。の上記のIEO
IX線照射による暗減衰に及ぼす光前照射効果について
検射し、7QQss付近の光前照射がx!!照射による
暗減衰効果を遅<L、450%農付近の光前照射効果が
同暗減衰効果を速めることを見出し九。
(1981年第2a回応用物理学関係連合講演会予稿集
。
。
1856年3月608j参照)。
本発明者等は更に研究を進めた結果、 Bit□CIg
O2゜及びこれと同系統の結晶性酸化ビスマス化合物に
暗所中700路雁付近の光で光前照射を行った後にコロ
ナ帯電を行った場合、暗減衰効果が未照射のものと比べ
て遅くなり、従って両者での暗減衰速度の差を利用し、
700111&付近の光で像露光した後に帯電及びトナ
ー現像を行うことにより電子写真画(IJを形成し得る
ことを見出し本発明を達成した。
O2゜及びこれと同系統の結晶性酸化ビスマス化合物に
暗所中700路雁付近の光で光前照射を行った後にコロ
ナ帯電を行った場合、暗減衰効果が未照射のものと比べ
て遅くなり、従って両者での暗減衰速度の差を利用し、
700111&付近の光で像露光した後に帯電及びトナ
ー現像を行うことにより電子写真画(IJを形成し得る
ことを見出し本発明を達成した。
更に、同様の材料に450%富付近の光で光前照射を行
った後にコロナ帯電を行うと、短時間の範囲ではめるが
暗減衰効果が速くなることを見出し。
った後にコロナ帯電を行うと、短時間の範囲ではめるが
暗減衰効果が速くなることを見出し。
従って、上記の700%易付近の光で像露光する前に4
51鯖付近の光で全面露光全行うことにより。
51鯖付近の光で全面露光全行うことにより。
得られる画像のコントラストを上げ得ることも見出した
。
。
従って、本発明の1つの態様は導電性基板上KB1□2
Xルo2゜又はf3i、Ti及びAjの少くとも1種を
添加剤として含むB112X%02゜(ここでXはGg
、Sjを単独又は分散された状態で設けた感光体を70
0nwh付近の光で像露光し1次いで帯電及びトナー現
惨することを特徴とする電子写真法による画像形成方法
であり1本発明の他の態様は上記の画像形成方法におい
て、700 mmの光によZ@IE光を行う前[450
%w付近の光で全面露光を行うことを特徴としている。
Xルo2゜又はf3i、Ti及びAjの少くとも1種を
添加剤として含むB112X%02゜(ここでXはGg
、Sjを単独又は分散された状態で設けた感光体を70
0nwh付近の光で像露光し1次いで帯電及びトナー現
惨することを特徴とする電子写真法による画像形成方法
であり1本発明の他の態様は上記の画像形成方法におい
て、700 mmの光によZ@IE光を行う前[450
%w付近の光で全面露光を行うことを特徴としている。
以下1本発明の詳細な説明する。
例えば、Bj OとG g Oxとの混合物を出発原料
3 とし、チョクラルスキー法等によって結晶成長させて得
られたB & 1□C,g O□。をスライスしてα1
〜3■のウェハーを作り、これをアルミニウム、スチー
ル等の金属板又はポリエチレンテレフタレート等の4リ
マーのフィーvhlf金属層を蒸着、電着勢によって設
けた導電性基板上に設けた感光体に暗所でコロナ帯電を
行うと、第1図Aに示す如き暗減衰を示し、電荷が次第
に失われてゆ(。一方。
3 とし、チョクラルスキー法等によって結晶成長させて得
られたB & 1□C,g O□。をスライスしてα1
〜3■のウェハーを作り、これをアルミニウム、スチー
ル等の金属板又はポリエチレンテレフタレート等の4リ
マーのフィーvhlf金属層を蒸着、電着勢によって設
けた導電性基板上に設けた感光体に暗所でコロナ帯電を
行うと、第1図Aに示す如き暗減衰を示し、電荷が次第
に失われてゆ(。一方。
同様な感光体に600ss 〜800ssaの70[1
1LIllt中心とし走光(本明細書では700絡襲付
近の光と称す)で照射した後にコロナ帯電を行うと第1
図已に示す叩く暗減衰が遅くなり、又この暗減衰遅延効
果は感光体を700 Sm−付近の光で照射後数日以上
軒ってからコロナ帯電しては保持されていることが見出
式れた。この現象はコロナ帯電が正であって負であって
も全く同様でめる。
1LIllt中心とし走光(本明細書では700絡襲付
近の光と称す)で照射した後にコロナ帯電を行うと第1
図已に示す叩く暗減衰が遅くなり、又この暗減衰遅延効
果は感光体を700 Sm−付近の光で照射後数日以上
軒ってからコロナ帯電しては保持されていることが見出
式れた。この現象はコロナ帯電が正であって負であって
も全く同様でめる。
本発明においては、上記の如き感光体を暗所で700謁
付近の光で(I露光後コμす帯電すると。
付近の光で(I露光後コμす帯電すると。
無光部では第1図BK示すように暗減衰が遅(、未3I
元では第1図Aに示すように暗減衰が比較的速(進行し
て電荷が失われてゆくので、露光部と未露光部との間に
暗減衰速度の差に基づ(電荷の差、すなわち静電潜像が
形成され、これをトナー現像することによってトナーに
よる可視儂を得ることができる。この場合、コロナ帯電
の極性に応じて適当な極性のトナーを選ぶことによりネ
ガーポジ現(1%ポジーポジ現像も可能でおる。又、現
像手段としては/セウダークラウV法、カスケーr法、
磁気ブラシ法、を体現像法等一般の電子写真法で用いら
れる現儂法を利用することができる。
元では第1図Aに示すように暗減衰が比較的速(進行し
て電荷が失われてゆくので、露光部と未露光部との間に
暗減衰速度の差に基づ(電荷の差、すなわち静電潜像が
形成され、これをトナー現像することによってトナーに
よる可視儂を得ることができる。この場合、コロナ帯電
の極性に応じて適当な極性のトナーを選ぶことによりネ
ガーポジ現(1%ポジーポジ現像も可能でおる。又、現
像手段としては/セウダークラウV法、カスケーr法、
磁気ブラシ法、を体現像法等一般の電子写真法で用いら
れる現儂法を利用することができる。
なお、上記の場合、前記し良知(、B s s*G 1
%。
%。
を用いた感光体においては、7QQs+m付近の光の照
射による暗減衰遅延効果は数日以上保持されるので、7
QQsim付近の光で像露光後数日経ってからコロナ帯
電、トナー現像してもトナー像を得ることができる。
射による暗減衰遅延効果は数日以上保持されるので、7
QQsim付近の光で像露光後数日経ってからコロナ帯
電、トナー現像してもトナー像を得ることができる。
本発明の他の態様によれば、上記の如きBKigO2I
)を用いた感光体に暗所中で400%寓〜50011罵
の450 %11kを中心とした光(本明細書では45
0m&ll付近の光と称する)で照射すると第1図GK
示す如く暗減衰が未照射のものに較べて連(なる。
)を用いた感光体に暗所中で400%寓〜50011罵
の450 %11kを中心とした光(本明細書では45
0m&ll付近の光と称する)で照射すると第1図GK
示す如く暗減衰が未照射のものに較べて連(なる。
450襲襲付近の光で全面露光した後に700 %ll
付近の光で像露光すると、後から行なった700%S付
近の光による光照射効果が優先する。従って。
付近の光で像露光すると、後から行なった700%S付
近の光による光照射効果が優先する。従って。
像露光後、コロナ帯電すると、像露光部分の暗減衰効果
は第1図BK示す如(遅延するが、未偉露光部(45(
Dll付近の光で全面露光されている)は@1図CoW
l(暗減衰が速くなるので、暗減衰速度が前記の場合よ
り大と1kJi1.コントラストの大きいトナー像を得
ることができる。
は第1図BK示す如(遅延するが、未偉露光部(45(
Dll付近の光で全面露光されている)は@1図CoW
l(暗減衰が速くなるので、暗減衰速度が前記の場合よ
り大と1kJi1.コントラストの大きいトナー像を得
ることができる。
なお、4505m付近の光の光照射効果の保持時間(光
照射後コロナ帯′屯するまでの時間)が2〜5分程度で
おるから、この効果を利用する場合には、450am付
近の光で全面露光後、像露光及びコロナ帯電を、2〜5
分以内の全面露光による暗減衰促進効果が残っているう
ちに行なう必要があり、特許請求の範囲第(2)項にお
いて「450%脇付近の光で全面露光後速かK」と表現
しているのはこの意味である。
照射後コロナ帯′屯するまでの時間)が2〜5分程度で
おるから、この効果を利用する場合には、450am付
近の光で全面露光後、像露光及びコロナ帯電を、2〜5
分以内の全面露光による暗減衰促進効果が残っているう
ちに行なう必要があり、特許請求の範囲第(2)項にお
いて「450%脇付近の光で全面露光後速かK」と表現
しているのはこの意味である。
以上、B番□、GgO2゜のウェハーを導電性基板上に
設けた感光体について本発明を説明したが1本発明では
このような感光体のみに限定されない。例えば2B&1
□G g 02゜を粉砕し、セレン、無定形セレン等ヤ
ポリビニルカルノZゾールの如きN型有機半導体中に分
散させ導電性基板上に設けたものも用いられる。更に、
本発明はBi、GgO,。のみに限られず、一般式Bi
□2XsO2゜(ココテX kiGg 、 E3i 又
41番9%はQ、7〜t5の数を表わす)で示される系
統の結晶性酸化ビスマス化合物を用いることができ、上
記と同様な結果が得られる。又、これらの材料添加する
と、前記の70[綿付近の光の照射による暗減衰遅延効
果と、4503711付近の光の照射による暗減衰促進
効果を向上させることができる。
設けた感光体について本発明を説明したが1本発明では
このような感光体のみに限定されない。例えば2B&1
□G g 02゜を粉砕し、セレン、無定形セレン等ヤ
ポリビニルカルノZゾールの如きN型有機半導体中に分
散させ導電性基板上に設けたものも用いられる。更に、
本発明はBi、GgO,。のみに限られず、一般式Bi
□2XsO2゜(ココテX kiGg 、 E3i 又
41番9%はQ、7〜t5の数を表わす)で示される系
統の結晶性酸化ビスマス化合物を用いることができ、上
記と同様な結果が得られる。又、これらの材料添加する
と、前記の70[綿付近の光の照射による暗減衰遅延効
果と、4503711付近の光の照射による暗減衰促進
効果を向上させることができる。
上記のB L *xX%0□。で表わされる結晶性酸化
ビスマス化合4ml! Bi253トX02(XハGm
、Si 又ハTiを表わす)を所望の比率(Sが0.7
〜t5の範囲)の混合を前記した如きテヨクラスキー法
や一方向凝固法その他の結晶成長法によって製造するこ
とができ、 Sj、Ti、AI等の添加物を加える場合
には、上記混合物に加えればよい。
ビスマス化合4ml! Bi253トX02(XハGm
、Si 又ハTiを表わす)を所望の比率(Sが0.7
〜t5の範囲)の混合を前記した如きテヨクラスキー法
や一方向凝固法その他の結晶成長法によって製造するこ
とができ、 Sj、Ti、AI等の添加物を加える場合
には、上記混合物に加えればよい。
以上述べたように1本発明はB 寥1z XaOz。の
特定波長の光の照射による暗減衰遅延効果及び所望によ
り他の特定波長の光の照射による暗減衰促進効果を利用
した新規な電子写真法を提供するものである。
特定波長の光の照射による暗減衰遅延効果及び所望によ
り他の特定波長の光の照射による暗減衰促進効果を利用
した新規な電子写真法を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はB * 1zG g O□。の前光照射による
暗減衰特性を示す!ラフであって、A、B及びCは夫々
未照射、700am付近の光の照射及び4501111
付近の光の照射時における暗減衰特性曲線である。 (ほか3名)
暗減衰特性を示す!ラフであって、A、B及びCは夫々
未照射、700am付近の光の照射及び4501111
付近の光の照射時における暗減衰特性曲線である。 (ほか3名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ti) 導電性基板上に8番、□XsO□。又はSi
、Ti、及ヒAlt7)少(と41種fi−添加剤とし
て含むB & txXs02G(ここで、XはGg 、
Si又はTiを表わし、Sは0.7〜t5の数を表わ
す)を単独又は分散された状態で設けた感光体t 70
0 ant付近の光で像露光し、次いで帯電及びトナー
現像することを特徴とする電子写真法による画像形成方
法。 (2)導電性基板上にB s 、zXsOz。又はSi
、 Ti 及びA/の少(とも1種を添加剤として含
むBt12x7LO2゜(ここでXはGg、Si又はT
iを表わし1%は0.7〜t5の数を表わす)を単独又
は分散された状態で設けた感光体を45いり付近の光で
全面露光後速かに70011jlLの光での像冨光と帯
電を行い5次いで、トナー現像することを特徴とする電
子写真法による画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40382A JPS58117558A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 電子写真による画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40382A JPS58117558A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 電子写真による画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58117558A true JPS58117558A (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=11472827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40382A Pending JPS58117558A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 電子写真による画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58117558A (ja) |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP40382A patent/JPS58117558A/ja active Pending
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