JPS5811265U - レ−ザ光照射装置 - Google Patents

レ−ザ光照射装置

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Publication number
JPS5811265U
JPS5811265U JP1981088352U JP8835281U JPS5811265U JP S5811265 U JPS5811265 U JP S5811265U JP 1981088352 U JP1981088352 U JP 1981088352U JP 8835281 U JP8835281 U JP 8835281U JP S5811265 U JPS5811265 U JP S5811265U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
irradiation device
reflecting mirror
laser light
light irradiation
Prior art date
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Pending
Application number
JP1981088352U
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English (en)
Inventor
石川憲
Original Assignee
株式会社東芝
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Publication date
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Publication of JPS5811265U publication Critical patent/JPS5811265U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図面は本考案の一実施例を示し、第１図は装置全体の構
成図、第２図は被加工物上におけるレーザ光の走査軌跡
を示す平面図、第３図は制御手段によるレーザ光の振動
の折り返し部分の制御を説明する説明図である。 １・・・レーザ発振器、３・・・反射鏡、４・・・集光
レンズ、５・・・被加工物、６・・・第１の駆動部（駆
動機構）、７・・・ＸＹテーブル（駆動機構）、８・・
・第２の駆動部、１０・・・制御体（制御手段）、Ｌ・
・・レーザ光。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. レーザ発振器から出力されたレーザ光を偏向させる反射
    鏡と、この反射鏡を振動させる駆動部と、上記反射鏡か
    らの所定振幅で振動するレーザ光を集束して被加工特番
    ト照射する集光レンズと、この集光レンズによって集束
    されたレーザ光を上記被加工物のＸＹ方向に走査させる
    駆動機構と、所定の振幅で振動する上記レーザ光の振動
    の折り返し部分のエネルギを制御する制御手段とを具備
    したことを特徴とするレーザ光照射装置。
JP1981088352U 1981-06-16 1981-06-16 レ−ザ光照射装置 Pending JPS5811265U (ja)

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JP1981088352U JPS5811265U (ja) 1981-06-16 1981-06-16 レ−ザ光照射装置

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JPS5811265U true JPS5811265U (ja) 1983-01-25

Family

ID=29883530

Family Applications (1)

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JP1981088352U Pending JPS5811265U (ja) 1981-06-16 1981-06-16 レ−ザ光照射装置

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JP (1) JPS5811265U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6122618A (ja) * 1984-07-10 1986-01-31 Mitsubishi Electric Corp 気相エピタキシヤル結晶成長装置

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