JPS58110406A - 亜二チオン酸塩の製造方法 - Google Patents

亜二チオン酸塩の製造方法

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JPS58110406A
JPS58110406A JP20648181A JP20648181A JPS58110406A JP S58110406 A JPS58110406 A JP S58110406A JP 20648181 A JP20648181 A JP 20648181A JP 20648181 A JP20648181 A JP 20648181A JP S58110406 A JPS58110406 A JP S58110406A
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JP
Japan
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dithionite
crystals
anhydrous
compound
reaction
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JP20648181A
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Satoshi Arakawa
荒川 敏
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は亜ニチオン酸塩の製造方法に関する。
水−有機溶媒中に8いてギ酸化合物、アルカリ化合物寥
よび無水亜硫酸から無水型ニチオン□  酸塩を製造す
る方法では、反応進行中に亜ニチオン酸塩が反応液中に
析出するので、反応終了とともKf過工程において反応
母液から分離することKよって亜ニチオン酸塩め結晶を
得ることができる。この結晶をそのまま乾燥すると結晶
に付着している母液の影響で製品純度が低下したり、母
液に含まれる水分によって著しく乾燥が遅くなるととも
に亜ニチオン酸塩の分解が促進される。亜ニチオン酸塩
の分解速度が太きい場合には乾燥装置の中で発火が起こ
るほど極めて危険である。したがって通常は結晶から母
液をP別後、亜ニチオン酸塩の結晶は有機溶媒で十分に
洗浄し、結晶に付着している水分あるいは不純物塩類を
含む母液を取除くことが不可欠であり、その後に結晶を
乾燥しなければならない。
亜ニチオン酸塩の洗浄操作については従来はとんど報告
がなく、通常はr過後に結晶を有機溶媒で洗浄すること
を記載しているのみである。
そして一般には洗浄液は独立しであるいは母液と合体さ
れて蒸留等によって精製処理され、有機溶媒を回収して
いる。例えば特公昭48−58556の明細書中に、反
応に使用したアルコールは蒸留回収して再使用すること
ができることが記載されている。しかしながら蒸留回収
すると蒸留に多大のエネルギーを要するという欠点があ
った。
一方、チオ硫酸塩を含有する液をそのまま反応に循環使
用すると亜二チオン数基の合成反応に対してチオ硫酸塩
が著しく悪影響を与える結果、亜二千オン酸塩の生成反
応が阻害されると同時に亜二チオン酸塩の分解が促進さ
れるという欠点があった。
本発明はこれらの欠点を克服したものである。
すなわち本発明はギ酸化合物、アルカリ化合物gよび無
水亜硫酸を水−有機触媒中で反応させて無水亜二千オン
酸塩を製造する方法に2いて、反応後、無水亜ニチオン
酸塩の結晶を母液か’JF’別し、続いて結晶を洗浄す
るに当りエポキシ化合物または式 R−X  で表わさ
れるハロゲン化炭化水素またはそれらの2種以上からな
る混合物を含有する有機溶媒で結晶を洗浄し、次いで排
出された洗浄液を前記亜二千オン酸塩の製造に循環して
使用することをIN黴とする亜ニチオン酸塩の製造方法
である。
本発明に係る亜ニチオン酸塩の製造方法を詳細Ka#4
する。先ず、ギ酸塩法に8いては通常水−有機溶媒中で
ギ陳塩、アルカリ化合物及び無水亜硫酸を反応させて亜
二千オン酸塩を合成。
し、反応液を冷却して亜ニチオン酸塩の結晶を分離し、
結晶をエポキシ化合物またはハロゲン・化炭化水素また
はそれらの2種以上からなる混合物を含有する有機溶媒
で洗浄し、結晶を乾燥する。ここで用いられるアルカリ
化合物としては例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、亜m、eナトリウムなどが挙げられ、有機溶媒とし
てはメタノール、エタノール、インプロパツールなどで
例示されるアルコール類、ジオキサンで例示されるエー
テル類、ジメチルホルム7ミドで例示される酸アミド類
が挙げられ、その中でもアルコール類11にメタノール
が好ましい。この結晶の洗1中には未反応のギ酸塩及び
亜硫酸水素塩が残存しているが、亜ニチオン酸塩の益解
によって副生じたチオ硫酸塩は結晶洗浄Kll!用され
る有機溶媒中に含有される化合物と選択的に反応して亜
ニチオン酸塩の生成阻害及び分解に何郷関与しない簡ば
無害物質に転換される。結晶を洗浄するに当り、有機溶
媒中に含有される化合物としてはエポキシ化合物または
式 1’L−X  で表わされるハロゲン化炭化水素が
用いられる。エポキシ化合物としてはエチレンオキシド
、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、インブチレ
ンオキシド、スチレンオキシド、シクロヘキセンオキシ
ド、エピクロルヒドリン、エビブロモヒドリン等がある
が、むろんこれら以外の化合物を用いても良い。また、
式 I’L−X  で表わされるハロゲン化炭化水素と
しては、式中几が炭素a1〜Bの第−級又は第2級アル
キル基、アリル基、2−メチル又は2−エチル7リル基
のうちの1つであり、Xがハロゲンで示される化合物等
である。
上記化合物は何れも洗浄液中においてチオ硫酸塩と選択
的に反応し、且つ反応率が良いので液中のチオ硫酸塩を
ほぼ完全に除去することができる。更に結晶の洗浄液は
有機溶媒組成が高いため、なかでも有機溶媒がメタノー
ルの場合には上記化合一は容易にすばやく溶解拡散する
ので、反応温度を高くすることができ、通常60℃以上
、好ましくは40℃以上に−JtEいて処運される。こ
の場合、室温で行なう場合に比べて更に反応速度が増大
し、著しく処理時間を短縮することができる。また、添
加量は液中に含まれる千オ硫酸塩に対して通常1〜6倍
モル量が適当であり、好ましくは1〜2倍モル量である
本発明に8いては添加後の液の有機溶媒組成は通常80
重量慢以上、好ましくは85重量−以上、とくに好まし
くは90重量嘩以上とし、この液を循環して再使用する
前記化合物を使用して千オ硫酸塩を無害物質に転化させ
た液中には亜ニチオン酸塩の生成阻害或いは分解を起こ
させる物質は殆んど含まれてgらず、従ってこの液を亜
ニチオン酸塩の製造に循環して再使用することができ、
この場合純度の高い製品を高収率で得るこEができる。
なX、ギ酸塩法による亜二チオン醸塩の製造においては
、原料モル比、溶−組成、溶媒量等の条件の影譬が大き
いので洗浄液を循環使用する場合は循Il液中のギ量塩
、亜硫酸水素塩、有機溶媒、水郷の含有量を測定して次
回の反応に使用する各原料の量を決定し、常に同じ条件
で反応させる必要がある。
上述の様に本発明に係る亜ニチオン酸塩の製造方法に8
いては、結晶の洗浄液中圧溶存する千オ硫酸塩をほぼ完
全に除去することができ、しかも洗浄液は有機溶媒組成
が烏いりで、結晶の洗浄に使用される有機溶媒に含有さ
れる化合物が容易に溶解拡散するため反応温度を高めて
処理時間を短縮できるばかりではなく、反応に  。
循環使用する際に循環される水分量が少ないためにギ酸
塩あるいはアルカリ化合物を水溶液と巴で使用する常法
の場合に1それらの水浴液濃度を極度に高める必要がy
t<、工業的に使用する場合もその取扱いが非常に容易
である。更に、液中のチオ憾酸塩をほぼ完全に除去でき
るので、これらの液を循環便用した場合も純度の高い製
品な高収率で得ることができ、原料を循環使用するので
資源の有効利用が図れる0また、従来は洗浄液の全量を
蒸留してメタノール回収を行なっていたが、本発明では
これらの液を循環使用するので循環液についてはメタノ
ールの回収蒸留が不要となりエネルギーを節約できるO
また更に、未反応のギ酸塩及び亜硫酸水素塩を廃棄しな
いので廃液処理負担が軽減される。
次に1実施例を挙げて本発明に係る亜二千オン酸塩の製
造方法を更に詳細に説明する0実施例 1 ギ酸ナトリウム 81部を熱水 74部に溶解し、更に
メタノール 105部を加えたスラリーを攪拌機、温度
針、還流冷却器、低沸点物捕集用深冷コンデンサー及び
原料滴下用タンクを有するジャケット付反応器に入れ、
反応器内の液を攪拌しなから1 、0111512ゲー
ジの加圧下で82℃に加温する。]!に、メタノール2
76部とギ酸メチル 16部からなる液に105部の無
水亜硫酸を溶解させた液及び5〇−苛性ソーダ溶液 6
9部を90分間に亘って並行して滴下し、温度、圧力を
維持して更に150分間攪拌を続けた。次に、反応液を
75℃に冷却したのち亜二千オン酸塩の結晶を炭酸ガス
で加圧r過して反応母液と分離した。続いて結晶をメタ
ノール 120部及び表1に記載する化合物からなる混
合液で洗浄した。結晶は前記混合液で浸され、r過積を
炭酸ガスで加圧して洗浄液を回収した。洗浄抜結晶は減
圧下で75〜90℃に90分間保持して乾燥した。結晶
洗浄に使用されるメタノールに含鳴される各化合物に対
応する反応にRける各製品の収量と亜二千オ/酸ナトリ
ウムの純度ならびに回収された洗浄液量を表1に記載す
る。
一方、回収された洗浄液中のメタノール組成は921で
あったから、洗浄液量のメタノールが第1回反応開始時
のメタノールと開蓋になるように洗浄液114部を循環
液とした。この循環液に#l解しているギ酸す) IJ
ウム及び亜硫酸水素す) 17ウムと轡モル量の苛性ソ
ーダ及び無水亜硫酸は第1回の反応仕込量から循環液中
のそれらの溶解量を差し引いて反応器に供給し、ギ酸す
) 17ウムを溶解する水は循環液中に存在する水を差
し引いた量とした。常法に従って亜ニチオン酸ナトリウ
ムの結晶と液を分離し、続いて結晶をメタノール 12
0部及び表1に記載する化合物からなる液で洗浄し、結
晶を減圧下で76〜90℃にて乾燥した。製品の収量及
び亜二千オン酸す) +7ウムの純度を表1に記載する
実施例 2 実施例1に記載された第1回反応を行ない、生成した亜
二千オン酸ナトリウムの結晶を反応液から分離し、続い
て結晶をメタノール 120部及び表2に記載する化合
−からなる液で洗浄した。結晶は液で浸され、r過積を
炭酸ガスで加圧して実施例1と同様に洗浄液を回収した
この洗浄液中のメタノール組成は92sであったO 次に第1回反応に8いて無水亜硫酸を溶解するために用
いたメタノール 276部のかわりに上記の洗浄液全量
とメタ゛ノール 165部Sよびギ酸メチルを使用して
無水亜ii*v*解させ、洗浄液に溶解しているギ酸す
) 17ウム及び亜硫酸水素す) 13ウムと等モル量
の筒柱ソーダ及び無水亜硫酸は第1回の反応仕込量から
洗浄液中のそれらの溶解量を差し引いて反応器に供給し
、苛性ソーダを溶解する水は洗浄液中に存在する水を差
し引いた量として、第1回反応と同様な反応を行ない、
常法に従って亜ニチオン酸ナトリウムの結晶と液を分離
し、続いて結晶をメタノール 120部及び表2に記載
する化合物からなる液で洗浄し、結晶を減圧下75〜9
0℃にて乾燥した。その製品の収量及び亜二千オン酸ナ
トリウムの純度を表2に記載する。
表  2 特許出願人  三菱瓦斯化学株式会社 代表者長野和吉 手続補正書(自発) 昭和57年1り?日 特許庁長官 殿 t 事件の表示 亜ニチオン酸塩の製造方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 4、補正の対象 5、補正の内容 明細書の発明の詳細な説明を以下のように補正する。
真性 補正前  補正後 417 ここで用いらねる 本発明で用いられるギ酸化
合物としては例えば ギ酸塩、ギ喰、ギ酸エス チルなどがあげられ、

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  ギ酸化合物、アルカリ化合物および無水亜硫
    酸を水−有機溶媒中で反応させて無水型ニチオン酸塩を
    製造する方法に8いて、反応後−無水型ニチオン酸塩の
    結晶を母液からr別し、続いて結晶を洗浄するに当りエ
    ポキシ化合物または式 R−X  で表わされるハロゲ
    ン化炭化水素またはそれらの2種以上からなる混合物を
    含有する有機溶媒で結晶を洗浄し、次いで排出された洗
    浄液を前記亜ニチオン酸塩の製造に循環して使用するこ
    とを特徴とする亜ニチオン酸塩の製造方法。
  2. (2)  エポキシ化合物がエチレンオキシド、プロピ
    レンオキシド、ブチレンオキシド、インブチレンオキシ
    ド、スチレンオキシド、シクロヘキセンオキシブ1エピ
    クロルヒドリンまたはエピブロモヒドリンである特許請
    求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)式 R−X  で表わされるハロゲン化炭化水素
    のRが訳素数1〜8の第1級又は第2級アルキル基、ア
    リル基、2−メチル又は2−エチルアリル基のうちの1
    つであり、Xがハロゲンである特許請求の範囲第1項記
    載の方法0
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4590058A (en) * 1985-02-21 1986-05-20 Olin Corporation Process for producing high purity solutions of alkali metal hydrosulfites
US4622216A (en) * 1985-08-06 1986-11-11 Virginia Chemicals, Inc. Treatment of sodium dithionite reaction mixture

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US4590058A (en) * 1985-02-21 1986-05-20 Olin Corporation Process for producing high purity solutions of alkali metal hydrosulfites
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