JPH1195219A - Formation of oriented film of liquid crystal cell - Google Patents

Formation of oriented film of liquid crystal cell

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JPH1195219A
JPH1195219A JP25880897A JP25880897A JPH1195219A JP H1195219 A JPH1195219 A JP H1195219A JP 25880897 A JP25880897 A JP 25880897A JP 25880897 A JP25880897 A JP 25880897A JP H1195219 A JPH1195219 A JP H1195219A
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liquid crystal
alignment
alignment film
films
film
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Masao Nagakubo
雅夫 永久保
Takeshi Ishikawa
岳史 石川
Kenji Takigawa
賢司 瀧川
Koji Idogaki
孝治 井戸垣
Tadashi Hattori
服部  正
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for formation of oriented film of a liquid crystal cell which sufficiently progresses a dehydration reaction while maintaining temp. unequalness uniform over the entire part of the inside surfaces of coating films of oriented film forming materials in order to attain the imidization by baking of the coating films for the purpose of sufficiently assuring the intrinsic orientation function as the oriented films. SOLUTION: The respective coating films subjected to normal baking in the baking stage S4 are maintained within the prescribed vacuum degree to the extent of avoiding the occurrence of convection in a treating stage S5 of vacuum heating and a blowing stage S6 of drying gas. While the respective coating films are heated under prescribed heating conditions, the drying gas is blown to the inside surfaces of the respective coating films for the prescribed blowing time to the extent of allowing the removal of the moisture thereof.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スメクチック液晶
やネマチック液晶等の各種液晶を用いる液晶セルの配向
膜形成方法に関する。
The present invention relates to a method for forming an alignment film of a liquid crystal cell using various liquid crystals such as a smectic liquid crystal and a nematic liquid crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶セルは、両電極基板の間に液
晶を封入して構成される。ここで、液晶を配向させるた
めに、両電極基板の各配向膜は、ポリアミック酸からな
る膜をイミド化した後ラビング処理を施すことで形成さ
れる。ここで、上記液晶セルにおいて、配向膜を形成す
るにあたっては、通常、次のようにして行う。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal cell is constituted by sealing liquid crystal between both electrode substrates. Here, in order to align the liquid crystal, each alignment film of both electrode substrates is formed by imidizing a film made of polyamic acid and then performing a rubbing treatment. Here, in the liquid crystal cell, the formation of the alignment film is usually performed as follows.

【0003】即ち、配向膜を形成する前の各電極基板を
洗浄した後、この状態の各電極基板の内表面に、大気圧
雰囲気中にて、ポリアミック酸を印刷により膜状に塗布
する。その後、この塗布膜を仮焼成した後本焼成する。
これにより、当該塗布膜がイミド化され配向膜として形
成される。そして、液晶の分子を一定方向へ配列するた
めの配向機能を発揮し得るように、上記配向膜にはその
液晶側表面からラビング処理が施される。
That is, after cleaning each electrode substrate before forming an alignment film, a polyamic acid is applied to the inner surface of each electrode substrate in this state by printing in an atmospheric pressure atmosphere. After that, the coating film is pre-baked and then subjected to main baking.
Thereby, the coating film is imidized and formed as an alignment film. Then, the alignment film is subjected to a rubbing treatment from its liquid crystal side surface so as to exhibit an alignment function for aligning liquid crystal molecules in a certain direction.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記液晶セ
ルにおいて、配向膜がその配向機能を十分に発揮するた
めには、当該配向膜のイミド化が十分に達成されている
ことが必要である。このため、本発明者等は、上記配向
膜を複数準備し、これら配向膜のイミド化と液晶の配向
との間にどのような関係にあるかにつき調べてみた。
By the way, in the above-mentioned liquid crystal cell, in order for the alignment film to sufficiently exhibit its alignment function, it is necessary that the alignment film is sufficiently imidized. For this reason, the present inventors prepared a plurality of the above-mentioned alignment films and examined the relationship between the imidization of these alignment films and the alignment of the liquid crystal.

【0005】その結果、配向膜の液晶側表面(以下、内
表面という)が十分にかつ均一にイミド化されているこ
とが、液晶全体の配向を良好に確保するための必須の条
件であることが分かった。そこで、このような観点か
ら、上述のように配向膜を大気圧雰囲気中における焼成
により形成した場合の不具合について検討したところ、
次のようなことが明らかになった。
As a result, the liquid crystal side surface (hereinafter referred to as the inner surface) of the alignment film must be sufficiently and uniformly imidized, which is an essential condition for ensuring good alignment of the entire liquid crystal. I understood. Therefore, from such a viewpoint, when the problem of forming the alignment film by firing in an atmospheric pressure atmosphere as described above was examined,
The following became clear.

【0006】まず、第1に、上述のような焼成による塗
布膜のイミド化反応は、当該塗布膜に脱水反応を起こさ
せるものである。然るに、上記焼成は大気圧の雰囲気中
で行われるため、大気には水分が含まれることとなる。
従って、このような大気によっては、上記塗布膜中の水
分が吸収されにくく、当該塗布膜の内表面(液晶側表
面)からの水分の脱離が十分に進行しない。よって、上
記塗布膜の内表面のイミド化が進行しない。その結果、
塗布膜の内表面のイミド化の不足が液晶全体の配向不足
を招き、液晶セルの表示コントラストの低下を招くとい
う不具合が生ずる。
First, the above-described imidization reaction of the coating film by baking causes a dehydration reaction in the coating film. However, since the calcination is performed in an atmosphere at atmospheric pressure, the atmosphere contains moisture.
Therefore, depending on the atmosphere, the moisture in the coating film is hardly absorbed, and the desorption of moisture from the inner surface (the liquid crystal side surface) of the coating film does not sufficiently proceed. Therefore, imidization of the inner surface of the coating film does not proceed. as a result,
Insufficiency of imidization on the inner surface of the coating film causes insufficient alignment of the entire liquid crystal, which causes a problem of lowering display contrast of the liquid crystal cell.

【0007】また、第2に、上述のように大気圧の雰囲
気中において上記焼成を行うと、空気の各分子の平均自
由行程が短いために、当該各分子の相互衝突が頻繁とな
って空気の対流が発生する。これに伴い、上記塗布膜の
内表面に対する対流空気の接触により、当該塗布膜の内
表面の温度分布にむらが発生する。よって、上記塗布膜
の内表面に焼成むらが発生する。
Second, when the above-mentioned calcination is carried out in an atmosphere at atmospheric pressure as described above, since the mean free path of each molecule of air is short, mutual collision of the molecules becomes frequent and air Convection occurs. Accordingly, due to the contact of the convection air with the inner surface of the coating film, the temperature distribution on the inner surface of the coating film becomes uneven. Therefore, uneven firing occurs on the inner surface of the coating film.

【0008】このことは、上記塗布膜の内表面全体に亘
りイミド化のむらを生じさせることを意味する。その結
果、上述のような塗布膜の内表面のイミド化のむらの発
生が液晶全体の配向むらを招き、液晶セルの表示コント
ラストの不良を招く。この点につき、さらに詳細に述べ
れば、塗布膜の内表面のうちイミド化が進んだ領域で
は、極性的に負のカルボニル基が支配的となって液晶の
分子に対する電気的拘束力を発揮する。しかし、塗布膜
の内表面のうちイミド化が進んでいない領域では、極性
的に、負のカルボニル基の他に、正の水酸基やアミノ基
が残留して混在するため、これらの基が液晶の配向を乱
す。その結果、液晶セルとしての暗輝度のばらつきが増
大して表示コントラストの不良を招く。
[0008] This means that imidization is uneven over the entire inner surface of the coating film. As a result, the occurrence of unevenness in imidization on the inner surface of the coating film as described above causes unevenness in alignment of the entire liquid crystal, resulting in poor display contrast of the liquid crystal cell. In this regard, in more detail, in a region of the inner surface of the coating film where the imidization has progressed, the negatively polar carbonyl group becomes dominant and exerts an electric binding force on the liquid crystal molecules. However, in the region of the inner surface of the coating film where imidization has not progressed, in addition to the negative carbonyl group, a positive hydroxyl group and an amino group remain in a mixed state, and these groups are present in the liquid crystal. Disturb the orientation. As a result, the variation in the dark luminance of the liquid crystal cell is increased, and the display contrast is deteriorated.

【0009】特に、反強誘電性液晶の場合、無電界時に
配向膜の内表面の配向規制力によって液晶分子を一定方
向に配列させて、黒表示を保持することとなるため、配
向乱れによる表示コントラストの不良化は著しい。以上
述べたことに対し、特開昭54−68654号公報によ
れば、上記塗布膜のイミド化にあたり、当該塗布膜を真
空中又は不活性ガス中にて焼成することが提案されてい
る。
In particular, in the case of an antiferroelectric liquid crystal, when no electric field is applied, the liquid crystal molecules are aligned in a fixed direction by the alignment regulating force on the inner surface of the alignment film, and a black display is maintained. The deterioration of contrast is remarkable. In contrast to this, according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-68654, it is proposed that the coating film is fired in a vacuum or in an inert gas when imidizing the coating film.

【0010】しかし、真空中に上記塗布膜を放置して焼
成する場合、真空中であるために空気の各分子の平均自
由行程が大気圧中よりも長くなることで、焼成時の空気
の対流が抑制されて塗布膜の内表面の温度むらを少なく
することができても、当該塗布膜の内表面近傍に残留す
る成分は、通常、殆ど水分である。このため、当該塗布
膜の内表面に対する水分の再吸着が生じて、上記塗布膜
の内表面のイミド化を阻害する。
However, when the coating film is fired while being left in a vacuum, the mean free path of each molecule of air becomes longer than in the atmospheric pressure due to the vacuum. Even if the temperature unevenness of the inner surface of the coating film can be reduced by suppressing the temperature, the component remaining near the inner surface of the coating film is usually almost water. For this reason, moisture is re-adsorbed to the inner surface of the coating film, thereby inhibiting imidization of the inner surface of the coating film.

【0011】また、不活性ガス中において上記塗布膜を
焼成する場合、真空中ではないため、不活性ガスの各分
子の平均自由行程が長い。このため、不活性ガスの対流
が発生して塗布膜の内表面に温度むらを生じさせる。よ
って、当該塗布膜の内表面にイミド化のむらが発生す
る。また、特開平4−278923号公報によれば、配
向膜形成材料からなる塗布膜のイミド化にあたり、この
塗布膜を、一定の真空中にて、熱処理により熱分解重合
させることが提案されている。
Further, when the above-mentioned coating film is baked in an inert gas, the mean free path of each molecule of the inert gas is long because it is not in a vacuum. For this reason, convection of the inert gas is generated, causing temperature unevenness on the inner surface of the coating film. Therefore, imidization unevenness occurs on the inner surface of the coating film. According to Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-278923, it is proposed that, when imidizing a coating film formed of an alignment film forming material, the coating film is thermally decomposed and polymerized by heat treatment in a constant vacuum. .

【0012】しかし、塗布膜を一定の真空中にて熱処理
するのみでは、上記特開昭54−68654号公報のも
のと同様に、当該塗布膜の内表面に対する水分の再吸着
が生じて、上記塗布膜の内表面のイミド化を阻害する。
そこで、本発明は、以上述べた観点から、配向膜として
の本来の配向機能を十分に確保するため、配向膜形成材
料の塗布膜の焼成によるイミド化を、この塗布膜の少な
くともその内表面全体に亘り温度むらを均一に維持しつ
つ脱水反応を十分に進行させる液晶セルの配向膜形成方
法を提供することを目的とする。
However, if the coating film is only heat-treated in a constant vacuum, moisture is re-adsorbed to the inner surface of the coating film as in the case of Japanese Patent Laid-Open No. 54-68654. Inhibits imidization of the inner surface of the coating film.
In view of the above, in view of the above, in order to sufficiently secure the original alignment function as an alignment film, the present invention employs imidization of a coating film of a material for forming an alignment film by firing, at least over the entire inner surface of the coating film. It is an object of the present invention to provide a method for forming an alignment film of a liquid crystal cell, which allows a dehydration reaction to sufficiently proceed while maintaining uniform temperature unevenness over a period of time.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明によれば、焼成した塗布膜を
それぞれ有する各電極基板を真空の雰囲気内に維持し、
各塗布膜の内表面に当該各塗布膜の加熱下にて乾燥ガス
を吹き付けて各配向膜を形成する。このように、各塗布
膜を真空の雰囲気内に維持することで対流の発生を抑制
して当該各塗布膜の内表面の温度むらを抑制し、各塗布
膜の内表面に乾燥ガスを吹き付けることで当該内表面の
水分の除去を促進することとなる。
According to the first aspect of the present invention, each electrode substrate having a fired coating film is maintained in a vacuum atmosphere.
A dry gas is blown onto the inner surface of each coating film while heating the coating film to form each alignment film. As described above, by maintaining each coating film in a vacuum atmosphere, the generation of convection is suppressed, the temperature unevenness of the inner surface of each coating film is suppressed, and the drying gas is sprayed on the inner surface of each coating film. This promotes the removal of water from the inner surface.

【0014】これにより、各配向膜の内表面のイミド化
のより一層の促進及び均一化を達成できる。その結果、
このような配向膜を用いれば、液晶の良好な配向のも
と、液晶セルとしての表示コントラストを良好に確保で
きる。また、請求項2に記載の発明によれば、仮焼成塗
布膜をそれぞれ有する各電極基板を真空の雰囲気内に維
持し、各塗布膜を本焼成しつつこれら各塗布膜の内表面
に乾燥ガスを吹き付けて各配向膜を形成する。
[0014] This makes it possible to further promote and uniformize the imidization of the inner surface of each alignment film. as a result,
When such an alignment film is used, the display contrast of the liquid crystal cell can be satisfactorily ensured under the favorable alignment of the liquid crystal. According to the second aspect of the present invention, each electrode substrate having a pre-baked coating film is maintained in a vacuum atmosphere, and the inner surface of each of the coating films is dried while the respective coating films are fully baked. Is sprayed to form each alignment film.

【0015】これにより、配向膜の形成工程の簡素化を
確保しつつ請求項1に記載の発明と同様の作用効果を達
成できる。また、請求項3及び4に記載の発明によれ
ば、焼成した塗布膜をそれぞれ有する各電極基板を、対
流現象を生じない程度の所定の真空度の雰囲気内に維持
し、各塗布膜を所定の加熱条件にて加熱しつつ当該各塗
布膜の内表面にその水分を除去し得る程度の所定の吹き
付け時間の間乾燥ガスを吹き付けるようにして各配向膜
を形成する。
Thus, the same operation and effect as the first aspect of the present invention can be achieved while simplifying the process of forming the alignment film. According to the third and fourth aspects of the present invention, each electrode substrate having a baked coating film is maintained in an atmosphere of a predetermined degree of vacuum that does not cause a convection phenomenon, and each coating film is maintained at a predetermined level. While heating under the above heating conditions, the respective alignment films are formed by blowing a dry gas onto the inner surfaces of the respective coating films for a predetermined spraying time for removing the moisture.

【0016】このように、各焼成塗布膜を所定の真空度
の雰囲気内に維持することで対流の発生を防止して当該
各塗布膜の内表面の温度むらの発生を防止し、各塗布膜
の内表面に所定の加熱条件の加熱下にて当該各塗布膜の
内表面に所定の吹き付け時間の間乾燥ガスを吹き付ける
ことで当該内表面の水分を完全に除去することとなる。
As described above, by maintaining each of the fired coating films in an atmosphere having a predetermined degree of vacuum, the occurrence of convection is prevented, and the occurrence of temperature unevenness on the inner surface of each of the coating films is prevented. By spraying a dry gas onto the inner surface of each of the coating films for a predetermined spraying time while heating the inner surface of the coating film under a predetermined heating condition, the water on the inner surface is completely removed.

【0017】これにより、各配向膜の内表面全体のイミ
ド化のより一層の促進及び均一化を達成できる。その結
果、このような配向膜を用いれば、液晶全体の良好な配
向のもと、液晶セルとしての表示コントラストを、その
低下やむらを防止しつつ良好に確保できる。
As a result, the further imidization of the entire inner surface of each alignment film can be further promoted and uniformized. As a result, when such an alignment film is used, the display contrast of the liquid crystal cell can be satisfactorily secured while preventing the deterioration and unevenness of the liquid crystal cell under the favorable alignment of the whole liquid crystal.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図1は、本発明を適用した液晶セ
ルを示している。この液晶セルは、両電極基板10、2
0を備えている。これら両電極基板10、20は、環状
シール30及び隔壁40を介し互いに重ね合わされてお
り、当該両電極基板10、20の間には、強誘電性液晶
や反強誘電性液晶等の反強誘電液晶50が、シール30
を介し封入されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a liquid crystal cell to which the present invention is applied. This liquid crystal cell has two electrode substrates 10, 2
0 is provided. These two electrode substrates 10 and 20 are overlapped with each other via an annular seal 30 and a partition 40, and an antiferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal is provided between the two electrode substrates 10 and 20. The liquid crystal 50 is the seal 30
It is enclosed through.

【0019】ここで、電極基板10は、ガラス基板の内
表面に複数条の透明電極及び絶縁膜11を介し、シール
30の内周側にて、配向膜12を設けて構成されてい
る。一方、電極基板20は、ガラス基板の内表面に複数
条の透明電極(上記複数条の透明電極と共にマトリクス
状画素を構成する)及び絶縁膜21を介し、シール30
の内周側にて、配向膜22を設けて構成されている。
Here, the electrode substrate 10 is configured such that an alignment film 12 is provided on the inner peripheral side of the seal 30 via a plurality of transparent electrodes and an insulating film 11 on the inner surface of a glass substrate. On the other hand, the electrode substrate 20 has a seal 30 on the inner surface of the glass substrate through a plurality of transparent electrodes (which constitute a matrix pixel together with the plurality of transparent electrodes) and an insulating film 21.
And an alignment film 22 is provided on the inner peripheral side of the substrate.

【0020】次に、上記液晶セルの製造方法につき、図
1及び図2を参照して説明する。洗浄工程S1では、配
向膜12の形成前の状態の電極基板10(以下、配向膜
形成前電極基板10Aという)及び配向膜22の形成前
の状態の電極基板20(以下、配向膜形成前電極基板2
0Aという)を洗浄する。ここで、配向膜形成前電極基
板10Aは、ガラス基板の内表面に複数条の透明電極及
び絶縁膜11を順次形成してなるものである。また、配
向膜形成前電極基板20Aは、ガラス基板の内表面に複
数条の透明電極及び絶縁膜21を順次形成してなるもの
である。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal cell will be described with reference to FIGS. In the cleaning step S1, the electrode substrate 10 before the formation of the alignment film 12 (hereinafter, referred to as an electrode substrate 10A before the formation of the alignment film) and the electrode substrate 20 before the formation of the alignment film 22 (hereinafter, the electrode before the formation of the alignment film 12). Substrate 2
OA). Here, the electrode substrate 10A before forming the alignment film is formed by sequentially forming a plurality of transparent electrodes and an insulating film 11 on the inner surface of a glass substrate. The electrode substrate 20A before forming the alignment film is formed by sequentially forming a plurality of transparent electrodes and an insulating film 21 on the inner surface of a glass substrate.

【0021】この洗浄工程S1の処理後、配向膜形成材
料の印刷工程S2において、配向膜形成材料であるポリ
アミック酸の溶液を絶縁膜11の配向膜12側表面にオ
フセット印刷機による印刷でもって均一に塗布して塗布
膜を形成するとともに、当該ポリアミック酸の溶液を絶
縁膜21の配向膜22側表面に上記オフセット印刷機に
よる印刷でもって均一に塗布して塗布膜を形成する。な
お、ポリアミック酸は、図5にて符号Pにて示すような
化学構造式を有する。
After the cleaning step S1, in a printing step S2 of an alignment film forming material, a solution of polyamic acid, which is an alignment film forming material, is uniformly printed on the surface of the insulating film 11 on the alignment film 12 side by an offset printing machine. To form a coating film, and uniformly apply the solution of the polyamic acid to the surface of the insulating film 21 on the side of the alignment film 22 by printing using the offset printing machine. In addition, the polyamic acid has a chemical structural formula as shown by a symbol P in FIG.

【0022】ついで、仮焼成工程S3において、塗布膜
をそれぞれ形成した各配向膜形成前電極基板10A、2
0Aを焼成炉内に収容して、当該各塗布膜を大気圧の雰
囲気内で所定の仮焼成温度(例えば、100℃)にて所
定の仮焼成時間の間仮焼成する。さらに、本焼成工程S
4において、仮焼成した各塗布膜を、大気圧の雰囲気内
で所定の本焼成温度(例えば、200℃)にて所定の本
焼成時間の間本焼成する。
Next, in the preliminary firing step S3, each of the electrode substrates 10A, 2A,
OA is accommodated in a firing furnace, and each of the coating films is temporarily fired at a predetermined temporary firing temperature (for example, 100 ° C.) for a predetermined temporary firing time in an atmosphere of atmospheric pressure. Further, the main firing step S
In 4, each of the preliminarily fired coating films is main fired at a predetermined main firing temperature (for example, 200 ° C.) for a predetermined main firing time in an atmosphere at atmospheric pressure.

【0023】これにより、上記各塗布膜はそれぞれイミ
ド化されてポリイミド膜である配向膜12、22(図1
及び図3参照)として形成される。これを、化学構造式
からみれば、化学構造式Pを有するポリアミック酸は、
図5にて示すごとく、水分を除去されて、化学構造式Q
を有するポリイミドからなる配向膜となる。このとき、
各配向膜12、22の膜厚は、例えば、20nmであ
る。
As a result, each of the coating films is imidized, and the alignment films 12 and 22 (FIG. 1) are polyimide films.
And FIG. 3). Considering this from the chemical structural formula, the polyamic acid having the chemical structural formula P is
As shown in FIG. 5, after the water was removed, the chemical structural formula Q
It becomes an alignment film made of polyimide having the following. At this time,
The thickness of each of the alignment films 12 and 22 is, for example, 20 nm.

【0024】その後、各配向膜12、22の内表面のイ
ミド化の促進及び均一化のために、真空加熱の処理工程
S5及び乾燥ガスの吹き付け工程S6における処理を以
下のようにして行う。まず、真空加熱の処理工程S5で
は、本焼成した配向膜12を有する配向膜形成前電極基
板10Aを、高温真空槽70内の台71上に、ポリイミ
ド膜12を上側にして、図3にて示すごとく載置する。
また、上述のように本焼成した配向膜膜22を有する配
向膜形成前電極基板20Aを、高温真空槽70内の台7
1の左右両端部から上方へそれぞれL字状に延出する各
延出板部72上に、配向膜膜22を上側にして、図3に
て示すごとく載置する。
Thereafter, in order to promote and uniformize the inner surfaces of the alignment films 12 and 22, the treatment in the vacuum heating treatment step S5 and the dry gas blowing step S6 is performed as follows. First, in the vacuum heating process step S5, the electrode substrate 10A before forming an alignment film having the fully baked alignment film 12 is placed on a table 71 in a high-temperature vacuum chamber 70 with the polyimide film 12 facing upward, as shown in FIG. Place as shown.
Further, the electrode substrate 20A before alignment film formation having the alignment film film 22 that has been fully baked as described above is placed on the stage 7 in the high-temperature vacuum chamber 70.
3 is placed on each of the extension plates 72 extending upward in L-shape from both left and right end portions, with the alignment film 22 facing upward.

【0025】ついで、開閉弁80aを開いて、高温真空
槽70内の空気をターボ分子ポンプ80を介しロータリ
ポンプ90により外部に排出する。この排出は、高温真
空槽70の内部が所定の真空度(例えば、10-2Tor
r)に達するまで行う。ここで、上記所定の真空度を1
-2Torrとしたのは、当該空気が高温真空槽70内
にて対流現象を起こさない程度に当該空気の分子の平均
自由行程を長くするためである。
Next, the on-off valve 80a is opened, and the air in the high-temperature vacuum chamber 70 is discharged to the outside by the rotary pump 90 through the turbo molecular pump 80. This discharge is performed when the inside of the high-temperature vacuum chamber 70 has a predetermined degree of vacuum (for example, 10 −2
Perform until r). Here, the predetermined degree of vacuum is 1
The reason for setting it to 0 -2 Torr is to extend the mean free path of the molecules of the air to such an extent that the air does not cause a convection phenomenon in the high-temperature vacuum chamber 70.

【0026】ターボ分子ポンプ80は、ロータリポンプ
90の排気速度を十分に高める役割を果たす。上述のよ
うに高温真空槽70の内部を上記所定の真空度にした
後、所定の温度プログラムに従い、高温真空槽70の内
部を所定の加熱温度(例えば、200℃)まで上昇する
ように加熱した上でこの加熱温度をタイマーの設定によ
る時間の計時により所定の加熱維持時間(例えば、2時
間)の間維持する。
The turbo molecular pump 80 plays a role in sufficiently increasing the exhaust speed of the rotary pump 90. After the inside of the high-temperature vacuum chamber 70 is set to the predetermined degree of vacuum as described above, the inside of the high-temperature vacuum chamber 70 is heated to a predetermined heating temperature (for example, 200 ° C.) according to a predetermined temperature program. The heating temperature is maintained for a predetermined heating maintenance time (for example, 2 hours) by measuring the time set by a timer.

【0027】ついで、乾燥ガスの吹き付け工程S6にお
いて、各配向膜12、22に対し次のようにして乾燥ガ
スの吹き付け処理を行う。この処理にあたり、高温真空
槽70には吹き付け管部材100が設けられており、こ
の吹き付け管部材100は、一対のノズル101、10
2と、連通管103とによって構成されている。当該吹
き付け管部材100は、連通管103にて、高温真空槽
70の側壁73に気密的に挿通されている。
Next, in the drying gas spraying step S6, a drying gas spraying process is performed on each of the alignment films 12 and 22 as follows. In this process, the high-temperature vacuum chamber 70 is provided with a spray tube member 100, and the spray tube member 100 is provided with a pair of nozzles 101, 10
2 and a communication pipe 103. The spray pipe member 100 is hermetically inserted into the side wall 73 of the high-temperature vacuum chamber 70 by the communication pipe 103.

【0028】一対のノズル101、102は、連通管1
03の内端部から、図3にて図示上下方向の位置にて二
股状に分岐されており、これらノズル101、102
は、その各先端開口部101a、102aにて、各配向
膜12、22の内表面のうち図3にて図示右端部直上に
傾斜状に対向している。また、ノズル102は、図4に
て示すごとく、連通管103の内端部から配向膜22の
内表面のうち図4にて図示右端部に向け、末広がり状に
延出しており、一方、ノズル101は、連通管103の
内端部から配向膜12の内表面のうち図3にて図示右端
部に向け、末広がり状に延出している。
The pair of nozzles 101 and 102 are connected to the communication pipe 1
The nozzles 101 and 102 are bifurcated from the inner end of the nozzle No. 03 at the vertical position shown in FIG.
3 is inclined at the front end openings 101a and 102a of the inner surfaces of the alignment films 12 and 22 just above the right end in FIG. Further, as shown in FIG. 4, the nozzle 102 extends from the inner end of the communication tube 103 toward the right end in the inner surface of the alignment film 22 as shown in FIG. Reference numeral 101 extends from the inner end of the communication tube 103 toward the right end of the inner surface of the alignment film 12 in FIG.

【0029】ここで、各ノズル101、102は、図3
にて図示上下方向には偏平形状となっており、これら各
ノズル101、102の先端開口部101a、102a
は、配向膜12、22の各内表面のうち図4にて図示上
下方向幅に対応する開口幅を有する。しかして、流量制
御弁110を開いて、十分に清浄な窒素やアルゴンガス
等の不活性ガス或いは空気をガスGとして乾燥瓶120
内に圧送する。すると、ガスGが、乾燥瓶120内に充
填したシリカゲル等の乾燥剤121により、水分を吸着
されて乾燥ガスGaとなる。
Here, each of the nozzles 101 and 102 is shown in FIG.
The nozzles 101 and 102 have a flattened shape in the vertical direction in the figure.
Has an opening width corresponding to the vertical width shown in FIG. 4 among the inner surfaces of the alignment films 12 and 22. Then, the flow control valve 110 is opened, and an inert gas such as nitrogen or argon gas or air, which is sufficiently clean, is used as the gas G to form the drying bottle 120.
Pump inside. Then, the gas G is absorbed by the desiccant 121 such as silica gel filled in the drying bottle 120 to become moisture and becomes the dry gas Ga.

【0030】ついで、この乾燥ガスGaが、吹き付け管
部材100の連通管103を通り各ノズル101、10
2から各配向膜12及び22の内表面に沿いその図3及
び図4にて図示各右端部から各左端部に向けて同時に吹
き付けられる。これにより、各配向膜12、22の内表
面全体の水分が乾燥ガスGaにより十分にかつ均一に吸
着される。
Next, the dry gas Ga passes through the communication pipe 103 of the spraying pipe member 100, and the nozzles 101, 10
2 and along the inner surface of each of the alignment films 12 and 22 are simultaneously sprayed from the right end to the left end as shown in FIGS. Thereby, the moisture on the entire inner surface of each of the alignment films 12 and 22 is sufficiently and uniformly adsorbed by the dry gas Ga.

【0031】このとき、高温真空槽70の内部の真空度
も大気圧側へ向け減少しようとするが、ターボ分子ポン
プ80が高温真空槽70内のガスの排気速度を高めてい
るので、高温真空槽70内の真空度が上記所定の真空度
を減ずることはない。従って、乾燥ガスのガス分子の平
均自由行程も上記所定の真空度に対応する値に維持され
ているから、乾燥ガスの対流を生じることがない。よっ
て、各配向膜12、22の内表面の全体に亘り均一な温
度分布を維持できる。
At this time, the degree of vacuum inside the high-temperature vacuum chamber 70 also tends to decrease toward the atmospheric pressure side. However, since the turbo molecular pump 80 increases the exhaust speed of the gas in the high-temperature vacuum chamber 70, the high-temperature vacuum The degree of vacuum in the tank 70 does not reduce the predetermined degree of vacuum. Accordingly, the mean free path of the gas molecules of the drying gas is also maintained at a value corresponding to the predetermined degree of vacuum, so that convection of the drying gas does not occur. Therefore, a uniform temperature distribution can be maintained over the entire inner surfaces of the alignment films 12 and 22.

【0032】また、高温真空槽70内への乾燥ガスの吹
き付けにより高温真空槽70内の温度も低下しようとす
るが、この低下分を予め見積もった上で高温真空槽70
内の加熱温度を高めに設定しておけば、高温真空槽70
内の温度を上記所定の加熱温度に維持することができ
る。よって、各配向膜12、22の内表面全体のイミド
化の促進度を均一により一層進めることができる。
The temperature in the high-temperature vacuum chamber 70 also tends to be reduced by blowing the dry gas into the high-temperature vacuum chamber 70.
If the inside heating temperature is set high, the high-temperature vacuum chamber 70
Can be maintained at the predetermined heating temperature. Therefore, the degree of acceleration of the imidization of the entire inner surface of each of the alignment films 12 and 22 can be more uniformly promoted.

【0033】以上より、真空加熱の処理工程S5及び乾
燥ガスの吹き付け工程S6の両処理を通じて、配向膜形
成前電極基板10A、20Aの各配向膜の内表面全体の
温度を上記所定の加熱温度に維持するとともに、各配向
膜の内表面全体につき、図5にて示す化学構造式Pから
化学構造式Qへの脱水反応による変化をさらに促進し
て、各配向膜12、22の内表面全体の水分を完全に除
去する。
As described above, the temperature of the entire inner surface of each alignment film of the electrode substrates 10A and 20A before the formation of the alignment film is reduced to the above-mentioned predetermined heating temperature through both the vacuum heating processing step S5 and the drying gas blowing step S6. While maintaining, the entire inner surface of each alignment film is further promoted by the dehydration reaction from chemical structural formula P to chemical structural formula Q shown in FIG. Completely remove water.

【0034】これにより、各配向膜12A、22Aの内
表面はその全体に亘り均一にかつより一層イミド化され
る。その結果、各配向膜12、22の内表面全体には、
反強誘電液晶60全体を良好に配向させるに必要なカリ
ボニル基が一様に同一の良好な状態にて形成される。上
述のように乾燥ガスの吹き付け工程S6の処理が終了し
た後、隔壁形成工程S7にて、電極基板10の配向膜内
表面上に隔壁40を形成する。次に、ラビング工程S8
において、配向膜形成前電極基板10A、20Aの各配
向膜12、22をラビング処理する。
As a result, the inner surfaces of the respective alignment films 12A and 22A are uniformly and further imidized over the entire surface. As a result, the entire inner surface of each of the alignment films 12 and 22 is
The carboxyl groups necessary for orienting the entire antiferroelectric liquid crystal 60 are uniformly formed in the same favorable state. After the process of the drying gas spraying step S6 is completed as described above, the partition 40 is formed on the inner surface of the alignment film of the electrode substrate 10 in the partition forming step S7. Next, a rubbing step S8
In step (1), a rubbing process is performed on each of the alignment films 12 and 22 of the electrode substrates 10A and 20A before forming the alignment film.

【0035】この場合、上記乾燥ガス吹き付け工程S6
において、各配向膜12、22の内表面の全体のイミド
化が均一にかつ本焼成の場合よりもより一層促進されて
いるので、各配向膜12、22の内表面の配向処理は、
当該各内表面の全体に亘り、均一にかつ良好になされ得
る。これにより、各配向膜12、22は、その内表面全
体に亘り本来の配向機能を発揮する膜として最終的に形
成される。なお、このような配向膜12、22を有する
配向膜形成前電極基板10A、20Aが電極基板10、
20に相当する。
In this case, the dry gas spraying step S6
In the above, since the imidation of the entire inner surface of each of the alignment films 12 and 22 is promoted uniformly and further more than in the case of the main firing, the alignment treatment of the inner surface of each of the alignment films 12 and 22 is performed as follows.
It can be done uniformly and well over the entire inner surface. Thereby, each of the alignment films 12 and 22 is finally formed as a film exhibiting the original alignment function over the entire inner surface. The electrode substrates 10A and 20A before forming an alignment film having such alignment films 12 and 22 are the electrode substrates 10 and
Equivalent to 20.

【0036】上述のようにラビング工程S8の処理後、
基板洗浄工程S9において、電極基板10、20を洗浄
する。そして、シール印刷工程S10において、電極基
板20の配向膜22の内表面の外周縁部上に、シール3
0をシール剤の印刷により環状に形成する。なお、この
シール30の一部には、液晶注入口が形成される。つい
で、重ね合わせ工程S11において、電極基板20をシ
ール30及び隔壁40を介し電極基板10に重ね合わせ
る。この場合、この重ね合わせは、各配向膜12、22
のラビング方向が並行になるように行う。
After the rubbing step S8 as described above,
In the substrate cleaning step S9, the electrode substrates 10 and 20 are cleaned. Then, in the seal printing step S10, the seal 3 is formed on the outer peripheral edge of the inner surface of the alignment film 22 of the electrode substrate 20.
0 is formed in an annular shape by printing a sealant. Note that a liquid crystal injection port is formed in a part of the seal 30. Next, in a superposition step S11, the electrode substrate 20 is superposed on the electrode substrate 10 via the seal 30 and the partition wall 40. In this case, this superposition is performed by the alignment films 12 and 22.
In such a way that the rubbing directions are parallel.

【0037】そして、シール硬化工程S12にて、両電
極基板10、20を加熱しながら加圧してシール30を
硬化させるとともに所定のセルギャップを確保する。そ
の後、液晶注入封止工程S13において、反強誘電液晶
60を加熱により液化してシール30の液晶注入口を通
し両電極基板10、20の間に充填した上で、上記液晶
注入口を封止する。これにより、液晶セルの製造が完了
する。
Then, in a seal hardening step S12, both electrode substrates 10 and 20 are heated and pressurized to harden the seal 30 and secure a predetermined cell gap. After that, in the liquid crystal injection sealing step S13, the antiferroelectric liquid crystal 60 is liquefied by heating, filled through the liquid crystal injection port of the seal 30 and between the two electrode substrates 10 and 20, and then the liquid crystal injection port is sealed. I do. Thereby, the manufacture of the liquid crystal cell is completed.

【0038】このとき、上述のごとく、各配向膜12、
22の内表面全体のイミド化は均一にかつより一層促進
されているので、反強誘電液晶60の液晶分子はその全
体に亘り均一にかつ良好に配向している。従って、液晶
セルの表示コントラストも液晶セルの表示領域の全体に
亘り均一に良好に確保できる。ちなみに、上記実施形態
にて述べた真空加熱の処理工程S5及び乾燥ガスの吹き
付け工程S6の両処理による効果について調べてみた。
At this time, as described above, each alignment film 12,
Since the imidization of the entire inner surface of the liquid crystal 22 is evenly and further promoted, the liquid crystal molecules of the antiferroelectric liquid crystal 60 are uniformly and well aligned over the entire surface. Therefore, the display contrast of the liquid crystal cell can be uniformly and satisfactorily secured over the entire display area of the liquid crystal cell. Incidentally, the effects of both the vacuum heating processing step S5 and the dry gas blowing step S6 described in the above embodiment were examined.

【0039】ここで、上記実施形態にて述べた各配向膜
との比較の対象として、上記各塗布膜を通常の大気圧の
雰囲気内で200℃にて2時間の間本焼成して配向膜を
採用した。そして、この配向膜の水に対する接触角θ
と、上記実施形態にて述べた各配向膜の水に対する接触
角θとを算出した。この接触角の算出には、図7にて示
すマイクロ天秤130を用いてウイルヘルミー法を利用
した。即ち、例えば、配向膜を形成した配向膜形成前電
極基板10Aから当該配向膜を含む領域で10mm角程
度の試料140を切り出す。そして、マイクロ天秤13
0の竿の一端に吊るして他端の錘150とのバランスを
とる。
Here, as a target to be compared with each of the alignment films described in the above embodiment, each of the above-mentioned coating films is fully baked at 200 ° C. for 2 hours in a normal atmospheric pressure atmosphere, and the alignment film is It was adopted. Then, the contact angle θ of this alignment film with water
And the contact angle θ of each alignment film to water described in the above embodiment was calculated. The Wilhelmy method was used to calculate the contact angle using the micro balance 130 shown in FIG. That is, for example, a sample 140 of about 10 mm square is cut out from the electrode substrate 10A before forming an alignment film on which the alignment film is formed in a region including the alignment film. And the micro balance 13
The suspension is suspended at one end of the rod of No. 0 to balance with the weight 150 at the other end.

【0040】このような状態にて、図7にて示すごと
く、ビーカー160を上動させてこのビーカー160内
の水161内にその水面161aから試料140を侵入
させる。このとき、試料140の荷重をFとし、水16
0の水面161aの表面張力(即ち、試料140を水1
60が押し出す力)をσとすれば、侵入時の水160と
試料140との接触角θは、次の数1の式により算出さ
れる。この算出接触角θは、図6の点Aにより示され
る。
In this state, as shown in FIG. 7, the beaker 160 is moved upward, and the sample 140 is made to enter the water 161 in the beaker 160 from the water surface 161a. At this time, the load of the sample 140 was F, and the water 16
0 water surface 161a (that is, the sample 140
Assuming that σ is the force extruded by 60, the contact angle θ between water 160 and sample 140 at the time of intrusion is calculated by the following equation (1). This calculated contact angle θ is indicated by a point A in FIG.

【0041】[0041]

【数1】COSθ=F/(σL) なお、数1の式において、Lは、試料140のきっ水線
の長さ(水面161aの図7にて図示最上部と接触する
試料140の外周長さ)を表す。また、θは荷重Fと表
面張力σとのなす角度を表す。
In the equation (1), L is the length of the water line of the sample 140 (the outer peripheral length of the sample 140 in contact with the uppermost portion of the water surface 161a in FIG. 7). Represents). Θ represents an angle between the load F and the surface tension σ.

【0042】また、上述のごとく通常の大気圧の雰囲気
内で200℃にて2時間の間本焼成して配向膜を有する
試料140Aを準備して、試料140と同様にビーカー
160内の水161内にその水面161aから侵入させ
る。そして、数1の式に基づき侵入時の水160と試料
140Aとの接触角θを算出した。この算出接触角θ
は、図6の点Cにより示される。
As described above, a sample 140A having an alignment film is prepared by sintering at 200 ° C. for two hours in a normal atmospheric pressure atmosphere, and water 161 in a beaker 160 is prepared similarly to the sample 140. From the water surface 161a. Then, the contact angle θ between the water 160 at the time of intrusion and the sample 140A was calculated based on the equation (1). This calculated contact angle θ
Is indicated by point C in FIG.

【0043】上記両算出接触角θを比較すれば、試料1
40A(図6の点C参照)の方が試料140(図6の点
A参照)の場合よりも、接触角θが小さいことが分か
る。これは以下の理由による。試料140Aの配向膜を
形成するためのポリアミック酸は、大気圧の雰囲気内で
200℃にて本焼成のみでは、十分にイミド化されな
い。このため、この配向膜の内表面には水酸基(OH)
やアミノ基(NH)が多く存在する。
By comparing the two calculated contact angles θ, it is found that Sample 1
It can be seen that the contact angle θ of 40A (see point C in FIG. 6) is smaller than that of the sample 140 (see point A in FIG. 6). This is for the following reason. The polyamic acid for forming the alignment film of the sample 140A is not sufficiently imidized only by main firing at 200 ° C. in an atmosphere of atmospheric pressure. Therefore, a hydroxyl group (OH) is formed on the inner surface of the alignment film.
And many amino groups (NH).

【0044】これら水酸基やアミノ基は、基本的には、
親水基であるから、イミド化が不十分な試料140Aの
配向膜の場合には、十分にイミド化されている試料14
0の配向膜に比べて、接触角θは、図6にて示すごとく
小さくなる。換言すれば、試料140Aに比べて試料1
40の方が、明らかに、配向膜の内表面のイミド化が進
んでいるといえる。
These hydroxyl groups and amino groups are basically
Because of the hydrophilic group, in the case of the orientation film of sample 140A that is insufficiently imidized, the sample 14A that is sufficiently imidized is not used.
The contact angle θ becomes smaller as shown in FIG. In other words, the sample 1 is smaller than the sample 140A.
It can be said that, in the case of No. 40, imidization of the inner surface of the alignment film is clearly advanced.

【0045】従って、上記実施形態にて述べた真空加熱
の処理工程S5及び乾燥ガスの吹き付け工程S6の両処
理による効果が顕著に得られることが分かる。また、図
6には、試料140について処理工程S5における加熱
温度を250℃とした例も示されているが、この場合に
は接触角θ(図6の点B参照)はさらに大きくなり、配
向膜の内表面のイミド化がさらに進んでいるといえる。
Accordingly, it can be seen that the effects of both the vacuum heating processing step S5 and the dry gas spraying step S6 described in the above embodiment are remarkably obtained. FIG. 6 also shows an example in which the heating temperature of the sample 140 in the processing step S5 is set to 250 ° C. In this case, the contact angle θ (see point B in FIG. 6) is further increased, and the orientation is increased. It can be said that the imidization of the inner surface of the film is further advanced.

【0046】従って、上記実施形態にて述べた真空加熱
の処理工程S5の加熱温度を200℃より高くしても、
上記実施形態の場合と同等以上の作用効果を達成でき
る。また、上記実施形態にて述べた真空加熱の処理工程
S5及び乾燥ガスの吹き付け工程S6の両処理による効
果につき、液晶セルとしての配向暗輝度(cd/m
2 )の観点から調べた。これは、配向暗輝度が、液晶
セルの表示コントラストに深くかかわっており、配向暗
輝度が小さい程、表示コントラストを向上させるからで
ある。
Therefore, even if the heating temperature in the vacuum heating processing step S5 described in the above embodiment is higher than 200 ° C.
The same or more effects and advantages as those of the above embodiment can be achieved. The effects of both the vacuum heating processing step S5 and the drying gas spraying step S6 described in the above embodiment are described with respect to the alignment dark luminance (cd / m
m 2 ). This is because the alignment dark luminance is deeply related to the display contrast of the liquid crystal cell, and the display contrast improves as the alignment dark luminance decreases.

【0047】ここで、上記実施形態にて述べた各配向膜
を有する液晶セルとの比較の対象として、上記実施形態
にて述べた真空加熱の処理工程S5における加熱時間の
みを10時間に変更した場合の配向膜を有する液晶セル
と、上記各塗布膜を通常の大気圧の雰囲気内で200℃
にて2時間の間本焼成して配向膜を有する液晶セルとを
採用した。なお、これら各液晶セルは、共に、反強誘電
液晶を封入した同様の構成としてある。また、当該各液
晶セルの電極基板を構成するガラス基板の板厚は1.1
mmであり、反強誘電液晶の層の厚さは1.8μmであ
る。
Here, as a comparison with the liquid crystal cell having each alignment film described in the above embodiment, only the heating time in the vacuum heating processing step S5 described in the above embodiment was changed to 10 hours. The liquid crystal cell having the alignment film in the above case, and each of the above-mentioned coating films was placed at 200 ° C. in a normal atmospheric pressure atmosphere.
And a liquid crystal cell having an alignment film after the main baking for 2 hours. Each of these liquid crystal cells has the same configuration in which antiferroelectric liquid crystal is sealed. The thickness of the glass substrate constituting the electrode substrate of each liquid crystal cell is 1.1.
mm, and the thickness of the antiferroelectric liquid crystal layer is 1.8 μm.

【0048】また、液晶セルの配向暗輝度は、反強誘電
液晶に電圧を印加しない状態でバックライトを点灯して
おき、輝度計により測定した。この測定により、図8に
て示す結果が得られた。上記実施形態にて述べた各配向
膜を有する液晶セルの配向暗輝度は図8の点Aにより示
される。上記実施形態にて述べた真空加熱の処理工程S
5における加熱時間のみを10時間に変更した場合の配
向膜を有する液晶セルの配向暗輝度は図8の点Bにより
示される。また、上記各塗布膜を通常の大気圧の雰囲気
内で200℃にて2時間の間本焼成して配向膜を有する
液晶セルの配向暗輝度は図8の点Cにより示される。
The orientation dark luminance of the liquid crystal cell was measured by a luminance meter with the backlight turned on without applying a voltage to the antiferroelectric liquid crystal. By this measurement, the result shown in FIG. 8 was obtained. The alignment dark luminance of the liquid crystal cell having each alignment film described in the above embodiment is indicated by a point A in FIG. Processing step S of vacuum heating described in the above embodiment
The darkness of the alignment of the liquid crystal cell having the alignment film when only the heating time in 5 was changed to 10 hours is shown by a point B in FIG. In addition, each of the coating films is fully baked at 200 ° C. for 2 hours in a normal atmospheric pressure atmosphere, and the alignment dark luminance of the liquid crystal cell having the alignment film is shown by point C in FIG.

【0049】図8によれば、点Aの方が点Bの場合より
も配向暗輝度が小さく、また、点Bの方が点Aの場合よ
りも配向暗輝度が小さい。従って、上記実施形態にて述
べた各配向膜を有する液晶セルの方が、各塗布膜を通常
の大気圧の雰囲気内で200℃にて2時間の間本焼成し
て配向膜を有する液晶セルよりも、液晶セル内の輝度の
ばらつきが著しく改善されていることが分かる。
According to FIG. 8, the point A has a smaller orientation dark luminance than the point B, and the point B has a smaller orientation dark luminance than the point A. Therefore, the liquid crystal cell having each alignment film described in the above embodiment is better than the liquid crystal cell having the alignment film by firing each coating film at 200 ° C. for 2 hours in a normal atmospheric pressure atmosphere. It can be seen that the variation in luminance in the liquid crystal cell is significantly improved.

【0050】これは、上記実施形態にて述べたように真
空加熱の処理工程S5及び乾燥ガスの吹き付け工程S6
の両処理を行うことで、配向膜の内表面全体のイミド化
の促進及び均一化が向上するため、配向に関与する配向
膜の内表面のカルボニル基の密度が増大して良好な配向
を確保できるからである。なお、上記実施形態では、本
焼成工程S4、真空加熱工程S5及び乾燥ガスの吹き付
け工程S6の各処理を順次行う例について説明したが、
これに代えて、本焼成工程S4、真空加熱工程S5及び
乾燥ガスの吹き付け工程S6の各処理を、図9にて示す
ごとく、本焼成・真空加熱・吹き付け工程S14におい
て同時に進めるようにしても、工程の簡素化を図りつ
つ、上記実施形態と同様の作用効果を達成できる。
This is because, as described in the above embodiment, the vacuum heating processing step S5 and the drying gas blowing step S6
By performing both treatments, the promotion of imidization and uniformization of the entire inner surface of the alignment film are improved, and the density of carbonyl groups on the inner surface of the alignment film involved in the alignment is increased, thereby ensuring good alignment. Because you can. In the above embodiment, an example in which the respective processes of the main firing step S4, the vacuum heating step S5, and the drying gas blowing step S6 are sequentially performed has been described.
Instead of this, the respective processes of the main firing step S4, the vacuum heating step S5, and the drying gas spraying step S6 may be simultaneously performed in the main firing, vacuum heating, and spraying step S14 as shown in FIG. The same operation and effect as in the above embodiment can be achieved while simplifying the process.

【0051】また、上記実施形態では、本焼成工程S4
の処理を大気圧の雰囲気中にて行う例について説明した
が、これに代えて、本焼成工程S4の処理を真空の雰囲
気中にて行うようにしてもよい。また、本発明の実施に
あたり、高温真空層70内の所定の真空度を維持できる
場合には、上記実施形態にて述べたターボ分子ポンプ8
0は廃止してもよい。
In the above embodiment, the main firing step S4
Although the example of performing the process in the atmosphere of the atmospheric pressure has been described, the process of the main firing step S4 may be performed in a vacuum atmosphere instead. In implementing the present invention, when a predetermined degree of vacuum in the high-temperature vacuum layer 70 can be maintained, the turbo molecular pump 8 described in the above embodiment can be used.
0 may be abolished.

【0052】また、上記実施形態では、高温真空層70
内に収容した両配向膜12、22につき同時に真空加熱
工程S5及び乾燥ガスの吹き付け工程S6の各処理を行
うようにしたが、これに代えて、各配向膜12、22に
つき別々に真空加熱工程S5及び乾燥ガスの吹き付け工
程S6の各処理を行うようにしてもよい。また、上記実
施形態にて述べた吹き付け管部材100の各ノズル10
1、102は、偏平形状にて末広がり状に形成されてい
るが、これに限らず、各ノズル101、102の形状
は、各配向膜12、22の内表面に均一に乾燥ガスを吹
き付け得る形状であればどのような形状であってもよ
い。
In the above embodiment, the high-temperature vacuum layer 70
The vacuum heating step S5 and the drying gas spraying step S6 are simultaneously performed on the two alignment films 12 and 22 housed therein, but instead of this, the vacuum heating step is separately performed on each of the alignment films 12 and 22. Each processing of S5 and the drying gas spraying step S6 may be performed. Further, each nozzle 10 of the spray pipe member 100 described in the above embodiment is used.
Each of the nozzles 101 and 102 has a shape capable of uniformly spraying a dry gas on the inner surface of each of the alignment films 12 and 22. Any shape may be used.

【0053】また、本発明の実施にあたり、ガスGを乾
燥する手段としては、上記実施形態にて述べた乾燥剤に
限ることなく、例えば、ガスGを加熱するとかガスGを
硫酸により脱水することでもよい。また、本発明の実施
にあたり、液晶セルに用いる液晶としては、上記実施形
態にて述べた反強誘電性液晶に限ることなく、強誘電性
液晶等のスメクチック液晶やネマチック液晶を採用して
もよい。
In practicing the present invention, the means for drying the gas G is not limited to the desiccant described in the above embodiment. For example, heating the gas G or dehydrating the gas G with sulfuric acid may be used. May be. Further, in carrying out the present invention, the liquid crystal used for the liquid crystal cell is not limited to the antiferroelectric liquid crystal described in the above embodiment, and a smectic liquid crystal such as a ferroelectric liquid crystal or a nematic liquid crystal may be employed. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した液晶セルの一実施形態を示す
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a liquid crystal cell to which the present invention is applied.

【図2】図1の液晶セルの製造方法を示す工程図であ
る。
FIG. 2 is a process chart showing a method for manufacturing the liquid crystal cell of FIG.

【図3】高温真空槽を用いて両配向膜に真空加熱処理及
び乾燥ガス吹き付け処理を行う設備の概略断面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of equipment for performing a vacuum heating process and a dry gas spraying process on both alignment films using a high-temperature vacuum chamber.

【図4】図3の4−4線側から見た平面図である。FIG. 4 is a plan view seen from the line 4-4 in FIG. 3;

【図5】ポリアミック酸からポリイミドへの変化を表す
化学構造式を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a chemical structural formula representing a change from polyamic acid to polyimide.

【図6】接触角θをポリアミック酸の塗布膜に対するイ
ミド化の条件をパラメータとして示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing a contact angle θ as a parameter of imidization conditions for a polyamic acid coating film.

【図7】接触角θに関連する物理量をマイクロ天秤を用
いて測定するための模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram for measuring a physical quantity related to a contact angle θ using a micro balance.

【図8】液晶セルの配向暗輝度をポリアミック酸の塗布
膜に対するイミド化の条件をパラメータとして示すグラ
フである。
FIG. 8 is a graph showing the darkness of the orientation of a liquid crystal cell as a parameter of imidization conditions for a polyamic acid coating film.

【図9】上記実施形態の変形例を示す液晶セルの製造工
程図である。
FIG. 9 is a manufacturing process diagram of a liquid crystal cell showing a modification of the above embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20…電極基板、10A、20A…配向膜形成前
電極基板、11、21…絶縁膜、12、22…配向膜、
50…反強誘電性液晶、70…高真空槽、100…吹き
付け管部材、120…乾燥瓶、121…シルカゲル、G
…不活性ガス又は空気、Ga…乾燥ガス、S3…仮焼成
工程、S4…本焼成工程、S5…真空加熱工程、S6…
乾燥ガスの吹き付け工程、S12…本焼成・真空加熱・
乾燥ガス吹き付けの工程。
10, 20 ... electrode substrate, 10A, 20A ... electrode substrate before forming an alignment film, 11, 21 ... insulating film, 12, 22 ... alignment film,
50: antiferroelectric liquid crystal, 70: high vacuum tank, 100: spray tube member, 120: drying bottle, 121: silka gel, G
... Inert gas or air, Ga ... Dry gas, S3 ... Preliminary firing step, S4 ... Main firing step, S5 ... Vacuum heating step, S6 ...
Dry gas spraying process, S12: Main firing, vacuum heating,
Dry gas spraying process.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井戸垣 孝治 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 服部 正 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Koji Iwaki 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Inside DENSO Corporation (72) Inventor Tadashi Hattori 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Co., Ltd. Inside DENSO

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶セルを構成するために液晶を介し重
ね合わされる両電極基板の各配向膜を形成する配向膜形
成方法であって、 前記各電極基板の内表面に配向膜形成材料を塗布して塗
布膜を形成し、 前記各塗布膜を焼成し、 前記焼成塗布膜をそれぞれ有する前記各電極基板を真空
の雰囲気内に維持し、 前記各塗布膜の内表面に当該各塗布膜の加熱下にて乾燥
ガスを吹き付けて前記各配向膜を形成する液晶セルの配
向膜形成方法。
1. An alignment film forming method for forming alignment films of both electrode substrates which are overlapped via a liquid crystal to form a liquid crystal cell, wherein an alignment film forming material is applied to an inner surface of each of the electrode substrates. Forming a coating film, baking each of the coating films, maintaining the electrode substrates each having the fired coating film in a vacuum atmosphere, and heating the respective coating films on the inner surface of each of the coating films. A method for forming an alignment film of a liquid crystal cell, wherein a dry gas is blown below to form each of the alignment films.
【請求項2】 液晶セルを構成するために液晶を介し重
ね合わされる両電極基板の各配向膜を形成する配向膜形
成方法であって、 前記各電極基板の内表面に配向膜形成材料を塗布して塗
布膜を形成し、 前記各塗布膜を仮焼成し、 前記仮焼成塗布膜をそれぞれ有する前記各電極基板を真
空の雰囲気内に維持し、 前記各塗布膜を本焼成しつつこれら各塗布膜の内表面に
乾燥ガスを吹き付けて前記各配向膜を形成する液晶セル
の配向膜形成方法。
2. An alignment film forming method for forming respective alignment films of both electrode substrates which are overlapped via a liquid crystal to form a liquid crystal cell, wherein an alignment film forming material is applied to an inner surface of each of the electrode substrates. Forming a coating film, pre-baking each of the coating films, maintaining the electrode substrates each having the pre-baked coating film in a vacuum atmosphere, A method for forming an alignment film of a liquid crystal cell, wherein a dry gas is blown onto an inner surface of the film to form each of the alignment films.
【請求項3】 液晶セルを構成するために液晶を介し重
ね合わされる両電極基板の各配向膜を形成する配向膜形
成方法であって、 前記各電極基板の内表面に配向膜形成材料を塗布して塗
布膜を形成し、 前記各塗布膜を焼成し、 前記焼成塗布膜をそれぞれ有する前記各電極基板を、対
流現象を生じない程度の所定の真空度内に維持し、 前記各塗布膜を所定の加熱条件にて加熱しつつ当該各塗
布膜の内表面にその水分を除去し得る程度の所定の吹き
付け時間の間乾燥ガスを吹き付けるようにして前記各配
向膜を形成する液晶セルの配向膜形成方法。
3. An alignment film forming method for forming alignment films of both electrode substrates which are superposed via a liquid crystal to form a liquid crystal cell, wherein an alignment film forming material is applied to an inner surface of each of the electrode substrates. Forming a coating film, firing each of the coating films, maintaining each of the electrode substrates having the fired coating films within a predetermined degree of vacuum that does not cause a convection phenomenon, An alignment film of a liquid crystal cell forming each of the alignment films by blowing a dry gas for a predetermined spraying time for removing water from the inner surface of each coating film while heating under predetermined heating conditions. Forming method.
【請求項4】 前記配向膜形成材料はポリアミック酸で
あり、 前記所定の真空度は10-2Torr以上であり、 前記所定の加熱条件は、200℃乃至250℃の範囲内
の加熱温度と、約2時間乃至10時間の間の加熱時間と
からなり、 前記所定の吹き付け時間は、少なくとも約2時間である
ことを特徴とする請求項3に記載の液晶セルの配向膜形
成方法。
4. The alignment film forming material is a polyamic acid, the predetermined degree of vacuum is 10 −2 Torr or more, and the predetermined heating condition is a heating temperature in a range of 200 ° C. to 250 ° C. 4. The method of claim 3, wherein the heating time is about 2 hours to 10 hours, and the predetermined spray time is at least about 2 hours.
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