JPH1193949A - 半球ベアリング装置 - Google Patents
半球ベアリング装置Info
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- JPH1193949A JPH1193949A JP10184843A JP18484398A JPH1193949A JP H1193949 A JPH1193949 A JP H1193949A JP 10184843 A JP10184843 A JP 10184843A JP 18484398 A JP18484398 A JP 18484398A JP H1193949 A JPH1193949 A JP H1193949A
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- F16C17/00—Sliding-contact bearings for exclusively rotary movement
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16C2204/20—Alloys based on aluminium
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- Sliding-Contact Bearings (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半球及びブッシングの素材として加工が容易
で低価の素材が使用できるようにして製造費を減少させ
た半球ベアリング装置を提供する。 【解決手段】 ブッシングと、前記ブッシングに回転可
能に挿入されてスペーサを介在して相互対向された一対
の半球とでなる半球ベアリング装置において、ブッシン
グ内部に形成された半球溝の表面と半球溝と対向する半
球の表面にＭｏＳ 2 膜が形成される。
で低価の素材が使用できるようにして製造費を減少させ
た半球ベアリング装置を提供する。 【解決手段】 ブッシングと、前記ブッシングに回転可
能に挿入されてスペーサを介在して相互対向された一対
の半球とでなる半球ベアリング装置において、ブッシン
グ内部に形成された半球溝の表面と半球溝と対向する半
球の表面にＭｏＳ 2 膜が形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半球ベアリング装置
に係り、より詳細には、半球ベアリングの半球の表面ま
たはその表面と対向するブッシング内面に硫化モリブデ
ン（ＭｏＳ2 ）を塗布した半球ベアリング装置に関す
る。
に係り、より詳細には、半球ベアリングの半球の表面ま
たはその表面と対向するブッシング内面に硫化モリブデ
ン（ＭｏＳ2 ）を塗布した半球ベアリング装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、コンピュータ産業の急激な発達に
よって各種機器の駆動に必要な駆動モータ、例えば、レ
ーザプリンタの多面鏡駆動装置、ハードディスクのスピ
ンドルモータ、ＶＣＲのヘッド駆動モータ等は、機器の
特性上、より多いデータ検索及び貯蔵、再生を短時間で
実行するため軸の揺動も振動もない高精密及び超高速回
転性能を要求する。
よって各種機器の駆動に必要な駆動モータ、例えば、レ
ーザプリンタの多面鏡駆動装置、ハードディスクのスピ
ンドルモータ、ＶＣＲのヘッド駆動モータ等は、機器の
特性上、より多いデータ検索及び貯蔵、再生を短時間で
実行するため軸の揺動も振動もない高精密及び超高速回
転性能を要求する。
【０００３】したがって、駆動モータの軸の揺動か軸の
振動を抑制して安定的に高速回転する駆動モータの開発
と共に、前記のようなモータの回転を可能にする動圧形
流体ベアリング装置の多様な形態について研究開発が推
進されており、このような動圧形流体ベアリングの中で
特にラジアル荷重とスラスト荷重を同時に支持して超高
速回転に適合な動圧形流体ベアリング装置である半球ベ
アリングの研究開発が活発に進行している。
振動を抑制して安定的に高速回転する駆動モータの開発
と共に、前記のようなモータの回転を可能にする動圧形
流体ベアリング装置の多様な形態について研究開発が推
進されており、このような動圧形流体ベアリングの中で
特にラジアル荷重とスラスト荷重を同時に支持して超高
速回転に適合な動圧形流体ベアリング装置である半球ベ
アリングの研究開発が活発に進行している。
【０００４】前記のような半球ベアリングが適用された
レーザプリンタの多面鏡駆動装置を添付された図２を参
照して詳細に説明する。図２は一般的な半球ベアリング
装置が適用されたレーザプリンタの多面鏡駆動装置を示
す断面図である。図示のように、半球ベアリングが適用
されたレーザプリンタの多面鏡駆動装置は、多面鏡１０
の回転中心である固定軸２０と、固定軸２０に圧入され
た真球度が高い半球面を持つ半球３０，３５と、半球３
０，３５のラジアル荷重及びスラスト荷重を支持するブ
ッシング４０と、駆動装置であるロータ５５とステータ
５０と、ハブ６０と、下部ハウジング７０とで構成され
る。
レーザプリンタの多面鏡駆動装置を添付された図２を参
照して詳細に説明する。図２は一般的な半球ベアリング
装置が適用されたレーザプリンタの多面鏡駆動装置を示
す断面図である。図示のように、半球ベアリングが適用
されたレーザプリンタの多面鏡駆動装置は、多面鏡１０
の回転中心である固定軸２０と、固定軸２０に圧入され
た真球度が高い半球面を持つ半球３０，３５と、半球３
０，３５のラジアル荷重及びスラスト荷重を支持するブ
ッシング４０と、駆動装置であるロータ５５とステータ
５０と、ハブ６０と、下部ハウジング７０とで構成され
る。
【０００５】ここで、前記下部ハウジング７０には半球
３０，３５が圧入固定された固定軸２０が圧入固定され
て、半球３０，３５の外側面には所定の流体圧を発生さ
せるための動圧発生溝（図示せず）が形成される。ま
た、ブッシング４０の外周面には多面鏡１０とロータ５
５を装着したハブ６０が圧入されて、結果的に半球３０
及び固定軸２０は固定されており、ブッシング４０は固
定軸２０に対して回転できるようになっている。
３０，３５が圧入固定された固定軸２０が圧入固定され
て、半球３０，３５の外側面には所定の流体圧を発生さ
せるための動圧発生溝（図示せず）が形成される。ま
た、ブッシング４０の外周面には多面鏡１０とロータ５
５を装着したハブ６０が圧入されて、結果的に半球３０
及び固定軸２０は固定されており、ブッシング４０は固
定軸２０に対して回転できるようになっている。
【０００６】一方、半球３０，３５のラジアル荷重及び
スラスト荷重を支持するブッシング４０は円筒形状で、
内部に固定軸２０より大径の貫通孔が形成されて、両端
には半球溝３０ａ，３５ａが相互対称に形成される。こ
の時、半球溝３０ａ，３５ａの曲率は固定軸２０に圧入
された半球３０，３５の曲率と同一である。また、ブッ
シング４０の貫通孔内には半球３０，３５と半球溝３０
ａ，３５ａとの間の間隙を調整するためのスペーサ４０
ａが挿入される。
スラスト荷重を支持するブッシング４０は円筒形状で、
内部に固定軸２０より大径の貫通孔が形成されて、両端
には半球溝３０ａ，３５ａが相互対称に形成される。こ
の時、半球溝３０ａ，３５ａの曲率は固定軸２０に圧入
された半球３０，３５の曲率と同一である。また、ブッ
シング４０の貫通孔内には半球３０，３５と半球溝３０
ａ，３５ａとの間の間隙を調整するためのスペーサ４０
ａが挿入される。
【０００７】図３は図２に示された半球ベアリング装置
のブッシングと半球とを示す断面図である。図３を参照
するに、前記のように構成された従来の半球ベアリング
装置は、一般的にブッシング４０内部に形成された半球
溝３５ａの表面には耐磨耗性が優秀なＴｉＮ膜３２が塗
布されており、半球溝３５ａと対向する半球３５の表面
には材質の摩擦係数が小さくて潤滑性が優秀なＴｉＮ膜
３２とＤＬＣ膜３４とでなる２重膜が塗布されている。
のブッシングと半球とを示す断面図である。図３を参照
するに、前記のように構成された従来の半球ベアリング
装置は、一般的にブッシング４０内部に形成された半球
溝３５ａの表面には耐磨耗性が優秀なＴｉＮ膜３２が塗
布されており、半球溝３５ａと対向する半球３５の表面
には材質の摩擦係数が小さくて潤滑性が優秀なＴｉＮ膜
３２とＤＬＣ膜３４とでなる２重膜が塗布されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記のような
従来の半球ベアリング装置では、ＴｉＮ膜またはＤＬＣ
膜を塗布するため通常高価な塗布設備を必要として、作
業時間が長い問題点があった。即ち、ＴｉＮ膜またはＤ
ＬＣ膜を塗布するためには１ミクロン当たり約２時間が
所要されることにより数ミクロンの２重膜を塗布するた
めには長時間が必要とされる。
従来の半球ベアリング装置では、ＴｉＮ膜またはＤＬＣ
膜を塗布するため通常高価な塗布設備を必要として、作
業時間が長い問題点があった。即ち、ＴｉＮ膜またはＤ
ＬＣ膜を塗布するためには１ミクロン当たり約２時間が
所要されることにより数ミクロンの２重膜を塗布するた
めには長時間が必要とされる。
【０００９】また、塗布工程時には工程温度が５００℃
程度の高温であるため、原素材に制約がある問題点があ
った。即ち、アルミニウムのような素材は３００℃で融
溶されるため塗布できないことにより、高価な鉄系統の
素材だけを使用しなければならない。したがって、本発
明は前記のような問題点を解決するため案出されたもの
で、その目的は半球及びブッシングの素材として加工が
容易で低価の素材を使用できるようにし製造費を減少さ
せた半球ベアリング装置を提供することにある。
程度の高温であるため、原素材に制約がある問題点があ
った。即ち、アルミニウムのような素材は３００℃で融
溶されるため塗布できないことにより、高価な鉄系統の
素材だけを使用しなければならない。したがって、本発
明は前記のような問題点を解決するため案出されたもの
で、その目的は半球及びブッシングの素材として加工が
容易で低価の素材を使用できるようにし製造費を減少さ
せた半球ベアリング装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前述の目的を達成するた
めの本発明の特徴によるに、ブッシングと、前記ブッシ
ングに回転可能に挿入されてスペーサを介在して相互対
向された一対の半球とでなり、ブッシング内部に形成さ
れた半球溝の表面と半球溝と対向する半球の表面にＭｏ
Ｓ2 膜が形成される半球ベアリング装置が開示される。
めの本発明の特徴によるに、ブッシングと、前記ブッシ
ングに回転可能に挿入されてスペーサを介在して相互対
向された一対の半球とでなり、ブッシング内部に形成さ
れた半球溝の表面と半球溝と対向する半球の表面にＭｏ
Ｓ2 膜が形成される半球ベアリング装置が開示される。
【００１１】好ましくは、ブッシング及び半球の材質は
アルミニウムまたはプラスチックス射出物が使用され
て、ＭｏＳ2 膜は塗布法または含浸法により形成され
る。また、ＭｏＳ2 膜が形成された後にはキュアリング
（硬化）がなされ、好ましくは、キュアリングは１５０
℃でなされる。本発明の他の側面によるに、ブッシング
と、前記ブッシングに回転可能に挿入されてスペーサを
介在して相互対向された一対の半球とでなり、ブッシン
グ内部に形成された半球溝の表面と半球溝に対向する半
球の表面の中でいずれか一側にＭｏＳ2 膜が形成され
て、他側にＴｉＮまたはＤＬＣ膜が形成される。
アルミニウムまたはプラスチックス射出物が使用され
て、ＭｏＳ2 膜は塗布法または含浸法により形成され
る。また、ＭｏＳ2 膜が形成された後にはキュアリング
（硬化）がなされ、好ましくは、キュアリングは１５０
℃でなされる。本発明の他の側面によるに、ブッシング
と、前記ブッシングに回転可能に挿入されてスペーサを
介在して相互対向された一対の半球とでなり、ブッシン
グ内部に形成された半球溝の表面と半球溝に対向する半
球の表面の中でいずれか一側にＭｏＳ2 膜が形成され
て、他側にＴｉＮまたはＤＬＣ膜が形成される。
【００１２】本実施例においてＭｏＳ2 膜が形成された
側材質はアルミニウムまたはプラスチックスを含み、Ｔ
ｉＮまたはＤＬＣ膜が形成された側の材質はスチールを
含む。
側材質はアルミニウムまたはプラスチックスを含み、Ｔ
ｉＮまたはＤＬＣ膜が形成された側の材質はスチールを
含む。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好ましい実施形態について詳細に説明する。但し、従
来と同一な部分には同一符号を付与する。図１は本発明
の一実施例による半球ベアリング装置を示す概略的な分
解断面図である。図示のように、ブッシング４０内部に
形成された半球溝３５ａの表面にはＭｏＳ2 膜３６の単
一膜が形成されて、半球溝３５ａと対向する半球３５の
表面もＭｏＳ2 膜３６の単一膜が形成される。
の好ましい実施形態について詳細に説明する。但し、従
来と同一な部分には同一符号を付与する。図１は本発明
の一実施例による半球ベアリング装置を示す概略的な分
解断面図である。図示のように、ブッシング４０内部に
形成された半球溝３５ａの表面にはＭｏＳ2 膜３６の単
一膜が形成されて、半球溝３５ａと対向する半球３５の
表面もＭｏＳ2 膜３６の単一膜が形成される。
【００１４】以下、本発明の一実施例によるベアリング
装置のブッシングと半球を加工する方法について説明す
る。まず、ブッシング４０内部に固定軸が挿入される所
定の長さの貫通孔を形成して、貫通孔の両端に半球３
０，３５が挿入される半球溝３０ａ，３５ａを形成す
る。本発明によるに、ブッシング４０の素材としては加
工が容易で低価であるアルミニウムまたはプラスチック
ス射出物を使用する。
装置のブッシングと半球を加工する方法について説明す
る。まず、ブッシング４０内部に固定軸が挿入される所
定の長さの貫通孔を形成して、貫通孔の両端に半球３
０，３５が挿入される半球溝３０ａ，３５ａを形成す
る。本発明によるに、ブッシング４０の素材としては加
工が容易で低価であるアルミニウムまたはプラスチック
ス射出物を使用する。
【００１５】次に、内部面をラッピング及びポリッシン
グ処理した後、ＭｏＳ2 膜３６を数ミクロン塗布して、
約１５０℃程度の温度でキュアリングして完成する。ま
た、半球３５は、原素材を所定形状（半球形状）に加工
して内部に固定軸が貫通する貫通孔を形成する。次に、
表面をラッピング及びポリッシング処理した後、ＭｏＳ
2 膜３６を数ミクロン塗布して、約１５０℃程度の温度
でキュアリングして完成する。
グ処理した後、ＭｏＳ2 膜３６を数ミクロン塗布して、
約１５０℃程度の温度でキュアリングして完成する。ま
た、半球３５は、原素材を所定形状（半球形状）に加工
して内部に固定軸が貫通する貫通孔を形成する。次に、
表面をラッピング及びポリッシング処理した後、ＭｏＳ
2 膜３６を数ミクロン塗布して、約１５０℃程度の温度
でキュアリングして完成する。
【００１６】前記のように、半球３５の素材としても、
好ましくは、加工が容易で低価であるアルミニウムまた
はプラスチックス射出物が使用される。ＭｏＳ2 膜３６
を塗布する方法は素材の種類によって違う。即ち、原素
材の組織が緻密な一般素材の場合には加工された表面上
にＭｏＳ2 膜を所定の厚さで塗布して、原素材の組織に
気孔がある焼結素材の場合には含浸法を利用する。含浸
法はＭｏＳ2 膜溶液に所定時間沈潜して素材内部に気孔
を通して含浸されるようにする。
好ましくは、加工が容易で低価であるアルミニウムまた
はプラスチックス射出物が使用される。ＭｏＳ2 膜３６
を塗布する方法は素材の種類によって違う。即ち、原素
材の組織が緻密な一般素材の場合には加工された表面上
にＭｏＳ2 膜を所定の厚さで塗布して、原素材の組織に
気孔がある焼結素材の場合には含浸法を利用する。含浸
法はＭｏＳ2 膜溶液に所定時間沈潜して素材内部に気孔
を通して含浸されるようにする。
【００１７】一方、本発明の他の実施例によるに、半球
溝の表面とその表面に対向する半球の表面の中でいずれ
か一側はＭｏＳ2 膜でコーティングして、他側はＴｉＮ
またはＤＬＣでコーティングできる。この実施例による
に、一側により硬質のコーティングをするため磨耗が減
少する利点がある。
溝の表面とその表面に対向する半球の表面の中でいずれ
か一側はＭｏＳ2 膜でコーティングして、他側はＴｉＮ
またはＤＬＣでコーティングできる。この実施例による
に、一側により硬質のコーティングをするため磨耗が減
少する利点がある。
【００１８】ＴｉＮまたはＤＬＣコーティングにおいて
は従来のコーティング方法を利用して、材質は従来と同
一なスチール系統が使用できる。以上、本発明の好まし
い実施形態について詳細に説明したが、本発明が属する
技術分野の熟練者であれば、本発明の精神及び思想を離
脱しない範囲内で多様な変形を加えることができる。
は従来のコーティング方法を利用して、材質は従来と同
一なスチール系統が使用できる。以上、本発明の好まし
い実施形態について詳細に説明したが、本発明が属する
技術分野の熟練者であれば、本発明の精神及び思想を離
脱しない範囲内で多様な変形を加えることができる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明によるに、原素材に
対する制約なく加工が容易で低価である。例えば、アル
ミニウムまたはプラスチックス等のような素材が使用で
きることにより、原素材に対する製造原価が減少する利
点がある。また、２重膜の代わりにＭｏＳ2 膜の単一膜
で充分であるため製造工程が短縮されて生産性が向上さ
れる利点がある。また、高価な塗布装備が必要ないため
製造費が減少する。
対する制約なく加工が容易で低価である。例えば、アル
ミニウムまたはプラスチックス等のような素材が使用で
きることにより、原素材に対する製造原価が減少する利
点がある。また、２重膜の代わりにＭｏＳ2 膜の単一膜
で充分であるため製造工程が短縮されて生産性が向上さ
れる利点がある。また、高価な塗布装備が必要ないため
製造費が減少する。
【図１】本発明による半球ベアリング装置のブッシング
と半球を示す断面図である。
と半球を示す断面図である。
【図２】一般的な半球ベアリング装置が適用されたレー
ザプリンタの多面鏡駆動装置を示す断面図である。
ザプリンタの多面鏡駆動装置を示す断面図である。
【図３】図２の半球ベアリング装置のブッシングと半球
を示す断面図である。
を示す断面図である。
１０ 多面鏡 ２０ 固定軸 ３０，３５ 半球 ３０ａ，３５ａ 半球溝 ３２ ＴｉＮ膜 ３４ ＤＬＣ膜 ３６ ＭｏＳ2 膜 ４０ ブッシング
Claims (9)
- 【請求項１】 ブッシングと、前記ブッシングに回転可
能に挿入されてスペーサを介在して相互対向された一対
の半球とでなる半球ベアリング装置において、 前記ブッシング内部に形成された半球溝の表面と前記半
球溝と対向する前記半球の表面にＭｏＳ2 膜を形成した
ことを特徴とする半球ベアリング装置。 - 【請求項２】 前記ブッシング及び半球の材質は、アル
ミニウムでなることを特徴とする請求項１記載の半球ベ
アリング装置。 - 【請求項３】 前記ブッシング及び半球の材質は、プラ
スチックスでなることを特徴とする請求項１記載の半球
ベアリング装置。 - 【請求項４】 前記ＭｏＳ2 膜は、塗布法により形成さ
れることを特徴とする請求項１記載の半球ベアリング装
置。 - 【請求項５】 前記ＭｏＳ2 膜は、含浸法により形成さ
れることを特徴とする請求項１記載の半球ベアリング装
置。 - 【請求項６】 前記ＭｏＳ2 膜が形成された後にキュア
リングすることを特徴とする請求項４又は請求項５記載
の半球ベアリング装置。 - 【請求項７】 前記キュアリングは、１５０℃で行われ
ることを特徴とする請求項６記載の半球ベアリング装
置。 - 【請求項８】 ブッシングと、前記ブッシングに回転可
能に挿入されてスペーサを介在して相互対向された一対
の半球とでなる半球ベアリング装置において、 前記ブッシング内部に形成された半球溝の表面と前記半
球溝と対向する前記半球の表面の中でいずれか一側には
ＭｏＳ2 膜が形成され、他側にはＴｉＮまたはＤＬＣ膜
が形成されることを特徴とする半球ベアリング装置。 - 【請求項９】 前記ＭｏＳ2 膜が形成された側の材質
は、アルミニウムまたはプラスチックスを含み、ＴｉＮ
またはＤＬＣ膜が形成された側の材質はスチールを含む
ことを特徴とする請求項８記載の半球ベアリング装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970031661A KR100233009B1 (ko) | 1997-07-09 | 1997-07-09 | 반구 베어링 장치 |
| KR31661/1997 | 1997-07-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1193949A true JPH1193949A (ja) | 1999-04-06 |
Family
ID=19513780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10184843A Pending JPH1193949A (ja) | 1997-07-09 | 1998-06-30 | 半球ベアリング装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6024492A (ja) |
| JP (1) | JPH1193949A (ja) |
| KR (1) | KR100233009B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001047755A1 (de) * | 1999-12-24 | 2001-07-05 | Robert Bosch Gmbh | Wischerantriebsvorrichtung |
| JP2008095837A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Ihi Corp | 摺動構造体及び皮膜形成方法 |
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| US7216882B2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-05-15 | Specialized Bicycle Components, Inc. | Shock absorber mounting assembly for a bicycle |
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| EP0780586B1 (en) * | 1995-12-22 | 2001-11-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Hemispherical fluid bearing |
-
1997
- 1997-07-09 KR KR1019970031661A patent/KR100233009B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-06-30 JP JP10184843A patent/JPH1193949A/ja active Pending
- 1998-07-09 US US09/112,323 patent/US6024492A/en not_active Expired - Fee Related
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| JP4692462B2 (ja) * | 2006-10-12 | 2011-06-01 | 株式会社Ｉｈｉ | 摺動構造体及び皮膜形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100233009B1 (ko) | 1999-12-01 |
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