JPH1187420A - Coater and coating method of adhesive and mounting method of semiconductor device - Google Patents

Coater and coating method of adhesive and mounting method of semiconductor device

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JPH1187420A
JPH1187420A JP9242956A JP24295697A JPH1187420A JP H1187420 A JPH1187420 A JP H1187420A JP 9242956 A JP9242956 A JP 9242956A JP 24295697 A JP24295697 A JP 24295697A JP H1187420 A JPH1187420 A JP H1187420A
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thermosetting adhesive
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method for applying an adhesive such that a semiconductor bare chip is mounted with high reliability. SOLUTION: The coating method of adhesive comprises steps 90, 91 for applying an adhesive from a nozzle 83 to a semiconductor bare chip mounting region 20a on a board at two separated points P1 , P2 , and a step 92 for spreading the applied adhesive flatly in the semiconductor bare chip mounting region by reciprocating the nozzle, without supplying the adhesive, between the applying positions of adhesive close to the height of the board. A semiconductor bare chip is fixed temporarily and then mounted on the board by pressing while heating. According to the method, the adhesive may not sneak into the upper surface of the semiconductor bare chip.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は接着剤塗布方法、接
着剤塗布装置、及び半導体部品実装方法に係り、特に、
半導体ベアチップを圧着接合のフリップチップ方式で基
板上に実装する場合に適用される接着剤塗布方法、接着
剤塗布装置、及び半導体部品実装方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive applying method, an adhesive applying apparatus, and a semiconductor component mounting method.
The present invention relates to an adhesive applying method, an adhesive applying device, and a semiconductor component mounting method applied when a semiconductor bare chip is mounted on a substrate by a flip chip method of pressure bonding.

【0002】携帯型情報機器の小型化に伴い、半導体装
置の基板への実装については高密度化が求められてい
る。また地球環境問題を考慮することが求められてい
る。そこで、パケージングされていない状態の裸のチッ
プである半導体ベアチップを圧着接合のフリップチップ
方式で実装する技術が開発されつつある。ここで、説明
の便宜上、半導体ベアチップ10の構成及び半導体ベア
チップ10が実装されている半導体ベアチップ実装モジ
ュール30の構造について説明する。
[0002] With the miniaturization of portable information devices, there has been a demand for higher density mounting of semiconductor devices on substrates. There is also a need to consider global environmental issues. Therefore, a technique for mounting a bare semiconductor chip, which is a bare chip that has not been packaged, by a flip-chip method of crimp bonding has been developed. Here, for convenience of description, the configuration of the semiconductor bare chip 10 and the structure of the semiconductor bare chip mounting module 30 on which the semiconductor bare chip 10 is mounted will be described.

【0003】図8(A)に示すように、半導体ベアチッ
プ10は、ウェハから切り出された半導体ベアチップ本
体11の下面11aのAl製の各電極12上にスタッド
バンプ13が形成されており、且つ、スタッドバンプ1
3の頂部を覆うように導電性接着剤14が付着されてい
る構成である。スタッドバンプ13はAu製である。導
電性接着剤14は、エポキシ樹脂にAgフィラーが含有
されているものである。スタッドバンプ13及び導電性
接着剤14は鉛を有しない。
As shown in FIG. 8A, a semiconductor bare chip 10 has stud bumps 13 formed on Al electrodes 12 on a lower surface 11a of a semiconductor bare chip body 11 cut out from a wafer. Stud bump 1
In this configuration, the conductive adhesive 14 is attached so as to cover the top of the third adhesive. The stud bump 13 is made of Au. The conductive adhesive 14 is an epoxy resin containing an Ag filler. The stud bump 13 and the conductive adhesive 14 do not contain lead.

【0004】半導体ベアチップ10は、プリント基板2
0の半導体ベアチップ実装予定領域20aにエポキシの
熱硬化性接着剤が塗布されたプリント基板20に、加圧
すると共に加熱することによって、図8(B)に示すよ
うに、圧着接合のフリップチップ方式で実装される。図
8(B)は図8(A)の半導体ベアチップ10が実装さ
れた半導体ベアチップ実装モジュール30を示す。半導
体ベアチップ10は、スタッドバンプ13がプリント基
板20上の電極21に圧着し且つ導電性接着剤14によ
って電極21と接着されて、且つ、半導体ベアチップ本
体11を熱硬化されたエポキシの熱硬化性接着剤26に
よってプリント基板11に接着されて実装されている。
熱硬化性接着剤26は、半導体ベアチップ本体11とプ
リント基板21との間の隙間27内に存在しており熱硬
化されているため、半導体ベアチップ本体11の下面1
1a全面がプリント基板20に接着してあり、且つ、熱
硬化性接着剤が熱硬化して収縮することによって半導体
ベアチップ本体11の下面11a全面が力Fでプリント
基板20側に引き寄せられている。この力Fでもって、
スタッドバンプ13が電極21に圧着しており、各スタ
ッドバンプ13が対応する電極21と電気的に接続され
ている。26aは熱硬化性接着剤26のフィレットであ
り、半導体ベアチップ本体11の全周に形成されてい
る。
[0004] The semiconductor bare chip 10 is
As shown in FIG. 8 (B), by applying pressure and heating to the printed circuit board 20 in which the thermosetting adhesive of epoxy is applied to the semiconductor bare chip mounting area 20a of FIG. Implemented. FIG. 8B shows a semiconductor bare chip mounting module 30 on which the semiconductor bare chip 10 of FIG. 8A is mounted. In the semiconductor bare chip 10, the stud bump 13 is pressed against the electrode 21 on the printed circuit board 20 and is bonded to the electrode 21 by the conductive adhesive 14, and the semiconductor bare chip body 11 is thermoset with thermosetting epoxy. The printed circuit board 11 is adhered and mounted by the agent 26.
The thermosetting adhesive 26 exists in the gap 27 between the semiconductor bare chip main body 11 and the printed circuit board 21 and is thermoset.
The entire surface 1a is adhered to the printed circuit board 20, and the entire lower surface 11a of the semiconductor bare chip main body 11 is drawn toward the printed circuit board 20 by the force F due to the thermosetting adhesive being thermally cured and contracting. With this force F,
The stud bumps 13 are pressed against the electrodes 21, and each stud bump 13 is electrically connected to the corresponding electrode 21. 26a is a fillet of the thermosetting adhesive 26, which is formed on the entire periphery of the semiconductor bare chip body 11.

【0005】[0005]

【従来の技術】従来は、図9(A),(B)に示すよう
に、シリンジ40の先端のノズル41から熱硬化性接着
剤を押し出して、プリント基板20の半導体ベアチップ
実装予定領域20aの中央部に符号42で示すように所
定量塗布し、この状態で、半導体ベアチップを加圧する
と共に加熱して実装していた。具体的には、図10に示
すように、空気の吸引を利用した吸着ヘッド50を使用
して半導体ベアチップ10を、熱硬化性接着剤42が塗
布されたプリント基板20上の所定の部位に位置合わせ
して搭載し軽く押しつけて仮付けし、吸着ヘッド50よ
り空気を軽く吹き出すと共に吸着ヘッド50を上動させ
て、吸着ヘッド50を仮付けされた半導体ベアチップ1
0から離し、半導体ベアチップ10が仮付けされている
プリント基板20を別の場所に移し、加圧部56及びヒ
ータ57が組み込まれている加圧加熱ヘッド55を仮付
けされている半導体ベアチップ10に約100秒間押し
つけて加圧すると共に加熱することによって実装してい
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIGS. 9A and 9B, a thermosetting adhesive is extruded from a nozzle 41 at the tip of a syringe 40 to form a semiconductor bare chip mounting area 20a of a printed circuit board 20. A predetermined amount was applied to the central portion as indicated by reference numeral 42, and in this state, the semiconductor bare chip was mounted while being pressed and heated. Specifically, as shown in FIG. 10, the semiconductor bare chip 10 is positioned at a predetermined position on the printed circuit board 20 to which the thermosetting adhesive 42 is applied by using the suction head 50 utilizing the suction of air. The semiconductor bare chip 1 to which the suction head 50 has been temporarily attached is mounted by mounting the suction head 50 lightly to temporarily attach the suction head 50, and gently blowing air from the suction head 50 and moving the suction head 50 upward.
0, the printed circuit board 20 to which the semiconductor bare chip 10 is temporarily attached is moved to another place, and the pressurizing and heating head 55 in which the pressurizing section 56 and the heater 57 are incorporated is attached to the temporarily attached semiconductor bare chip 10. It was mounted by pressing and heating for about 100 seconds.

【0006】塗布された熱硬化性接着剤42の量は、上
記の実装する半導体ベアチップのサイズに対応した量で
あり、半導体ベアチップの下面の全体を接着し、半導体
ベアチップの周囲にはみ出して上記のフィレット26a
が形成されるに足る量である。ここで、熱硬化性接着剤
の粘度は一般的に高い。よって、塗布された熱硬化性接
着剤42は、図9(B)に示すように、プリント基板2
0の表面から山形状に盛りあがっており、高さh1は約
0.3mm程度と高い。
The amount of the applied thermosetting adhesive 42 is an amount corresponding to the size of the semiconductor bare chip to be mounted. The entire lower surface of the semiconductor bare chip is adhered to the semiconductor bare chip. Fillet 26a
Is sufficient to form Here, the viscosity of the thermosetting adhesive is generally high. Therefore, the applied thermosetting adhesive 42 is applied to the printed circuit board 2 as shown in FIG.
The height h1 is as high as about 0.3 mm.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】塗布された熱硬化性接
着剤42は一つの個所に集中しているため、吸着ヘッド
50を使用して半導体ベアチップ10を位置合わせして
搭載し軽く押しつけて仮付けした状態で、図9(C)に
示すように、半導体ベアチップ10の外周の一部におい
て熱硬化性接着剤42が半導体ベアチップ10から多く
はみ出てその一部が半導体ベアチップ10の上面に回り
込んで符号43で示すように吸着ヘッド50に付くこと
が起きる場合があった。半導体ベアチップ10の上面に
回り込んだ熱硬化性接着剤41が吸着ヘッド50に付く
と、吸着ヘッド50が半導体ベアチップ10から離れる
ときに、半導体ベアチップ10が吸着ヘッド50に引き
ずられて仮付けした位置がずれてしまい、スタッドバン
プ13が電極21から外れて電気的接続が不完全な状態
で実装されてしまい、実装不良を起こしてしまうおそれ
があった。
Since the applied thermosetting adhesive 42 is concentrated at one location, the semiconductor bare chip 10 is positioned and mounted by using the suction head 50, and is temporarily pressed and lightly pressed. In the attached state, as shown in FIG. 9C, the thermosetting adhesive 42 largely protrudes from the semiconductor bare chip 10 at a part of the outer periphery of the semiconductor bare chip 10 and a part of the thermosetting adhesive 42 goes around the upper surface of the semiconductor bare chip 10. In some cases, sticking to the suction head 50 may occur as indicated by reference numeral 43. When the thermosetting adhesive 41 wrapped around the upper surface of the semiconductor bare chip 10 adheres to the suction head 50, when the suction head 50 separates from the semiconductor bare chip 10, the semiconductor bare chip 10 is dragged to the suction head 50 and temporarily attached. The stud bumps 13 are displaced from each other, and the stud bumps 13 are detached from the electrodes 21 and are mounted in an incomplete electrical connection state, which may cause a mounting failure.

【0008】現在、半導体ベアチップ内に形成される集
積回路の高密度化に伴い、半導体ベアチップのサイズが
従来の20mm□から数mm□に小さくなってきてお
り、これに伴って半導体ベアチップの厚さも従来の1〜
2mmから0.5mmに薄くなってきている。半導体ベ
アチップのサイズが小さくなったことによって、熱硬化
性接着剤の基準塗布量が少なくなり、塗布量について許
容されるばらつきの量も少なくなり、また、半導体ベア
チップの厚さが0.5mmに薄くなっているため、熱硬
化性接着剤が半導体ベアチップの上面に回り込み易くな
る傾向にある。そこで、熱硬化性接着剤が半導体ベアチ
ップの上面に回り込みにくくする方策が必要となってき
ている。
At present, as the density of integrated circuits formed in a semiconductor bare chip has increased, the size of the semiconductor bare chip has been reduced from the conventional 20 mm square to several mm square, and the thickness of the semiconductor bare chip has been reduced accordingly. Conventional 1
It is getting thinner from 2 mm to 0.5 mm. As the size of the semiconductor bare chip has been reduced, the reference application amount of the thermosetting adhesive has been reduced, the amount of allowable variation in the applied amount has been reduced, and the thickness of the semiconductor bare chip has been reduced to 0.5 mm. As a result, the thermosetting adhesive tends to flow around the upper surface of the semiconductor bare chip. Therefore, measures have been required to make it difficult for the thermosetting adhesive to reach the upper surface of the semiconductor bare chip.

【0009】そこで、本発明は、上記課題を解決した接
着剤塗布方法、接着剤塗布装置、及び半導体部品実装方
法を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an adhesive applying method, an adhesive applying apparatus, and a semiconductor component mounting method that solve the above-mentioned problems.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明は、ノズルから接着剤を出して基板
上の被接着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布
し、この後、ノズルを上記塗布された接着剤の間を移動
させて塗布された接着剤を被接着体接着予定領域内で平
坦に引き延ばすようにしたものである。
According to a first aspect of the present invention, an adhesive is ejected from a nozzle and applied to a plurality of distant locations within a region where an object to be adhered on a substrate is to be adhered. Thereafter, the nozzle is moved between the applied adhesives so that the applied adhesive is flattened in the area where the object is to be bonded.

【0011】平坦に引き延ばすことによって、引き延ば
しを行わない場合に比べて、被接着体の外周へのはみ出
しが外周の全周に亘って均一に起こるようになる。請求
項2の発明は、ノズルから接着剤を出して基板上の被接
着体接着予定領域内の部位に塗布し、この後、塗布され
た接着剤に気体を吹き付けて平坦に拡げるようにしたも
のである。
[0011] By flattening, compared to the case where stretching is not performed, the protrusion to the outer periphery of the adhered body occurs uniformly over the entire outer periphery. According to a second aspect of the present invention, the adhesive is ejected from the nozzle and applied to a portion of the substrate in a region where the object is to be bonded, and then the applied adhesive is blown with gas to spread the adhesive flat. It is.

【0012】気体を吹き付けることによって、ノズルを
複雑に動かさなくても接着剤を拡げて平坦化することが
可能となる。請求項3の発明は、ノズルから接着剤を出
して基板上の被接着体接着予定領域内の離れた複数個所
に塗布する動作後に、塗布された接着剤を被接着体接着
予定領域内で平坦に引き延ばすように上記ノズルを上記
塗布された接着剤の間を移動させる手段を有する構成と
したものである。
By blowing gas, the adhesive can be spread and flattened without moving the nozzle complicatedly. The invention according to claim 3 is that, after the operation of taking out the adhesive from the nozzle and applying the adhesive to a plurality of distant locations in the region to be bonded on the substrate, the applied adhesive is flattened in the region to be bonded. And means for moving the nozzle between the applied adhesives so as to extend the nozzle.

【0013】ノズルを塗布された接着剤の間を移動させ
る手段を設けたことによって、特別の設備を設けずに、
接着剤を引き延ばして平坦化することが可能となる。請
求項4の発明は、接着剤を出すノズルに隣接して、該ノ
ズルによって塗布された接着剤を平坦に拡げるように気
体を吹き出す気体吹出しノズルを設けてなる構成とした
ものである。
By providing means for moving the nozzle between the applied adhesives, no special equipment is required,
The adhesive can be stretched and flattened. According to a fourth aspect of the present invention, a gas blowing nozzle for blowing a gas is provided adjacent to a nozzle for discharging the adhesive so as to spread the adhesive applied by the nozzle evenly.

【0014】気体吹出しノズルを設けたことによって、
ノズルを複雑に動かさなくても接着剤を拡げて平坦化す
ることが可能となる。請求項5の発明は、請求項1及び
請求項2のうちいずれか一項記載の接着剤塗布方法によ
って塗布された接着剤を利用して半導体部品を実装する
構成としたものである。
By providing the gas blowing nozzle,
The adhesive can be spread and flattened without moving the nozzle complicatedly. According to a fifth aspect of the present invention, a semiconductor component is mounted using an adhesive applied by the adhesive applying method according to any one of the first and second aspects.

【0015】塗布した熱硬化性接着剤の引き延ばしを行
わない場合に比べて、接着剤の半導体部品の外周へのは
み出しが外周の全周に亘って均一に起こるようになり、
特定の場所で多くはみ出すことがないようになる。
As compared with the case where the applied thermosetting adhesive is not stretched, the protrusion of the adhesive to the outer periphery of the semiconductor component occurs more uniformly over the entire outer periphery,
Many will not protrude in a particular place.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図1(A)は本発明の一実施例に
なる半導体ベアチップ実装方法に適用される一の熱硬化
性接着剤塗布装置60を示す。熱硬化性接着剤塗布装置
60は、大略、XYロボット61と、図1(B)に示す
接着剤塗布ヘッド62と、Z方向駆動シリンダ63と、
制御回路70と、各駆動回路71〜74とを有する。
FIG. 1A shows a thermosetting adhesive application device 60 applied to a method for mounting a semiconductor bare chip according to an embodiment of the present invention. The thermosetting adhesive application device 60 generally includes an XY robot 61, an adhesive application head 62 shown in FIG.
It has a control circuit 70 and drive circuits 71 to 74.

【0017】XYロボット61は、Xアーム65と、Y
アーム66と、Yアーム66をXアーム65に沿って移
動させるX方向駆動シリンダ67と、Z方向駆動シリン
ダ63をYアーム66に沿って移動させるY方向駆動シ
リンダ68とよりなる。Z方向駆動シリンダ63がYア
ーム66に支持されており、図1(B)に示すように、
接着剤塗布ヘッド62がZ方向駆動シリンダ63に支持
されている。
The XY robot 61 has an X arm 65 and a Y
An arm 66, an X-direction drive cylinder 67 for moving the Y arm 66 along the X arm 65, and a Y-direction drive cylinder 68 for moving the Z-direction drive cylinder 63 along the Y arm 66. The Z-direction drive cylinder 63 is supported by the Y arm 66, and as shown in FIG.
An adhesive application head 62 is supported by a Z-direction drive cylinder 63.

【0018】制御回路70からの制御信号によってX駆
動回路71及びY駆動回路72が動作されることによっ
て、X方向駆動シリンダ67及びY方向駆動シリンダ6
8が駆動されてXYロボット61が動作して、接着剤塗
布ヘッド62がXY方向に移動させられる。また、制御
回路70からの制御信号によってZ駆動回路73が動作
されることによって、Z方向駆動シリンダ63が動作し
て、接着剤塗布ヘッド62がZ方向に移動させられる。
When the X drive circuit 71 and the Y drive circuit 72 are operated by a control signal from the control circuit 70, the X drive cylinder 67 and the Y drive cylinder 6 are driven.
8, the XY robot 61 operates to move the adhesive application head 62 in the XY directions. When the Z drive circuit 73 is operated by a control signal from the control circuit 70, the Z direction drive cylinder 63 is operated, and the adhesive coating head 62 is moved in the Z direction.

【0019】接着剤塗布ヘッド62は、シリンジ支持機
構部80がZ方向駆動シリンダ63のロッド63aに固
定してあり、このシリンジ支持機構部80に熱硬化性接
着剤81が入っているシリンジ82が先端のノズル83
が下を向いた垂直の向きで取り付けてあり、シリンジ8
2の上端がチューブ84でもってディスペンサ85と接
続してある構成である。制御回路70からの制御信号に
よってディスペンサ駆動回路74が動作されることによ
って、ディスペンサ85が動作され、所定の圧力の圧縮
空気を所定のタイミングで所定の時間送り出し、熱硬化
性接着剤81をノズル83から押し出す。ノズル83の
断面は円形であり、外径が0.9mm、内径が0.5m
mである。
The adhesive application head 62 has a syringe support mechanism 80 fixed to a rod 63a of a Z-direction drive cylinder 63, and a syringe 82 containing a thermosetting adhesive 81 in the syringe support mechanism 80. Nozzle 83 at the tip
Is mounted in a vertical orientation facing down, and the syringe 8
The upper end of 2 is connected to a dispenser 85 by a tube 84. When the dispenser driving circuit 74 is operated by the control signal from the control circuit 70, the dispenser 85 is operated, and the compressed air of a predetermined pressure is sent out at a predetermined timing for a predetermined time, and the thermosetting adhesive 81 is supplied to the nozzle 83. Extrude from The cross section of the nozzle 83 is circular, the outer diameter is 0.9 mm, and the inner diameter is 0.5 m
m.

【0020】制御回路70はマイクロコンピュータで構
成されている。プリント基板20がコンベア88によっ
て移動されてきて、プリント基板20が熱硬化性接着剤
塗布位置に固定されたことが確認されると、制御回路7
0がプログラムされている通りに動作し、XYロボット
61が動作してシリンジ82の先端のノズル83を熱硬
化性接着剤塗布位置に移動させ、この後、Z方向駆動シ
リンダ67及びY方向駆動シリンダ68が所定の順番で
動作されて、ノズル83が、図2(A)及び(B)中、
軌跡(1)〜(8)で示すように移動し、ディスペンサ
85が所定の時点(時間)T1,T2で動作する。
The control circuit 70 is constituted by a microcomputer. When the printed circuit board 20 is moved by the conveyor 88 and it is confirmed that the printed circuit board 20 is fixed at the thermosetting adhesive application position, the control circuit 7
0 operates as programmed, the XY robot 61 operates to move the nozzle 83 at the tip of the syringe 82 to the thermosetting adhesive application position, and thereafter, the Z-direction drive cylinder 67 and the Y-direction drive cylinder 68 are operated in a predetermined order, and the nozzle 83 is turned on in FIGS. 2 (A) and 2 (B).
The dispenser 85 moves as shown by trajectories (1) to (8), and operates at predetermined time points (time) T1 and T2.

【0021】熱硬化性接着剤塗布装置60は、大略、熱
硬化性接着剤を離れた二個所で塗布し、この後にノズル
83が下がった状態で往復移動して、熱硬化性接着剤を
引き延ばして平坦とするように動作する。ここで、図3
(A)乃至(I)を参照して熱硬化性接着剤塗布の動作
について詳細に説明する。図3(A)は熱硬化性接着剤
塗布動作の工程を示す。
The thermosetting adhesive application device 60 generally applies the thermosetting adhesive at two separate places, and then reciprocates with the nozzle 83 lowered to extend the thermosetting adhesive. It works to make it flat. Here, FIG.
The operation of applying the thermosetting adhesive will be described in detail with reference to (A) to (I). FIG. 3A shows the steps of a thermosetting adhesive application operation.

【0022】先ず、一点目塗布工程90を行う。ここで
は、ノズル83が、軌跡(1)で示すように、プリント
基板20の半導体ベアチップ実装予定領域20a内のう
ちY1方向端寄りの第1の個所P1に下降し、プリント
基板20に接近した低い高さH1に到り、この低い高さ
H1に停止して留まる。ノズル83が下降して低い高さ
H1に到ると、ディスペンサ85が動作し、所定の圧力
の圧縮空気を所定の時間送り出し、熱硬化性接着剤81
をノズル83から押し出す。これによって、図3
(B),(C)に示すように、半導体ベアチップ10の
実装に必要な量Vの半分の量V/2の熱硬化性接着剤1
00が第1の個所P1に山状に塗布される。この後、ノ
ズル83が、軌跡(2)で示すように上昇して、プリン
ト基板20から離れた高い高さH2に到る。
First, a first point application step 90 is performed. Here, as shown by the locus (1), the nozzle 83 descends to the first position P1 near the end in the Y1 direction in the semiconductor bare chip mounting area 20a of the printed board 20, and the nozzle 83 is lowered close to the printed board 20. The height H1 is reached and stops at this low height H1. When the nozzle 83 descends and reaches the low height H1, the dispenser 85 operates to send out compressed air of a predetermined pressure for a predetermined time, and the thermosetting adhesive 81
From the nozzle 83. As a result, FIG.
As shown in (B) and (C), half the amount V / 2 of the thermosetting adhesive 1 which is half the amount V required for mounting the semiconductor bare chip 10.
00 is applied in a mountain-like manner to the first location P1. Thereafter, the nozzle 83 rises as shown by a locus (2), and reaches a high height H2 apart from the printed circuit board 20.

【0023】次に、二点目塗布工程91を行う。ここで
は、ノズル83が、先ず、軌跡(3)で示すように、Y
2方向に移動し、続いて、軌跡(4)で示すように下降
し、、プリント基板20の半導体ベアチップ実装予定領
域20a内のうちY2方向端寄りの第2の個所P2の上
の低い高さH1に到り、この低い高さH1に停止して留
まる。ノズル83が下降して低い高さH1に到ると、デ
ィスペンサ85が動作し、前記と同じく所定の圧力の圧
縮空気を所定の時間送り出し、熱硬化性接着剤81をノ
ズル83から押し出す。これによって、図3(D),
(E)に示すように、半導体ベアチップ10の実装に必
要な量Vの半分の量V/2の熱硬化性接着剤101が第
2の個所P2に山状に塗布される。
Next, a second point application step 91 is performed. Here, first, as shown by a locus (3), the nozzle 83
It moves in two directions, then descends as shown by a locus (4), and has a low height above a second location P2 near the end in the Y2 direction within the semiconductor bare chip mounting area 20a of the printed circuit board 20 H1 is reached and stops at this low height H1. When the nozzle 83 descends and reaches the low height H1, the dispenser 85 operates to send out compressed air of a predetermined pressure in the same manner as described above for a predetermined time, thereby pushing out the thermosetting adhesive 81 from the nozzle 83. As a result, as shown in FIG.
As shown in (E), the amount V / 2 of the thermosetting adhesive 101, which is half the amount V required for mounting the semiconductor bare chip 10, is applied to the second portion P2 in a mountain shape.

【0024】次に、引き延ばし工程92を行う。ここで
は、ノズル83が、低い高さH1のまま、軌跡(5)で
示すようにY1方向にP1まで移動し、次いで軌跡
(6)で示すようにY2方向にP2まで移動して戻り、
次いで軌跡(7)で示すように再度Y1方向にP1まで
移動する。ノズル83は、低い高さH1のまま、P2−
P1間を往復移動する。ノズル83は先端に付着した熱
硬化性接着剤を引っ張りつつ移動する。Y1方向に移動
するときには、図3(G)に符号102で示すようにP
2の個所の熱硬化性接着剤101をY1方向に引き延ば
しつつ移動して、P2の個所の熱硬化性接着剤101を
Y1方向に引き延ばしてならす。Y2方向に移動すると
きには、P1の個所の熱硬化性接着剤100をY2方向
に引き延ばしつつ移動して、P1の個所の熱硬化性接着
剤100をY2方向に引き延ばしてならす。これによっ
て、図3(F),(G)に示すように、P1の個所の山
状の熱硬化性接着剤100とP2の個所の山状の熱硬化
性接着剤101とが、P2−P1間に拡げられて平坦化
される。
Next, a stretching step 92 is performed. Here, the nozzle 83 moves to P1 in the Y1 direction as shown by the locus (5) while keeping the low height H1, and then moves to P2 in the Y2 direction as shown by the locus (6), and returns.
Next, as shown by the trajectory (7), it again moves to P1 in the Y1 direction. The nozzle 83 remains at the low height H1 while the P2-
Reciprocate between P1. The nozzle 83 moves while pulling the thermosetting adhesive attached to the tip. When moving in the Y1 direction, as indicated by reference numeral 102 in FIG.
The thermosetting adhesive 101 at the location P2 is moved while being stretched in the Y1 direction, and the thermosetting adhesive 101 at the location P2 is stretched in the Y1 direction. When moving in the Y2 direction, the thermosetting adhesive 100 at the location P1 is moved while being stretched in the Y2 direction, and the thermosetting adhesive 100 at the location P1 is stretched in the Y2 direction. As a result, as shown in FIGS. 3F and 3G, the peak-shaped thermosetting adhesive 100 at the point P1 and the peak-shaped thermosetting adhesive 101 at the point P2 are P2-P1. It is spread between and flattened.

【0025】最後に、上昇工程93を行う。ここでは、
ノズル83が、軌跡(8)で示すように上昇して図3
(F),(G)に示すように高い高さH2に到る。ノズ
ル83が上昇すると、熱硬化性接着剤がノズル83から
切れる。この状態で、熱硬化性接着剤は、符号103で
示すように、P1の個所の山状の熱硬化性接着剤100
とP2の個所の山状の熱硬化性接着剤101とが、引き
延ばされてP2−P1間に拡げられて平坦化される。熱
硬化性接着剤103の高さh2は山状の熱硬化性接着剤
100、101の高さh1の半分にまで低くなって、
0.15mmとなる。
Finally, an ascending step 93 is performed. here,
The nozzle 83 rises as shown by a locus (8) and
As shown in (F) and (G), the height reaches a high height H2. When the nozzle 83 rises, the thermosetting adhesive is cut off from the nozzle 83. In this state, as shown by reference numeral 103, the thermosetting adhesive 100 has a mountain-shaped thermosetting adhesive 100 at the point P1.
And the mountain-shaped thermosetting adhesive 101 at the point P2 are stretched and spread between P2 and P1, and are flattened. The height h2 of the thermosetting adhesive 103 is reduced to half of the height h1 of the mountain-shaped thermosetting adhesives 100 and 101,
0.15 mm.

【0026】なお、ノズル83が、低い高さH1のま
ま、P2−P1間を往復移動することによって熱硬化性
接着剤は良好に拡げられるけれども、場合によっては、
ノズル83が、低い高さH1のまま、P2−P1間を片
方に移動するようにもできる。半導体ベアチップ10
は、図4に示すように実装される。即ち、先ず、プリン
ト基板20の半導体ベアチップ実装予定領域20aに上
記の手法でもって平坦化された熱硬化性接着剤103を
塗布形成し、この後、空気の吸引を利用した吸着ヘッド
50を使用して半導体ベアチップ10を、熱硬化性接着
剤42が塗布されたプリント基板20上の所定の部位に
位置合わせして搭載し軽く押しつけて仮付けし、吸着ヘ
ッド50より空気を軽く吹き出すと共に吸着ヘッド50
を上動させて、吸着ヘッド50を仮付けされた半導体ベ
アチップ10から離し、次いで、半導体ベアチップ10
が仮付けされているプリント基板20を別の場所に移
し、加圧部56及びヒータ57が組み込まれている加圧
加熱ヘッド55を仮付けされている半導体ベアチップ1
0に約100秒間押しつけて加圧すると共に加熱するこ
とによって実装される。
Although the thermosetting adhesive can be spread well by the nozzle 83 reciprocating between P2 and P1 while maintaining the low height H1, in some cases,
The nozzle 83 may move to one side between P2 and P1 while keeping the low height H1. Semiconductor bare chip 10
Are implemented as shown in FIG. That is, first, the thermosetting adhesive 103 flattened by the above-described method is applied to the semiconductor bare chip mounting area 20a of the printed circuit board 20, and then the suction head 50 using the suction of air is used. The semiconductor bare chip 10 is positioned and mounted on a predetermined portion of the printed circuit board 20 to which the thermosetting adhesive 42 has been applied, and is lightly pressed to temporarily attach the semiconductor bare chip 10 to the suction head 50.
Is moved upward to separate the suction head 50 from the temporarily attached semiconductor bare chip 10, and then the semiconductor bare chip 10
Is moved to another place, and the pressurizing and heating head 55 in which the pressurizing section 56 and the heater 57 are incorporated is temporarily mounted on the semiconductor bare chip 1.
It is implemented by pressing against zero for about 100 seconds, pressing and heating.

【0027】熱硬化性接着剤103が平坦化されている
ため、仮付けのときの熱硬化性接着剤の半導体ベアチッ
プ10の外周へのはみ出しは半導体ベアチップ10の外
周の全周に亘って均一に起こり、従来のように特定の場
所で多くはみ出すようなことは起きず、よって、はみ出
た熱硬化性接着剤が図9(C)に示すように半導体ベア
チップ10の上面に回り込んで吸着ヘッド50に付いて
しまうことが起きない。よって、吸着ヘッド50が半導
体ベアチップ10から円滑に離れ、半導体ベアチップ1
0の仮付けした位置がずれることが起きない。即ち、半
導体ベアチップ10は位置精度良く仮付けされる。よっ
て、仮付け時の位置ずれが原因で、スタッドバンプ13
が電極21から外れて電気的接続が不完全となってしま
う不良の発生は無くなり、半導体ベアチップ実装モジュ
ールを従来に比べて歩留り良く製造出来、且つ、製造し
た半導体ベアチップ実装モジュールの信頼性を向上させ
ることが出来る。
Since the thermosetting adhesive 103 is flattened, the protrusion of the thermosetting adhesive to the outer periphery of the semiconductor bare chip 10 at the time of temporary attachment is uniform over the entire outer periphery of the semiconductor bare chip 10. As a result, a large amount of the thermosetting adhesive does not protrude at a specific place as in the related art, and thus the protruding thermosetting adhesive flows around the upper surface of the semiconductor bare chip 10 as shown in FIG. It doesn't happen. Therefore, the suction head 50 smoothly separates from the semiconductor bare chip 10 and the semiconductor bare chip 1
The position where the temporary attachment of 0 is shifted does not occur. That is, the semiconductor bare chip 10 is temporarily attached with high positional accuracy. Therefore, the stud bumps 13 may be displaced due to misalignment during the temporary attachment.
Of the semiconductor bare chip mounted module can be manufactured with higher yield than before, and the reliability of the manufactured semiconductor bare chip mounted module can be improved. I can do it.

【0028】また、仮付けのときの熱硬化性接着剤の半
導体ベアチップ10の外周へのはみ出しが半導体ベアチ
ップ10の外周の全周に亘って均一であるため、実装後
状態において、熱硬化された熱硬化性接着剤のフィレッ
ト(図8(B)参照)は半導体ベアチップ10の外周の
全周に亘って均一に形成される。次に、ノズル83の変
形例について説明する。
Further, the protrusion of the thermosetting adhesive to the outer periphery of the semiconductor bare chip 10 at the time of temporary attachment is uniform over the entire outer periphery of the semiconductor bare chip 10, so that the thermosetting adhesive is thermally cured in a state after mounting. The fillet of the thermosetting adhesive (see FIG. 8B) is formed uniformly over the entire outer periphery of the semiconductor bare chip 10. Next, a modified example of the nozzle 83 will be described.

【0029】図5(A)のノズル83Aは、断面が長方
形である。このノズル83Aをその長辺120をY方向
に直角の向きで使用する。ノズル83Aを上記の向きで
使用することによって、これによって、熱硬化性接着剤
は、図5(B)に符号103Aで示すように、円筒のノ
ズルを使用した場合に比べて広い面積に引き延ばされて
拡げられて平坦化される。
The nozzle 83A of FIG. 5A has a rectangular cross section. The nozzle 83A is used with its long side 120 oriented at right angles to the Y direction. By using the nozzle 83A in the above orientation, the thermosetting adhesive can be spread over a wider area as compared with the case where a cylindrical nozzle is used, as indicated by reference numeral 103A in FIG. 5B. It is flattened and spread.

【0030】次に、本発明の半導体ベアチップ実装方法
に適用される別の一の熱硬化性接着剤塗布装置について
説明する。図6(A)に示すように、熱硬化性接着剤塗
布装置60Aは、大略、XYロボット61と、図6
(B)に示す接着剤塗布ヘッド62Aと、Z方向駆動シ
リンダ63と、制御回路70Aと、各駆動回路71〜7
5とを有する。
Next, another thermosetting adhesive application apparatus applied to the semiconductor bare chip mounting method of the present invention will be described. As shown in FIG. 6 (A), the thermosetting adhesive application device 60A generally includes an XY robot 61,
(B), an adhesive application head 62A, a Z-direction drive cylinder 63, a control circuit 70A, and drive circuits 71 to 7
And 5.

【0031】接着剤塗布ヘッド62Aは、空気吹き出し
ノズル130、131がシリンジ82が先端のノズル8
3の両側に斜めの向きで設けてある。この空気吹き出し
ノズル130、131には、圧縮空気源132がチュー
ブ133を通して接続してある。チューブ133の途中
に電磁バルブ134が設けてある。プリント基板20が
コンベア88によって移動されてきて、プリント基板2
0が熱硬化性接着剤塗布位置に固定されたことが確認さ
れると、マイクロコンピュータで構成されている制御回
路70Aがプログラムされている通りに動作し、XYロ
ボット61が動作してシリンジ82の先端のノズル83
を熱硬化性接着剤塗布位置に移動させる。
In the adhesive application head 62A, the air blowing nozzles 130 and 131 have the syringe 82 at the tip of the nozzle 8
3 are provided on both sides in an oblique direction. A compressed air source 132 is connected to the air blowing nozzles 130 and 131 through a tube 133. An electromagnetic valve 134 is provided in the middle of the tube 133. The printed circuit board 20 is moved by the conveyor 88 and the printed circuit board 2 is moved.
When it is confirmed that 0 is fixed at the thermosetting adhesive application position, the control circuit 70A constituted by a microcomputer operates as programmed, and the XY robot 61 operates to operate the syringe 82. Nozzle 83 at the tip
Is moved to the thermosetting adhesive application position.

【0032】この後、制御回路70Aからの制御信号に
よってZ駆動回路73が動作され、これによって、Z方
向駆動シリンダ63が動作して、接着剤塗布ヘッド62
がZ2方向に下降してプリント基板20に接近する。次
いで、制御回路70からの制御信号によってディスペン
サ駆動回路74が動作され、これによって、ディスペン
サ85が動作され、所定の圧力の圧縮空気を所定のタイ
ミングで所定の時間送り出し、熱硬化性接着剤81をノ
ズル83から押し出す。これによって、図7(A)に示
すように、所定量の熱硬化性接着剤140が山状に塗布
される。次いで、制御回路70からの制御信号によって
電磁バルブ駆動回路75が動作され、これによって電磁
バルブ134が開かれ、所定の時間に亘って開いた状態
とされる。電磁バルブ134が開かれると、図7(B)
に示すように、圧縮空気源132の圧縮空気が空気吹き
出しノズル130、131から吹き出し、空気吹き出し
ノズル130、131から吹き出した圧縮空気135,
136が山状の熱硬化性接着剤140に斜めに吹き付
け、山状の熱硬化性接着剤140が両側に拡がる。
Thereafter, the Z drive circuit 73 is operated by the control signal from the control circuit 70A, whereby the Z direction drive cylinder 63 is operated, and the adhesive application head 62 is operated.
Descends in the Z2 direction and approaches the printed circuit board 20. Next, the dispenser driving circuit 74 is operated by a control signal from the control circuit 70, whereby the dispenser 85 is operated, and compressed air at a predetermined pressure is sent out at a predetermined timing for a predetermined time, and the thermosetting adhesive 81 is discharged. Push out from the nozzle 83. As a result, as shown in FIG. 7A, a predetermined amount of the thermosetting adhesive 140 is applied in a mountain shape. Next, the electromagnetic valve driving circuit 75 is operated by a control signal from the control circuit 70, whereby the electromagnetic valve 134 is opened and kept open for a predetermined time. When the electromagnetic valve 134 is opened, FIG.
As shown in the figure, the compressed air from the compressed air source 132 blows out from the air blowing nozzles 130 and 131, and the compressed air 135 blown out from the air blowing nozzles 130 and 131.
136 is obliquely sprayed onto the mountain-shaped thermosetting adhesive 140, and the mountain-shaped thermosetting adhesive 140 spreads on both sides.

【0033】空気吹き出しノズル130、131からの
圧縮空気135,136が山状の熱硬化性接着剤140
に斜めに所定時間に亘って吹き付け続けることによっ
て、熱硬化性接着剤は図7(C)に符号141で示すよ
うに平坦とされる。この後、半導体ベアチップ10は、
図4に示すように実装される。また、空気吹き出しノズ
ル130、131から空気以外の気体を吹き出させても
よい。
The compressed air 135 and 136 from the air blowing nozzles 130 and 131 are used to form a mountain-like thermosetting adhesive 140.
7B, the thermosetting adhesive is flattened as indicated by reference numeral 141 in FIG. 7C. After this, the semiconductor bare chip 10
It is implemented as shown in FIG. Further, a gas other than air may be blown from the air blow nozzles 130 and 131.

【0034】なお、上記のように塗布された接着剤を利
用して実装されるものは上記の半導体ベアチップ10に
限らず、バンプを有しない半導体ベアチップ、及び樹脂
封止された半導体部品でもよい。半導体ベアチップ及び
樹脂封止された半導体部品を総称して半導体部品とい
う。また、塗布される接着剤は、熱硬化性のものにかぎ
らない。
The components mounted by using the adhesive applied as described above are not limited to the above-described semiconductor bare chip 10, but may be a semiconductor bare chip having no bumps and a resin-sealed semiconductor component. A semiconductor bare chip and a resin-sealed semiconductor component are collectively called a semiconductor component. The adhesive to be applied is not limited to a thermosetting adhesive.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、ノズルから接着剤を出して基板上の被接着体接
着予定領域内の離れた複数個所に塗布し、この後、ノズ
ルを上記塗布された接着剤の間を移動させて塗布された
接着剤を被接着体接着予定領域内で平坦に引き延ばすよ
うにしたため、引き延ばしを行わない場合に比べて、被
接着体の外周へのはみ出しが外周の全周に亘って均一に
起こるようにすることが出来、特定の場所で多くはみ出
して、その結果、被接着体の裏面のうち接着剤が行き渡
らない部分ができたり、接着剤が被接着体の上面に回り
込んだりする不都合の発生を防止出来る。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the adhesive is discharged from the nozzle and applied to a plurality of distant portions in the area where the object is to be bonded on the substrate. Because the applied adhesive is moved between the applied adhesives so that the applied adhesive is flatly stretched in the area where the object is to be bonded, compared to the case where the stretching is not performed, the outer circumference of the object to be bonded is Extrusion can be made to occur uniformly over the entire outer circumference, and it protrudes much at a specific place. As a result, there is a portion of the back surface of the adherend where the adhesive does not spread, or the adhesive is It is possible to prevent the inconvenience of wrapping around the upper surface of the adherend.

【0036】請求項2の発明によれば、ノズルから接着
剤を出して基板上の被接着体接着予定領域内の部位に塗
布し、この後、塗布された接着剤に気体を吹き付けて平
坦に拡げるようにしたため、ノズルを複雑に動かさなく
ても接着剤を拡げて平坦化することが出来る。請求項3
の発明によれば、ノズルから接着剤を出して基板上の被
接着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布する動作
後に、塗布された接着剤を被接着体接着予定領域内で平
坦に引き延ばすように上記ノズルを上記塗布された接着
剤の間を往復移動させる手段を有する構成としたため、
特別の設備を設けずに、接着剤を引き延ばして平坦化す
ることが出来る。
According to the second aspect of the present invention, the adhesive is discharged from the nozzle and applied to a portion of the substrate in the area where the object is to be bonded, and then the applied adhesive is blown with a gas to flatten the adhesive. Since the nozzle is spread, the adhesive can be spread and flattened without moving the nozzle complicatedly. Claim 3
According to the invention of the above, after the operation of taking out the adhesive from the nozzle and applying it to a plurality of distant locations in the area to be bonded on the substrate on the substrate, the applied adhesive is flattened in the area to be bonded. Because the nozzle has a means for reciprocating between the applied adhesive so as to extend,
The adhesive can be stretched and flattened without any special equipment.

【0037】請求項4の発明によれば、接着剤を出すノ
ズルに隣接して、該ノズルによって塗布された接着剤を
平坦に拡げるように気体を吹き出す気体吹出しノズルを
設けてなる構成としたため、ノズルを複雑に動かさなく
ても接着剤を拡げて平坦化することが出来る。請求項5
の発明によれば、請求項1及び請求項2のうちいずれか
一項記載の接着剤塗布方法によって塗布された接着剤を
利用して半導体部品を実装する構成であるため、塗布さ
れた接着剤の引き延ばしを行わない場合に比べて、熱硬
化性接着剤の半導体部品の外周へのはみ出しが外周の全
周に亘って均一に起こるようにすることが出来、特定の
場所で多くはみ出して、その結果、半導体部品の裏面の
うち接着剤が行き渡らない部分ができたり、接着剤が半
導体部品の上面に回り込んで仮付け用の吸着ヘッドに付
いて、吸着ヘッドを半導体部品から離すときに、半導体
部品が吸着ヘッドに引きずられて仮付けした位置がずれ
てしまい、信頼性を損ねたり、場合によっては電気的接
続がとられなくなって実装が不良をなってしまったりす
る不都合の発生を防止出来る。
According to the fourth aspect of the present invention, a gas blowing nozzle for blowing a gas is provided adjacent to the nozzle for discharging the adhesive so as to spread the adhesive applied by the nozzle evenly. The adhesive can be spread and flattened without moving the nozzle complicatedly. Claim 5
According to the invention, the semiconductor component is mounted by using the adhesive applied by the adhesive applying method according to any one of claims 1 and 2, so that the applied adhesive is applied. As compared with the case where the stretching is not performed, the protrusion of the thermosetting adhesive to the outer periphery of the semiconductor component can be caused to occur uniformly over the entire outer periphery, and a large amount protrudes at a specific place, As a result, there is a portion of the back surface of the semiconductor component where the adhesive does not spread, or the adhesive wraps around the upper surface of the semiconductor component and attaches to the suction head for temporary attachment, when the suction head is separated from the semiconductor component, The components may be dragged by the suction head and the temporarily attached position may shift, resulting in inconvenience such as loss of reliability or, in some cases, loss of electrical connection and poor mounting. It can be stopped.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される一の熱硬化性接着剤塗布装置を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing one thermosetting adhesive application device applied to a semiconductor bare chip mounting method according to one embodiment of the present invention.

【図2】熱硬化性接着剤を塗布するときのノズル先端の
軌跡を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a trajectory of a nozzle tip when a thermosetting adhesive is applied.

【図3】熱硬化性接着剤の塗布を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating application of a thermosetting adhesive.

【図4】本発明の一実施例の半導体ベアチップ実装方法
を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a method for mounting a semiconductor bare chip according to one embodiment of the present invention.

【図5】ノズルの変形例を示す図である。FIG. 5 is a view showing a modified example of a nozzle.

【図6】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される別の熱硬化性接着剤塗布装置を示す図
である。
FIG. 6 is a diagram showing another thermosetting adhesive application device applied to the semiconductor bare chip mounting method according to one embodiment of the present invention.

【図7】塗布された熱硬化性接着剤が拡がって平坦化さ
れる状態を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a state where the applied thermosetting adhesive is spread and flattened.

【図8】半導体ベアチップ及び半導体ベアチップ実装モ
ジュールを示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a semiconductor bare chip and a semiconductor bare chip mounting module.

【図9】従来の熱硬化性接着剤の塗布を示す図である。FIG. 9 is a view showing the application of a conventional thermosetting adhesive.

【図10】従来の半導体ベアチップ実装方法を示す図で
ある。
FIG. 10 is a diagram showing a conventional semiconductor bare chip mounting method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 半導体ベアチップ 13 スタッドバンプ 20 プリント基板 21 電極 30 半導体ベアチップ実装モジュール 50 吸着ヘッド 55 加圧加熱ヘッド 60,60A 熱硬化性接着剤塗布装置 61 XYロボット 62,62A 接着剤塗布ヘッド 70,70A 制御回路 71〜75 駆動回路 82 シリンジ 83、83A ノズル 85 ディスペンサ 90 一点目塗布工程 91 二点目塗布工程 92 引き延ばし工程 103、103A,141 平坦化された熱硬化性接着
剤 130,131 空気吹き出しノズル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor bare chip 13 Stud bump 20 Printed circuit board 21 Electrode 30 Semiconductor bare chip mounting module 50 Suction head 55 Pressure heating head 60, 60A Thermosetting adhesive coating device 61 XY robot 62, 62A Adhesive coating head 70, 70A Control circuit 71 -75 Drive circuit 82 Syringe 83, 83A nozzle 85 Dispenser 90 First point application step 91 Second point application step 92 Stretching step 103, 103A, 141 Flattened thermosetting adhesive 130, 131 Air blowing nozzle

フロントページの続き (72)発明者 海沼 則夫 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 石川 直樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 江本 哲 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内Continued on the front page. (72) Inventor Norio Kainuma 4-1-1, Kamidadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Naoki Ishikawa 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Tetsu Emoto 4-1-1 Kamikadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Fujitsu Limited

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノズルから接着剤を出して基板上の被接
着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布し、この
後、ノズルを上記塗布された接着剤の間を移動させて塗
布された接着剤を被接着体接着予定領域内で平坦に引き
延ばすようにしたことを特徴とする接着剤塗布方法。
An adhesive is ejected from a nozzle and is applied to a plurality of distant locations within a region where an object to be adhered on a substrate is to be bonded, and then the nozzle is moved by moving the adhesive between the applied adhesives. An adhesive applying method, wherein the adhesive is flattened in a region where the object is to be bonded.
【請求項2】 ノズルから接着剤を出して基板上の被接
着体接着予定領域内の部位に塗布し、この後、塗布され
た接着剤に気体を吹き付けて平坦に拡げるようにしたこ
とを特徴とする接着剤塗布方法。
2. The method according to claim 1, wherein the adhesive is discharged from the nozzle and applied to a portion of the substrate in a region where the object is to be bonded, and thereafter the applied adhesive is blown with a gas to spread the adhesive flat. Adhesive application method.
【請求項3】 ノズルから接着剤を出して基板上の被接
着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布する動作後
に、塗布された接着剤を被接着体接着予定領域内で平坦
に引き延ばすように上記ノズルを上記塗布された接着剤
の間を移動させる手段を有する構成としたことを特徴と
する接着剤塗布装置。
3. An operation of taking out an adhesive from a nozzle and applying the adhesive to a plurality of distant places in a region to be bonded on a substrate, and then spreading the applied adhesive flat in the region to be bonded. The adhesive coating apparatus is provided with means for moving the nozzle between the applied adhesives as described above.
【請求項4】 接着剤を出すノズルに隣接して、該ノズ
ルによって塗布された接着剤を平坦に拡げるように気体
を吹き出す気体吹出しノズルを設けてなる構成としたこ
とを特徴とする接着剤塗布装置。
4. Adhesive coating characterized in that a gas blowing nozzle for blowing gas is provided adjacent to a nozzle for discharging the adhesive so as to spread the adhesive applied by the nozzle evenly. apparatus.
【請求項5】 請求項1及び請求項2のうちいずれか一
項記載の接着剤塗布方法によって塗布された接着剤を利
用して半導体部品を実装することを特徴とする半導体部
品実装方法。
5. A method for mounting a semiconductor component using an adhesive applied by the method for applying an adhesive according to claim 1.
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