JP3416032B2 - Adhesive application method, adhesive application device, and semiconductor component mounting method - Google Patents
Adhesive application method, adhesive application device, and semiconductor component mounting methodInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は接着剤塗布方法、接
着剤塗布装置、及び半導体部品実装方法に係り、特に、
半導体ベアチップを圧着接合のフリップチップ方式で基
板上に実装する場合に適用される接着剤塗布方法、接着
剤塗布装置、及び半導体部品実装方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive applying method, an adhesive applying apparatus, and a semiconductor component mounting method, and in particular,
The present invention relates to an adhesive applying method, an adhesive applying apparatus, and a semiconductor component mounting method applied when a semiconductor bare chip is mounted on a substrate by a flip chip method of pressure bonding.
【0002】携帯型情報機器の小型化に伴い、半導体装
置の基板への実装については高密度化が求められてい
る。また地球環境問題を考慮することが求められてい
る。そこで、パケージングされていない状態の裸のチッ
プである半導体ベアチップを圧着接合のフリップチップ
方式で実装する技術が開発されつつある。ここで、説明
の便宜上、半導体ベアチップ10の構成及び半導体ベア
チップ10が実装されている半導体ベアチップ実装モジ
ュール30の構造について説明する。With the miniaturization of portable information equipment, higher density is required for mounting semiconductor devices on a substrate. It is also required to consider global environmental issues. Therefore, a technique of mounting a bare semiconductor chip, which is a bare chip in an unpackaged state, by a flip-chip method of pressure bonding is being developed. Here, for convenience of description, the configuration of the semiconductor bare chip 10 and the structure of the semiconductor bare chip mounting module 30 on which the semiconductor bare chip 10 is mounted will be described.
【0003】図8(A)に示すように、半導体ベアチッ
プ10は、ウェハから切り出された半導体ベアチップ本
体11の下面11aのAl製の各電極12上にスタッド
バンプ13が形成されており、且つ、スタッドバンプ1
3の頂部を覆うように導電性接着剤14が付着されてい
る構成である。スタッドバンプ13はAu製である。導
電性接着剤14は、エポキシ樹脂にAgフィラーが含有
されているものである。スタッドバンプ13及び導電性
接着剤14は鉛を有しない。As shown in FIG. 8A, the semiconductor bare chip 10 has stud bumps 13 formed on each Al electrode 12 on the lower surface 11a of the semiconductor bare chip body 11 cut out from the wafer, and Stud bump 1
In this configuration, the conductive adhesive 14 is attached so as to cover the top part of No. 3. The stud bump 13 is made of Au. The conductive adhesive 14 is an epoxy resin containing an Ag filler. The stud bump 13 and the conductive adhesive 14 do not contain lead.
【0004】半導体ベアチップ10は、プリント基板2
0の半導体ベアチップ実装予定領域20aにエポキシの
熱硬化性接着剤が塗布されたプリント基板20に、加圧
すると共に加熱することによって、図8(B)に示すよ
うに、圧着接合のフリップチップ方式で実装される。図
8(B)は図8(A)の半導体ベアチップ10が実装さ
れた半導体ベアチップ実装モジュール30を示す。半導
体ベアチップ10は、スタッドバンプ13がプリント基
板20上の電極21に圧着し且つ導電性接着剤14によ
って電極21と接着されて、且つ、半導体ベアチップ本
体11を熱硬化されたエポキシの熱硬化性接着剤26に
よってプリント基板11に接着されて実装されている。
熱硬化性接着剤26は、半導体ベアチップ本体11とプ
リント基板21との間の隙間27内に存在しており熱硬
化されているため、半導体ベアチップ本体11の下面1
1a全面がプリント基板20に接着してあり、且つ、熱
硬化性接着剤が熱硬化して収縮することによって半導体
ベアチップ本体11の下面11a全面が力Fでプリント
基板20側に引き寄せられている。この力Fでもって、
スタッドバンプ13が電極21に圧着しており、各スタ
ッドバンプ13が対応する電極21と電気的に接続され
ている。26aは熱硬化性接着剤26のフィレットであ
り、半導体ベアチップ本体11の全周に形成されてい
る。The semiconductor bare chip 10 is a printed circuit board 2
As shown in FIG. 8B, by applying pressure and heating to the printed circuit board 20 in which the epoxy thermosetting adhesive is applied to the semiconductor bare chip mounting area 20a of 0, as shown in FIG. To be implemented. FIG. 8B shows a semiconductor bare chip mounting module 30 on which the semiconductor bare chip 10 of FIG. 8A is mounted. In the semiconductor bare chip 10, the stud bumps 13 are pressure-bonded to the electrodes 21 on the printed circuit board 20 and are bonded to the electrodes 21 by the conductive adhesive 14, and the semiconductor bare chip main body 11 is thermoset with thermosetting epoxy. The agent 26 is adhered and mounted on the printed circuit board 11.
Since the thermosetting adhesive 26 is present in the gap 27 between the semiconductor bare chip body 11 and the printed board 21 and is thermoset, the bottom surface 1 of the semiconductor bare chip body 11 is
The entire surface 1a is adhered to the printed circuit board 20, and the entire lower surface 11a of the semiconductor bare chip body 11 is attracted to the printed circuit board 20 side by the force F due to the thermosetting adhesive being thermally cured and contracted. With this force F,
The stud bumps 13 are pressure-bonded to the electrodes 21, and each stud bump 13 is electrically connected to the corresponding electrode 21. Reference numeral 26 a is a fillet of the thermosetting adhesive 26, which is formed on the entire circumference of the semiconductor bare chip body 11.
【0005】[0005]
【従来の技術】従来は、図9(A),(B)に示すよう
に、シリンジ40の先端のノズル41から熱硬化性接着
剤を押し出して、プリント基板20の半導体ベアチップ
実装予定領域20aの中央部に符号42で示すように所
定量塗布し、この状態で、半導体ベアチップを加圧する
と共に加熱して実装していた。具体的には、図10に示
すように、空気の吸引を利用した吸着ヘッド50を使用
して半導体ベアチップ10を、熱硬化性接着剤42が塗
布されたプリント基板20上の所定の部位に位置合わせ
して搭載し軽く押しつけて仮付けし、吸着ヘッド50よ
り空気を軽く吹き出すと共に吸着ヘッド50を上動させ
て、吸着ヘッド50を仮付けされた半導体ベアチップ1
0から離し、半導体ベアチップ10が仮付けされている
プリント基板20を別の場所に移し、加圧部56及びヒ
ータ57が組み込まれている加圧加熱ヘッド55を仮付
けされている半導体ベアチップ10に約100秒間押し
つけて加圧すると共に加熱することによって実装してい
た。2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIGS. 9 (A) and 9 (B), a thermosetting adhesive is extruded from a nozzle 41 at the tip of a syringe 40 so that a semiconductor bare chip mounting area 20a of a printed circuit board 20 is formed. A predetermined amount was applied to the central portion as indicated by reference numeral 42, and in this state, the semiconductor bare chip was pressed and heated to be mounted. Specifically, as shown in FIG. 10, the semiconductor bare chip 10 is positioned at a predetermined position on the printed circuit board 20 coated with the thermosetting adhesive 42 by using the suction head 50 utilizing the suction of air. The semiconductor bare chip 1 in which the suction heads 50 are temporarily attached by mounting them together, pressing them lightly, and temporarily adhering them to the suction heads 50 and moving the suction heads 50 upward
The printed circuit board 20 to which the semiconductor bare chip 10 is temporarily attached is moved to another place from 0, and the pressurizing and heating head 55 in which the pressurizing unit 56 and the heater 57 are incorporated is temporarily attached to the semiconductor bare chip 10. It was mounted by pressing for about 100 seconds to apply pressure and heating.
【0006】塗布された熱硬化性接着剤42の量は、上
記の実装する半導体ベアチップのサイズに対応した量で
あり、半導体ベアチップの下面の全体を接着し、半導体
ベアチップの周囲にはみ出して上記のフィレット26a
が形成されるに足る量である。ここで、熱硬化性接着剤
の粘度は一般的に高い。よって、塗布された熱硬化性接
着剤42は、図9(B)に示すように、プリント基板2
0の表面から山形状に盛りあがっており、高さh1は約
0.3mm程度と高い。The amount of the thermosetting adhesive 42 applied is an amount corresponding to the size of the semiconductor bare chip to be mounted, and the entire lower surface of the semiconductor bare chip is adhered to the semiconductor bare chip so as to protrude to the periphery of the semiconductor bare chip. Fillet 26a
Is an amount sufficient to be formed. Here, the viscosity of the thermosetting adhesive is generally high. Therefore, the applied thermosetting adhesive 42 is, as shown in FIG.
It is raised in a mountain shape from the surface of 0, and the height h1 is as high as about 0.3 mm.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】塗布された熱硬化性接
着剤42は一つの個所に集中しているため、吸着ヘッド
50を使用して半導体ベアチップ10を位置合わせして
搭載し軽く押しつけて仮付けした状態で、図9(C)に
示すように、半導体ベアチップ10の外周の一部におい
て熱硬化性接着剤42が半導体ベアチップ10から多く
はみ出てその一部が半導体ベアチップ10の上面に回り
込んで符号43で示すように吸着ヘッド50に付くこと
が起きる場合があった。半導体ベアチップ10の上面に
回り込んだ熱硬化性接着剤41が吸着ヘッド50に付く
と、吸着ヘッド50が半導体ベアチップ10から離れる
ときに、半導体ベアチップ10が吸着ヘッド50に引き
ずられて仮付けした位置がずれてしまい、スタッドバン
プ13が電極21から外れて電気的接続が不完全な状態
で実装されてしまい、実装不良を起こしてしまうおそれ
があった。Since the applied thermosetting adhesive 42 is concentrated in one place, the semiconductor bare chip 10 is aligned and mounted by using the suction head 50 and temporarily pressed by pressing. In the attached state, as shown in FIG. 9C, the thermosetting adhesive 42 largely protrudes from the semiconductor bare chip 10 in a part of the outer periphery of the semiconductor bare chip 10 and a part thereof wraps around the upper surface of the semiconductor bare chip 10. In some cases, as shown by reference numeral 43, sticking to the suction head 50 may occur. When the thermosetting adhesive 41 wraps around the upper surface of the semiconductor bare chip 10 and adheres to the suction head 50, when the suction head 50 separates from the semiconductor bare chip 10, the semiconductor bare chip 10 is dragged by the suction head 50 and temporarily attached. There is a risk that the stud bumps 13 are dislocated from the electrodes 21 and are mounted in a state where the electrical connection is incomplete, resulting in mounting failure.
【0008】現在、半導体ベアチップ内に形成される集
積回路の高密度化に伴い、半導体ベアチップのサイズが
従来の20mm□から数mm□に小さくなってきてお
り、これに伴って半導体ベアチップの厚さも従来の1〜
2mmから0.5mmに薄くなってきている。半導体ベ
アチップのサイズが小さくなったことによって、熱硬化
性接着剤の基準塗布量が少なくなり、塗布量について許
容されるばらつきの量も少なくなり、また、半導体ベア
チップの厚さが0.5mmに薄くなっているため、熱硬
化性接着剤が半導体ベアチップの上面に回り込み易くな
る傾向にある。そこで、熱硬化性接着剤が半導体ベアチ
ップの上面に回り込みにくくする方策が必要となってき
ている。At present, as the density of integrated circuits formed in a semiconductor bare chip increases, the size of the semiconductor bare chip is reduced from the conventional 20 mm □ to several mm □, and the thickness of the semiconductor bare chip is also reduced accordingly. Conventional 1
It is becoming thinner from 2 mm to 0.5 mm. Since the size of the semiconductor bare chip is reduced, the standard coating amount of the thermosetting adhesive is reduced, and the allowable variation in the coating amount is also reduced, and the thickness of the semiconductor bare chip is as thin as 0.5 mm. Therefore, the thermosetting adhesive tends to easily get around to the upper surface of the bare semiconductor chip. Therefore, it is necessary to take measures to prevent the thermosetting adhesive from wrapping around the upper surface of the semiconductor bare chip.
【0009】そこで、本発明は、上記課題を解決した接
着剤塗布方法、接着剤塗布装置、及び半導体部品実装方
法を提供することを目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide an adhesive applying method, an adhesive applying apparatus, and a semiconductor component mounting method which solve the above problems.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明は、単一のノズルから接着剤を出し
て基板上の被接着体接着予定領域内の離れた複数個所に
塗布し、最後に接着剤を塗布した状態で上記ノズルを横
に移動させ且つ上記塗布された接着剤の間を移動させ
て、最後に塗布した接着剤を接着剤を引き延ばすと共に
複数個所に塗布された接着剤を被接着体接着予定領域内
で平坦に引き延ばすようにしたものである。In order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION The invention of Claim 1, apart plurality of locations adherend adhesive plan area on the substrate out of the adhesive from a single Roh nozzle To the nozzle , and finally with the adhesive applied, slide the nozzle sideways.
And between the coated adhesives
The last applied adhesive, stretch the adhesive and
The coated adhesives at a plurality of locations is obtained by postpones flat in adherend adhesion planned area.
【0011】平坦に引き延ばすことによって、引き延ば
しを行わない場合に比べて、被接着体の外周へのはみ出
しが外周の全周に亘って均一に起こるようになる。By flattening, as compared with the case where the stretching is not performed, the protrusion of the adherend to the outer periphery is made to occur uniformly over the entire outer periphery.
【0012】請求項2の発明は、単一のノズルから接着
剤を出して基板上の被接着体接着予定領域内の離れた複
数個所に塗布する動作に続いて、最後に塗布した接着剤
を接着剤を引き延ばすと共に複数個所に塗布された接着
剤を被接着体接着予定領域内で平坦に引き延ばすよう
に、上記ノズルを最後に接着剤を塗布した高さのまま上
記塗布された接着剤の間を移動させる手段を有する構成
としたものである。[0012] The invention of 請 Motomeko 2, the adhesive from a single nozzle
The adhesive is applied to the substrate to be bonded and the
After the operation of applying to several places, the adhesive applied last
The adhesive is stretched and the adhesive is applied to multiple locations.
Spread the agent flat in the area to be bonded
The nozzle above the same height as when the adhesive was last applied.
It is configured to have means for moving between the applied adhesives .
【0013】ノズルを塗布された接着剤の間を移動させ
る手段を設けたことによって、特別の設備を設けずに、
接着剤を引き延ばして平坦化することが可能となる。 By providing means for moving the nozzle between the applied adhesives, no special equipment is required,
It can be flattened by stretching the adhesive and that Do.
【0014】請求項3の発明は、請求項1記載の接着剤
塗布方法によって塗布された接着剤を利用して半導体部
品を実装する構成としたものである。[0014] 請 nucleophilic claim 3 invention has a structure for mounting a semiconductor component using the adhesive applied by the adhesive application method according to claim 1, wherein.
【0015】塗布した熱硬化性接着剤の引き延ばしを行
わない場合に比べて、接着剤の半導体部品の外周へのは
み出しが外周の全周に亘って均一に起こるようになり、
特定の場所で多くはみ出すことがないようになる。As compared with the case where the applied thermosetting adhesive is not stretched, the protrusion of the adhesive to the outer periphery of the semiconductor component becomes uniform over the entire outer periphery,
You will not be able to overhang much in a specific place.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】図1(A)は本発明の一実施例に
なる半導体ベアチップ実装方法に適用される一の熱硬化
性接着剤塗布装置60を示す。熱硬化性接着剤塗布装置
60は、大略、XYロボット61と、図1(B)に示す
接着剤塗布ヘッド62と、Z方向駆動シリンダ63と、
制御回路70と、各駆動回路71〜74とを有する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1A shows a thermosetting adhesive applying device 60 applied to a semiconductor bare chip mounting method according to an embodiment of the present invention. The thermosetting adhesive application device 60 generally includes an XY robot 61, an adhesive application head 62 shown in FIG. 1 (B), a Z-direction drive cylinder 63, and
It has a control circuit 70 and drive circuits 71 to 74.
【0017】XYロボット61は、Xアーム65と、Y
アーム66と、Yアーム66をXアーム65に沿って移
動させるX方向駆動シリンダ67と、Z方向駆動シリン
ダ63をYアーム66に沿って移動させるY方向駆動シ
リンダ68とよりなる。Z方向駆動シリンダ63がYア
ーム66に支持されており、図1(B)に示すように、
接着剤塗布ヘッド62がZ方向駆動シリンダ63に支持
されている。The XY robot 61 has an X arm 65 and a Y arm.
The arm 66 includes an X-direction drive cylinder 67 that moves the Y-arm 66 along the X-arm 65, and a Y-direction drive cylinder 68 that moves the Z-direction drive cylinder 63 along the Y-arm 66. The Z direction drive cylinder 63 is supported by the Y arm 66, and as shown in FIG.
The adhesive application head 62 is supported by the Z-direction drive cylinder 63.
【0018】制御回路70からの制御信号によってX駆
動回路71及びY駆動回路72が動作されることによっ
て、X方向駆動シリンダ67及びY方向駆動シリンダ6
8が駆動されてXYロボット61が動作して、接着剤塗
布ヘッド62がXY方向に移動させられる。また、制御
回路70からの制御信号によってZ駆動回路73が動作
されることによって、Z方向駆動シリンダ63が動作し
て、接着剤塗布ヘッド62がZ方向に移動させられる。The X drive circuit 71 and the Y drive circuit 72 are operated by the control signal from the control circuit 70, so that the X direction drive cylinder 67 and the Y direction drive cylinder 6 are operated.
8 is driven to operate the XY robot 61, and the adhesive application head 62 is moved in the XY directions. Further, the Z drive circuit 73 is operated by the control signal from the control circuit 70, whereby the Z direction drive cylinder 63 is operated and the adhesive application head 62 is moved in the Z direction.
【0019】接着剤塗布ヘッド62は、シリンジ支持機
構部80がZ方向駆動シリンダ63のロッド63aに固
定してあり、このシリンジ支持機構部80に熱硬化性接
着剤81が入っているシリンジ82が先端のノズル83
が下を向いた垂直の向きで取り付けてあり、シリンジ8
2の上端がチューブ84でもってディスペンサ85と接
続してある構成である。制御回路70からの制御信号に
よってディスペンサ駆動回路74が動作されることによ
って、ディスペンサ85が動作され、所定の圧力の圧縮
空気を所定のタイミングで所定の時間送り出し、熱硬化
性接着剤81をノズル83から押し出す。ノズル83の
断面は円形であり、外径が0.9mm、内径が0.5m
mである。In the adhesive application head 62, the syringe support mechanism 80 is fixed to the rod 63a of the Z-direction drive cylinder 63, and the syringe support mechanism 80 includes a syringe 82 containing a thermosetting adhesive 81. Tip nozzle 83
Mounted vertically with the syringe 8
The upper end of 2 is connected to the dispenser 85 with a tube 84. The dispenser drive circuit 74 is operated by the control signal from the control circuit 70, whereby the dispenser 85 is operated, the compressed air of a predetermined pressure is sent out at a predetermined timing for a predetermined time, and the thermosetting adhesive 81 is ejected from the nozzle 83. Push out from. Nozzle 83 has a circular cross section with an outer diameter of 0.9 mm and an inner diameter of 0.5 m.
m.
【0020】制御回路70はマイクロコンピュータで構
成されている。プリント基板20がコンベア88によっ
て移動されてきて、プリント基板20が熱硬化性接着剤
塗布位置に固定されたことが確認されると、制御回路7
0がプログラムされている通りに動作し、XYロボット
61が動作してシリンジ82の先端のノズル83を熱硬
化性接着剤塗布位置に移動させ、この後、Z方向駆動シ
リンダ67及びY方向駆動シリンダ68が所定の順番で
動作されて、ノズル83が、図2(A)及び(B)中、
軌跡(1)〜(8)で示すように移動し、ディスペンサ
85が所定の時点(時間)T1,T2で動作する。The control circuit 70 is composed of a microcomputer. When the printed circuit board 20 is moved by the conveyor 88 and it is confirmed that the printed circuit board 20 is fixed at the thermosetting adhesive application position, the control circuit 7
0 operates as programmed, the XY robot 61 operates to move the nozzle 83 at the tip of the syringe 82 to the thermosetting adhesive application position, and thereafter, the Z direction drive cylinder 67 and the Y direction drive cylinder. 68 is operated in a predetermined order so that the nozzle 83 moves to the position shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B).
It moves as shown by the loci (1) to (8), and the dispenser 85 operates at predetermined time points (time) T1 and T2.
【0021】熱硬化性接着剤塗布装置60は、大略、熱
硬化性接着剤を離れた二個所で塗布し、この後にノズル
83が下がった状態で往復移動して、熱硬化性接着剤を
引き延ばして平坦とするように動作する。ここで、図3
(A)乃至(I)を参照して熱硬化性接着剤塗布の動作
について詳細に説明する。図3(A)は熱硬化性接着剤
塗布動作の工程を示す。The thermosetting adhesive application device 60 generally applies the thermosetting adhesive at two separate locations, and then reciprocates with the nozzle 83 lowered to extend the thermosetting adhesive. Works as if flat. Here, FIG.
The operation of applying the thermosetting adhesive will be described in detail with reference to (A) to (I). FIG. 3A shows the steps of the thermosetting adhesive application operation.
【0022】先ず、一点目塗布工程90を行う。ここで
は、ノズル83が、軌跡(1)で示すように、プリント
基板20の半導体ベアチップ実装予定領域20a内のう
ちY1方向端寄りの第1の個所P1に下降し、プリント
基板20に接近した低い高さH1に到り、この低い高さ
H1に停止して留まる。ノズル83が下降して低い高さ
H1に到ると、ディスペンサ85が動作し、所定の圧力
の圧縮空気を所定の時間送り出し、熱硬化性接着剤81
をノズル83から押し出す。これによって、図3
(B),(C)に示すように、半導体ベアチップ10の
実装に必要な量Vの半分の量V/2の熱硬化性接着剤1
00が第1の個所P1に山状に塗布される。この後、ノ
ズル83が、軌跡(2)で示すように上昇して、プリン
ト基板20から離れた高い高さH2に到る。First, the first point coating step 90 is performed. Here, as shown by the locus (1), the nozzle 83 descends to the first portion P1 in the semiconductor bare chip mounting scheduled region 20a of the printed circuit board 20 near the end in the Y1 direction and approaches the printed circuit board 20. It reaches the height H1 and stops and stays at this low height H1. When the nozzle 83 descends and reaches the low height H1, the dispenser 85 operates to deliver compressed air of a predetermined pressure for a predetermined time, and the thermosetting adhesive 81
Are extruded from the nozzle 83. As a result, FIG.
As shown in (B) and (C), the thermosetting adhesive 1 has an amount V / 2 which is half the amount V required for mounting the semiconductor bare chip 10.
00 is applied to the first portion P1 in a mountain shape. After this, the nozzle 83 rises as shown by the locus (2) and reaches a high height H2 which is separated from the printed circuit board 20.
【0023】次に、二点目塗布工程91を行う。ここで
は、ノズル83が、先ず、軌跡(3)で示すように、Y
2方向に移動し、続いて、軌跡(4)で示すように下降
し、、プリント基板20の半導体ベアチップ実装予定領
域20a内のうちY2方向端寄りの第2の個所P2の上
の低い高さH1に到り、この低い高さH1に停止して留
まる。ノズル83が下降して低い高さH1に到ると、デ
ィスペンサ85が動作し、前記と同じく所定の圧力の圧
縮空気を所定の時間送り出し、熱硬化性接着剤81をノ
ズル83から押し出す。これによって、図3(D),
(E)に示すように、半導体ベアチップ10の実装に必
要な量Vの半分の量V/2の熱硬化性接着剤101が第
2の個所P2に山状に塗布される。Next, a second point coating step 91 is performed. Here, the nozzle 83 is first set to Y as shown by the locus (3).
It moves in two directions, then descends as shown by the locus (4), and has a low height above the second portion P2 in the semiconductor bare chip mounting area 20a of the printed circuit board 20 toward the Y2 direction end. It reaches H1 and stops and stays at this low height H1. When the nozzle 83 descends to reach the low height H1, the dispenser 85 operates, and the compressed air having a predetermined pressure is sent out for a predetermined time as described above, and the thermosetting adhesive 81 is pushed out from the nozzle 83. As a result, FIG.
As shown in (E), a thermosetting adhesive 101 having an amount V / 2, which is a half of the amount V required for mounting the semiconductor bare chip 10, is applied to the second portion P2 in a mountain shape.
【0024】次に、引き延ばし工程92を行う。ここで
は、ノズル83が、低い高さH1のまま、軌跡(5)で
示すようにY1方向にP1まで移動し、次いで軌跡
(6)で示すようにY2方向にP2まで移動して戻り、
次いで軌跡(7)で示すように再度Y1方向にP1まで
移動する。ノズル83は、低い高さH1のまま、P2−
P1間を往復移動する。ノズル83は先端に付着した熱
硬化性接着剤を引っ張りつつ移動する。Y1方向に移動
するときには、図3(G)に符号102で示すようにP
2の個所の熱硬化性接着剤101をY1方向に引き延ば
しつつ移動して、P2の個所の熱硬化性接着剤101を
Y1方向に引き延ばしてならす。Y2方向に移動すると
きには、P1の個所の熱硬化性接着剤100をY2方向
に引き延ばしつつ移動して、P1の個所の熱硬化性接着
剤100をY2方向に引き延ばしてならす。これによっ
て、図3(F),(G)に示すように、P1の個所の山
状の熱硬化性接着剤100とP2の個所の山状の熱硬化
性接着剤101とが、P2−P1間に拡げられて平坦化
される。Next, a stretching step 92 is performed. Here, the nozzle 83 moves to P1 in the Y1 direction as shown by the locus (5) while keeping the low height H1, and then moves to P2 in the Y2 direction as shown by the locus (6) and returns.
Then, as shown by the locus (7), it moves again in the Y1 direction to P1. The nozzle 83 remains P2-
Move back and forth between P1. The nozzle 83 moves while pulling the thermosetting adhesive attached to the tip. When moving in the Y1 direction, as indicated by reference numeral 102 in FIG.
The thermosetting adhesive 101 at the position 2 is moved while being stretched in the Y1 direction, and the thermosetting adhesive 101 at the position P2 is stretched in the Y1 direction. When moving in the Y2 direction, the thermosetting adhesive 100 at the point P1 is moved while being extended in the Y2 direction, and the thermosetting adhesive 100 at the point P1 is extended in the Y2 direction. As a result, as shown in FIGS. 3 (F) and (G), the mountain-shaped thermosetting adhesive 100 at the portion P1 and the mountain-shaped thermosetting adhesive 101 at the portion P2 are P2-P1. It is spread between and flattened.
【0025】最後に、上昇工程93を行う。ここでは、
ノズル83が、軌跡(8)で示すように上昇して図3
(F),(G)に示すように高い高さH2に到る。ノズ
ル83が上昇すると、熱硬化性接着剤がノズル83から
切れる。この状態で、熱硬化性接着剤は、符号103で
示すように、P1の個所の山状の熱硬化性接着剤100
とP2の個所の山状の熱硬化性接着剤101とが、引き
延ばされてP2−P1間に拡げられて平坦化される。熱
硬化性接着剤103の高さh2は山状の熱硬化性接着剤
100、101の高さh1の半分にまで低くなって、
0.15mmとなる。Finally, the rising step 93 is performed. here,
The nozzle 83 rises as shown by the locus (8) and the
As shown in (F) and (G), a high height H2 is reached. When the nozzle 83 rises, the thermosetting adhesive is cut off from the nozzle 83. In this state, the thermosetting adhesive is, as indicated by reference numeral 103, a mountain-shaped thermosetting adhesive 100 at P1.
And the mountain-shaped thermosetting adhesive 101 at P2 are stretched and spread between P2-P1 to be flattened. The height h2 of the thermosetting adhesive 103 is reduced to half of the height h1 of the mountain-shaped thermosetting adhesives 100 and 101,
It becomes 0.15 mm.
【0026】なお、ノズル83が、低い高さH1のま
ま、P2−P1間を往復移動することによって熱硬化性
接着剤は良好に拡げられるけれども、場合によっては、
ノズル83が、低い高さH1のまま、P2−P1間を片
方に移動するようにもできる。半導体ベアチップ10
は、図4に示すように実装される。即ち、先ず、プリン
ト基板20の半導体ベアチップ実装予定領域20aに上
記の手法でもって平坦化された熱硬化性接着剤103を
塗布形成し、この後、空気の吸引を利用した吸着ヘッド
50を使用して半導体ベアチップ10を、熱硬化性接着
剤42が塗布されたプリント基板20上の所定の部位に
位置合わせして搭載し軽く押しつけて仮付けし、吸着ヘ
ッド50より空気を軽く吹き出すと共に吸着ヘッド50
を上動させて、吸着ヘッド50を仮付けされた半導体ベ
アチップ10から離し、次いで、半導体ベアチップ10
が仮付けされているプリント基板20を別の場所に移
し、加圧部56及びヒータ57が組み込まれている加圧
加熱ヘッド55を仮付けされている半導体ベアチップ1
0に約100秒間押しつけて加圧すると共に加熱するこ
とによって実装される。The thermosetting adhesive can be spread well by moving the nozzle 83 back and forth between P2 and P1 while keeping the low height H1, but in some cases,
The nozzle 83 can be moved to one side between P2 and P1 while keeping the low height H1. Semiconductor bare chip 10
Are implemented as shown in FIG. That is, first, the semiconductor bare chip mounting area 20a of the printed circuit board 20 is coated with the thermosetting adhesive 103 planarized by the above-described method, and then the suction head 50 using air suction is used. The semiconductor bare chip 10 is aligned and mounted on a predetermined portion of the printed circuit board 20 coated with the thermosetting adhesive 42, lightly pressed and temporarily attached, and air is blown out slightly from the suction head 50 and the suction head 50.
To move the suction head 50 away from the temporarily attached semiconductor bare chip 10, and then the semiconductor bare chip 10
The semiconductor bare chip 1 to which the printed circuit board 20 temporarily attached with is temporarily attached with the pressurizing and heating head 55 in which the pressurizing portion 56 and the heater 57 are incorporated.
It is mounted by pressing 0 for about 100 seconds to apply pressure and heating.
【0027】熱硬化性接着剤103が平坦化されている
ため、仮付けのときの熱硬化性接着剤の半導体ベアチッ
プ10の外周へのはみ出しは半導体ベアチップ10の外
周の全周に亘って均一に起こり、従来のように特定の場
所で多くはみ出すようなことは起きず、よって、はみ出
た熱硬化性接着剤が図9(C)に示すように半導体ベア
チップ10の上面に回り込んで吸着ヘッド50に付いて
しまうことが起きない。よって、吸着ヘッド50が半導
体ベアチップ10から円滑に離れ、半導体ベアチップ1
0の仮付けした位置がずれることが起きない。即ち、半
導体ベアチップ10は位置精度良く仮付けされる。よっ
て、仮付け時の位置ずれが原因で、スタッドバンプ13
が電極21から外れて電気的接続が不完全となってしま
う不良の発生は無くなり、半導体ベアチップ実装モジュ
ールを従来に比べて歩留り良く製造出来、且つ、製造し
た半導体ベアチップ実装モジュールの信頼性を向上させ
ることが出来る。Since the thermosetting adhesive 103 is flattened, the protrusion of the thermosetting adhesive to the outer periphery of the semiconductor bare chip 10 at the time of temporary attachment is uniform over the entire outer periphery of the semiconductor bare chip 10. This does not occur in a large amount at a specific place as in the conventional case. Therefore, the protruding thermosetting adhesive wraps around the upper surface of the semiconductor bare chip 10 as shown in FIG. It doesn't happen to stick to. Therefore, the suction head 50 is smoothly separated from the semiconductor bare chip 10, and the semiconductor bare chip 1
The temporary position of 0 does not shift. That is, the semiconductor bare chip 10 is temporarily attached with high positional accuracy. Therefore, the stud bumps 13 are
Is eliminated from the electrode 21 and the electrical connection becomes incomplete, the semiconductor bare chip mounting module can be manufactured with a higher yield than the conventional one, and the reliability of the manufactured semiconductor bare chip mounting module is improved. You can
【0028】また、仮付けのときの熱硬化性接着剤の半
導体ベアチップ10の外周へのはみ出しが半導体ベアチ
ップ10の外周の全周に亘って均一であるため、実装後
状態において、熱硬化された熱硬化性接着剤のフィレッ
ト(図8(B)参照)は半導体ベアチップ10の外周の
全周に亘って均一に形成される。次に、ノズル83の変
形例について説明する。Further, since the protrusion of the thermosetting adhesive to the outer periphery of the semiconductor bare chip 10 at the time of temporary attachment is uniform over the entire outer periphery of the semiconductor bare chip 10, the thermosetting adhesive was thermally cured in the mounted state. The fillet of the thermosetting adhesive (see FIG. 8B) is uniformly formed over the entire outer circumference of the semiconductor bare chip 10. Next, a modified example of the nozzle 83 will be described.
【0029】図5(A)のノズル83Aは、断面が長方
形である。このノズル83Aをその長辺120をY方向
に直角の向きで使用する。ノズル83Aを上記の向きで
使用することによって、これによって、熱硬化性接着剤
は、図5(B)に符号103Aで示すように、円筒のノ
ズルを使用した場合に比べて広い面積に引き延ばされて
拡げられて平坦化される。The nozzle 83A shown in FIG. 5A has a rectangular cross section. This nozzle 83A is used with its long side 120 oriented at a right angle to the Y direction. By using the nozzle 83A in the above orientation, this allows the thermosetting adhesive to spread over a larger area than when using a cylindrical nozzle, as shown at 103A in FIG. 5 (B). It is spread, spread, and flattened.
【0030】次に、本発明の半導体ベアチップ実装方法
に適用される別の一の熱硬化性接着剤塗布装置について
説明する。図6(A)に示すように、熱硬化性接着剤塗
布装置60Aは、大略、XYロボット61と、図6
(B)に示す接着剤塗布ヘッド62Aと、Z方向駆動シ
リンダ63と、制御回路70Aと、各駆動回路71〜7
5とを有する。Next, another thermosetting adhesive applying device applied to the semiconductor bare chip mounting method of the present invention will be described. As shown in FIG. 6 (A), the thermosetting adhesive application device 60A generally includes an XY robot 61, and
The adhesive application head 62A shown in (B), the Z-direction drive cylinder 63, the control circuit 70A, and the drive circuits 71 to 7
5 and.
【0031】接着剤塗布ヘッド62Aは、空気吹き出し
ノズル130、131がシリンジ82が先端のノズル8
3の両側に斜めの向きで設けてある。この空気吹き出し
ノズル130、131には、圧縮空気源132がチュー
ブ133を通して接続してある。チューブ133の途中
に電磁バルブ134が設けてある。プリント基板20が
コンベア88によって移動されてきて、プリント基板2
0が熱硬化性接着剤塗布位置に固定されたことが確認さ
れると、マイクロコンピュータで構成されている制御回
路70Aがプログラムされている通りに動作し、XYロ
ボット61が動作してシリンジ82の先端のノズル83
を熱硬化性接着剤塗布位置に移動させる。In the adhesive application head 62A, the air blowing nozzles 130 and 131 are the nozzles 8 with the syringe 82 at the tip.
3 are provided on both sides in an oblique direction. A compressed air source 132 is connected to the air blowing nozzles 130 and 131 through a tube 133. An electromagnetic valve 134 is provided in the middle of the tube 133. The printed circuit board 20 is moved by the conveyor 88, and the printed circuit board 2 is moved.
When it is confirmed that 0 is fixed to the thermosetting adhesive application position, the control circuit 70A configured by the microcomputer operates as programmed, and the XY robot 61 operates to operate the syringe 82. Tip nozzle 83
Is moved to the position where the thermosetting adhesive is applied.
【0032】この後、制御回路70Aからの制御信号に
よってZ駆動回路73が動作され、これによって、Z方
向駆動シリンダ63が動作して、接着剤塗布ヘッド62
がZ2方向に下降してプリント基板20に接近する。次
いで、制御回路70からの制御信号によってディスペン
サ駆動回路74が動作され、これによって、ディスペン
サ85が動作され、所定の圧力の圧縮空気を所定のタイ
ミングで所定の時間送り出し、熱硬化性接着剤81をノ
ズル83から押し出す。これによって、図7(A)に示
すように、所定量の熱硬化性接着剤140が山状に塗布
される。次いで、制御回路70からの制御信号によって
電磁バルブ駆動回路75が動作され、これによって電磁
バルブ134が開かれ、所定の時間に亘って開いた状態
とされる。電磁バルブ134が開かれると、図7(B)
に示すように、圧縮空気源132の圧縮空気が空気吹き
出しノズル130、131から吹き出し、空気吹き出し
ノズル130、131から吹き出した圧縮空気135,
136が山状の熱硬化性接着剤140に斜めに吹き付
け、山状の熱硬化性接着剤140が両側に拡がる。After that, the Z drive circuit 73 is operated by the control signal from the control circuit 70A, whereby the Z direction drive cylinder 63 is operated and the adhesive coating head 62 is operated.
Moves down in the Z2 direction and approaches the printed circuit board 20. Next, the dispenser drive circuit 74 is operated by the control signal from the control circuit 70, whereby the dispenser 85 is operated, and the compressed air of a predetermined pressure is sent at a predetermined timing for a predetermined time to remove the thermosetting adhesive 81. It is pushed out from the nozzle 83. As a result, as shown in FIG. 7A, a predetermined amount of the thermosetting adhesive 140 is applied in a mountain shape. Next, the electromagnetic valve drive circuit 75 is operated by the control signal from the control circuit 70, whereby the electromagnetic valve 134 is opened and is kept open for a predetermined time. When the electromagnetic valve 134 is opened, FIG.
As shown in, compressed air from the compressed air source 132 is blown from the air blowing nozzles 130 and 131, compressed air 135 blown from the air blowing nozzles 130 and 131,
136 is obliquely sprayed on the mountain-shaped thermosetting adhesive 140, and the mountain-shaped thermosetting adhesive 140 spreads on both sides.
【0033】空気吹き出しノズル130、131からの
圧縮空気135,136が山状の熱硬化性接着剤140
に斜めに所定時間に亘って吹き付け続けることによっ
て、熱硬化性接着剤は図7(C)に符号141で示すよ
うに平坦とされる。この後、半導体ベアチップ10は、
図4に示すように実装される。また、空気吹き出しノズ
ル130、131から空気以外の気体を吹き出させても
よい。Compressed air 135, 136 from the air blowing nozzles 130, 131 is a mountain-shaped thermosetting adhesive 140.
The thermosetting adhesive is made flat as indicated by reference numeral 141 in FIG. 7C by continuously spraying it obliquely for a predetermined time. After this, the semiconductor bare chip 10
It is implemented as shown in FIG. Further, a gas other than air may be blown out from the air blowing nozzles 130 and 131.
【0034】なお、上記のように塗布された接着剤を利
用して実装されるものは上記の半導体ベアチップ10に
限らず、バンプを有しない半導体ベアチップ、及び樹脂
封止された半導体部品でもよい。半導体ベアチップ及び
樹脂封止された半導体部品を総称して半導体部品とい
う。また、塗布される接着剤は、熱硬化性のものにかぎ
らない。It should be noted that what is mounted using the adhesive applied as described above is not limited to the semiconductor bare chip 10 described above, but may be a semiconductor bare chip having no bumps or a resin-sealed semiconductor component. The semiconductor bare chip and the resin-sealed semiconductor component are collectively referred to as a semiconductor component. Further, the applied adhesive is not limited to a thermosetting adhesive.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、単一のノズルから接着剤を出して基板上の被接
着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布し、最後に
接着剤を塗布した状態で上記ノズルを横に移動させ且つ
上記塗布された接着剤の間を移動させて、最後に塗布し
た接着剤を接着剤を引き延ばすと共に複数個所に塗布さ
れた接着剤を被接着体接着予定領域内で平坦に引き延ば
すようにしたため、引き延ばしを行わない場合に比べ
て、被接着体の外周へのはみ出しが外周の全周に亘って
均一に起こるようにすることが出来、特定の場所で多く
はみ出して、その結果、被接着体の裏面のうち接着剤が
行き渡らない部分ができたり、接着剤が被接着体の上面
に回り込んだりする不都合の発生を防止出来る。As described in the foregoing, according to the first aspect of the present invention was applied to distant plurality of locations adherend adhesive plan area on the substrate out of the adhesive from a single Roh nozzle, Finally
Move the nozzle sideways with the adhesive applied and
Move between the applied adhesives and apply last
The adhesive is stretched and applied at multiple points.
Because you like flat prolong the adhesives in adherend adhesion planned area, as compared with the case without stretching, to take place uniformly over the entire circumference of the protrusion is the outer periphery to the outer periphery of the adherend It is possible to prevent the adhesive from sticking out, and as a result, there is a problem that a part of the back surface of the adherend that the adhesive does not spread over or the adhesive wraps around the top surface of the adherend is created. Can be prevented.
【0036】請求項2の発明によれば単一のノズルから
接着剤を出して基板上の被接着体接着予定領域内の離れ
た複数個所に塗布する動作に続いて、最後に塗布した接
着剤を接着剤を引き延ばすと共に複数個所に塗布された
接着剤を被接着体接着予定領域内で平坦に引き延ばすよ
うに、上記ノズルを最後に接着剤を塗布した高さのまま
上記塗布された接着剤の間を移動させる手段を有する構
成としたため、特別の設備を設けずに、接着剤を引き延
ばして平坦化することが出来る。[0036] 請 According to the invention as determined in claim 2 Following the operation of applying the distant plurality of locations adherend adhesive plan area on the substrate out of the adhesive from a single nozzle, and finally coated adhesive So that the adhesive is spread at the same time and the adhesive applied to a plurality of places is spread evenly within the area to be adhered to the adherend, the above-mentioned adhesive is applied at the same height as when the nozzle was last applied with the adhesive. Since the device has a means for moving the space between them, the adhesive can be stretched and flattened without providing special equipment.
【0037】請求項3の発明によれば、請求項1記載の
接着剤塗布方法によって塗布された接着剤を利用して半
導体部品を実装する構成であるため、塗布された接着剤
の引き延ばしを行わない場合に比べて、熱硬化性接着剤
の半導体部品の外周へのはみ出しが外周の全周に亘って
均一に起こるようにすることが出来、特定の場所で多く
はみ出して、その結果、半導体部品の裏面のうち接着剤
が行き渡らない部分ができたり、接着剤が半導体部品の
上面に回り込んで仮付け用の吸着ヘッドに付いて、吸着
ヘッドを半導体部品から離すときに、半導体部品が吸着
ヘッドに引きずられて仮付けした位置がずれてしまい、
信頼性を損ねたり、場合によっては電気的接続がとられ
なくなって実装が不良をなってしまったりする不都合の
発生を防止出来る。[0037] According to the invention billed to claim 3, since a structure for mounting a semiconductor component using the adhesive applied by the adhesive application method according to claim 1, wherein the stretching of the applied adhesive Compared to the case where it is not performed, the thermosetting adhesive can be made to protrude uniformly to the outer periphery of the semiconductor component over the entire periphery of the semiconductor component. There is a part of the back surface of the part where the adhesive does not spread, or the adhesive wraps around the top surface of the semiconductor part and attaches to the suction head for temporary attachment, and when the suction head is separated from the semiconductor part, the semiconductor part sucks It was dragged by the head and the position where it was temporarily attached was displaced,
It is possible to prevent the occurrence of inconveniences such as impairing reliability and, in some cases, electrical connection being lost and mounting being defective.
【図1】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される一の熱硬化性接着剤塗布装置を示す図
である。FIG. 1 is a diagram showing one thermosetting adhesive application device applied to a semiconductor bare chip mounting method according to an embodiment of the present invention.
【図2】熱硬化性接着剤を塗布するときのノズル先端の
軌跡を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a locus of a nozzle tip when a thermosetting adhesive is applied.
【図3】熱硬化性接着剤の塗布を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating application of a thermosetting adhesive.
【図4】本発明の一実施例の半導体ベアチップ実装方法
を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a semiconductor bare chip mounting method according to an embodiment of the present invention.
【図5】ノズルの変形例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a modified example of a nozzle.
【図6】本発明の一実施例になる半導体ベアチップ実装
方法に適用される別の熱硬化性接着剤塗布装置を示す図
である。FIG. 6 is a diagram showing another thermosetting adhesive application device applied to the semiconductor bare chip mounting method according to an embodiment of the present invention.
【図7】塗布された熱硬化性接着剤が拡がって平坦化さ
れる状態を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a state in which the applied thermosetting adhesive is spread and flattened.
【図8】半導体ベアチップ及び半導体ベアチップ実装モ
ジュールを示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a semiconductor bare chip and a semiconductor bare chip mounting module.
【図9】従来の熱硬化性接着剤の塗布を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing application of a conventional thermosetting adhesive.
【図10】従来の半導体ベアチップ実装方法を示す図で
ある。FIG. 10 is a diagram showing a conventional semiconductor bare chip mounting method.
10 半導体ベアチップ
13 スタッドバンプ
20 プリント基板
21 電極
30 半導体ベアチップ実装モジュール
50 吸着ヘッド
55 加圧加熱ヘッド
60,60A 熱硬化性接着剤塗布装置
61 XYロボット
62,62A 接着剤塗布ヘッド
70,70A 制御回路
71〜75 駆動回路
82 シリンジ
83、83A ノズル
85 ディスペンサ
90 一点目塗布工程
91 二点目塗布工程
92 引き延ばし工程
103、103A,141 平坦化された熱硬化性接着
剤
130,131 空気吹き出しノズル10 Semiconductor Bare Chip 13 Stud Bump 20 Printed Circuit Board 21 Electrode 30 Semiconductor Bare Chip Mounting Module 50 Adsorption Head 55 Pressure Heating Head 60, 60A Thermosetting Adhesive Applying Device 61 XY Robot 62, 62A Adhesive Applying Head 70, 70A Control Circuit 71 ˜75 Drive circuit 82 Syringe 83, 83A Nozzle 85 Dispenser 90 First point application step 91 Second point application step 92 Extending steps 103, 103A, 141 Flattened thermosetting adhesives 130, 131 Air blowing nozzles
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 直樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (72)発明者 江本 哲 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1 番1号 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−55276(JP,A) 特開 昭59−61141(JP,A) 特開 平2−28337(JP,A) 実開 平1−71443(JP,U) 実開 昭60−146342(JP,U) 実開 昭62−132783(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 B05C 11/02 H01L 21/52 H01L 21/56 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Naoki Ishikawa 4-1-1 Kamitadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Fujitsu Limited (72) Inventor Satoshi Emoto 4-chome, Kamitadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture No. 1 within Fujitsu Limited (56) Reference JP-A-5-55276 (JP, A) JP-A-59-61141 (JP, A) JP-A-2-28337 (JP, A) 71443 (JP, U) Actually open 60-146342 (JP, U) Actually open 62-132783 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/60 B05C 11 / 02 H01L 21/52 H01L 21/56
Claims (3)
の被接着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布し、
最後に接着剤を塗布した状態で上記ノズルを横に移動さ
せ且つ上記塗布された接着剤の間を移動させて、最後に
塗布した接着剤を接着剤を引き延ばすと共に複数個所に
塗布された接着剤を被接着体接着予定領域内で平坦に引
き延ばすようにしたことを特徴とする接着剤塗布方法。1. An adhesive agent is discharged from a single nozzle and applied to a plurality of distant locations within an area to be adhered on an substrate to be adhered,
Finally, the nozzle is laterally moved in a state where the adhesive is applied and moved between the applied adhesives, so that the finally applied adhesive is extended and the adhesive applied to a plurality of places. The method for applying an adhesive comprises:
の被接着体接着予定領域内の離れた複数個所に塗布する
動作に続いて、最後に塗布した接着剤を接着剤を引き延
ばすと共に複数個所に塗布された接着剤を被接着体接着
予定領域内で平坦に引き延ばすように、上記ノズルを最
後に接着剤を塗布した高さのまま上記塗布された接着剤
の間を移動させる手段を有する構成としたことを特徴と
する接着剤塗布装置。2. The adhesive is discharged from a single nozzle on the substrate.
Adhesives to be applied to a plurality of distant locations within the area to be adhered
Following the operation, stretch the glue with the last glue applied.
Adhesive to be adhered to the adhesive applied to multiple locations along with the bulk
The nozzle above should be maximized so that it is stretched flat within the intended area.
Adhesive applied above with the same height as when adhesive was applied later
An adhesive applying device having a structure having means for moving between the two .
て塗布された接着剤を利用して半導体部品を実装するこ
とを特徴とする半導体部品実装方法。 3. The method of applying an adhesive according to claim 1.
The semiconductor component can be mounted using the adhesive applied by
A method of mounting a semiconductor component, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24295697A JP3416032B2 (en) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Adhesive application method, adhesive application device, and semiconductor component mounting method |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH1187420A JPH1187420A (en) | 1999-03-30 |
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