JPH1186768A - イオン処理装置の処理室のベント方法 - Google Patents
イオン処理装置の処理室のベント方法Info
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- JPH1186768A JPH1186768A JP9257842A JP25784297A JPH1186768A JP H1186768 A JPH1186768 A JP H1186768A JP 9257842 A JP9257842 A JP 9257842A JP 25784297 A JP25784297 A JP 25784297A JP H1186768 A JPH1186768 A JP H1186768A
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Abstract
つ、プラズマシャワー装置構成部品の酸化を防止し、か
つベント作業の能率の高いベント方法を提供する。 【解決手段】 この発明のベント方法は、第1ベント工
程と、それに続く排気工程と、それに続く第2ベント工
程とを備えている。第1ベント工程では、真空に排気さ
れた処理室2内に不活性ガス38を導入して処理室2内
をほぼ大気圧まで戻す。排気工程では、粗引きポンプ2
2によって処理室2内を負圧に排気して処理室2内の不
活性ガス38を排出する。第2ベント工程では、処理室
2内に空気30を導入して処理室2内を大気圧に戻す。
Description
ー装置を中に有する処理室内で基板にイオンビームを照
射して当該基板にイオン注入、イオンビームエッチング
等の処理を施すイオン処理装置の処理室内を大気圧に戻
すベント方法に関し、より具体的には、処理室内で酸欠
が起こる可能性を排除しつつ、プラズマシャワー装置構
成部品の酸化を防止する手段に関する。
オン処理装置の一例を示す断面図である。このイオン処
理装置は、処理室2内でホルダ8上の基板(例えば半導
体ウェーハ)6にイオンビーム4を照射して、基板6に
イオン注入等の処理を施すよう構成されている。
定の真空(例えば10-6〜10-7Torr程度)に排気
される。具体的には、ドライポンプ等の粗引きポンプ2
2で10-1〜10-2Torr程度に排気(粗引き)した
後、クライオポンプ等の主ポンプ26で10-6〜10-7
Torr程度の高真空に排気される。20および24は
真空弁である。処理室2の真空度は、サーモカップルゲ
ージ等の真空計32で計測される。
6の付近に供給して、イオンビーム4の照射による基板
表面の正電荷をプラズマ18中の電子によって中和し
て、基板6の帯電(チャージアップ)を抑制するプラズ
マシャワー装置10が設けられている。プラズマシャワ
ー装置10は、この例では支持体19によって処理室2
の壁面から支持されている。このプラズマシャワー装置
10は、プラズマ生成容器12内に導入されたガスを、
フィラメント14とプラズマ生成容器12との間の放電
によって電離させて前記プラズマ18を生成するよう構
成されている。なお、この種のプラズマシャワー装置の
一例が、特開平8−190888号公報に開示されてい
る。
は、保守点検等のために、大気圧に戻す、即ちベントす
る必要がある。このベントは、従来は、空気によって行
っている。即ち、弁28を開いて処理室2内に空気30
を、大気圧センサ34で大気圧を検出するまで導入する
ようにしている。
のは、プラズマシャワー装置10を内部に有するこの種
の処理室2は容積が大きく、仮に窒素や希ガス(例えば
He、Ne、Ar等)でベントすると、処理室2内で作
業者等に酸欠(酸素欠乏)が起こる可能性があり、これ
を避けるためである。
装置10の構成部品には、例えばフィラメント14を支
持するフランジ16のようにMo(モリブデン)等の高
融点金属製のものが多くある。これは、フィラメント1
4やフィラメント14とプラズマ生成容器12間の放電
による加熱によって高温になる部品に耐熱性を持たせる
ためである。
の動作停止直後に処理室2内を空気30でベントする
と、上記フランジ16等の高融点金属製の部品は、まだ
高温状態にあるため、当該部品が酸化して変質・劣化す
る可能性がある。仮にこの高温状態にある部品が自然に
冷めるまでベントを待つと、処理室2内は前述したよう
に高真空状態に排気されていて放熱性が極めて悪いの
で、ベント開始までに非常に長い待ち時間(例えば数時
間程度)を要することになり、ベント作業の能率が大き
く低下する。
る可能性を排除しつつ、プラズマシャワー装置構成部品
の酸化を防止し、かつベント作業の能率の高いベント方
法を提供することを主たる目的とする。
は、真空に排気された処理室内に不活性ガスを導入して
処理室内をほぼ大気圧まで戻す第1ベント工程と、その
後処理室内を負圧に排気して処理室内の不活性ガスを排
出する排気工程と、その後処理室内に空気を導入して処
理室内を大気圧に戻す第2ベント工程とを備えることを
特徴としている。
気を用いずに不活性ガスを用いてほぼ大気圧までベント
するので、プラズマシャワー装置の動作停止直後に、即
ちプラズマシャワー装置が高温状態のときに当該ベント
を行っても、プラズマシャワー装置構成部品の酸化を防
止することができる。
ベント工程によって空気を用いて大気圧までベントする
ので、処理室内で酸欠が起こる可能性を排除することが
できる。また、この第2ベント工程までにプラズマシャ
ワー装置の温度が下がるので、この第2ベント工程で空
気を用いても、プラズマシャワー装置構成部品の酸化を
防止することができる。
室内を負圧に排気して不活性ガスを排出するだけである
ので比較的短時間で終わり、かつ上記第2ベント工程も
空気を導入して負圧の処理室内を大気圧に戻すだけであ
るので比較的短時間で終わる。従って、このような排気
工程および第2ベント工程を設けても、高温状態にある
プラズマシャワー装置が自然に冷めるのを待つ場合に比
べて、ベント作業の能率は遙かに高い。
法を実施するイオン処理装置の一例を示す断面図であ
る。図3の従来例と同一または相当する部分には同一符
号を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に
説明する。
によるベントラインを更に設けている。即ち、弁36を
介して、処理室2内に不活性ガス38を導入することが
できるようにしている。この不活性ガス38には、窒素
ガスが安価なのでそれを用いるのが好ましいけれども、
それ以外に、He、Ne、Ar、Kr等のいわゆる希ガ
スを用いても良い。
ント方法の一例を図2をも参照して説明する。
ト工程を行う。即ち、弁36を開いて、上記のように高
真空に排気された処理室2内に不活性ガス38の導入を
開始し(ステップ51)、大気圧センサ34で処理室2
内が大気圧になったことを検出した後(ステップ5
2)、弁36を閉じて不活性ガス38の導入を終了する
(ステップ53)。この間、空気ベント用の弁28は閉
じておく。なお、この第1ベント工程を、処理室2内の
圧力がほぼ大気圧(より具体的には大気圧の少し手前)
になった段階で終了して次の排気工程に移っても特に支
障はない。
程を行う。即ち、真空弁20を開いて粗引きポンプ22
によって処理室2内の真空排気を行って処理室2内の不
活性ガス38の排出を開始し(ステップ54)、真空計
32で処理室2内が所定の負圧(例えば10-1〜10-2
Torr程度)になったことを検出した後(ステップ5
5)、真空弁20を閉じて処理室2内の排気を終了する
(ステップ56)。
ント工程を行う。即ち、弁28を開いて処理室2内に空
気30の導入を開始し(ステップ57)、大気圧センサ
34で処理室2内が大気圧になったことを検出した後
(ステップ58)、弁28を閉じて空気30の導入を終
了する(ステップ59)。この間、不活性ガスベント用
の弁36は閉じておく。
トは完了する。
では空気30を用いずに不活性ガス38を用いて処理室
2内をほぼ大気圧までベントするので、プラズマシャワ
ー装置10の動作停止直後に、即ちプラズマシャワー装
置10が高温状態のときに当該ベントを行っても、プラ
ズマシャワー装置10の構成部品、例えば前述したフラ
ンジ16等の高融点金属製の部品の酸化を防止すること
ができる。
ベント工程によって空気30を用いて処理室2内を大気
圧までベントするので、処理室2内で酸欠が起こる可能
性を排除することができる。また、この第2ベント工程
までに、ある程度の時間(例えば40〜50分程度)が
経過すると共に、処理室2内に不活性ガス38がほぼ大
気圧まで導入されて放熱性が高まって、プラズマシャワ
ー装置10の温度が下がるので、この第2ベント工程で
空気30を用いても、プラズマシャワー装置10の上記
構成部品の酸化を防止することができる。
室2内をある程度負圧に排気して不活性ガス38を排出
するだけであるので比較的短時間(例えば10〜20分
程度)で終わり、かつ上記第2ベント工程も空気30を
導入して負圧の処理室2内を大気圧に戻すだけであるの
で比較的短時間(例えば数分程度)で終わる。従って、
このような排気工程および第2ベント工程を設けても、
高温状態にあるプラズマシャワー装置10が自然に冷め
るのを待つ(この場合は前述したように例えば数時間程
度を要する)場合に比べて、ベント作業の能率は遙かに
高い。
には第2ベント工程で空気を用いてベントするので、処
理室内で酸欠が起こる可能性を排除することができる。
また、第1ベント工程では不活性ガスを用いてベント
し、かつ空気を用いる第2ベント工程までにはプラズマ
シャワー装置の温度が下がるので、プラズマシャワー装
置の動作停止直後にベントを行っても、プラズマシャワ
ー装置構成部品の酸化を防止することができる。しか
も、排気工程および第2ベント工程は比較的短時間で終
わるので、高温状態にあるプラズマシャワー装置が自然
に冷めるのを待つ場合に比べて、ベント作業の能率は遙
かに高い。
理装置の一例を示す断面図である。
チャートである。
一例を示す断面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 真空に排気された処理室内で基板にイオ
ンビームを照射して当該基板に処理を施す装置であっ
て、基板付近にプラズマを供給してイオンビーム照射に
伴う基板の帯電を抑制するプラズマシャワー装置を処理
室内に有するイオン処理装置の処理室内を大気圧に戻す
ベント方法において、真空に排気された処理室内に不活
性ガスを導入して処理室内をほぼ大気圧まで戻す第1ベ
ント工程と、その後処理室内を負圧に排気して処理室内
の不活性ガスを排出する排気工程と、その後処理室内に
空気を導入して処理室内を大気圧に戻す第2ベント工程
とを備えることを特徴とするイオン処理装置の処理室の
ベント方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25784297A JP3402152B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | イオン処理装置の処理室のベント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25784297A JP3402152B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | イオン処理装置の処理室のベント方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1186768A true JPH1186768A (ja) | 1999-03-30 |
JP3402152B2 JP3402152B2 (ja) | 2003-04-28 |
Family
ID=17311911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25784297A Expired - Fee Related JP3402152B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | イオン処理装置の処理室のベント方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3402152B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003272847A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-26 | Seiko Epson Corp | チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機el装置 |
WO2010146970A1 (ja) * | 2009-06-18 | 2010-12-23 | 三菱重工業株式会社 | 排気構造、プラズマ処理装置及び方法 |
-
1997
- 1997-09-05 JP JP25784297A patent/JP3402152B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003272847A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-26 | Seiko Epson Corp | チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機el装置 |
WO2010146970A1 (ja) * | 2009-06-18 | 2010-12-23 | 三菱重工業株式会社 | 排気構造、プラズマ処理装置及び方法 |
JP2011001594A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排気構造、プラズマ処理装置及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3402152B2 (ja) | 2003-04-28 |
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