JPH1180818A - 金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末 - Google Patents

金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末

Info

Publication number
JPH1180818A
JPH1180818A JP25926297A JP25926297A JPH1180818A JP H1180818 A JPH1180818 A JP H1180818A JP 25926297 A JP25926297 A JP 25926297A JP 25926297 A JP25926297 A JP 25926297A JP H1180818 A JPH1180818 A JP H1180818A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
metal powder
powder
metal
droplets
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25926297A
Other languages
English (en)
Inventor
Seirai Kuruma
声雷 車
Osamu Sakurai
修 桜井
Kazuo Shinozaki
和夫 篠崎
Tadayasu Mizutani
惟恭 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP25926297A priority Critical patent/JPH1180818A/ja
Publication of JPH1180818A publication Critical patent/JPH1180818A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 銅、ニッケル、コバルト、鉄等の卑金属若し
くはその合金から成る金属粉末を噴霧熱分解法で製造す
る方法を提供し、合わせて内部電極用ペーストに好適な
卑金属若しくはその合金から成る金属粉末を提供するこ
と。 【解決手段】 噴霧熱分解法により卑金属粉末若しくは
その合金粉末から成る金属粉末を製造する方法であっ
て、1種または多種の卑金属塩が金属イオン合計で0.
1モル/l〜5モル/l含有する原料溶液を噴霧して液
滴とし、かつ、還元性ガスが1%〜35%含まれる流速
1cm/sec 〜5cm/sec の不活性キャリアガスによ
り上記液滴を加熱された反応管内に搬入して卑金属粉末
若しくはその合金粉末を製造することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、卑金属若しくはそ
の合金から成る金属粉末の製造方法とこの方法により製
造された金属粉末に係り、特に、積層セラミックコンデ
ンサにおける内部電極用ペーストの構成材料として有用
な金属粉末の製造方法とその金属粉末に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、電子部品の軽薄短小化が進み、チ
ップ部品である積層セラミックコンデンサ(以下、ML
CCと略称する)に関しても小型化、高容量化の要求が
ますます高まりつつある。そして、MLCCの小型化と
高容量化を図る最も効果的な手法は誘電体層と内部電極
を薄くして多層化を図ることである。
【0003】ところで、この種のMLCCとしては、例
えば、複数の誘電体層と内部電極が交互に積層されたコ
ンデンサ本体と、このコンデンサ本体の外側に設けられ
その一方が奇数番目の内部電極群に接続され他方が偶数
番目の内部電極群に接続された一対の外部電極とでその
主要部が構成されるものが知られている。
【0004】そして、このMLCCは、従来、以下のよ
うにして製造されている。
【0005】まず、粉末化されたチタン酸バリウム(B
aTiO3 )、鉛を含むペロブスカイト型酸化物等の誘
電体と、ポリビニルブチラール樹脂あるいはブチルメタ
クリレートやメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂
から成る有機バインダーを含む誘電体シート(一般に、
誘電体グリーンシートと称される)表面に内部電極用ペ
ーストをスクリーン印刷法にて製膜しかつ乾燥させる。
【0006】次に、上記内部電極用ペーストが製膜され
た誘電体シートを所定の枚数重ね合せると共にこれ等を
熱圧着させた後、この熱圧着体を目的の大きさに切断す
る。続いて、上記誘電体シート内の有機バインダーや内
部電極用ペースト内の有機ビヒクル等のバーンアウト
(完全燃焼)と内部電極及び誘電体の焼結を目的として
1300℃程度の条件で上記熱圧着体を焼成する。
【0007】次に、この様にして得られた複数の誘電体
層と内部電極が交互に積層されかつ焼成された積層体
(コンデンサ本体)の両端を磨き、その一端側では奇数
番目の内部電極群の端面をまた他端側では偶数番目の内
部電極群の端面をそれぞれ露出させた後、その磨かれた
両端面にMLCCと外部のデバイスを結合させるための
一対の外部電極を取り付けて上記積層セラミックコンデ
ンサ(MLCC)が完成されるものであった。
【0008】ここで、上記誘電体シート表面上に製膜さ
れる内部電極用ペーストとしては、従来、ターピネオー
ル及びエチルセルロース等から成る有機ビヒクルと金属
粉末を主成分とし、必要に応じて粘度調整用の希釈溶剤
等を配合した組成物が適用されている。
【0009】そして、MLCCの内部電極に要求される
上記金属粉末の性質として、セラミック誘電体と反応し
ないこと、粉末自体が溶融しないこと、焼結時のセラミ
ック誘電体への拡散が少ないこと、及び、電気抵抗が小
さいこと等が挙げられる。
【0010】この様な観点から内部電極用ペーストの金
属粉末として、従来、Pd、Pt、Ag、Ag−Pd合
金等の貴金属粉末が適用されていた。
【0011】しかし、最近のMLCCにおける誘電体層
と内部電極の積層数が増えるに伴い電極部におけるコス
トの負担が高くなり、これに対応してMLCCの製造コ
ストも割高となる弊害が顕著になってきた。
【0012】このため、MLCCにおける低コスト化の
要求が高まり、従来広く利用されていたPd等貴金属の
金属粉末に代わって、近年、低廉なNi、Cu等卑金属
の金属粉末が利用されるようになってきた。
【0013】ところで、内部電極用ペーストの作成時に
求められる卑金属粒子の性質としては、上述した内部電
極に要求される金属粉末の性質に加えて、ペースト化し
たときの分散性が良いこと(すなわち、薄く、平滑な印
刷膜が形成できること)、導体となるために脱バインダ
ー焼成時の酸化が少ないこと、更にデラミネーション
(Delamination,層間剥離現象)やクラック等を回避す
るために焼成時の収縮が小さいこと等が望まれている。
【0014】そして、この様な要望に応えるべく内部電
極用ペーストに供される上記金属粉末は、現在、金属塩
水溶液から還元法により製造されている。
【0015】しかし、近年の電子部品の高密度化や多機
能化がますます進むにつれて、還元法により得られた従
来の金属粉末では、粒子の凝集、不純物の存在、結晶性
の悪さ、多成分化の難しさ等のために満足できない面を
有しており、上記還元法に代わる新たな製造方法が望ま
れていた。
【0016】この様な技術的背景の下、金属粉末等の粒
子の製造方法として噴霧熱分解法が注目されるに至っ
た。
【0017】すなわち、この噴霧熱分解法は、原料溶液
をノズルや超音波により霧化して微小な液滴にし、この
液滴の溶媒を高温で蒸発させると共に、得られた固体粒
子を高温で熱分解させて目的とする化合物の粒子を得る
方法である。
【0018】そして、この噴霧熱分解法により製造され
た粒子は、粒径分布が狭く、凝集が少ないといった特徴
を有している。更に、この方法に使用される製造装置の
構造が比較的簡単でメンテナンスが容易であり、長時間
連続運転が可能となる利点を有している。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この様な利点
を有している反面、噴霧熱分解法の問題点として、上記
液滴を急速に蒸発させたり熱分解させた場合、生成され
る粒子が中空体となったり多孔体になってしまうことが
あり、原料や金属の性質に合わせてその合成条件を精密
に制御しなければならない問題点を有していた。
【0020】このため、この噴霧熱分解法を適用した金
属粉末の合成例は非常に少なく、例えば、特公昭63−
31522号公報、特開平6−235007号公報及び
特開平8−170112号公報等に銀(Ag)、パラジ
ウム(Pd)等の貴金属粉末の製造例がその実施例で報
告されているに過ぎず、これ等公報に記載された条件で
卑金属の粉末を製造しようとしても内部電極用ペースト
にそのまま利用できる金属粉末を得ることは困難であっ
た。
【0021】本発明はこの様な問題点に着目してなされ
たもので、その課題とするところは、銅、ニッケル、コ
バルト、鉄等の卑金属若しくはその合金から成る金属粉
末を噴霧熱分解法で製造する方法を提供し、合わせて内
部電極用ペーストに好適な卑金属若しくはその合金から
成る金属粉末を提供することにある。
【0022】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項1に係
る発明は、噴霧熱分解法により卑金属粉末若しくはその
合金粉末から成る金属粉末を製造する方法を前提とし、
1種または多種の卑金属塩が金属イオン合計で0.1モ
ル/l〜5モル/l含有する原料溶液を噴霧して液滴と
し、かつ、還元性ガスが1%〜35%含まれる流速1c
m/sec 〜5cm/sec の不活性キャリアガスにより上
記液滴を加熱された反応管内に搬入して卑金属粉末若し
くはその合金粉末を製造することを特徴とし、請求項2
に係る発明は、請求項1記載の発明に係る金属粉末の製
造方法を前提とし、上記反応管がその長さ方向に亘り少
なくとも2つの温度領域を有すると共に、液滴の乾燥を
主目的とした第1番目の温度領域における温度が、10
0〜600℃に設定され、第2番目以降の温度領域にお
ける最高温度が、乾燥された上記液滴を金属若しくはそ
の合金まで熱分解あるいは還元させる温度より100℃
以上高くかつ金属若しくはその合金の融点よりも低い温
度に設定されていることを特徴とするものである。
【0023】また、請求項3に係る発明は、請求項1ま
たは2記載の製造方法により製造された金属粉末を前提
とし、結晶子径が500Å(オングストローム)以上で
かつ酸素含有量が1%以下であることを特徴とするもの
である。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【0025】図1は、本発明に係る金属粉末の製造方法
に適用される噴霧熱分解製造装置の概略構成を示す説明
図である。
【0026】すなわち、この噴霧熱分解製造装置1は、
ミスト発生部(超音波噴霧器、二流体ノズル、静電噴霧
器等)10と、不活性キャリアガス混合・供給系11
と、反応管12と、この反応管12の長さ方向に亘り配
置された第1番目の加熱炉13並びに第2番目の加熱炉
14と、これ等加熱炉の温度制御・記録系(図示せず)
と、金属粉末材料の回収部(サイクロン、フィルタ、静
電集塵器等)16と、排気ガス処理部17とでその主要
部が構成されている。
【0027】以下、Ni(NO32 ・6H2Oの水溶
液よりNi(ニッケル)粒子を合成する場合を例に挙げ
て金属Ni粒子の生成機構を説明する。
【0028】まず、ミスト発生部10によって発生した
液滴、すなわちNi(NO32 ・6H2Oの水溶液が
還元性ガスを含んだ不活性キャリアガスによって反応管
12内に導入されると、第1番目の加熱炉13近傍に位
置する反応管12内において乾燥してNi(NO32
水和物の固体粒子を作る。更に加熱されると温度の上昇
に伴いNi(NO32 はその結晶水に溶けて粒子は液
滴状になり、次いでより高温下で中空体のNiOに分解
され、かつ、400℃ぐらいの温度条件下において雰囲
気中の還元性ガスによりNiOはNiに還元される。
【0029】次に、上記反応管12のより高温領域に搬
入されると、各粒子中においてNiの焼結が進み、中実
で単結晶に近い球状のNi粒子が形成される。
【0030】ところで、これ等一連のプロセスでは生成
される金属粒子の構造や結晶性は、液滴/粒子の加熱状
況(加熱温度、加熱時間、加熱速度等)に影響される。
【0031】そして、この噴霧熱分解法により中実で単
結晶に近い球状のNi粒子等卑金属若しくはその合金粒
子を合成するためには、各液滴/粒子が加熱される温度
やその昇温速度を精密に制御することを要する。また、
この噴霧熱分解法において生成される金属粒子の粒径は
上記液滴の金属イオン濃度に大きく依存する。すなわ
ち、金属イオン濃度が小さいと微細な金属粉が生成さ
れ、製造された金属粉の発火の危険性や回収が困難とな
る問題を生ずる。反対に金属イオン濃度が高過ぎると生
成された金属粉の粒子径が大きくなり、粉末が反応管中
に落下して回収困難となる問題を生ずる。このため、原
料溶液中の金属イオン濃度を0.1モル/l〜5モル/
lの範囲内に設定することを要する(請求項1)。
【0032】また、液滴/粒子の上記昇温速度は、反応
管の温度プロファイル及び不活性キャリアガスの流速に
より決定される。そして、不活性キャリアガスの流速が
速過ぎると合成された粒子の加熱速度が速くなり、その
分、加熱時間が短くなることから原料の不完全反応によ
り純度が低くなり、かつ、急激な溶媒の蒸発により中空
体や不規則な粒子が生成される問題を生ずる。反対に不
活性キャリアガスの流速が遅過ぎるとミスト(霧)の供
給量は小さくなり粒子を回収することが困難となる。そ
こで、液滴/粒子の加熱領域における滞留時間を測定し
て不活性キャリアガスの流速条件を検討した結果、不活
性キャリアガスの流速については1cm/sec 〜5cm
/sec の範囲内に設定する必要があることを確認でき
た。すなわち、上記流速が5cm/sec を越えると熱分
解反応が不十分となり、かつ、金属粒子内の焼結も不十
分となるため不純物を多く含んだ中空の粉末が合成され
てしまう。反対に、上記流速が1cm/sec 未満である
と金属粉末の生産性が低下してしまい実用困難となる。
従って、不活性キャリアガスの流速は1cm/sec 〜5
cm/sec の範囲内に設定されることを要する(請求項
1)。
【0033】次に、液滴/粒子の加熱領域での不活性キ
ャリアガスの流速を1cm/sec 〜5cm/sec の範囲
内に設定した場合、上記反応管の温度プロファイルは反
応管内での液滴から金属粉末の生成が可能な条件なら基
本的に任意であるが、より特性の優れた卑金属若しくは
その合金粉末を得るには少なくとも2つの温度領域を備
えていることが好ましい。すなわち、上記反応管を1つ
だけの温度領域で構成した場合、単一の温度領域内で液
滴の乾燥、再溶解、酸化物の生成、還元反応等が同時多
発的に起こるため、粒子内部に残存した水分が急激に膨
張して粒子を破裂させたり、未反応物が残存し易くなる
ことがある。この様な場合、反応管に少なくとも2つの
温度領域を設けて第1番目と第2番目の温度域に分け、
液滴の乾燥プロセスと粉末の生成プロセスを分離させる
ことにより回避することが可能となる。
【0034】そして、液滴の乾燥を主目的とした第1番
目の温度領域における温度については100〜600℃
に設定し、また、第2番目以降の温度領域における最高
温度については乾燥された上記液滴を金属若しくはその
合金まで熱分解あるいは還元させる温度より100℃以
上高くかつ金属若しくはその合金の融点よりも低い温度
に設定することにより、特性の優れた卑金属若しくはそ
の合金粉末を得ることが可能となる(請求項2)。
【0035】すなわち、第1番目の温度領域が100℃
未満であると液滴の乾燥が不十分となり、第2番目以降
の温度領域において残存した水分により粒子が破裂し、
形状がばらついて粒度分布が大きくなってしまう。ま
た、第1番目の温度領域が600℃を越えると、瞬間的
に液滴が破裂して形状がばらつき、同様に粒度分布が大
きくなる。従って、第1番目の温度領域における温度に
ついては100〜600℃に設定することが好ましい。
【0036】他方、第2番目以降の温度領域における最
高温度が、乾燥された液滴を金属若しくはその合金まで
熱分解あるいは還元させる温度より100℃以上高くな
い場合、製造された金属粉末中に酸化物が残存すること
がある。また、上記最高温度が目的とする金属若しくは
その合金の融点よりも高い場合、製造された粉末が溶融
化し、粉末同士の合体により粒度分布が広がりかつ形状
が歪になることがあり、更に金属の蒸発も起こってその
収量が激減することがある。従って、第2番目以降の温
度領域における最高温度については乾燥された上記液滴
を金属若しくはその合金まで熱分解あるいは還元させる
温度より100℃以上高くかつ金属若しくはその合金の
融点よりも低い温度に設定することが好ましい。
【0037】尚、不活性キャリアガスについては、上述
したNi(NO32 ・6H2O水溶液からNi(ニッ
ケル)粒子が合成されるメカニズムより考えて、不活性
キャリアガス内に還元性ガスが含まれてないと金属粉末
を得ることが困難となる。そして、還元性ガスと酸化性
ガスが共存すると爆発等の危険があるため、還元性ガス
−不活性キャリアガスの混合系を適用する必要がある
(請求項1)。上記不活性キャリアガスとしては、窒
素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等が例示され、還
元性ガスとしては、水素、アンモニア、一酸化炭素等が
例示される。また、爆発等の危険性を考慮した場合、上
記還元性ガスについては反応管中で酸化物を金属に還元
可能な最低量で使用することが望ましい。そして、各種
実験の結果、不活性キャリアガス中に含ませる還元性ガ
スの割合は、1%〜35%(体積%である、以下同様)
必要であることが確認されている(請求項1)。すなわ
ち、1%未満であると酸化物が粉末中に残存し易く、ま
た、35%を越えると爆発の危険性が高くなるためであ
る。
【0038】次に、本発明において対象となる卑金属と
しては、銅、ニッケル、コバルト、鉄、モリブデン、タ
ングステン等が例示され、また、これ等1種または多種
の卑金属塩としては、これ等卑金属の硝酸塩、硫酸塩、
塩化物、炭酸塩、金属アルコラート等が挙げられ、ま
た、これ等原料溶液の溶剤としては、水、アルコール、
アセトン、エーテル等が例示される。
【0039】そして、請求項1及び請求項2記載の発明
に係る製造方法により得られた卑金属若しくはその合金
から成る金属粉末は球状で結晶性に優れるため、MLC
Cにおける内部電極用ペーストの構成材料として好適で
ある。特に、その結晶子径が500Å(オングストロー
ム)以上でかつ酸素含有量が1%以下の金属粉末(請求
項3)が内部電極用ペーストの構成材料に適している。
【0040】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【0041】[実施例1]第1番目の加熱炉13が40
0℃、第2番目の加熱炉14が1200℃に設定された
図1の噴霧熱分解製造装置1を用い、1.0モル/lの
硝酸ニッケル水溶液を超音波噴霧し、かつ、得られた液
滴を、水素と窒素の比率が1対5でそのガス流速が2.
0cm/sec のキャリアガスにより反応管12内に搬入
して、平均粒径が約1.3μmの純粋な真球状ニッケル
粒子を合成した。
【0042】そして、合成されたニッケル粒子を超ミク
ロトームで薄片化し、透過型電子顕微鏡(TEM)で粒
子の内部構造を観察した結果、上記ニッケル粒子は中実
体になっていた。
【0043】また、ニッケル粒子の(220)面における
X線回折線の幅の広がりより半値幅法で結晶子径を求め
た結果、600Å(オングストローム)であった。ま
た、上記ニッケル粒子の化学分析から酸素含有量は1%
以下であった。
【0044】また、図3は、TG−DTAによる空気雰
囲気中における実施例1のニッケル粒子と市販試料(市
販のNi粉末)の酸化挙動を示したグラフ図である。そ
して、このグラフ図から、市販試料は酸化の開始と終了
の温度がいずれも低いが、実施例1に係るニッケル粒子
においてはその酸化による重量増加は緩やかで、かつ、
酸化開始と終了の温度も高いことから酸化され難いこと
が確認される。
【0045】従って、市販試料のNi粉末に較べて実施
例1に係るニッケル粒子はその耐酸化性に優れているこ
とが分かる。
【0046】そして、実際に実施例1に係るニッケル粒
子を適用して内部電極用ペーストを調製し、かつ、この
内部電極用ペーストを用いてMLCCを製造したとこ
ろ、デラミネーションやクラック等の構造欠陥が少なく
かつ電気特性等にも優れたMLCCが得られた。
【0047】[実施例2]第1番目の加熱炉13が30
0℃、第2番目の加熱炉14が700℃、第3番目の加
熱炉15が1200℃に設定された図2の噴霧熱分解製
造装置1を用い、0.8モル/lの硝酸ニッケル水溶液
を超音波噴霧し、かつ、得られた液滴を、水素と窒素の
比率が1対5でそのガス流速が2.7cm/sec のキャ
リアガスにより反応管12内に搬入して、平均粒径が約
1.1μm、粒径分布が狭い純粋な真球状ニッケル粒子
を合成した。
【0048】そして、得られたニッケル粒子について実
施例1と同様の方法によりその結晶子径と酸素含有量を
測定したところ、結晶子径は700Å(オングストロー
ム)、酸素含有量は1%以下であった。
【0049】また、実施例1と同様、得られたニッケル
粒子を適用してMLCCを製造したところ構造欠陥が少
なくかつ電気特性等にも優れたMLCCが得られた。
【0050】[実施例3]実施例1と同一の噴霧熱分解
製造装置1を用い、0.5モル/lの硝酸ニッケル水溶
液を超音波噴霧し、かつ、得られた液滴を、実施例1と
同一条件のキャリアガスにより反応管12内に搬入し
て、平均粒径が約0.8μmで球状のニッケル粒子を合
成した。
【0051】そして、得られたニッケル粒子について実
施例1と同様の方法によりその結晶子径と酸素含有量を
測定したところ、結晶子径は600Å(オングストロー
ム)、酸素含有量は1%以下であった。
【0052】また、実施例1と同様、得られたニッケル
粒子を適用してMLCCを製造したところ構造欠陥が少
なくかつ電気特性等にも優れたMLCCが得られた。
【0053】[実施例4]実施例1と同一の噴霧熱分解
製造装置1を用い、0.5モル/lの硝酸ニッケル水溶
液を超音波噴霧し、かつ、得られた液滴を、水素と窒素
の比率が1対5でそのガス流速が1.0cm/sec のキ
ャリアガスにより反応管12内に搬入して、平均粒径が
約0.6μmで粒径分布が狭い単分散真球状のニッケル
粒子を合成した。
【0054】そして、得られたニッケル粒子について実
施例1と同様の方法によりその結晶子径と酸素含有量を
測定したところ、結晶子径は650Å(オングストロー
ム)、酸素含有量は1%以下であった。
【0055】また、実施例1と同様、得られたニッケル
粒子を適用してMLCCを製造したところ構造欠陥が少
なくかつ電気特性等にも優れたMLCCが得られた。
【0056】[実施例5]第1番目の加熱炉13が50
0℃、第2番目の加熱炉14が1000℃に設定された
図1の噴霧熱分解製造装置1を用い、0.5モル/lの
硝酸ニッケル水溶液を超音波噴霧し、かつ、得られた液
滴を、水素と窒素の比率が1対5でそのガス流速が2.
0cm/sec のキャリアガスにより反応管12内に搬入
して、平均粒径が約1.0μmで球状のニッケル粒子を
合成した。
【0057】そして、得られたニッケル粒子について実
施例1と同様の方法によりその結晶子径と酸素含有量を
測定したところ、結晶子径は520Å(オングストロー
ム)、酸素含有量は1%以下であった。
【0058】また、実施例1と同様、得られたニッケル
粒子を適用してMLCCを製造したところ構造欠陥が少
なくかつ電気特性等にも優れたMLCCが得られた。
【0059】[比較例1]キャリアガスのガス流速のみ
が6.0cm/sec に設定されている点を除き実施例1
と略同一の条件で噴霧熱分解法によりニッケル粒子を合
成したところ、平均粒径が約1.8μmのニッケル粒子
が得られた。
【0060】そして、合成されたニッケル粒子を超ミク
ロトームで薄片化し、透過型電子顕微鏡(TEM)で粒
子の内部構造を観察したところ、ほとんどの粒子が中空
体になっていた。また、このニッケル粒子の化学分析か
ら酸素含有量は1%を超えていることが確認された。そ
して、得られたニッケル粒子を適用してMLCCを製造
したところ、実施例に較べて良好なMLCCは得られな
かった。
【0061】[比較例2]第1番目の加熱炉13が20
0℃、第2番目の加熱炉14が400℃に設定された図
1の噴霧熱分解製造装置1を適用している点を除き実施
例1と略同一の条件で噴霧熱分解法によりニッケル粒子
を合成したところ、酸素含有量が1%以上の中空ニッケ
ル粒子が得られた。
【0062】そして、このニッケル粒子の表面には多く
の凹凸が現れ、かつ、その結晶子径は300Å(オング
ストローム)であった。このため、このニッケル粒子を
適用して製造したMLCCは実施例に較べて特性が劣る
ものであった。
【0063】[比較例3]水素ガスを流さずそのガス流
速が2.0cm/sec の窒素のキャリアガスを適用して
いる点を除き実施例1と略同一の条件で噴霧熱分解法に
よりニッケル粒子の合成を試みたところ、平均粒径が約
1.8μmの中空のNiO粒子が得られるに過ぎなかっ
た。
【0064】[比較例4]水素と窒素から成るキャリア
ガスのガス流速が4.8cm/sec に設定され、かつ、
第1番目の加熱炉13が200℃、第2番目の加熱炉1
4が400℃に設定された図1の噴霧熱分解製造装置1
を適用している点を除き実施例1と略同一の条件で噴霧
熱分解法によりニッケル粒子の合成を試みたところ、表
面に多くの凹凸がある中空粒子が得られた。
【0065】そして、得られた中空粒子のX線回折によ
りこの粒子はNiとNiOの混合物であった。
【0066】[比較例5]水素ガスを流さずそのガス流
速が6.0cm/sec の窒素のキャリアガスを適用して
いる点を除き実施例1と略同一の条件で噴霧熱分解法に
よりニッケル粒子の合成を試みたところ、平均粒径が約
1.9μmで表面が非常に粗い中空のNiO粒子が得ら
れるに過ぎなかった。
【0067】[比較例6]水素ガスを流さずそのガス流
速が2.0cm/sec の窒素のキャリアガスを適用し、
かつ、第1番目の加熱炉13が200℃、第2番目の加
熱炉14が400℃に設定された図1の噴霧熱分解製造
装置1を適用している点を除き実施例1と略同一の条件
で噴霧熱分解法によりニッケル粒子の合成を試みたとこ
ろ、表面に多くの凹凸がある中空のNiO粒子が得られ
るに過ぎなかった。
【0068】[比較例7]水素ガスを流さずそのガス流
速が5.0cm/sec の窒素のキャリアガスを適用し、
かつ、第1番目の加熱炉13が200℃、第2番目の加
熱炉14が400℃に設定された図1の噴霧熱分解製造
装置1を適用している点を除き実施例1と略同一の条件
で噴霧熱分解法によりニッケル粒子の合成を試みたとこ
ろ、表面に多くの凹凸がある中空のNiO粒子が得られ
るに過ぎなかった。
【0069】
【発明の効果】請求項1記載の発明に係る金属粉末の製
造方法によれば、1種または多種の卑金属塩が金属イオ
ン合計で0.1モル/l〜5モル/l含有する原料溶液
を噴霧して液滴とし、かつ、還元性ガスが1%〜35%
含まれる流速1cm/sec 〜5cm/sec の不活性キャ
リアガスにより上記液滴を加熱された反応管内に搬入し
て卑金属粉末若しくはその合金粉末を製造しており、請
求項2記載の発明に係る金属粉末の製造方法によれば、
上記反応管がその長さ方向に亘り少なくとも2つの温度
領域を有すると共に、液滴の乾燥を主目的とした第1番
目の温度領域における温度が、100〜600℃に設定
され、第2番目以降の温度領域における最高温度が、乾
燥された上記液滴を金属若しくはその合金まで熱分解あ
るいは還元させる温度より100℃以上高くかつ金属若
しくはその合金の融点よりも低い温度に設定されている
ため、中実で単結晶に近い球状の卑金属粉末若しくはそ
の合金粉末を製造できる効果を有している。
【0070】また、請求項3記載の発明に係る金属粉末
によれば、結晶子径が500Å(オングストローム)以
上でかつ酸素含有量が1%以下であることから、内部電
極用ペーストの構成材料に適用した場合、良好なMLC
Cを製造できる効果を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る金属粉末の製造方法に適用される
噴霧熱分解製造装置の概略構成を示す説明図。
【図2】本発明に係る金属粉末の製造方法に適用される
他の噴霧熱分解製造装置の概略構成を示す説明図。
【図3】TG−DTAによる空気雰囲気中における実施
例1のニッケル粒子と市販試料の酸化挙動を示したグラ
フ図。
【符号の説明】
1 噴霧熱分解製造装置 10 ミスト発生部 11 不活性キャリアガス混合・供給系 12 反応管 13 加熱炉 14 加熱炉 16 回収部 17 排気ガス処理部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】噴霧熱分解法により卑金属粉末若しくはそ
    の合金粉末から成る金属粉末を製造する方法において、 1種または多種の卑金属塩が金属イオン合計で0.1モ
    ル/l〜5モル/l含有する原料溶液を噴霧して液滴と
    し、かつ、還元性ガスが1%〜35%含まれる流速1c
    m/sec 〜5cm/sec の不活性キャリアガスにより上
    記液滴を加熱された反応管内に搬入して卑金属粉末若し
    くはその合金粉末を製造することを特徴とする金属粉末
    の製造方法。
  2. 【請求項2】上記反応管がその長さ方向に亘り少なくと
    も2つの温度領域を有すると共に、液滴の乾燥を主目的
    とした第1番目の温度領域における温度が、100〜6
    00℃に設定され、第2番目以降の温度領域における最
    高温度が、乾燥された上記液滴を金属若しくはその合金
    まで熱分解あるいは還元させる温度より100℃以上高
    くかつ金属若しくはその合金の融点よりも低い温度に設
    定されていることを特徴とする請求項1記載の金属粉末
    の製造方法。
  3. 【請求項3】結晶子径が500Å(オングストローム)
    以上でかつ酸素含有量が1%以下であることを特徴とす
    る請求項1または2記載の製造方法により製造された金
    属粉末。
JP25926297A 1997-09-08 1997-09-08 金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末 Pending JPH1180818A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25926297A JPH1180818A (ja) 1997-09-08 1997-09-08 金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25926297A JPH1180818A (ja) 1997-09-08 1997-09-08 金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1180818A true JPH1180818A (ja) 1999-03-26

Family

ID=17331670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25926297A Pending JPH1180818A (ja) 1997-09-08 1997-09-08 金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1180818A (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100408647B1 (ko) * 2000-11-02 2003-12-06 학교법인 한양학원 고순도의 합금 및 복합상 나노금속분말의 제조방법
KR100421722B1 (ko) * 2000-12-12 2004-03-10 김창욱 이온분산법에 의한 철계 부분확산 합금분말의 제조방법
US6793842B2 (en) 2000-07-07 2004-09-21 Shoei Chemical Inc. Single-crystal ferrite fine powder
US6827758B2 (en) 2001-05-30 2004-12-07 Tdk Corporation Method for manufacturing magnetic metal powder, and magnetic metal powder
SG125920A1 (en) * 2002-09-10 2006-10-30 Shoei Chemical Ind Co Method for manufacturing metal powder
KR100766769B1 (ko) * 2005-09-16 2007-10-17 주식회사 이지 철 분말의 제조 방법
JP2008106301A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Univ Of Yamanashi 中空磁性球体、及びその製造方法
JP2009131849A (ja) * 2009-03-09 2009-06-18 Optnics Precision Co Ltd 球状超微粒子の製造方法
JP2010053372A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Nec Tokin Corp 鉄−ニッケル合金粉末及びその製造方法、並びにその合金粉末を用いたインダクタ用圧粉磁心
JP2011219802A (ja) * 2010-04-07 2011-11-04 Noritake Co Ltd コアシェル粒子及びその製造方法
JP2013533380A (ja) * 2010-06-01 2013-08-22 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 非中空、非断片化球状金属又は金属合金粒子を製造する方法
JP2015023268A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. 外部電極用導電性ペースト組成物及びこれを含む積層セラミック電子部品
JP2016014194A (ja) * 2015-09-10 2016-01-28 株式会社ノリタケカンパニーリミテド コアシェル粒子及び導体形成用組成物

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100461622B1 (ko) * 2000-07-07 2004-12-13 소에이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 단결정페라이트미분말
US6793842B2 (en) 2000-07-07 2004-09-21 Shoei Chemical Inc. Single-crystal ferrite fine powder
KR100408647B1 (ko) * 2000-11-02 2003-12-06 학교법인 한양학원 고순도의 합금 및 복합상 나노금속분말의 제조방법
KR100421722B1 (ko) * 2000-12-12 2004-03-10 김창욱 이온분산법에 의한 철계 부분확산 합금분말의 제조방법
US7416795B2 (en) 2001-05-30 2008-08-26 Tdk Corporation Method for manufacturing magnetic metal powder, and magnetic metal powder
US6827758B2 (en) 2001-05-30 2004-12-07 Tdk Corporation Method for manufacturing magnetic metal powder, and magnetic metal powder
SG125920A1 (en) * 2002-09-10 2006-10-30 Shoei Chemical Ind Co Method for manufacturing metal powder
KR100766769B1 (ko) * 2005-09-16 2007-10-17 주식회사 이지 철 분말의 제조 방법
JP2008106301A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Univ Of Yamanashi 中空磁性球体、及びその製造方法
JP2010053372A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Nec Tokin Corp 鉄−ニッケル合金粉末及びその製造方法、並びにその合金粉末を用いたインダクタ用圧粉磁心
JP2009131849A (ja) * 2009-03-09 2009-06-18 Optnics Precision Co Ltd 球状超微粒子の製造方法
JP2011219802A (ja) * 2010-04-07 2011-11-04 Noritake Co Ltd コアシェル粒子及びその製造方法
JP2013533380A (ja) * 2010-06-01 2013-08-22 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 非中空、非断片化球状金属又は金属合金粒子を製造する方法
JP2015023268A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. 外部電極用導電性ペースト組成物及びこれを含む積層セラミック電子部品
US9343232B2 (en) 2013-07-16 2016-05-17 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Conductive paste composition for external electrode and multilayer ceramic electronic component including the same
JP2016014194A (ja) * 2015-09-10 2016-01-28 株式会社ノリタケカンパニーリミテド コアシェル粒子及び導体形成用組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2650838B2 (ja) エアロゾル分解によるパラジウム及び酸化パラジウム粉末の製造法
US7658995B2 (en) Nickel powder comprising sulfur and carbon, and production method therefor
TWI284576B (en) Method for manufacturing metal powder
JP2814940B2 (ja) エーロゾル分解による銀−パラジウム合金粉末の製造法
EP2185304B1 (en) Method for the production of a multi-element alloy powder containing silver and at least two non-silver containing elements
JPH1180818A (ja) 金属粉末の製造方法とこの方法により製造された金属粉末
KR102589697B1 (ko) 니켈 분말
US6530972B2 (en) Method for preparing metal powder
KR970004274B1 (ko) 적층 세라믹 콘덴서
JP2000063901A (ja) 粉体材料とその製造方法およびこの粉体材料を用いた厚膜導電性ペーストとこのペーストを用いた積層セラミックコンデンサ
JP3812359B2 (ja) 金属粉末の製造方法
JPH08170112A (ja) 金属粉末の噴霧熱分解製造方法および装置
JP2003313607A (ja) 金属粉末およびその製造方法ならびに該金属粉末を含む導体ペースト
JP2004263205A (ja) 金属微粉末およびその製造方法ならびにこの金属微粉末を用いた導電ペースト
JP2001059107A (ja) 金属若しくは合金粉末の改質方法とこの改質方法により得られた金属若しくは合金粉末およびこの金属若しくは合金粉末を用いた電子材料若しくは部品
JP2002150834A (ja) ニッケル粉末及び該粉末を含むペースト