JPH1180775A - Pcbを含有する油の精製方法 - Google Patents

Pcbを含有する油の精製方法

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JPH1180775A
JPH1180775A JP9239518A JP23951897A JPH1180775A JP H1180775 A JPH1180775 A JP H1180775A JP 9239518 A JP9239518 A JP 9239518A JP 23951897 A JP23951897 A JP 23951897A JP H1180775 A JPH1180775 A JP H1180775A
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JP
Japan
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pcb
oil
oxygen
water
oil containing
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JP9239518A
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English (en)
Inventor
Hajime Ishigaki
一 石垣
Takuo Sugawara
拓男 菅原
Katsuyasu Sugawara
勝康 菅原
Hitoshi Funayama
齊 船山
Hajime Muto
一 武藤
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TOHOKU RYOKKA KANKYO HOZEN KK
Original Assignee
TOHOKU RYOKKA KANKYO HOZEN KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 PCBを含む油からPCBを除去し、油を再
利用する。 【解決手段】(a) PCBを含む油に水および光触媒
を加え、(b) 純酸素、酸素富化空気又は空気から選
ばれた酸素源をその液に吹込んだ後、又は吹込みなが
ら、その液に光を照射し、そして(c)ハロゲンイオン
が溶けている水相と油相とを分離する。を含む各工程を
少なくとも1回繰返すことからなるハロゲン系有機化合
物を含有する油の精製方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、PCB、を含有する油
の精製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】PCBは化学工業の分野で広く使われて
おり、特にPCBは人体に対する毒性が明らかになって
きた。
【0003】そこで従来より、PCBの分解無害化方法
が種々検討されており、水などの液槽中のハロゲン系有
機化合物を対象とする無害化法として、触媒法、電子線
法、ナトリウム分解法等の開発が進められている。
【0004】又光触媒の存在において、光(可視光又は
紫外光)照射によるPCBを分解することも従来試みら
れた。しかし単に光照射だけではハロゲン系有機化合物
の分解は不十分であった。
【0005】ナトリウム分解法は分解能は高いがナトリ
ウムを多量に消耗するための経済性に欠けるとともに、
取扱い上の安全対策が大型化する欠点がある。
【0006】さらに従来ではPCBを含む絶縁油は燃焼
又はそのまま廃棄(埋め立て)するしか処分方法がなか
った。しかしPCBを含む油の燃焼では、大量の油資源
の浪費に伴い、又ダイオキシンの発生の問題が生ずる。
又そのまま廃棄(埋め立て)したのでは、容器の老巧化
による漏れ等により土壊汚染又は水汚染の問題が生ず
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】PCBを含有する油の
より安全で、かつ環境負荷の少ない処理法が所望される
ようになった。従来においてPCBの分解方法として触
媒法、光照射法、及びナトリウム分解法等の研究が進め
られているが、いずれの方法も欠点があり、また実用段
階まで完成した技術がないのが現状である。
【0008】この発明はこのような従来の問題を解決す
るためになされたもので、その目的とするところは、従
来の光照射法の困難を解決し、大幅に分解性能を改善し
た油に含まれるハロゲン系有機化合物分解法を提供する
ことにあり、それによってハロゲン系有機化合物が除去
されている油を再利用することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、ハロゲン
系有機化合物の分解方法の中で最も効率向上が期待でき
る紫外線分解法について鋭意研究を重ね、被処理油に水
を加え、その液に酸素を吹込んだ後又は酸素を吹込みな
がら、光を照射することで、ハロゲン系有機化合物を無
害化することに成功した。
【0010】本発明は、(a) PCBを含む油に水及
び二酸化チタン触媒を加え、(b) 純酸素、酸素富化
空気又は空気から選ばれた酸素源をその液に吹込んだ
後、又は吹込みながら、その液に光を照射し、そして
(c) ハロゲンイオンが溶けている水相と油相とを分
離する、を含む各工程を少なくとも1回繰返すことから
なるPCBを含有する油の精製方法に関する。
【0011】通常、油が含有しているPCBがほぼ完全
に除去されるまで、上記(a)〜(c)の操作を30〜
100回繰返すことが好ましい。この場合でも水も又イ
オン交換樹脂等で処理して循環して使用する。
【0012】
【発明の詳細な開示】本発明はPCBを含む油からPC
Bの除去に有用である。
【0013】液に吹込む酸素源として、純酸素、酸素富
化空気および空気が挙げられる。しかし空気を吹込む
時、液が十分な酸素を含有するのに長時間かかるので、
純酸素又は酸素富化空気を使用するのが好ましい。
【0014】本発明では被処理油に二酸化チタン触媒と
共に水を加えることが重要である。水の作用は明らかで
はないが、水を加えないで同じ操作を行なってもほとん
ど効果がなかった。通常油100部に対水50〜100
0部程度加えることが一般的である。しかし大量の水を
加えると、油と水との分離に手間がかかるので、水の量
が少ない方が好ましい。
【0015】処理後の水は再度油の処理に再利用のた
め、イオン交換樹脂、合成樹脂膜等で処理をして水から
ハロゲン成分を除去する。従って本発明では水は循環し
て使用するので、周囲に対し水汚染を生じさせない。油
と水との混合物を磁石によって回転する撹拌子等で撹拌
しながら光照射する。又撹拌は超音波等で行っても良
い。
【0016】光照射のための光源として太陽光であって
も良いが、太陽光の照射が時間がかかるので、高圧水銀
灯による照射が好ましい。
【0017】本発明はPCB以外のトリクロロエチレ
ン、フロン等のハロゲン系有機化合物を含む油の精製に
も使用できる。
【0018】触媒として二酸化チタンの外に酸化バナジ
ウム、酸化スズ、酸化タングステン、バナジウムおよび
タングステンのハロゲン化物、オキシ酸、バナジウム及
びタングステンのオキシ酸塩およびオキシ塩、白金、パ
ラジウムおよびロジウム等の貴金属又はその貴金属の化
合物が使用できる。
【0019】
【実施例】以下に本発明の実施例を示す。本発明はその
実施例に限定されない。
【0020】
【実施例1】図1に示される内部照射型光反応器を用い
て実験を行った、図1において1は反応槽、2はフィル
ターで内部に硫酸銅溶液が循環される。3は高圧水銀灯
(東芝H−400PL)、4はフィルター溶液入口、5
はフィルター溶液出口、6は撹拌子、7は光源そして8
は温度計である。
【0021】 高圧絶縁油(三菱石油、潤滑油基準100%) 100ml 蒸留水 900ml PCB(和光純薬工業CAMBRIDGE ISOTOPE LABORATORIES) 2ml 二酸化チタン 20g を反応槽に加えた。
【0022】実験は酸素ガスあるいは窒素ガスを供給
(1l/分)した場合と、ガスを供給しない場合につい
て行った。実験後の試料を図3に示されるように調整
後、ガスクロマト質量分析器(島津製作所製GC−MSQP−
1000)で定量した。
【0023】実験結果を図2に示す。図2は6塩素化体
PCB濃度の経時変化である。
【0024】酸素ガスを供給した場合は6塩素化体PC
B濃度が急激に増加し、その後減少しているが、窒素ガ
ス供給時やガスを供給しなかった場合はこのような変化
はみられなかった。本実験より酸素の存在が、絶縁油中
のPCB(6塩素化体PCB)の分解に何らかの影響を
与えていることが推察される。
【0025】
【実施例2】以下の実施例2は油は使用していないが、
水中のPCBが本発明の処理によって如何に減少するか
のテストである。アセトニトリルはPCBを溶解のため
に使用した。
【0026】 試 薬 PCB(異性体混合物):和光純薬工業製(CAMBRIDGE ISOTOPE LABORATORIES 製) アセトニトリル :和光純薬工業製(残留農薬試験用) n-ヘキサン :和光純薬工業製(残留農薬試験用)
【0027】光触媒 触媒はアナタ−ゼ型二酸化チタンを厚さ1mmのパイレッ
クスガラス板上に薄膜状に担持させたものである。
【0028】実験装置 光照射実験装置の反応器を図4に示す。図4において、
11はランプ、12は反応器、13はリザ−バ−、14
は02ガス又はN2ガス供給口、15はサンプリングタッ
プ、16は排出ガスパイプ。反応器本体は、アクリル製
薄層角型光反応器(75×250×5mm)で、アナ−ゼ
型二酸化チタン薄膜を担持したパイレックスガラス板
(75×95mm)を反応器の中央に固定したものであ
る。光源は、200W超高圧水銀灯(OSRAM:HBO−200
W)を用い、光源から反応器までの距離を8cmとした。
【0029】実験方法 PCB反応溶液は、アセトニトリル/水(3:1)にP
CB混合標品を可溶化させ、濃度が10ppmになるよう
に調整した。なお、実験の基本条件は下記の通りであ
る。 ・触媒被照射面積 38.5cm2 ・反応器全体の液容量 300ml ・リザ−バ−内容量 200ml ・流量40ml/min,空間時間 28.9sec リザ−バ−内に酸素を供給しながら光照射実験を行っ
た。光源から反応器までの距離は8cmとした。酸素(純
酸素)供給速度は0.2ml/minとした。循環開始から1時
間後に初回のサンプリングを行い、その直後から光照射
を開始した。その後は、1,3,6,12時間毎にサン
プリングを行った。一回のサンプリング量は、0.5mlで
ありバイアル管に採取し前処理後、ガスクロマト質量分
析器(島津製作所製GC-MSQP-1000)を用い、各時間にお
ける4〜8塩素化体濃度を定量した。なお、分析は実施
例1と同様な方法で定量した。
【0030】実験結果 酸素を供給した場合の実験結果を図5に供給しなかった
場合を図6に示す。図5及び6は各同族体PCBの経時
変化であり、両結果とも7,8塩素化体PCBが時間と
ともに減少し、4〜6塩素化体PCBの減少は少なかっ
た。また、反応初期では高塩素化体PCBの減少にとも
ない低塩素化体PCBの増加が見られた。このことか
ら、高塩素化体PCBの脱塩素化にともない脱離した塩
素の再結合による低塩素化体への移行が示唆される。ま
た、各同族体により増減の挙動が異なることが明らかに
なった。
【0031】この実験結果では各同族体PCB濃度変化
の割合は少なかった。そこで酸素ガスの影響を明らかに
するために、4〜8塩素化体PCBの含有塩素量と反応
後の残留塩素量から脱塩素率(PCB分解効率)を計算
により求めた。その結果を図7に示す。
【0032】これより、反応系に酸素が存在する場合の
脱塩素率は約35%で、存在しない場合は約17%とな
り、酸素が存在する方が約2倍脱塩素率が高く、PCB
の分解効率が良いことが明らかになった。この原因は、
光照射により触媒表面上に生成するヒドロキシラジカル
(・OH)が大きく関わるのに加え、PCB脱塩素では
酸素の存在により生じるヒドロペルオキシラジカル(・
OOH)が関与することでPCB脱塩素率が高まったも
のと思われる。
【0033】
【発明の効果】実施例1および2から明らかなごとく、
水および触媒の存在において酸素を供給しながら、光を
照射すると、PCBの量が顕著に減少する。例えばPC
Bを含む絶縁油を本発明の操作に従って繰返し処理する
と、最後にPCBをほとんど含まない絶縁油が得られ
る。この得られた絶縁油は再度同じ用途に供することが
できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で使用された反応器の概略図。
【図2】実施例1の実験のグラフ。
【図3】光照射後の試料をGC/MS分析のための調整
を示すフロ−シ−ト。
【図4】実施例2で使用された反応器の概略図。
【図5】実施例2の実験のグラフ。
【図6】実施例2の実験のグラフ。
【図7】実施例2の実験のグラフ。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年9月11日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図6
【補正方法】変更
【補正内容】
【図6】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C10G 27/04 C10G 27/04 32/00 32/00 H01B 3/20 H01B 3/20 H (72)発明者 船山 齊 秋田県秋田市飯島道東二丁目7番21号 (72)発明者 武藤 一 秋田県秋田市御所野元町五丁目4番4号

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a) PCBを含む油に水及び二酸化チ
    タン触媒を加え、(b) 純酸素、酸素富化空気又は空
    気から選ばれた酸素源をその液に吹込んだ後、又は吹込
    みながら、その液に光を照射し、そして(c) ハロゲ
    ンイオンが溶けている水相と油相とを分離する、 を含む各工程を少なくとも1回繰返すことからなるPC
    Bを含有する油の精製方法。
JP9239518A 1997-09-04 1997-09-04 Pcbを含有する油の精製方法 Pending JPH1180775A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010004986A1 (ja) * 2008-07-07 2010-01-14 株式会社 For-C 天然油の精製方法
JP2012005937A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Toshio Konuma Pcb汚染廃電気機器の処理システム

Cited By (3)

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JP5534455B2 (ja) * 2008-07-07 2014-07-02 株式会社 For−C 天然油の精製方法
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