JPH1177909A - Transparent laminate - Google Patents
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- JPH1177909A JPH1177909A JP2824998A JP2824998A JPH1177909A JP H1177909 A JPH1177909 A JP H1177909A JP 2824998 A JP2824998 A JP 2824998A JP 2824998 A JP2824998 A JP 2824998A JP H1177909 A JPH1177909 A JP H1177909A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は透明積層体に関す
る。詳しくは、近赤外線を遮蔽するフィルターとして好
適に使用することができる透明積層体に関する。[0001] The present invention relates to a transparent laminate. More specifically, the present invention relates to a transparent laminate that can be suitably used as a filter for shielding near infrared rays.
【0002】[0002]
【従来の技術】画像表示装置のフィルターに関しては、
種々の提案がなされている。例えば、特開平2−790
83号公報には、透光性プラスチックシートの少なくと
も一面に帯電防止能を有するハードコート層が形成さ
れ、さらに該透光性プラスチックシートの少なくとも一
面に反射防止膜が形成され、かつ、帯電防止能を有する
面からアースがとられている透光性プラスチックフィル
ターが開示されている。また、特公平7−19551号
公報には、プラスチック透明基材の両面にハードコート
層を設け、該ハードコート層の一方の面に導電層を、さ
らに該導電層上に無機シリカ層を設け、さらにもう一方
の面のハードコート層上に反射防止層を設けた光学フィ
ルターが開示されている。2. Description of the Related Art Regarding filters of an image display device,
Various proposals have been made. For example, JP-A-2-790
No. 83 discloses a hard coat layer having an antistatic function formed on at least one surface of a light-transmitting plastic sheet, an antireflection film formed on at least one surface of the light-transmitting plastic sheet, and an antistatic function. There is disclosed a translucent plastic filter which is grounded from the surface having a. In Japanese Patent Publication No. 7-19551, a hard coat layer is provided on both surfaces of a plastic transparent substrate, a conductive layer is provided on one surface of the hard coat layer, and an inorganic silica layer is further provided on the conductive layer. Further, an optical filter in which an antireflection layer is provided on a hard coat layer on the other side is disclosed.
【0003】しかしながら、これらにおいては、近赤外
線カット性能については何ら触れておらず、例えばこれ
らのフィルターをプラズマディスプレイパネルのような
近赤外線を放出する表示装置に使用する場合には、近赤
外線吸収能が十分でない。一方、近赤外線吸収性の透明
樹脂に関しても、種々の提案がなされている。例えば、
特開平6−240146号公報には、ポリカーボネー
ト、(メタ)アクリル樹脂等の透明樹脂にフタロシアニ
ン化合物を配合した組成物が記載されている。However, these documents do not mention the near-infrared cut-off performance at all. For example, when these filters are used in a display device that emits near-infrared rays such as a plasma display panel, the near-infrared ray absorbing performance is not considered. Is not enough. On the other hand, various proposals have also been made regarding a near infrared absorbing transparent resin. For example,
JP-A-6-240146 describes a composition in which a phthalocyanine compound is blended with a transparent resin such as polycarbonate and (meth) acrylic resin.
【0004】また、特開平6−256541号公報に
は、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト樹脂等の透明樹脂にアントラキノン系化合物を配合し
た組成物からなる成形フィルムが記載されている。更
に、特開平7−179656号公報には、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリスチレン等の透明樹脂に、硫化鉛、チ
オ尿素誘導体を配合した組成物が記載されている。しか
しながら、これらに記載されている組成物は、プラズマ
ディスプレイパネル用のフィルターとして必要な、近赤
外線吸収能、電磁波シールド能、傷付き防止性能、及び
反射防止能を満たしていない。[0004] JP-A-6-256541 discloses a molded film comprising a composition in which an anthraquinone compound is blended with a transparent resin such as a polycarbonate resin or a polyethylene terephthalate resin. Further, JP-A-7-179656 describes a composition in which lead sulfide and a thiourea derivative are blended with a transparent resin such as a polycarbonate resin or polystyrene. However, the compositions described therein do not satisfy the near-infrared absorbing ability, electromagnetic wave shielding ability, anti-scratching ability, and anti-reflection ability required for a filter for a plasma display panel.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、近赤
外線カット能に優れるとともに、電磁波シールド能、傷
付き防止能、反射防止能、及び透明性に優れる透明積層
体を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a transparent laminate which is excellent in near-infrared ray cutting performance, and excellent in electromagnetic wave shielding performance, scratch prevention performance, antireflection performance and transparency. .
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、透明樹
脂基板上に、波長領域850〜1100nmの近赤外線
透過率が10%以下である近赤外線カット層、電磁波シ
ールド層、傷付き防止層、及び光線反射防止層が形成さ
れた透明積層体であって、近赤外線カット層が、イモニ
ウム系化合物、ジイモニウム系化合物、及びアミニウム
塩系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の近
赤外線吸収剤を含有し、透明積層体の波長領域400〜
700nmの可視光線透過率が50%以上であることを
特徴とする透明積層体、に存する。The gist of the present invention is to provide a near-infrared cut layer having a near-infrared transmittance of 10% or less in a wavelength range of 850 to 1100 nm, an electromagnetic wave shielding layer, and a scratch prevention layer on a transparent resin substrate. And a transparent laminate on which a light reflection preventing layer is formed, wherein the near-infrared cut layer is at least one kind of near-infrared absorber selected from the group consisting of an immonium-based compound, a diimonium-based compound, and an aminium salt-based compound Containing, the wavelength region of the transparent laminate 400 ~
A transparent laminate having a visible light transmittance of 700 nm of 50% or more.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】以下、本発明につき詳細に説明す
る。 (1)透明樹脂基板 本発明の透明積層体を構成する透明樹脂基板の材料であ
る透明樹脂は、実質的に透明であって、吸収、散乱が大
きくない樹脂であれば良く、特に制限はないが、その具
体的なものとしては、ポリエステル系樹脂、ポリカーボ
ネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹
脂、環状オレフィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ酢酸ビニル等を使用することができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. (1) Transparent Resin Substrate The transparent resin that is the material of the transparent resin substrate constituting the transparent laminate of the present invention is not particularly limited as long as it is substantially transparent and does not have large absorption and scattering. However, specific examples thereof include polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, cyclic olefin resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate and the like.
【0008】(a)ポリエステル系樹脂 上記ポリエステル系樹脂は、ジカルボン酸成分とグリコ
ール成分との縮重合反応等により製造されるものであ
る。ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、アジピ
ン酸、マレイン酸等、グリコール成分としては、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタン
ジオール等が挙げられる。好ましいポリエステル系樹脂
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート等である。(A) Polyester Resin The polyester resin is produced by a polycondensation reaction between a dicarboxylic acid component and a glycol component. Examples of the dicarboxylic acid component include terephthalic acid, adipic acid, and maleic acid, and examples of the glycol component include ethylene glycol, propylene glycol, and 1,4-butanediol. Preferred polyester resins are polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and the like.
【0009】(b)ポリカーボネート系樹脂 上記ポリカーボネート系樹脂は、2価フェノールとカー
ボネート前駆体とを溶液法または溶融法で反応させて製
造されるものである。2価フェノールの例としては、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビ
スフェノールA]、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフ
ィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等が挙
げられる。好ましい2価フェノールとしてはビス(4−
ヒドロキシフェニル)アルカン系、特にビスフェノール
を主成分とするものが挙げられる。また、カーボネート
前駆体としてはホスゲン、ジフェニルカーボネート等が
挙げられる。(B) Polycarbonate Resin The above polycarbonate resin is produced by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor by a solution method or a melting method. Examples of dihydric phenols include:
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane [bisphenol A], 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4 -Hydroxy-
3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, bis (4-hydroxy Phenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone and the like. Preferred dihydric phenols include bis (4-
(Hydroxyphenyl) alkanes, particularly those containing bisphenol as a main component. Further, examples of the carbonate precursor include phosgene, diphenyl carbonate and the like.
【0010】(c)ポリ(メタ)アクリル酸エステル系
樹脂 上記ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂としては、
ポリアクリル酸エステル系樹脂、及びポリメタクリル酸
エステル系樹脂が挙げられる。代表的なポリメタクリル
酸エステル系樹脂は、メタクリル酸メチルの単独重合体
またはメタクリル酸メチルを50%以上含む重合性不飽
和単量体混合物の共重合体である。メタクリル酸メチル
と共重合可能な重合性不飽和単量体としては、例えばア
クリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル(アクリル
酸エチルまたはメタクリル酸エチルの意味。以下同
じ)、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸
シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキ
シル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)ア
クリル酸エトキシエチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒ
ドロキシエチル、(メタ)アクリル酸−N,N−ジエチ
ルアミノエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メ
タ)アクリル酸トリブロモフェニル、(メタ)アクリル
酸テトラヒドロフルフリル、エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
などが挙げられる。(C) Poly (meth) acrylate-based resin As the poly (meth) acrylate-based resin,
Examples include a polyacrylate resin and a polymethacrylate resin. A typical polymethacrylate resin is a homopolymer of methyl methacrylate or a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer mixture containing 50% or more of methyl methacrylate. Examples of the polymerizable unsaturated monomer copolymerizable with methyl methacrylate include methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate (meaning ethyl acrylate or ethyl methacrylate; the same applies hereinafter), butyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid -N, N-diethylaminoethyl, glycidyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate
Acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylol ethane di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and the like are included.
【0011】(d)環状オレフィン系樹脂 上記環状オレフィン系樹脂としては、シクロブテン類、
シクロペンテン類、シクロヘキセン類等の単環式環状オ
レフィン及びノルボルネン類、トリシクロ−3−デセン
類等の多環式環状オレフィンから選ばれる環状オレフィ
ンのビニレン重合による単独重合体、複数種の環状オレ
フィンのビニレン重合による共重合体、或いは、これら
環状オレフィンとエチレンとの共重合体等が挙げられ
る。(D) Cyclic olefin resin As the cyclic olefin resin, cyclobutenes,
Homopolymer by vinylene polymerization of a cyclic olefin selected from monocyclic cycloolefins such as cyclopentenes and cyclohexenes and polycyclic cyclic olefins such as norbornenes and tricyclo-3-decenes, and vinylene polymerization of plural types of cyclic olefins Or copolymers of these cyclic olefins with ethylene.
【0012】上記環状オレフィンの例としては、シクロ
ブテン、シクロペンテン、4−メチルシクロペンテン等
のシクロペンテン類、シクロヘキセン、3−メチルシク
ロヘキセン、3−ビニルシクロヘキセン等のシクロヘキ
セン類等の単環式環状オレフィン、ノルボルネン、1−
メチルノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネ
ン、メチレンノルボルネン、5−ビニル−2−ノルボル
ネン、5−メチレン−2−ノルボルネン等のノルボルネ
ン類、トリシクロ[4.3.0.12,5 ]−3−デセ
ン、2−メチルトリシクロ[4.3.0.12,5 ]−3
−デセン等のトリシクロ−3−デセン類、ジシクロペン
タジエン(トリシクロ[4.3.0.12, 5 ]−3,7
−デカジエン又はトリシクロ[4.3.0.12,5 ]−
3,8−デカジエン)、7−メチルジシクロペンタジエ
ン等のジシクロペンタジエン類、テトラシクロ[4.
4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、8−メチル
テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ド
デセン、5,10−ジメチルテトラシクロ[4.4.
0.12,5 .17,10]−3−ドデセン等のテトラシクロ
−3−ドデセン類、ペンタシクロ[6.5.1.1
3,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセン、10−メ
チルペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,
13]−4−ペンタデセン、ペンタシクロ[4.7.0.
12,5 .08,13.19,12]−3−ペンタデセン等のペン
タシクロペンタデセン類、ペンタシクロ[6.5.1.
13,6 .02,7 .09,13]−4,10−ペンタデカジエ
ン、ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .0
9,13]−4,11−ペンタデカジエン等のペンタシクロ
ペンタデカジエン類、ヘキサシクロ[6.6.1.1
3,6 .110,13.02,7 .09,14]−4−ヘプタデセン
等のヘキサシクロヘプタデセン類等の多環式環状オレフ
ィンを挙げることができる。Examples of the cyclic olefin include monocyclic cycloolefins such as cyclopentenes such as cyclobutene, cyclopentene and 4-methylcyclopentene; cyclohexenes such as cyclohexene, 3-methylcyclohexene and 3-vinylcyclohexene; norbornene; −
Norbornenes such as methyl norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, methylene norbornene, 5-vinyl-2-norbornene, 5-methylene-2-norbornene, and tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3- Decene, 2-methyltricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3
- tricyclo-3-decene such as decene, dicyclopentadiene (tricyclo [4.3.0.1 2, 5] -3,7
-Decadiene or tricyclo [4.3.0.1 2,5 ]-
3,8-decadiene), dicyclopentadienes such as 7-methyldicyclopentadiene, and tetracyclo [4.
4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 8-methyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, 5,10-dimethyltetracyclo [4.4.
0.1 2,5 . Tetracyclo -3-dodecenes such as 1 7,10 ] -3-dodecene, pentacyclo [6.5.1.1
3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] -4-pentadecene, 10-methylpentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,
13 ] -4-pentadecene, pentacyclo [4.7.0.
12.5 . 0 8,13 . Pentacyclopentadecenes such as [ 1,9,12 ] -3-pentadecene, and pentacyclo [6.5.5.1.
13-6 . 0 2,7 . 0 9,13] 4,10 penta octadecadienoic, pentacyclo [6.5.1.1 3,6. 0 2,7 . 0
9,13] -4,11-penta cyclopentadiene octadecadienoic such as penta decadiene, hexacyclo [6.6.1.1
3,6 . 1 10,13 . 0 2,7 . 0 9,14] -4 it can be mentioned polycyclic olefins such as hexamethylene cycloheptanone decene such as heptadecene.
【0013】上記透明樹脂には、一般に知られた添加
剤、例えばフェノール系、リン系などの酸化防止剤、ハ
ロゲン系、リン酸系などの難燃剤、耐熱老化防止剤、紫
外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができ
る。また上記透明樹脂は、射出成形、Tダイ成形、カレ
ンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させ
てキャスティングする方法などを用いて、フィルム、ま
たはシート(板)に成形され、本発明における透明樹脂
基板として使用される。この際、透明樹脂基板の表面に
は、公知の表面処理、例えばコロナ処理、プラズマ処
理、火炎処理、化学薬品処理、ブライマー層塗布などを
施しても良い。透明樹脂基板の厚みは、目的により異な
るが、10μm〜5mmの範囲が望ましい。The transparent resin may contain generally known additives such as antioxidants such as phenols and phosphorus, flame retardants such as halogen and phosphoric acid, heat aging inhibitors, ultraviolet absorbers, lubricants, An antistatic agent or the like can be blended. The transparent resin is formed into a film or a sheet (plate) by a method such as injection molding, T-die molding, calender molding, compression molding, or a method of dissolving in an organic solvent and casting. As a transparent resin substrate. At this time, the surface of the transparent resin substrate may be subjected to a known surface treatment, for example, a corona treatment, a plasma treatment, a flame treatment, a chemical treatment, a coating of a primer layer, or the like. The thickness of the transparent resin substrate varies depending on the purpose, but is preferably in the range of 10 μm to 5 mm.
【0014】(2)近赤外線カット層 本発明の透明積層体を構成する近赤外線カット層は、波
長領域850〜1100nmの近赤外線透過率が10%
以下であることが必要である。この近赤外線カット層
は、近赤外線吸収剤を透明樹脂に配合するか、あるいは
有機溶剤に分散、あるいは溶解させてバインダー樹脂を
添加した塗工液、あるいは近赤外線吸収剤をハードコー
ト剤、アンカーコート剤、接着剤等に添加した塗工液
を、透明積層体を構成する層上に塗布することにより、
形成することができる。(2) Near-infrared cut layer The near-infrared cut layer constituting the transparent laminate of the present invention has a near-infrared transmittance of 10% in a wavelength region of 850 to 1100 nm.
It must be: This near-infrared cut layer is formed by mixing a near-infrared absorber into a transparent resin, or by dispersing or dissolving in an organic solvent and adding a binder resin, or by applying a near-infrared absorber as a hard coat agent or an anchor coat. By applying the coating liquid added to the agent, the adhesive, etc. on the layers constituting the transparent laminate,
Can be formed.
【0015】本発明においては、近赤外線吸収剤として
イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物又はアミニ
ウム塩系化合物を使用する。上記イモニウム系化合物、
及びジイモニウム系化合物としては、例えば下記式
(1)〜(4)で表される化合物が挙げられる。In the present invention, an immonium compound, a diimonium compound or an aminium salt compound is used as a near infrared absorbing agent. The immonium-based compound,
Examples of the diimonium-based compound include compounds represented by the following formulas (1) to (4).
【0016】[0016]
【化1】 Embedded image
【0017】[0017]
【化2】 Embedded image
【0018】[0018]
【化3】 Embedded image
【0019】[0019]
【化4】 Embedded image
【0020】また、上記アミニウム塩系化合物として
は、例えば下記式(5)で表される化合物が挙げられ
る。式中のXの具体例としては、六フッ化アンチモン酸
イオン、過塩素酸イオン、フッ化ホウ素酸イオン、六フ
ッ化砒素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、トリフルオロ酢
酸イオン、塩素イオン等が挙げられる。The aminium salt compound includes, for example, a compound represented by the following formula (5). Specific examples of X in the formula include antimonate hexafluoride, perchlorate, boron fluoride, arsenate hexafluoride, periodate, trifluoroacetate, and chloride. Can be
【0021】[0021]
【化5】 Embedded image
【0022】本発明においては近赤外線吸収剤として、
イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物又はアミニ
ウム塩系化合物を使用するが、他の近赤外線吸収剤を併
用してもよい。このような近赤外線吸収剤としては、有
機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニ
ン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケ
ル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシ
アニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフト
キノン系化合物、アントラキノン系化合物、またはアミ
ノ化合物、あるいは無機物質であるカーボンブラック
や、酸化アンチモン、または酸化インジウムをドープし
た酸化錫、周期表の4、5または6族に属する金属の酸
化物、若しくは炭化物、またはホウ化物等が挙げられ
る。この場合、波長領域850〜1100nmの近赤外
線透過率が10%以下となるように上記化合物を適宜組
み合わせて使用することができる。特に、透明性と近赤
外線吸収性能の点から、ジイモニウム系化合物とフタロ
シアニン系化合物の組み合わせが好ましい。In the present invention, as a near-infrared absorbing agent,
An immonium-based compound, a diimonium-based compound or an aminium salt-based compound is used, but another near-infrared absorbing agent may be used in combination. Examples of such near-infrared absorbers include nitroso compounds and metal complexes thereof, which are organic substances, cyanine compounds, squarylium compounds, thiol nickel complex salt compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, triarylmethane compounds, Naphthoquinone-based compounds, anthraquinone-based compounds, or amino compounds, or inorganic carbon black, antimony oxide, or tin oxide doped with indium oxide, oxides of metals belonging to Group 4, 5, or 6 of the periodic table, or Examples thereof include carbides and borides. In this case, the above compounds can be appropriately combined and used so that the near-infrared transmittance in a wavelength region of 850 to 1100 nm is 10% or less. In particular, a combination of a diimonium-based compound and a phthalocyanine-based compound is preferable from the viewpoint of transparency and near-infrared absorption performance.
【0023】上記フタロシアニン系化合物としては、下
記一般式(6)の骨格を有する化合物が挙げられる。式
中のR1 〜R16は、互いに同一、または異なる原子ある
いは官能基で、水素原子、フッ素原子、アルコキシ基、
フェノキシ基、チオアルキル基、チオフェニル基、アミ
ノアルキル基、アミノフェニル基等が挙げられる。好ま
しくは、フッ素原子及びアミノフェニル基である。また
式中のMとしては、銅、亜鉛、コバルト、ニッケル、
鉄、バナジル、チタニル、クロロインジウム、クロロア
ルミニウム、ジクロロ錫、コバルトカルボニル、鉄カル
ボニル等が挙げられる。Examples of the phthalocyanine-based compound include compounds having a skeleton represented by the following general formula (6). R 1 to R 16 in the formula are the same or different atoms or functional groups, and are a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkoxy group,
Examples include a phenoxy group, a thioalkyl group, a thiophenyl group, an aminoalkyl group, and an aminophenyl group. Preferably, they are a fluorine atom and an aminophenyl group. Further, M in the formula is copper, zinc, cobalt, nickel,
Examples include iron, vanadyl, titanyl, chloroindium, chloroaluminum, dichlorotin, cobalt carbonyl, iron carbonyl, and the like.
【0024】[0024]
【化6】 Embedded image
【0025】上記近赤外線吸収剤を透明樹脂に配合する
ことにより近赤外線カット層を形成する場合に使用され
る透明樹脂としては、実質的に透明であって、吸収、散
乱が大きくない樹脂であればよく、特に制限はないが、
具体的には、上述したポリカーボネート系樹脂、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、環状オレフィン系
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル等を挙げることができる。上記透明
樹脂には、公知の添加剤、例えばフェノール系、リン系
などの酸化防止剤、ハロゲン剤、リン酸系などの難燃
剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤
等を配合することができる。The transparent resin used for forming the near-infrared cut layer by blending the above-mentioned near-infrared absorbing agent with the transparent resin may be a resin which is substantially transparent and does not have large absorption and scattering. It does not matter, but there is no particular limitation,
Specifically, the above-mentioned polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, cyclic olefin resin, polyester resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate and the like can be mentioned. In the transparent resin, known additives, for example, phenol-based, phosphorus-based antioxidants, halogen agents, phosphoric acid-based flame retardants, heat aging inhibitors, ultraviolet absorbers, lubricants, antistatic agents and the like. Can be blended.
【0026】上記透明樹脂は、前記近赤外線吸収剤を配
合して、射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮
成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティング
する方法などを用いて、フィルム状あるいはシート状に
成形し、近赤外線カット層とする。その厚みとしては、
10μm〜1mmが好ましい。近赤外線吸収剤の配合量
は、樹脂100重量部に対し、通常は、合計0.005
〜8重量部、好ましくは0.01〜5重量部である。上
記近赤外線吸収剤の配合量が少なすぎると、可視光線の
透過性は良くなるが、近赤外線吸収能は低下する。一
方、配合量が多すぎると近赤外線吸収能は良好となる
が、可視光線透過率は低下する。The transparent resin is mixed with the above-mentioned near-infrared ray absorbing agent, and is formed into a film by a method such as injection molding, T-die molding, calendar molding, compression molding, or the like, or by dissolving in an organic solvent and casting. Into a near-infrared cut layer. As its thickness,
10 μm to 1 mm is preferred. The compounding amount of the near-infrared absorber is usually 0.005 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin.
To 8 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight. If the amount of the near infrared absorbing agent is too small, the transmittance of visible light is improved, but the near infrared absorbing ability is reduced. On the other hand, if the blending amount is too large, the near-infrared absorbing ability becomes good, but the visible light transmittance decreases.
【0027】また近赤外線カット層は、有機溶剤に分
散、あるいは溶解させてバインダー樹脂を添加した塗工
液、あるいは近赤外線吸収剤をハードコート剤、アンカ
ーコート剤、接着剤等に添加した塗工液を、積層順序に
応じて透明樹脂基板、電磁波シールド層、傷付き防止
層、あるいは反射防止層のいずれかの上に塗工すること
により形成することもできる。上記有機溶剤としては、
ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂
肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶剤、
またはそれらの混合溶剤等を用いる。上記バインダーと
しては、エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系
樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリビニル系樹脂等を用いることがで
きる。The near-infrared cut layer is formed by coating or dispersing or dissolving in an organic solvent and adding a binder resin, or by adding a near-infrared absorbing agent to a hard coat agent, an anchor coat agent, an adhesive or the like. It can also be formed by applying a liquid on any of the transparent resin substrate, the electromagnetic wave shielding layer, the anti-scratch layer, and the anti-reflection layer according to the lamination order. As the organic solvent,
Halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent,
Alternatively, a mixed solvent thereof is used. As the binder, an ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, a polycarbonate resin, a polyolefin resin, a polyvinyl resin, or the like can be used.
【0028】上記ハードコート剤としては、ポリウレタ
ンアクリレート、エポキシアクリレートなどのアクリレ
ートあるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、及び
有機溶剤を主成分とするものを使用することができる。
これらのハードコート剤100重量部に対し、上記近赤
外線吸収剤を通常、1〜40重量部、好ましくは2〜1
5重量部添加し、これをディッピング法、フローコート
法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロ
ールコート法、ブレードコート法及びエアーナイフコー
ト法等の塗工方法で塗工する。その後、溶剤を乾燥し、
キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯等を用いて活
性エネルギー線を照射することにより塗工液を硬化さ
せ、近赤外線カット層とする。この際の近赤外線カット
層の厚みは、通常、1〜50μm、好ましくは3〜20
μmである。As the hard coating agent, those containing acrylates such as polyurethane acrylate and epoxy acrylate or polyfunctional acrylates, a photopolymerization initiator and an organic solvent as main components can be used.
The above-mentioned near-infrared absorbing agent is usually used in an amount of 1 to 40 parts by weight, preferably 2-1 to 100 parts by weight of the hard coating agent.
5 parts by weight are added, and this is applied by a coating method such as a dipping method, a flow coating method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a blade coating method, and an air knife coating method. After that, the solvent is dried,
The coating liquid is cured by irradiating active energy rays using a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, or the like to form a near-infrared cut layer. The thickness of the near-infrared cut layer at this time is usually 1 to 50 μm, preferably 3 to 20 μm.
μm.
【0029】上記アンカーコート剤としては、イソシア
ネート系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエチ
レンイミン系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート
系等の公知のアンカーコート剤が使用できる。好ましく
は、イソシアネート化合物、ポリウレタン、ウレタンプ
レポリマー、または、それらの混合物および反応生成
物、ポリエステルポリオールまたはポリエーテルポリオ
ールとイソシアネートとの混合物である。これらのアン
カーコート剤100重量部に対し、上記近赤外線吸収剤
を通常、1〜50重量部添加し、これをディッピング
法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラ
ビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法及び
エアーナイフコート法等の塗工方法で塗工し、その後溶
剤を乾燥させ、近赤外線カット層とする。この際の塗工
液の塗工量は、通常、0.01〜5g/m2 (乾燥固形
分)、好ましくは0.1〜3g/m2 (乾燥固形分)で
ある。As the above-mentioned anchor coating agent, known anchor coating agents such as isocyanate type, polyurethane type, polyester type, polyethyleneimine type, polybutadiene type and alkyl titanate type can be used. Preferably, it is an isocyanate compound, a polyurethane, a urethane prepolymer, or a mixture and a reaction product thereof, or a mixture of a polyester polyol or a polyether polyol with an isocyanate. Usually, 1 to 50 parts by weight of the above-mentioned near-infrared absorbing agent is added to 100 parts by weight of these anchor coating agents, and this is dipped, flow coated, sprayed, bar coated, gravure coated, roll coated. Then, coating is performed by a coating method such as a blade coating method or an air knife coating method, and then the solvent is dried to form a near-infrared cut layer. The coating amount of the coating liquid at this time, usually, 0.01-5 g / m 2 (dry solids), and preferably from 0.1 to 3 g / m 2 (dry solids).
【0030】(3)電磁波シールド層 本発明の透明積層体を構成する電磁波シールド層として
は、金属、あるいは金属酸化物等で可視光線を透過しう
るものであれば、いかなるものであってもよい。好まし
くは、酸化スズ、酸化インジウムドープ酸化スズ(以下
「ITO」という。)、アンチモンドープ酸化スズ(以
下「ATO」という。)、銀が挙げられる。電磁波シー
ルド層を形成する金属、あるいは金属酸化物は、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、C
VD法、プラズマ化学蒸着法等の方法により基板上に形
成することができる。あるいは、金属ペーストを基板上
にコーティングすることにより形成することもできる。
電磁波シールド層の膜厚は、要求される物性、用途など
により異なるが、透明性の観点から20〜300nmの
範囲とするのが好ましい。(3) Electromagnetic Wave Shielding Layer The electromagnetic wave shielding layer constituting the transparent laminate of the present invention may be any material as long as it can transmit visible light with a metal or a metal oxide. . Preferably, tin oxide, indium oxide-doped tin oxide (hereinafter, referred to as “ITO”), antimony-doped tin oxide (hereinafter, referred to as “ATO”), and silver are used. The metal or metal oxide forming the electromagnetic wave shielding layer is formed by vacuum evaporation, ion plating, sputtering, C
It can be formed on a substrate by a method such as a VD method or a plasma chemical vapor deposition method. Alternatively, it can be formed by coating a metal paste on a substrate.
The thickness of the electromagnetic wave shielding layer varies depending on required physical properties, applications, and the like, but is preferably in the range of 20 to 300 nm from the viewpoint of transparency.
【0031】(4)傷付き防止層 本発明の透明積層体を構成する傷付き防止層は、ポリウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレートなどのアク
リレートあるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、
および有機溶剤を主成分とするコート剤により形成され
る。エポキシアクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ
基をアクリル酸でエステル化し官能基をアクリロイル基
としたものであり、ビスフェノールA型エポキシ樹脂へ
のアクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂へのア
クリル酸付加物等がある。(4) Anti-Scratch Layer The anti-scratch layer constituting the transparent laminate of the present invention comprises an acrylate such as polyurethane acrylate or epoxy acrylate or a polyfunctional acrylate, a photopolymerization initiator,
And a coating agent containing an organic solvent as a main component. Epoxy acrylate is obtained by esterifying an epoxy group of an epoxy resin with acrylic acid and converting a functional group into an acryloyl group. An acrylic acid adduct to a bisphenol A type epoxy resin, an acrylic acid adduct to a novolak type epoxy resin, etc. is there.
【0032】ウレタンアクリレートは、ポリオールとジ
イソシアネートとを反応させたウレタンプレポリマーを
水酸基をもつアクリレートでアクリル変性して得られ
る。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、ブチレングリ
コール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパ
ン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチ
レングリコールとの縮重合体などが挙げられる。ジイソ
シアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート等が挙げられる。水酸基をもつアクリレートとして
は、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト等が挙げられる。Urethane acrylate is obtained by acrylically modifying a urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a diisocyanate with an acrylate having a hydroxyl group. Examples of the polyol include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, butylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, hexanetriol, trimethylolpropane, polytetramethylene glycol, and a condensation polymer of adipic acid and ethylene glycol. No. Examples of the diisocyanate include tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and the like. Examples of the acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and the like.
【0033】多官能アクリレートは、分子内に3個以上
のアクリロイル基を有するものであり、具体的には、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート、PO変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロ
キシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性ト
リス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ア
ルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、
アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリ
レート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、及びこれら2種以上の混合物が挙げ
られる。The polyfunctional acrylate has three or more acryloyl groups in the molecule, and specifically includes trimethylolpropane triacrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, PO-modified trimethylolpropane triacrylate, Tris (acryloxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified Dipentaerythritol triacrylate,
Examples thereof include alkyl-modified dipentaerythritol tetraacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, and a mixture of two or more of these.
【0034】光重合開始剤としては、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエト
キシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、
2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィ
ンオキシド、ミヒラーズケトン、N,N−ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、
2,4−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これら
の光重合開始剤は2種以上を適宜併用することもでき
る。Examples of photopolymerization initiators include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, diethoxyacetophenone, benzyl dimethyl ketal,
Hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzophenone,
2,4,6-trimethylbenzoindiphenylphosphine oxide, Michler's ketone, isoamyl N, N-dimethylaminobenzoate, 2-chlorothioxanthone,
Examples thereof include 2,4-diethylthioxanthone, and two or more of these photopolymerization initiators may be used in combination.
【0035】有機溶剤としては、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアル
コール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコ
ール、n−ブチルアルコール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、2−メトキシエタノー
ル、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノー
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、2−メトキシエチルアセ
タート、2−エトキシエチルアセタート、2−ブトキシ
エチルアセタート等のエーテルエステル類が挙げられ、
またこれらの2種以上を混合して使用することもでき
る。Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, esters such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, and n-propyl alcohol. Alcohols such as butyl alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethers such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether And ether esters such as 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, and 2-butoxyethyl acetate.
Also, two or more of these can be used in combination.
【0036】また、上記成分の他、耐摩耗性向上のた
め、コロイド状金属酸化物、あるいは有機溶剤を分散媒
としたシリカゾル等を加えることもできる。傷付き防止
層は、上記コート剤の塗工液をディッピング法、フロー
コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート
法、ロールコート法、ブレードコート法及びエアーナイ
フコート法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥さ
せ、さらに活性エネルギー線を照射することにより塗工
したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成され
る。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、
低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の
光源から発せられる紫外線あるいは、通常20〜200
0keVの電子線加速器から取り出される電子線、α
線、β線、γ線等を用いることができる。このようにし
て形成される傷付き防止層は、通常1〜50μm、好ま
しくは3〜20μmの厚みとする。In addition to the above components, a colloidal metal oxide or a silica sol using an organic solvent as a dispersion medium can be added to improve abrasion resistance. The anti-scratch layer is formed by applying the coating solution of the above coating agent by a dipping method, a flow coating method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a blade coating method, or an air knife coating method. After the application, the solvent is dried, and the applied coating agent is cross-linked and cured by irradiating with an active energy ray. As the active energy ray, a xenon lamp,
Ultraviolet light emitted from a light source such as a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, and a tungsten lamp, or usually 20 to 200
An electron beam extracted from a 0 keV electron beam accelerator, α
Rays, β rays, γ rays and the like can be used. The thus formed scratch prevention layer has a thickness of usually 1 to 50 μm, preferably 3 to 20 μm.
【0037】(5)光線反射防止層 本発明の透明積層体を構成する光線反射防止層は、比較
的低屈折率である酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化チ
タン、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、酸化ア
ルミニウム等、あるいは反射防止コーティング剤(例え
ば旭硝子(株)製;商品名「サイトップ」等)を用いて
形成される。これらのものを一層、あるいは2種類以上
を組み合わせて多層設け、反射防止層を形成する。反射
防止層の形成方法としては、金属アルコキシドを塗布後
に焼成する方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、CVD法、プラズマ化学蒸着法、
あるいはロールコート法、ディッピング法等が挙げられ
る。この反射防止層は、透明積層体の最表面に設けられ
ることが好ましい。また反射防止層の厚みは、通常、5
0〜100nmの範囲とする。(5) Anti-reflection layer The anti-reflection layer constituting the transparent laminate of the present invention has a relatively low refractive index, such as silicon oxide, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium fluoride, calcium fluoride, and oxide. It is formed using aluminum or the like, or an antireflection coating agent (for example, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .; trade name “Cytop”). These layers are provided as a single layer or a combination of two or more types to form a multilayer to form an antireflection layer. As a method of forming the antireflection layer, a method of baking after applying a metal alkoxide, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, a plasma chemical vapor deposition method,
Alternatively, a roll coating method, a dipping method and the like can be mentioned. This antireflection layer is preferably provided on the outermost surface of the transparent laminate. The thickness of the antireflection layer is usually 5
The range is from 0 to 100 nm.
【0038】(6)透明積層体 本発明の透明積層体は、フィルム、或いはシート(板)
状の透明樹脂基板上に、上記近赤外線カット層、電磁波
シールド層、傷付き防止層、及び光線反射防止層を積層
してなるものであり、波長領域400〜700nmの可
視光線透過率が50%以上であることが必要である。積
層の順序は特に限定されないが、反射防止層は最表面に
設けられることが好ましい。さらに、この透明積層体
は、単独で用いることも可能であるが、例えば厚みが1
0μm〜1mmと自立性を持たない場合には、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アク
リル酸エステル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等の厚み2
〜5mmの透明樹脂板に接着剤等で貼り付けて積層体と
して用いることもできる。(6) Transparent laminate The transparent laminate of the present invention may be a film or a sheet (plate).
The near-infrared cut layer, the electromagnetic wave shielding layer, the anti-scratch layer, and the anti-light-reflection layer are laminated on a transparent resin substrate having a visible light transmittance of 50% in a wavelength region of 400 to 700 nm. It is necessary to be above. The order of lamination is not particularly limited, but the antireflection layer is preferably provided on the outermost surface. Further, this transparent laminate can be used alone, but for example, the thickness is 1
In the case where the resin does not have a self-supporting property of 0 μm to 1 mm, the thickness of polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, alicyclic olefin resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, etc.
It can also be used as a laminate by attaching it to a transparent resin plate of about 5 mm with an adhesive or the like.
【0039】[0039]
【実施例】以下に実施例により本発明の具体的な態様を
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、これらの実施例によって限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、近赤外線透過率は、分光
光度計(BIO−RAD社製:FTS−60A型)を、
また可視光線透過率は、分光光度計((株)島津製作所
製:MPS−2000型)を用いて測定を行った。EXAMPLES Specific embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention.
In the following examples, the near-infrared transmittance was measured using a spectrophotometer (manufactured by BIO-RAD: FTS-60A).
The visible light transmittance was measured using a spectrophotometer (MPS-2000, manufactured by Shimadzu Corporation).
【0040】実施例1 透明樹脂基板として、ポリメタクリル酸メチル(三菱レ
ーヨン(株)製:商品名「アクリペットVH5」)を成
形した10mm□×2mmtのシート状成形品上に、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートの混合物(日本化薬
(株)製;商品名「カラヤッドDPHA」)の40%メ
チルエチルケトン溶液100重量部にベンジルジメチル
ケタール0.2重量部を混合したハードコート剤塗工液
を塗工し、80℃で5分間加熱乾燥後、出力7.5k
w、出力密度120w/cmの高圧水銀灯を用い、光源
下10cmの位置でコンベアスピード2m/分の条件で
紫外線を照射して紫外線硬化させ、傷付き防止層を形成
した。さらに、近赤外線吸収剤(日本触媒(株)製:商
品名「イーエクスカラー803K」(フタロシアニン
系)1重量部、及び日本化薬(株)製:商品名「IRG
−022」(ジイモニウム系)4重量部)を、アンカー
コート剤(日本曹達(株)製:商品名「T−120」
(イソシアネート系))を酢酸エチルで2重量%(固形
分量)に希釈した溶液100重量部に添加した塗工液
を、上記傷付き防止層の上にコーティングし、40℃で
1日硬化させて、近赤外線カット層とした。塗工液の塗
工量は、0.6g/m2 (乾燥固形分)であった。Example 1 Dipentaerythritol hexamethyldimethacrylate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: trade name “Acrypet VH5”) was molded on a 10 mm × 2 mmt sheet-like molded product as a transparent resin substrate. Coating of a mixture of acrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; trade name "Kayad DPHA") in a 40% methyl ethyl ketone solution (100 parts by weight) and benzyl dimethyl ketal (0.2 parts by weight) mixed with a hard coat agent coating Apply the solution, heat and dry at 80 ° C for 5 minutes, output 7.5k
Using a high-pressure mercury lamp having an output density of 120 w / cm and using a high-pressure mercury lamp at a position 10 cm below the light source, the film was irradiated with ultraviolet rays at a conveyor speed of 2 m / min and cured by ultraviolet rays to form a scratch-resistant layer. Further, 1 part by weight of a near-infrared absorbing agent (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .: trade name "EEX Color 803K"(phthalocyanine); and Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name "IRG"
-022 "(4 parts by weight of diimonium)) with an anchor coating agent (trade name" T-120 "manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.).
A coating solution obtained by adding (isocyanate-based)) to 100 parts by weight of a solution obtained by diluting 2% by weight (solid content) with ethyl acetate is coated on the above-mentioned scratch-resistant layer, and cured at 40 ° C. for 1 day. And a near infrared cut layer. The coating amount of the coating liquid was 0.6 g / m 2 (dry solid content).
【0041】この近赤外線カット層の近赤外線透過率を
表−1に示す。さらにその上に、スパッタリング法でI
TOをコーティングし、200nmの電磁波シールド層
を形成した。スパッタリングの条件は、インジウム−錫
合金(錫10重量%)をターゲットとし、マグネトロン
スパッタ装置を使用し、アルゴンガスと酸素ガスを導入
しながら行った。次いでその上に、真空蒸着装置を用い
て二酸化珪素を蒸着させ、反射防止層とした。この膜厚
は、200nmであった。得られた透明積層体の可視光
線透過率を表−2に、またこの積層体の積層構造を模式
的に図1に示す。この透明積層体は優れた近赤外線カッ
ト性能、電磁波シールド性能、傷付き防止性能、及び透
明性を示し、プラズマディスプレイパネル用フィルター
として、好適に使用することができた。Table 1 shows the near-infrared transmittance of the near-infrared cut layer. On top of that, the I
TO was coated to form a 200 nm electromagnetic wave shielding layer. The sputtering was performed using an indium-tin alloy (tin 10% by weight) as a target and a magnetron sputtering apparatus while introducing argon gas and oxygen gas. Next, silicon dioxide was deposited thereon using a vacuum deposition apparatus to form an antireflection layer. This film thickness was 200 nm. Table 2 shows the visible light transmittance of the obtained transparent laminate, and FIG. 1 schematically shows the laminate structure of the laminate. This transparent laminate showed excellent near-infrared cut performance, electromagnetic wave shielding performance, anti-scratch performance, and transparency, and could be suitably used as a filter for a plasma display panel.
【0042】実施例2 透明樹脂基板として、ポリカーボネート樹脂(三菱エン
ジニアリングプラスチックス(株)製:商品名「ユーピ
ロンS−3000」)を成形した10mm□×2mmt
のシート状成形品上に、抵抗加熱方式真空蒸着法で銀を
蒸着し、電磁波シールド層を形成した。厚みは50nm
であった。さらに、近赤外線吸収剤(日本化薬(株)
製:商品名「IRG−022」(ジイモニウム系)4重
量部、日本感光色素研究所製:商品名「NKX−11
4」(ニッケル錯体系)1重量部、及び日本感光色素研
究所製:商品名「NK−3027」(ベンゾピリウム
系)1重量部)を、アンカーコート剤(日本曹達(株)
製:商品名「T−120」(イソシアネート系))を酢
酸エチルで2重量%(固形分量)に希釈した溶液100
重量部に添加した塗工液を、電磁波シールド層の上に塗
工し、近赤外線カット層とした。塗工液の塗工量は、
0.6g/m2 (乾燥固形分)であった。Example 2 As a transparent resin substrate, a polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation: trade name "Iupilon S-3000") was molded into a 10 mm square x 2 mm t
Silver was deposited on the sheet-like molded product by a resistance heating type vacuum deposition method to form an electromagnetic wave shielding layer. Thickness 50nm
Met. In addition, near-infrared absorbers (Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Manufactured by: trade name "IRG-022" (diimonium-based) 4 parts by weight, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories: trade name "NKX-11"
4 "(nickel complex) and 1 part by weight of" NK-3027 "(benzopyrium-based) manufactured by Japan Photosensitive Dye Laboratories, Inc. as anchor coating agents (Nippon Soda Co., Ltd.)
Manufactured by: A solution 100 in which "T-120" (isocyanate type) is diluted to 2% by weight (solid content) with ethyl acetate.
The coating liquid added to the parts by weight was applied on the electromagnetic wave shielding layer to form a near infrared cut layer. The coating amount of the coating liquid is
0.6 g / m 2 (dry solid content).
【0043】この近赤外線カット層の近赤外線透過率を
表−1に示す。さらにその上に、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペン
タアクリレートの混合物(日本化薬(株)製:商品名
「カラヤッドDPHA」)の40%メチルエチルケトン
溶液100重量部にベンジルジメチルケタノール0.2
重量部を混合したハードコート剤塗工液を塗布し、80
℃で5分間加熱乾燥後、出力7.5kw、出力密度12
0w/cmの高圧水銀灯を用い、光源下10cmの位置
でコンベアスピード2m/分の条件で紫外線を照射して
紫外線硬化させ、傷付き防止層を形成した。次いでその
上に、真空蒸着装置を用いて二酸化珪素を蒸着させ、反
射防止層とした。膜厚は、200nmとした。得られた
透明積層体の可視光線透過率を表−2に、またこの積層
体の積層構造を模式的に図2に示す。この透明積層体は
優れた近赤外線カット性能、電磁波シールド性能、傷付
き防止性能、及び透明性を示し、プラズマディスプレイ
パネル用フィルターとして、好適に使用することができ
た。Table 1 shows the near-infrared transmittance of the near-infrared cut layer. Further, 100 parts by weight of a 40% methyl ethyl ketone solution of a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name “Kayad DPHA”) was added with 0.2 parts of benzyl dimethyl ketanol.
Apply a hard coat agent coating solution mixed with
After heating and drying at 5 ° C for 5 minutes, the output is 7.5 kW and the output density is 12
Using a high-pressure mercury lamp of 0 w / cm, ultraviolet rays were irradiated at a position of 10 cm below the light source at a conveyor speed of 2 m / min and cured by ultraviolet rays to form a scratch prevention layer. Next, silicon dioxide was deposited thereon using a vacuum deposition apparatus to form an antireflection layer. The film thickness was 200 nm. Table 2 shows the visible light transmittance of the obtained transparent laminate, and FIG. 2 schematically shows the laminate structure of the laminate. This transparent laminate showed excellent near-infrared cut performance, electromagnetic wave shielding performance, anti-scratch performance, and transparency, and could be suitably used as a filter for a plasma display panel.
【0044】実施例3 ポリエステル樹脂(三菱化学(株)製:商品名「ノバペ
ックスGM330」)100重量部に、近赤外線吸収剤
(日本触媒(株)製:商品名「イーエクスカラー803
K」(フタロシアニン系)1重量部、及び日本化薬
(株)製:商品名「IRG−002」(アミニウム塩
系)4重量部)を添加した組成物を用いて、フィルム
(厚み100μm)を製造した。このフィルムの両面に
コロナ処理により表面処理を施した。この近赤外線カッ
ト層の近赤外線透過率を表−1に示す。得られたフィル
ムの片面に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混
合物(日本化薬(株)製:商品名「カラヤッドDPH
A」)の40%メチルエチルケトン溶液100重量部に
ベンジルジメチルケタール0.2重量部を混合したハー
ドコート剤塗工液を塗工し、80℃で5分間加熱乾燥
後、出力7.5kw、出力密度120w/cmの高圧水
銀灯を用い、光源下10cmの位置でコンベアスピード
2m/分の条件で紫外線を照射して紫外線硬化させ、傷
付き防止層を形成した。Example 3 A 100 parts by weight of a polyester resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: trade name "Novapex GM330") was mixed with a near-infrared absorbing agent (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .: trade name "EX Color 803").
A film (thickness: 100 μm) was added using a composition containing 1 part by weight of “K” (phthalocyanine) and 4 parts by weight of “IRG-002” (aminium salt type) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Manufactured. Both surfaces of this film were subjected to a surface treatment by corona treatment. Table 1 shows the near-infrared transmittance of the near-infrared cut layer. On one side of the obtained film, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name "Kayad DPH")
A)) is coated with a coating solution of a hard coat agent obtained by mixing 0.2 parts by weight of benzyldimethyl ketal with 100 parts by weight of a 40% methyl ethyl ketone solution, and after heating and drying at 80 ° C. for 5 minutes, an output of 7.5 kW and an output density of 7.5% Using a high-pressure mercury lamp of 120 w / cm, ultraviolet rays were irradiated at a position of 10 cm under the light source at a conveyor speed of 2 m / min and cured by ultraviolet rays to form a scratch prevention layer.
【0045】さらに傷付き防止層の上に、スパッタリン
グ法でITOをコーティングし、厚み200nmの電磁
波シールド層を形成した。スパッタリングの条件は、イ
ンジウム−錫合金(錫10重量%)をターゲットとし、
マグネトロンスパッタ装置を使用し、アルゴンガスと酸
素ガスを導入しながら行った。次いでその上に、真空蒸
着装置を用いて二酸化珪素を蒸着させ、反射防止層とし
た。この膜厚は、118nmであった。さらに、上記ポ
リエステル樹脂組成物フィルムのもう一方の面に、ポリ
メタクリル酸メチル(三菱レイヨン(株)製:商品名
「アクリペット VH5」)を成形した10mm□×2
mmtのシート状成形品を接着剤を用いて張り合わせ
た。Further, ITO was coated on the damage preventing layer by a sputtering method to form an electromagnetic wave shielding layer having a thickness of 200 nm. Sputtering conditions target indium-tin alloy (tin 10% by weight),
This was performed using a magnetron sputtering apparatus while introducing argon gas and oxygen gas. Next, silicon dioxide was deposited thereon using a vacuum deposition apparatus to form an antireflection layer. This film thickness was 118 nm. Further, on the other surface of the polyester resin composition film, polymethyl methacrylate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: trade name “Acrypet VH5”) was molded into a 10 mm square × 2.
The sheet-shaped molded product of mmt was bonded using an adhesive.
【0046】得られた透明積層体の可視光線透過率を表
−2に、またこの積層体の積層構造を模式的に図3に示
す。この透明積層体は優れた近赤外線カット性能、電磁
波シールド性能、傷付き防止性能、及び透明性を示し、
プラズマディスプレイパネル用フィルターとして、好適
に使用することができた。The visible light transmittance of the obtained transparent laminate is shown in Table 2, and the laminated structure of this laminate is schematically shown in FIG. This transparent laminate shows excellent near-infrared cut performance, electromagnetic wave shielding performance, scratch prevention performance, and transparency,
It could be suitably used as a filter for a plasma display panel.
【0047】実施例4 ポリエステルフィルム(ダイヤホイルヘキスト(株)
製:商品名「T100E」、厚み100μm)に、抵抗
加熱方式真空蒸着法で銀をコーティングし、30nmの
電磁波シールド層とした。この電磁波シールド層の上
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(日
本化薬(株)製:商品名「カラヤッドDPHA」)の4
0%メチルエチルケトン溶液100重量部にベンジルジ
メチルケタール0.2重量部を混合したハードコート剤
塗工液を塗工し、80℃で5分間加熱乾燥後、出力7.
5kw、出力密度120w/cmの高圧水銀灯を用い、
光源下10cmの位置でコンベアスピード2m/分の条
件で紫外線を照射して紫外線硬化させ、傷付き防止層を
形成した。さらに、近赤外線吸収剤(日本触媒(株)
製:商品名「イーエクスカラー803K」(フタロシア
ニン系)1重量部、及び日本化薬(株)製:商品名「I
RG−022」(ジイモニウム系)4重量部)を、アン
カーコート剤(日本曹達(株)製:商品名「T−12
0」(イソシアネート系))を酢酸エチルで2重量%
(固形分量)に希釈した溶液100重量部に添加した塗
工液を、傷付き防止層の上にコーティングし、40℃で
1日硬化させ、近赤外線カット層とした。塗工液の塗工
量は、0.6g/m2 (乾燥固形分)であった。さら
に、近赤外線カット層の上に真空蒸着装置を用いて二酸
化珪素を蒸着させ、反射防止層とした。この膜厚は、1
18nmであった。Example 4 Polyester film (Diafoil Hoechst Co., Ltd.)
(Trade name: “T100E”, thickness: 100 μm) was coated with silver by a resistance heating type vacuum evaporation method to form a 30 nm electromagnetic wave shielding layer. A mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name “Kayad DPHA”) was placed on the electromagnetic wave shielding layer.
A hard coat agent coating solution in which 0.2 parts by weight of benzyldimethyl ketal was mixed with 100 parts by weight of a 0% methyl ethyl ketone solution, heated and dried at 80 ° C. for 5 minutes, and the output was 7.
Using a high-pressure mercury lamp with a power density of 5 kw and a power density of 120 w / cm,
Ultraviolet rays were irradiated at a position of 10 cm under the light source under the condition of a conveyor speed of 2 m / min and cured by ultraviolet rays to form an anti-scratch layer. Furthermore, a near-infrared absorber (Nippon Shokubai Co., Ltd.)
Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: 1 part by weight of trade name "EX Color 803K" (phthalocyanine) and trade name "I"
RG-022 "(4 parts by weight of diimonium)), an anchor coating agent (trade name" T-12 "manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.).
0 "(isocyanate-based) in ethyl acetate at 2% by weight.
A coating liquid added to 100 parts by weight of the solution diluted to (solid content) was coated on the scratch-resistant layer and cured at 40 ° C. for 1 day to obtain a near-infrared cut layer. The coating amount of the coating liquid was 0.6 g / m 2 (dry solid content). Further, silicon dioxide was deposited on the near-infrared cut layer using a vacuum deposition apparatus to form an antireflection layer. This film thickness is 1
18 nm.
【0048】さらに上記ポリエステルフィルムのもう一
方の面に、ポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリン
グプラスチックス(株)製:商品名「ユーピロンS−3
000」)を成形した10mm□×2mmtのシート状
成形品を、接着剤を用いて張り合わせた。得られた透明
積層体の可視光線透過率を表−2に、またこの積層体の
積層構造を模式的に図4に示す。この透明積層体は優れ
た近赤外線カット性能、電磁波シールド性能、傷付き防
止性能、及び透明性を示し、プラズマディスプレイパネ
ル用フィルターとして、好適に使用することができた。Further, on the other surface of the polyester film, a polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation: trade name "Iupilon S-3")
000 ") were bonded together using an adhesive. Table 2 shows the visible light transmittance of the obtained transparent laminate, and FIG. 4 schematically shows the laminate structure of the laminate. This transparent laminate showed excellent near-infrared cut performance, electromagnetic wave shielding performance, anti-scratch performance, and transparency, and could be suitably used as a filter for a plasma display panel.
【0049】実施例5 ポリエステルフィルム(ダイヤホイルヘキスト(株)
製:商品名「T100E」、厚み100μm)に、抵抗
加熱方式真空蒸着法で銀をコーティングし、30nmの
電磁波シールド層とした。その上に、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトール
ペンタアクリレートの混合物(日本化薬社製、カラヤッ
ドDPHA)の40%メチルエチルケトン溶液100部
に、ベンジルジメチルケタール0.2部を混合したハー
ドコート剤を塗布し、80℃で5分間加熱乾燥後、出力
7.5kw、出力密度120w/cmの高圧水銀灯を用
い、光源下10cmの位置でコンベアスピード2m/分
の条件で紫外線を照射して紫外線硬化させ、傷付き防止
層とした。次いでその上に真空蒸着装置を用いて二酸化
珪素を蒸着させ、反射防止層とした。この膜厚は、11
8nmであった。PMMAバインダー(三菱レーヨン
(株)社製:商品名「ダイヤナールBR−80」)10
0重量部に近赤外線吸収剤(日本化薬(株)社製:商品
名「IRG−022」(ジイモニウム系)8重量部、及
び日本触媒(株)社製:商品名「イーエクスカラーE×
803K」(フタロシアニン系)2重量部)をメチルエ
チルケトンで10重量%(固形分量)に希釈した塗工液
を調製した。電磁波シールド層、傷付き防止層、及び反
射防止層を設けた面と反対側の面に、この塗工液を塗布
し、乾燥後、厚み2μmの近赤外線カット層を得た。こ
うして得られた透明積層体の近赤外線カット層側とポリ
カーボネート樹脂「ユーピロンS−3000」で成形し
た10mm□×2mmtのシート状成形品に貼り合わせ
た。得られた透明積層体の近赤外線透過率を表−1、可
視光線透過率を表−2に、この積層体の積層構造を模式
的に図5に示す。この積層体は優れた近赤外線カット性
能、電磁波シールド性能、傷付き防止性能、及び透明性
を示し、プラズマディスプレイパネル用フィルターとし
て好適に使用することができた。Example 5 Polyester film (Diafoil Hoechst Co., Ltd.)
(Trade name: “T100E”, thickness: 100 μm) was coated with silver by a resistance heating type vacuum evaporation method to form a 30 nm electromagnetic wave shielding layer. On top of that, a hard coat agent obtained by mixing 0.2 parts of benzyldimethyl ketal with 100 parts of a 40% methyl ethyl ketone solution of a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Calayad DPHA). After applying and drying by heating at 80 ° C. for 5 minutes, a high-pressure mercury lamp having an output of 7.5 kW and an output density of 120 w / cm is irradiated with ultraviolet rays at a position of 10 cm under a light source at a conveyor speed of 2 m / min and cured by ultraviolet rays. And an anti-scratch layer. Next, silicon dioxide was deposited thereon using a vacuum deposition apparatus to form an antireflection layer. This film thickness is 11
It was 8 nm. PMMA binder (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: trade name "Dianal BR-80") 10
0 parts by weight of a near-infrared absorbing agent (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name "IRG-022"(diimonium-based); 8 parts by weight; and Nippon Shokubai Co., Ltd .: trade name "EEX Color EX"
803K (2 parts by weight of phthalocyanine)) was diluted to 10% by weight (solid content) with methyl ethyl ketone to prepare a coating solution. This coating solution was applied to the surface opposite to the surface provided with the electromagnetic wave shielding layer, the scratch prevention layer, and the antireflection layer, and dried to obtain a near-infrared cut layer having a thickness of 2 μm. The thus-obtained transparent laminate was bonded to a near-infrared cut layer side and a 10 mm square x 2 mmt sheet-like molded product molded with polycarbonate resin "Iupilon S-3000". Table 1 shows the near-infrared transmittance and Table 2 shows the visible light transmittance of the obtained transparent laminate, and FIG. 5 schematically shows the laminate structure of the laminate. This laminate showed excellent near-infrared cut performance, electromagnetic wave shielding performance, anti-scratch performance, and transparency, and could be suitably used as a filter for a plasma display panel.
【0050】比較例1 ポリエステル樹脂(三菱化学(株)製:商品名「ノバペ
ックスGM330」)100重量部に、近赤外線吸収剤
(日本触媒(株)製:商品名「イーエクスカラー803
K」(フタロシアニン系)1重量部、及び日本感光色素
研究所(株)製:商品名「NK−124」(シアニン
系)2重量部)を添加した組成物を用いて、フィルム
(厚み100μm)を製造した。このフィルムの両面に
コロナ処理により表面処理を施した。この近赤外線カッ
ト層の近赤外線透過率を表−1に示す。得られたフィル
ムの片面に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混
合物(日本化薬(株)製:商品名「カラヤッドDPH
A」)の40%メチルエチルケトン溶液100重量部に
ベンジルジメチルケタール0.2重量部を混合したハー
ドコート剤塗工液を塗工し、80℃で5分間加熱乾燥
後、出力7.5kw、出力密度120w/cmの高圧水
銀灯を用い、光源下10cmの位置でコンベアスピード
2m/分の条件で紫外線を照射して紫外線硬化させ、傷
付き防止層を形成した。Comparative Example 1 100 parts by weight of a polyester resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: trade name "Novapex GM330") was mixed with a near-infrared absorbing agent (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .: trade name "EX Color 803"
A film (100 μm in thickness) was prepared by using a composition containing 1 part by weight of “K” (phthalocyanine) and 2 parts by weight of “NK-124” (cyanine) manufactured by Japan Photosensitive Dye Laboratories. Was manufactured. Both surfaces of this film were subjected to a surface treatment by corona treatment. Table 1 shows the near-infrared transmittance of the near-infrared cut layer. On one side of the obtained film, a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name "Kayad DPH")
A)) is coated with a coating solution of a hard coat agent obtained by mixing 0.2 parts by weight of benzyldimethyl ketal with 100 parts by weight of a 40% methyl ethyl ketone solution, and after heating and drying at 80 ° C. for 5 minutes, an output of 7.5 kW and an output density of 7.5% Using a high-pressure mercury lamp of 120 w / cm, ultraviolet rays were irradiated at a position of 10 cm under the light source at a conveyor speed of 2 m / min and cured by ultraviolet rays to form a scratch prevention layer.
【0051】さらに傷付き防止層の上に、スパッタリン
グ法でITOをコーティングし、厚み200nmの電磁
波シールド層を形成した。スパッタリングの条件は、イ
ンジウム−錫合金(錫10重量%)をターゲットとし、
マグネトロンスパッタ装置を使用し、アルゴンガスと酸
素ガスを導入しながら行った。次いでその上に、真空蒸
着装置を用いて二酸化珪素を蒸着させ、反射防止層とし
た。この膜厚は、118nmであった。さらに、上記ポ
リエステル樹脂組成物フィルムのもう一方の面に、ポリ
メタクリル酸メチル(三菱レイヨン(株)製:商品名
「アクリペット VH5」)を成形した10mm□×2
mmtのシート状成形品を接着剤を用いて張り合わせ
た。得られた透明積層体の可視光線透過率を表−2に、
またこの積層体の積層構造を模式的に図3に示す。Further, ITO was coated on the scratch preventing layer by a sputtering method to form an electromagnetic wave shielding layer having a thickness of 200 nm. Sputtering conditions target indium-tin alloy (tin 10% by weight),
This was performed using a magnetron sputtering apparatus while introducing argon gas and oxygen gas. Next, silicon dioxide was deposited thereon using a vacuum deposition apparatus to form an antireflection layer. This film thickness was 118 nm. Further, on the other surface of the polyester resin composition film, polymethyl methacrylate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: trade name “Acrypet VH5”) was molded into a 10 mm square × 2.
The sheet-shaped molded product of mmt was bonded using an adhesive. Table 2 shows the visible light transmittance of the obtained transparent laminate,
FIG. 3 schematically shows a laminated structure of the laminate.
【0052】[0052]
【表1】 [Table 1]
【0053】[0053]
【表2】 [Table 2]
【0054】[0054]
【発明の効果】本発明の透明積層体は、近赤外線カット
性能、電磁波シールド性能、傷付き防止性能、光線反射
防止性能及び、透明性が良好であるため、プラズマディ
スプレイパネル等のディスプレイ用フィルターなどに好
適に使用することができる。The transparent laminate of the present invention has good near-infrared cut performance, electromagnetic wave shielding performance, anti-scratch performance, anti-light reflection performance and transparency, so that it can be used for filters for displays such as plasma display panels. Can be suitably used.
【図1】実施例1で得られた透明積層体の積層構造を示
す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a laminated structure of a transparent laminate obtained in Example 1.
【図2】実施例2で得られた透明積層体の積層構造を示
す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a laminated structure of a transparent laminate obtained in Example 2.
【図3】実施例3及び比較例1で得られた透明積層体の
積層構造を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a laminated structure of a transparent laminate obtained in Example 3 and Comparative Example 1.
【図4】実施例4で得られた透明積層体の積層構造を示
す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a laminated structure of a transparent laminate obtained in Example 4.
【図5】実施例5で得られた透明積層体の積層構造を示
す模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing a laminated structure of a transparent laminate obtained in Example 5.
Claims (3)
100nmの近赤外線透過率が10%以下である近赤外
線カット層、電磁波シールド層、傷付き防止層、及び光
線反射防止層が形成された透明積層体であって、近赤外
線カット層が、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化
合物、及びアミニウム塩系化合物からなる群から選ばれ
る少なくとも1種の近赤外線吸収剤を含有し、透明積層
体の波長領域400〜700nmの可視光線透過率が5
0%以上であることを特徴とする透明積層体。1. A wavelength range of 850 to 1 on a transparent resin substrate.
A transparent laminate having a near-infrared cut layer having a 100 nm near-infrared transmittance of 10% or less, an electromagnetic wave shielding layer, an anti-scratch layer, and an anti-light reflection layer, wherein the near-infrared cut layer is formed of an immonium-based material. The compound contains at least one kind of near-infrared absorbing agent selected from the group consisting of a compound, a diimonium-based compound, and an aminium salt-based compound, and the transparent laminate has a visible light transmittance of 5 to 400 nm in a wavelength region of 400 to 700 nm.
A transparent laminate characterized by being at least 0%.
合物及びフタロシアニン系化合物からなる近赤外線吸収
剤を含む、請求項1に記載の透明積層体。2. The transparent laminate according to claim 1, wherein the near-infrared cut layer includes a near-infrared absorbent comprising a diimonium-based compound and a phthalocyanine-based compound.
構成されたプラズマディスプレイパネル用フィルター。3. A filter for a plasma display panel comprising the transparent laminate according to claim 1 or 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2824998A JPH1177909A (en) | 1997-07-16 | 1998-02-10 | Transparent laminate |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19096497 | 1997-07-16 | ||
JP9-190964 | 1997-07-16 | ||
JP2824998A JPH1177909A (en) | 1997-07-16 | 1998-02-10 | Transparent laminate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1177909A true JPH1177909A (en) | 1999-03-23 |
Family
ID=26366304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2824998A Pending JPH1177909A (en) | 1997-07-16 | 1998-02-10 | Transparent laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1177909A (en) |
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