JPH1175019A - 光源装置及び画像読取装置 - Google Patents
光源装置及び画像読取装置Info
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- JPH1175019A JPH1175019A JP9235709A JP23570997A JPH1175019A JP H1175019 A JPH1175019 A JP H1175019A JP 9235709 A JP9235709 A JP 9235709A JP 23570997 A JP23570997 A JP 23570997A JP H1175019 A JPH1175019 A JP H1175019A
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- substrate
- light
- source device
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体チップからの発熱によって、光源の温
度が上昇し、発光光量が経時的に変化する。発光光量の
変化が、読取画像の濃度変化やカラーバランスの変化に
つながる。 【解決手段】 板形状の基板12と、前記基板の一方の
面に形成され、箔状の金属導電体で構成される電気接続
パターン14と、前記電気接続パターンと電気的に接続
される半導体チップで構成される発光手段11a〜11
hと、前記基板の他方の面の少なくとも一部を外気に触
れさせるように支持する支持手段21を設ける。
度が上昇し、発光光量が経時的に変化する。発光光量の
変化が、読取画像の濃度変化やカラーバランスの変化に
つながる。 【解決手段】 板形状の基板12と、前記基板の一方の
面に形成され、箔状の金属導電体で構成される電気接続
パターン14と、前記電気接続パターンと電気的に接続
される半導体チップで構成される発光手段11a〜11
hと、前記基板の他方の面の少なくとも一部を外気に触
れさせるように支持する支持手段21を設ける。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体で構成され
る発光素子を備える光源装置と、この光源を用いる画像
読取装置に関する。
る発光素子を備える光源装置と、この光源を用いる画像
読取装置に関する。
【0002】
【従来の技術】原稿から画像情報を読み取る場合、一般
に、所定の光源から原稿に照明光を照射し、前記原稿を
透過した光、又は原稿からの反射光を、イメージセンサ
の撮像面に導く。例えば、原稿がネガフィルムやリバー
サルフィルムの場合には、原稿を透過した光を、イメー
ジセンサに導く。
に、所定の光源から原稿に照明光を照射し、前記原稿を
透過した光、又は原稿からの反射光を、イメージセンサ
の撮像面に導く。例えば、原稿がネガフィルムやリバー
サルフィルムの場合には、原稿を透過した光を、イメー
ジセンサに導く。
【0003】前記イメージセンサの出力には、原稿から
イメージセンサに入射する光の強度分布、つまり原稿像
の濃度分布に対応する画像信号が得られる。また、カラ
ー画像を読み取る場合には、光の波長をR(赤色),G
(緑色),B(青色)の3原色のそれぞれの色成分に分解し
て、各色成分の原稿画像を読み取る。例えば、照明光の
発光波長をR,G,Bに順次に切り替えれば、R,G,
Bの各色の画像成分を読み取ることができる。
イメージセンサに入射する光の強度分布、つまり原稿像
の濃度分布に対応する画像信号が得られる。また、カラ
ー画像を読み取る場合には、光の波長をR(赤色),G
(緑色),B(青色)の3原色のそれぞれの色成分に分解し
て、各色成分の原稿画像を読み取る。例えば、照明光の
発光波長をR,G,Bに順次に切り替えれば、R,G,
Bの各色の画像成分を読み取ることができる。
【0004】フィルム原稿のような小型の原稿を読み取
る場合には、照明用の光源も小型であるのが望ましい。
例えば、発光ダイオードは、小さな半導体チップで構成
されるので、小型の光源を構成するのに適している。発
光ダイオードを用いた光源は、一般に、次のように構成
される。発光ダイオードの半導体チップは、ステムと呼
ばれる基材の上に固定される。ステムは、一般的な鉄鋼
材料で構成される板状部材である。前記半導体チップの
電極を外部に接続するために、ステム上に、それを貫通
する形で、ステムと電気的に絶縁された端子が配置され
る。
る場合には、照明用の光源も小型であるのが望ましい。
例えば、発光ダイオードは、小さな半導体チップで構成
されるので、小型の光源を構成するのに適している。発
光ダイオードを用いた光源は、一般に、次のように構成
される。発光ダイオードの半導体チップは、ステムと呼
ばれる基材の上に固定される。ステムは、一般的な鉄鋼
材料で構成される板状部材である。前記半導体チップの
電極を外部に接続するために、ステム上に、それを貫通
する形で、ステムと電気的に絶縁された端子が配置され
る。
【0005】ステム上の端子と前記半導体チップとが、
小さなワイヤで電気的に結線される。前記半導体チップ
が、ステム上にダイボンディングされる場合には、1つ
の端子がステムと電気的に接続される。また、複数の半
導体チップを用いる場合には、半導体チップの近傍で、
複数の端子を互いに電気的に接続するために、プリント
基板が設けられる。配線の距離を短くするために、プリ
ント基板は、ステムとの間に少し間隙をあけて、プリン
ト基板とステムとが2つの層を構成するように、重ねて
配置される。
小さなワイヤで電気的に結線される。前記半導体チップ
が、ステム上にダイボンディングされる場合には、1つ
の端子がステムと電気的に接続される。また、複数の半
導体チップを用いる場合には、半導体チップの近傍で、
複数の端子を互いに電気的に接続するために、プリント
基板が設けられる。配線の距離を短くするために、プリ
ント基板は、ステムとの間に少し間隙をあけて、プリン
ト基板とステムとが2つの層を構成するように、重ねて
配置される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】発光ダイオードを点灯
するために、その半導体チップに通電すると、半導体チ
ップが発熱する。半導体チップから出る熱は、ステムに
伝達されたり、周囲の空間に放射される。また、放熱の
程度に応じて、半導体チップやステムの温度が上昇す
る。
するために、その半導体チップに通電すると、半導体チ
ップが発熱する。半導体チップから出る熱は、ステムに
伝達されたり、周囲の空間に放射される。また、放熱の
程度に応じて、半導体チップやステムの温度が上昇す
る。
【0007】従来の光源装置においては、発光ダイオー
ドのステムを支持するベースブロックと呼ばれる部材
や、プリント基板などによって、ステムの周囲が囲まれ
るので、ステムからの放熱が妨げられる傾向がある。従
って、発光ダイオードの温度が上昇しやすい。また、通
電開始からの経過時間が長くなるにつれて、発光ダイオ
ードの温度が上昇する。
ドのステムを支持するベースブロックと呼ばれる部材
や、プリント基板などによって、ステムの周囲が囲まれ
るので、ステムからの放熱が妨げられる傾向がある。従
って、発光ダイオードの温度が上昇しやすい。また、通
電開始からの経過時間が長くなるにつれて、発光ダイオ
ードの温度が上昇する。
【0008】一般に、発光ダイオードは、温度変化に応
じて発光光量が変化する性質を有する。つまり、通電開
始からの経過時間に応じて、光源の発光光量が変わる。
画像読取装置においては、照明用の光源の発光光量の変
化は、読み取った画像の濃度に影響を及ぼす。例えば、
原稿画像を機械的に走査して、1ラインずつ順次に画像
を読み取る場合には、読取開始位置と読取終了位置と
で、光源の発光光量に変化が生じ、画像の濃度に差が現
れる。つまり、読取画像の濃度分布が不均一になる。
じて発光光量が変化する性質を有する。つまり、通電開
始からの経過時間に応じて、光源の発光光量が変わる。
画像読取装置においては、照明用の光源の発光光量の変
化は、読み取った画像の濃度に影響を及ぼす。例えば、
原稿画像を機械的に走査して、1ラインずつ順次に画像
を読み取る場合には、読取開始位置と読取終了位置と
で、光源の発光光量に変化が生じ、画像の濃度に差が現
れる。つまり、読取画像の濃度分布が不均一になる。
【0009】また、R,G,Bの各色の発光ダイオード
は、温度特性が互いに異なる場合が多い。このため、読
取開始時点で、R,G,Bの光量がバランスするように
調整される場合でも、時間の経過に伴って、発光ダイオ
ードの温度が上昇すると、R,G,Bの発光光量に差が
生じる。これにより、読み取られるR,G,Bの各色画
像の濃度のバランスが変化し、色相に変化が現れる。
は、温度特性が互いに異なる場合が多い。このため、読
取開始時点で、R,G,Bの光量がバランスするように
調整される場合でも、時間の経過に伴って、発光ダイオ
ードの温度が上昇すると、R,G,Bの発光光量に差が
生じる。これにより、読み取られるR,G,Bの各色画
像の濃度のバランスが変化し、色相に変化が現れる。
【0010】更に、従来の光源装置は、比較的構造が複
雑であり、部品コストや組立コストが高くなる傾向があ
る。特に、複数色の発光を可能にするために、発光ダイ
オードの半導体チップを多数組み込む場合には、端子な
どの部品数が多くなるので、コストの上昇は避けられな
い。本発明は、光源装置の発熱による温度上昇を抑制す
ること、及び光源装置のコストを低減することを目的と
する。
雑であり、部品コストや組立コストが高くなる傾向があ
る。特に、複数色の発光を可能にするために、発光ダイ
オードの半導体チップを多数組み込む場合には、端子な
どの部品数が多くなるので、コストの上昇は避けられな
い。本発明は、光源装置の発熱による温度上昇を抑制す
ること、及び光源装置のコストを低減することを目的と
する。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の光源装置は、
板形状の基板と、前記基板の一方の面に形成され、箔状
の金属導電体で構成される電気接続パターンと、該電気
接続パターンと電気的に接続される少なくとも1つの半
導体チップで構成される発光手段と、前記基板の他方の
面の少なくとも一部を、外気に触れさせるように支持す
る支持手段とを設けたことを特徴とする。
板形状の基板と、前記基板の一方の面に形成され、箔状
の金属導電体で構成される電気接続パターンと、該電気
接続パターンと電気的に接続される少なくとも1つの半
導体チップで構成される発光手段と、前記基板の他方の
面の少なくとも一部を、外気に触れさせるように支持す
る支持手段とを設けたことを特徴とする。
【0012】請求項2は、請求項1記載の光源装置にお
いて、前記基板の一方の面が、前記支持手段に接着され
ていることを特徴とする。請求項3は、請求項2記載の
光源装置において、前記支持手段に凹部が形成され、前
記凹部の底面位置に開口部が形成され、前記凹部の底面
位置に前記基板の一方の面が接着され、前記開口部は前
記発光手段の光が通過する位置に配置されていることを
特徴とする。
いて、前記基板の一方の面が、前記支持手段に接着され
ていることを特徴とする。請求項3は、請求項2記載の
光源装置において、前記支持手段に凹部が形成され、前
記凹部の底面位置に開口部が形成され、前記凹部の底面
位置に前記基板の一方の面が接着され、前記開口部は前
記発光手段の光が通過する位置に配置されていることを
特徴とする。
【0013】請求項4は、請求項3記載の光源装置にお
いて、前記凹部の深さを、前記基板の厚みより大きくし
たことを特徴とする。請求項5は、請求項1記載の光源
装置において、前記基板を、導電性の板形状の材料で構
成される基材と、該基材上に電気絶縁性の材料で形成し
た絶縁層とで構成し、前記絶縁層の上に前記電気接続パ
ターンを形成したことを特徴とする。
いて、前記凹部の深さを、前記基板の厚みより大きくし
たことを特徴とする。請求項5は、請求項1記載の光源
装置において、前記基板を、導電性の板形状の材料で構
成される基材と、該基材上に電気絶縁性の材料で形成し
た絶縁層とで構成し、前記絶縁層の上に前記電気接続パ
ターンを形成したことを特徴とする。
【0014】請求項6は、請求項1記載の光源装置にお
いて、前記発光手段に、互いに発光波長の異なる、複数
種類の半導体チップを設け、前記支持手段上の、前記基
板の一方の面と対向する位置に、ダイクロイックミラー
を設けたことを特徴とする。請求項7は、請求項1記載
の光源装置において、前記基板は、金属もしくはセラミ
ックで構成されていることを特徴とする。
いて、前記発光手段に、互いに発光波長の異なる、複数
種類の半導体チップを設け、前記支持手段上の、前記基
板の一方の面と対向する位置に、ダイクロイックミラー
を設けたことを特徴とする。請求項7は、請求項1記載
の光源装置において、前記基板は、金属もしくはセラミ
ックで構成されていることを特徴とする。
【0015】請求項8の画像読取装置は、板形状の基板
と、前記基板の一方の面に形成され、箔状の金属導電体
で構成される電気接続パターンと、該電気接続パターン
と電気的に接続される少なくとも1つの半導体チップで
構成される発光手段と、前記基板の他方の面の少なくと
も一部を外気に触れさせるように支持する支持手段と、
前記発光手段によって照明される被写体を読み取る読取
手段とを設けたことを特徴とする。
と、前記基板の一方の面に形成され、箔状の金属導電体
で構成される電気接続パターンと、該電気接続パターン
と電気的に接続される少なくとも1つの半導体チップで
構成される発光手段と、前記基板の他方の面の少なくと
も一部を外気に触れさせるように支持する支持手段と、
前記発光手段によって照明される被写体を読み取る読取
手段とを設けたことを特徴とする。
【0016】(作用) (請求項1)前記基板の他方の面が、外気に触れるよう
に配置されるので、基板の熱を外部に逃がすことができ
る。従って、前記一方の面に配置された発光手段の熱
は、基板内部を通って、基板の他方の面に伝達され、放
熱される。
に配置されるので、基板の熱を外部に逃がすことができ
る。従って、前記一方の面に配置された発光手段の熱
は、基板内部を通って、基板の他方の面に伝達され、放
熱される。
【0017】このため、基板及び発光手段の温度上昇
を、効果的に抑制できる。従って、発光手段の発光光量
の変化が抑制される。 (請求項2)基板の一方の面が支持手段に接着されてい
る。即ち、発光手段が配置される基板の一方の面が、支
持手段に対して位置決めされることになる。よって、基
板の厚みにばらつきがあったとしても、発光手段の取付
位置に影響が及ばない。従って、基板の厚みが一定にな
るように厳しく管理しなくても、個々の装置によって照
明のばらつきが発生することが減少する。
を、効果的に抑制できる。従って、発光手段の発光光量
の変化が抑制される。 (請求項2)基板の一方の面が支持手段に接着されてい
る。即ち、発光手段が配置される基板の一方の面が、支
持手段に対して位置決めされることになる。よって、基
板の厚みにばらつきがあったとしても、発光手段の取付
位置に影響が及ばない。従って、基板の厚みが一定にな
るように厳しく管理しなくても、個々の装置によって照
明のばらつきが発生することが減少する。
【0018】(請求項3)支持手段の前記凹部に、基板
が配置される。基板上に配置された発光手段の光は、前
記開口部を通って放射される。 (請求項4)前記凹部の深さが、前記基板の厚みより大
きいので、前記支持手段に前記基板を装着した状態で
も、前記開口部に空間が形成される。この空間が、前記
基板からの放熱に利用されるので、放熱効率がよい。
が配置される。基板上に配置された発光手段の光は、前
記開口部を通って放射される。 (請求項4)前記凹部の深さが、前記基板の厚みより大
きいので、前記支持手段に前記基板を装着した状態で
も、前記開口部に空間が形成される。この空間が、前記
基板からの放熱に利用されるので、放熱効率がよい。
【0019】(請求項5)加工が容易でしかも安価な材
料を、基板の材料として用いることができる。また、よ
り熱伝導率の高い材料を用いることができる。従って、
安価な光源装置を提供できる。 (請求項6)互いに発光波長の異なる、複数種類の半導
体チップを設けるので、照明光の色を変えることができ
る。但し、同一の位置に複数の半導体チップを配置でき
ないので、色を変えると光軸の位置がずれる。ダイクロ
イックミラーを用いて、波長に応じて選択的に光路を切
り替えると、各色の光軸位置を揃えることができる。
料を、基板の材料として用いることができる。また、よ
り熱伝導率の高い材料を用いることができる。従って、
安価な光源装置を提供できる。 (請求項6)互いに発光波長の異なる、複数種類の半導
体チップを設けるので、照明光の色を変えることができ
る。但し、同一の位置に複数の半導体チップを配置でき
ないので、色を変えると光軸の位置がずれる。ダイクロ
イックミラーを用いて、波長に応じて選択的に光路を切
り替えると、各色の光軸位置を揃えることができる。
【0020】(請求項7)金属やセラミックは、比較的
熱伝導率が高いので、熱放射率がよい。 (請求項8)基板の発光手段が配置される面の反対の面
の少なくとも一部を外気に触れる構成となっているの
で、発光手段の放熱効果が高い。よって、従来の装置に
比べて、発光手段は熱による発光量の変動が少なくな
る。従って、読み取った画像に濃度むらが発生するのを
抑制できる。
熱伝導率が高いので、熱放射率がよい。 (請求項8)基板の発光手段が配置される面の反対の面
の少なくとも一部を外気に触れる構成となっているの
で、発光手段の放熱効果が高い。よって、従来の装置に
比べて、発光手段は熱による発光量の変動が少なくな
る。従って、読み取った画像に濃度むらが発生するのを
抑制できる。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図1〜図1
1に示す。この形態は全ての請求項に対応する。図1
は、光源モジュール10の平面図である。図2は、図1
のII−II線断面を示す光源モジュール10の分解図であ
る。図3は、光源モジュール10を備える光源ユニット
20を示す縦断面図である。図4は、光源ユニット20
の平面図である。図5は、光源ユニット20の底面図で
ある。図6は、図3のVI−VI線から見た光源ユニット2
0の縦断面図である。図7は、光源ユニット20のベー
スブロック21を底面側から見た斜視図である。
1に示す。この形態は全ての請求項に対応する。図1
は、光源モジュール10の平面図である。図2は、図1
のII−II線断面を示す光源モジュール10の分解図であ
る。図3は、光源モジュール10を備える光源ユニット
20を示す縦断面図である。図4は、光源ユニット20
の平面図である。図5は、光源ユニット20の底面図で
ある。図6は、図3のVI−VI線から見た光源ユニット2
0の縦断面図である。図7は、光源ユニット20のベー
スブロック21を底面側から見た斜視図である。
【0022】図8は、光源ユニット20を用いた照明ユ
ニット50の斜視図である。図9は、図8の照明ユニッ
ト50を用いた画像読取装置60の正面図である。図1
0及び図11は、光源モジュール10からイメージセン
サ61までの光路を展開して示す模式図である。図12
は、光源ユニット20の各部の分光特性を示すグラフで
ある。
ニット50の斜視図である。図9は、図8の照明ユニッ
ト50を用いた画像読取装置60の正面図である。図1
0及び図11は、光源モジュール10からイメージセン
サ61までの光路を展開して示す模式図である。図12
は、光源ユニット20の各部の分光特性を示すグラフで
ある。
【0023】この形態では、各請求項の基板,電気接続
パターン,発光手段,支持手段,凹部及び開口部は、そ
れぞれステム12,電気接続パターン14,半導体チッ
プ11a〜11h,ベースブロック21,凹部21a及
び開口部21bとして具体化されている。また、読取手
段は、イメージセンサ61として具体化されている。ま
ず、図1及び図2を参照して、光源モジュール10につ
いて説明する。図2に示すように、光源モジュール10
は、ステム12,絶縁層13,電気接続パターン14,
回路部品11及び電線15で構成されている。
パターン,発光手段,支持手段,凹部及び開口部は、そ
れぞれステム12,電気接続パターン14,半導体チッ
プ11a〜11h,ベースブロック21,凹部21a及
び開口部21bとして具体化されている。また、読取手
段は、イメージセンサ61として具体化されている。ま
ず、図1及び図2を参照して、光源モジュール10につ
いて説明する。図2に示すように、光源モジュール10
は、ステム12,絶縁層13,電気接続パターン14,
回路部品11及び電線15で構成されている。
【0024】ステム12,絶縁層13,電気接続パター
ン14及び回路部品11は、ステム12の厚み方向に積
層される形で配置されている。ステム12は、アルミニ
ウムで構成される薄板である。この例では、ステム12
の幅,長さ及び厚みが、それぞれ14mm,20mm及
び1.5mmになっている。ステム12の材質としてア
ルミニウムを採用した理由の1つは、熱伝導率が高いか
らである。なお、アルミニウムの代わりに銅を採用して
も良い。
ン14及び回路部品11は、ステム12の厚み方向に積
層される形で配置されている。ステム12は、アルミニ
ウムで構成される薄板である。この例では、ステム12
の幅,長さ及び厚みが、それぞれ14mm,20mm及
び1.5mmになっている。ステム12の材質としてア
ルミニウムを採用した理由の1つは、熱伝導率が高いか
らである。なお、アルミニウムの代わりに銅を採用して
も良い。
【0025】絶縁層13は、エポキシ樹脂に、粉末状の
充填材(無機フィラー)を混ぜた電気絶縁材料を、ステ
ム12に塗布して形成してある。また、絶縁層13は、
ステム12の上側の面の全域を覆うように形成してあ
る。この例では、絶縁層13の厚みは、約80μmであ
る。熱伝導率の高い充填材を混合してあるため、絶縁層
13は、比較的高い熱伝導率を有している。
充填材(無機フィラー)を混ぜた電気絶縁材料を、ステ
ム12に塗布して形成してある。また、絶縁層13は、
ステム12の上側の面の全域を覆うように形成してあ
る。この例では、絶縁層13の厚みは、約80μmであ
る。熱伝導率の高い充填材を混合してあるため、絶縁層
13は、比較的高い熱伝導率を有している。
【0026】なお、ステム12を、例えば熱伝導率の高
いセラミック材料で構成しても良い。その場合、絶縁層
13を設ける必要はない。しかし、部品コストや加工性
の点で、ステム12を、アルミニウム又は銅で構成し、
絶縁層13を設けるのが望ましい。電気接続パターン1
4は、絶縁層13の上に形成された銅箔で構成されてい
る。電気接続パターン14の厚みは約100μmであ
る。電気接続パターン14を形成する方法としては、様
々な方法があるが、この例では、次の方法で形成してい
る。
いセラミック材料で構成しても良い。その場合、絶縁層
13を設ける必要はない。しかし、部品コストや加工性
の点で、ステム12を、アルミニウム又は銅で構成し、
絶縁層13を設けるのが望ましい。電気接続パターン1
4は、絶縁層13の上に形成された銅箔で構成されてい
る。電気接続パターン14の厚みは約100μmであ
る。電気接続パターン14を形成する方法としては、様
々な方法があるが、この例では、次の方法で形成してい
る。
【0027】絶縁層13のほぼ全面を覆うように、接着
剤を用いて銅箔を絶縁層13上に貼り付ける。次に、前
記銅箔上の電気接続パターン14を形成する部分に、所
定のレジスト材を塗布する。更に、エッチングにより、
前記レジスト材で保護されない部分の銅箔を除去する。
次に、前記レジスト材を除去する。最後に、残った銅箔
の表面を金メッキする。
剤を用いて銅箔を絶縁層13上に貼り付ける。次に、前
記銅箔上の電気接続パターン14を形成する部分に、所
定のレジスト材を塗布する。更に、エッチングにより、
前記レジスト材で保護されない部分の銅箔を除去する。
次に、前記レジスト材を除去する。最後に、残った銅箔
の表面を金メッキする。
【0028】電気接続パターン14は、図1に示すよう
に、互いにほぼ平行に並んだ、5つの互いに電気的に分
離された導体パターン14a,14b,14c,14d
及び14eで構成されている。電気接続パターン14の
一端側は、回路部品を装着するためのランド部16aと
して利用され、他端側は、外部の電気回路と接続するた
めの端子部16bとして利用される。
に、互いにほぼ平行に並んだ、5つの互いに電気的に分
離された導体パターン14a,14b,14c,14d
及び14eで構成されている。電気接続パターン14の
一端側は、回路部品を装着するためのランド部16aと
して利用され、他端側は、外部の電気回路と接続するた
めの端子部16bとして利用される。
【0029】回路部品11を配置するために、中央部の
導体パターン14cについては、ランド部16aの面積
が、他の導体パターン14a,14b,14d,14e
よりも広くなるように形成されている。図1に示すよう
に、導体パターン14cのランド部16a上には、回路
部品11として、8つの半導体チップ11a,11b,
11c,11d,11e,11f,11g及び11h
が、2列に並べて配置してある。
導体パターン14cについては、ランド部16aの面積
が、他の導体パターン14a,14b,14d,14e
よりも広くなるように形成されている。図1に示すよう
に、導体パターン14cのランド部16a上には、回路
部品11として、8つの半導体チップ11a,11b,
11c,11d,11e,11f,11g及び11h
が、2列に並べて配置してある。
【0030】8つの半導体チップ11a〜11hは、い
ずれも発光ダイオードを構成するチップである。半導体
チップ11a〜11hの発光波長には、青色(B),緑色
(G),赤色(R),赤外(I)の4種類がある。半導体チッ
プ11a,11dの発光波長は赤外、半導体チップ11
b,11cの発光波長は赤色、半導体チップ11e,1
1hの発光波長は緑色、半導体チップ11f,11gの
発光波長は青色である。この例では、青色,緑色,赤色
及び赤外の各色の分光強度特性は、それぞれ、図12に
示す特性曲線C1,C2,C3及びC4のようになって
いる。
ずれも発光ダイオードを構成するチップである。半導体
チップ11a〜11hの発光波長には、青色(B),緑色
(G),赤色(R),赤外(I)の4種類がある。半導体チッ
プ11a,11dの発光波長は赤外、半導体チップ11
b,11cの発光波長は赤色、半導体チップ11e,1
1hの発光波長は緑色、半導体チップ11f,11gの
発光波長は青色である。この例では、青色,緑色,赤色
及び赤外の各色の分光強度特性は、それぞれ、図12に
示す特性曲線C1,C2,C3及びC4のようになって
いる。
【0031】この例では、赤色と赤外の半導体チップ1
1a〜11dについては、上面と下面にそれぞれ電極
(アノードとカソード)を有している。また、青色と緑
色の半導体チップ11e〜11hについては、上面に2
つの電極(アノードとカソード)を有している。半導体
チップ11a〜11hは、導体パターン14cのランド
部16aにダイボンディングされる。半導体チップ11
a〜11dについては、Agペーストのような導電性の
材料を用いて、半導体チップ11a〜11dの下面の電
極と導体パターン14cを接着することにより、半導体
チップ11a〜11dの下面の電極と導体パターン14
cとが電気的に接続される。
1a〜11dについては、上面と下面にそれぞれ電極
(アノードとカソード)を有している。また、青色と緑
色の半導体チップ11e〜11hについては、上面に2
つの電極(アノードとカソード)を有している。半導体
チップ11a〜11hは、導体パターン14cのランド
部16aにダイボンディングされる。半導体チップ11
a〜11dについては、Agペーストのような導電性の
材料を用いて、半導体チップ11a〜11dの下面の電
極と導体パターン14cを接着することにより、半導体
チップ11a〜11dの下面の電極と導体パターン14
cとが電気的に接続される。
【0032】半導体チップ11a〜11hの上面の電極
は、それぞれ、電線15a〜15hを用いて、ワイヤボ
ンディングにより、導体パターン14a,14b,14
d又は14eの何れかと、電気的に接続される。即ち、
半導体チップ11a,11dの上面の電極は、導体パタ
ーン14eと接続され、半導体チップ11b,11cの
上面の電極は、導体パターン14dと接続され、半導体
チップ11e,11hの上面の電極は、導体パターン1
4aと接続され、半導体チップ11f,11gの上面の
電極は、導体パターン14bと接続される。
は、それぞれ、電線15a〜15hを用いて、ワイヤボ
ンディングにより、導体パターン14a,14b,14
d又は14eの何れかと、電気的に接続される。即ち、
半導体チップ11a,11dの上面の電極は、導体パタ
ーン14eと接続され、半導体チップ11b,11cの
上面の電極は、導体パターン14dと接続され、半導体
チップ11e,11hの上面の電極は、導体パターン1
4aと接続され、半導体チップ11f,11gの上面の
電極は、導体パターン14bと接続される。
【0033】半導体チップ11aと半導体チップ11d
は、電気的に並列に接続されている。同様に、半導体チ
ップ11bと半導体チップ11cが並列に接続され、半
導体チップ11eと半導体チップ11hが並列に接続さ
れ、半導体チップ11fと半導体チップ11gが並列に
接続されている。従って、導体パターン14cと導体パ
ターン14aとの間に電流を流せば、半導体チップ11
e,11hが発光し、緑色の光が出射される。また、導
体パターン14cと導体パターン14bとの間に電流を
流せば、半導体チップ11f,11gが発光し、青色の
光が出射される。
は、電気的に並列に接続されている。同様に、半導体チ
ップ11bと半導体チップ11cが並列に接続され、半
導体チップ11eと半導体チップ11hが並列に接続さ
れ、半導体チップ11fと半導体チップ11gが並列に
接続されている。従って、導体パターン14cと導体パ
ターン14aとの間に電流を流せば、半導体チップ11
e,11hが発光し、緑色の光が出射される。また、導
体パターン14cと導体パターン14bとの間に電流を
流せば、半導体チップ11f,11gが発光し、青色の
光が出射される。
【0034】また、導体パターン14cと導体パターン
14dとの間に電流を流せば、半導体チップ11b,1
1cが発光し、赤色の光が出射される。導体パターン1
4cと導体パターン14eとの間に電流を流せば、半導
体チップ11a,11dが発光し、赤外波長の光が出射
される。半導体チップ11a〜11hの上面電極と導体
パターン14a,14b,14d及び14eとのワイヤ
ボンディングが完了した後で、透明なシリコーン樹脂
が、半導体チップ11a〜11hを覆うように塗布され
る。このシリコーン樹脂によって、半導体チップ11a
〜11hは、導体パターン14c上により確実に固定さ
れる。
14dとの間に電流を流せば、半導体チップ11b,1
1cが発光し、赤色の光が出射される。導体パターン1
4cと導体パターン14eとの間に電流を流せば、半導
体チップ11a,11dが発光し、赤外波長の光が出射
される。半導体チップ11a〜11hの上面電極と導体
パターン14a,14b,14d及び14eとのワイヤ
ボンディングが完了した後で、透明なシリコーン樹脂
が、半導体チップ11a〜11hを覆うように塗布され
る。このシリコーン樹脂によって、半導体チップ11a
〜11hは、導体パターン14c上により確実に固定さ
れる。
【0035】電気接続パターン14の端子部16bに
は、リード線17が、半田付けで接続される。リード線
17を介して、半導体チップ11a〜11hの通電を制
御することで、光源モジュール10から出射される光の
波長と、照明のオン/オフを切り替えることができる。
以上に説明した光源モジュール10を備える光源ユニッ
ト20について、次に説明する。図3に示すように、光
源ユニット20は、ベースブロック21,光源モジュー
ル10,ミラー22及び拡散板23を備えている。
は、リード線17が、半田付けで接続される。リード線
17を介して、半導体チップ11a〜11hの通電を制
御することで、光源モジュール10から出射される光の
波長と、照明のオン/オフを切り替えることができる。
以上に説明した光源モジュール10を備える光源ユニッ
ト20について、次に説明する。図3に示すように、光
源ユニット20は、ベースブロック21,光源モジュー
ル10,ミラー22及び拡散板23を備えている。
【0036】ベースブロック21は、プラスチックで構
成してある。光源モジュール10を配置する空間を設け
るために、ベースブロック21の裏面には、凹部21a
が形成してある。また、光源モジュール10から出射さ
れた光を通すために、ベースブロック21の表側の面に
は、凹部21aと連通する開口部21bが形成してあ
る。
成してある。光源モジュール10を配置する空間を設け
るために、ベースブロック21の裏面には、凹部21a
が形成してある。また、光源モジュール10から出射さ
れた光を通すために、ベースブロック21の表側の面に
は、凹部21aと連通する開口部21bが形成してあ
る。
【0037】また、ベースブロック21には、取付のた
めに、開口部25と長穴26が形成されている。光源モ
ジュール10は、半導体チップ11a〜11hが配置さ
れた発光面10aを上側にして、ベースブロック21の
凹部21aに挿入され、固定される。具体的には、光源
モジュール10の発光面10aと対向するベースブロッ
ク21の支持面21cと、発光面10aの周辺部10b
とが、所定の接着剤によって接着される。
めに、開口部25と長穴26が形成されている。光源モ
ジュール10は、半導体チップ11a〜11hが配置さ
れた発光面10aを上側にして、ベースブロック21の
凹部21aに挿入され、固定される。具体的には、光源
モジュール10の発光面10aと対向するベースブロッ
ク21の支持面21cと、発光面10aの周辺部10b
とが、所定の接着剤によって接着される。
【0038】接着剤を保持する空間を確保するために、
支持面21cには、深さの浅い溝21dが、帯状に開口
部21bを囲む形で形成されている。即ち、溝21dの
部分に沿って充填される接着剤によって、光源モジュー
ル10の周辺部10bとベースブロック21とが接着さ
れる。図3に示すように、ベースブロック21の凹部2
1aの深さd1は、光源モジュール10の厚みd2の2
倍程度になっている。つまり、ベースブロック21に光
源モジュール10が装着された状態においても、凹部2
1aには、比較的大きな空間が形成される。
支持面21cには、深さの浅い溝21dが、帯状に開口
部21bを囲む形で形成されている。即ち、溝21dの
部分に沿って充填される接着剤によって、光源モジュー
ル10の周辺部10bとベースブロック21とが接着さ
れる。図3に示すように、ベースブロック21の凹部2
1aの深さd1は、光源モジュール10の厚みd2の2
倍程度になっている。つまり、ベースブロック21に光
源モジュール10が装着された状態においても、凹部2
1aには、比較的大きな空間が形成される。
【0039】従って、光源モジュール10の下面10c
は、凹部21aの空間を通して、常時、外気にさらされ
る。つまり、半導体チップ11a〜11hの発熱によっ
て生じた熱は、電気接続パターン14,絶縁層13及び
ステム12を介して、効率よく、外気に放熱される。こ
のため、光源モジュール10の温度上昇は、大幅に抑制
される。
は、凹部21aの空間を通して、常時、外気にさらされ
る。つまり、半導体チップ11a〜11hの発熱によっ
て生じた熱は、電気接続パターン14,絶縁層13及び
ステム12を介して、効率よく、外気に放熱される。こ
のため、光源モジュール10の温度上昇は、大幅に抑制
される。
【0040】光源モジュール10の長さは、凹部21a
の長さより長いので、光源モジュール10の端子部16
bは、図6に示すように、ベースブロック21の側方に
突出する。従って、端子部16bと接続されるリード線
17は、ベースブロック21の外側で、光源モジュール
10と接続される。半導体チップ11a〜11hは、各
々の発光部が上に向いている。また、図1に示すよう
に、半導体チップ11a〜11hは、2列に並んで配置
されている。従って、図3に示すように、半導体チップ
11a〜11dに対する光学系の光軸A1と半導体チッ
プ11e〜11hに対する光学系の光軸A2は、矢印X
方向に少しずれた位置にある。
の長さより長いので、光源モジュール10の端子部16
bは、図6に示すように、ベースブロック21の側方に
突出する。従って、端子部16bと接続されるリード線
17は、ベースブロック21の外側で、光源モジュール
10と接続される。半導体チップ11a〜11hは、各
々の発光部が上に向いている。また、図1に示すよう
に、半導体チップ11a〜11hは、2列に並んで配置
されている。従って、図3に示すように、半導体チップ
11a〜11dに対する光学系の光軸A1と半導体チッ
プ11e〜11hに対する光学系の光軸A2は、矢印X
方向に少しずれた位置にある。
【0041】光軸A1,A2と対向する位置に配置され
たミラー22は、矢印X方向に対して約45度傾いてい
る。ミラー22は、厚み方向の互いに対向する面に、ダ
イクロイックミラー面22aと全反射ミラー面22bを
備えている。ダイクロイックミラー面22aは、光の波
長に応じて反射特性が異なる面であり、この例では、図
12に示す特性を有する。つまり、赤色及び赤外色の光
は反射し、青色及び緑色の光は透過する。全反射ミラー
面22bは、波長とは無関係に、光を反射する。
たミラー22は、矢印X方向に対して約45度傾いてい
る。ミラー22は、厚み方向の互いに対向する面に、ダ
イクロイックミラー面22aと全反射ミラー面22bを
備えている。ダイクロイックミラー面22aは、光の波
長に応じて反射特性が異なる面であり、この例では、図
12に示す特性を有する。つまり、赤色及び赤外色の光
は反射し、青色及び緑色の光は透過する。全反射ミラー
面22bは、波長とは無関係に、光を反射する。
【0042】半導体チップ11a〜11dから出る赤外
色及び赤色の光は、光軸A1を通り、ダイクロイックミ
ラー面22aで反射され、光軸A3の位置に沿って進
む。半導体チップ11e〜11hから出る青色及び緑色
の光は、光軸A2を通り、ダイクロイックミラー面22
aで反射せず、屈折してミラー22内部に入射する。更
に、青色及び緑色の光は、全反射ミラー面22bで反射
して、再びミラー22内部を進み、ダイクロイックミラ
ー面22aで再度屈折して、光軸A3の位置に沿って進
む。
色及び赤色の光は、光軸A1を通り、ダイクロイックミ
ラー面22aで反射され、光軸A3の位置に沿って進
む。半導体チップ11e〜11hから出る青色及び緑色
の光は、光軸A2を通り、ダイクロイックミラー面22
aで反射せず、屈折してミラー22内部に入射する。更
に、青色及び緑色の光は、全反射ミラー面22bで反射
して、再びミラー22内部を進み、ダイクロイックミラ
ー面22aで再度屈折して、光軸A3の位置に沿って進
む。
【0043】つまり、ミラー22によって、1つの光軸
A3上に、赤外色,赤色,青色及び緑色の光が揃うよう
に、各色の光路が調整される。光軸A3の前方から光源
ユニット20を観察すれば、赤外色,赤色,青色及び緑
色の光は、いずれも同じ位置で発光しているように見え
る。ミラー22の厚さ,ミラー22の屈折率,光軸A1
とA2との間隔等は、光軸A1を通る赤外色及び赤色の
光と、光軸A2を通る青色及び緑色の光が光軸A3を通
るように、予め調整される。
A3上に、赤外色,赤色,青色及び緑色の光が揃うよう
に、各色の光路が調整される。光軸A3の前方から光源
ユニット20を観察すれば、赤外色,赤色,青色及び緑
色の光は、いずれも同じ位置で発光しているように見え
る。ミラー22の厚さ,ミラー22の屈折率,光軸A1
とA2との間隔等は、光軸A1を通る赤外色及び赤色の
光と、光軸A2を通る青色及び緑色の光が光軸A3を通
るように、予め調整される。
【0044】なお、半導体チップ11a〜11hの配列
における発光色の組み合わせや位置関係、並びにダイク
ロイックミラー面22aの反射特性などを適宜変更して
も、同様の光軸合わせが可能である。光軸A3を通る光
は、拡散板23によって拡散される。これにより、光源
ユニット20から出射される光の照度分布が均一化され
る。
における発光色の組み合わせや位置関係、並びにダイク
ロイックミラー面22aの反射特性などを適宜変更して
も、同様の光軸合わせが可能である。光軸A3を通る光
は、拡散板23によって拡散される。これにより、光源
ユニット20から出射される光の照度分布が均一化され
る。
【0045】次に、図9に示す画像読取装置60につい
て説明する。この画像読取装置60は、上記光源ユニッ
ト20を搭載した照明ユニット50を備えている。照明
ユニット50の外観は、図8に示されている。画像読取
装置60は、原稿として、カメラで撮影したネガフィル
ムやリバーサルフィルムを用いる。原稿は、ホルダ62
の内部に保持されて、画像読取装置60に装着される。
ホルダ62は、図示しない駆動機構により支持され、矢
印X方向に移動可能になっている。
て説明する。この画像読取装置60は、上記光源ユニッ
ト20を搭載した照明ユニット50を備えている。照明
ユニット50の外観は、図8に示されている。画像読取
装置60は、原稿として、カメラで撮影したネガフィル
ムやリバーサルフィルムを用いる。原稿は、ホルダ62
の内部に保持されて、画像読取装置60に装着される。
ホルダ62は、図示しない駆動機構により支持され、矢
印X方向に移動可能になっている。
【0046】図9に示すように、ホルダ62内の原稿
は、照明ユニット50によって下方から照明される。原
稿を透過した光は、原稿の上方に配置されたミラー63
で反射され、レンズ64を通って、1次元イメージセン
サ61の撮像面に入射する。
は、照明ユニット50によって下方から照明される。原
稿を透過した光は、原稿の上方に配置されたミラー63
で反射され、レンズ64を通って、1次元イメージセン
サ61の撮像面に入射する。
【0047】光源ユニット20から1次元イメージセン
サ61の撮像面までの光路は、図10及び図11に示す
ようになる。限られた空間の中に照明光学系を収容する
ため、照明ユニット50では、光路変換を実施してい
る。光源ユニット20から出射される光は、トーリック
ミラー51で反射され、ミラー52で反射されて原稿に
向かう。トーリックミラー51で反射された光を、ミラ
ー52に向けるため、光源ユニット20から出る光の光
軸は、少し下向きに傾けてある。
サ61の撮像面までの光路は、図10及び図11に示す
ようになる。限られた空間の中に照明光学系を収容する
ため、照明ユニット50では、光路変換を実施してい
る。光源ユニット20から出射される光は、トーリック
ミラー51で反射され、ミラー52で反射されて原稿に
向かう。トーリックミラー51で反射された光を、ミラ
ー52に向けるため、光源ユニット20から出る光の光
軸は、少し下向きに傾けてある。
【0048】図11に示すように、トーリックミラー5
1の曲面R2によって、原稿の位置で、原稿移動方向の
微小領域だけが照明されるように、光路を調節してあ
る。また、図10に示すように、トーリックミラー51
の曲面R1によって、原稿の位置で、1ラインの全幅の
領域が照明されるように、光路を調節してある。画像読
取装置60は、青色,緑色,赤色及び赤外の光を選択的
に発光できる光源ユニット20を備えているので、次に
説明するように、光源ユニット20を制御することで、
カラー画像を読み取ることができる。
1の曲面R2によって、原稿の位置で、原稿移動方向の
微小領域だけが照明されるように、光路を調節してあ
る。また、図10に示すように、トーリックミラー51
の曲面R1によって、原稿の位置で、1ラインの全幅の
領域が照明されるように、光路を調節してある。画像読
取装置60は、青色,緑色,赤色及び赤外の光を選択的
に発光できる光源ユニット20を備えているので、次に
説明するように、光源ユニット20を制御することで、
カラー画像を読み取ることができる。
【0049】原稿を所定の読取開始位置に移動した後、
光源ユニット20を制御して、まず、赤色のみを点灯状
態にする。このとき、原稿画像の赤色成分のみが、1次
元イメージセンサ61に結像されるので、1ラインの赤
色の画像成分を読み取ることができる。同様に、光源ユ
ニット20を制御して、緑色のみを点灯状態にすれば、
1ラインの緑色の画像成分を読み取ることができる。ま
た、青色のみを点灯状態にすれば、1ラインの青色の画
像成分を読み取ることができる。
光源ユニット20を制御して、まず、赤色のみを点灯状
態にする。このとき、原稿画像の赤色成分のみが、1次
元イメージセンサ61に結像されるので、1ラインの赤
色の画像成分を読み取ることができる。同様に、光源ユ
ニット20を制御して、緑色のみを点灯状態にすれば、
1ラインの緑色の画像成分を読み取ることができる。ま
た、青色のみを点灯状態にすれば、1ラインの青色の画
像成分を読み取ることができる。
【0050】赤色,緑色及び青色の読取が終了したら、
ホルダ62を動かして原稿を1ライン分移動し、再び上
記のように、赤色,緑色及び青色の読取を順次に行う。
この動作を繰り返せば、原稿の1画面の画像を、R,
G,Bのカラーデータとして読み取ることができる。ま
た、読み取る画像の色成分の切替を画面単位で実施して
も良い。即ち、原稿を所定の読取開始位置に移動した
後、光源ユニット20を制御して、まず、赤色のみを点
灯状態にする。このとき、原稿画像の赤色成分のみが、
1次元イメージセンサ61に結像されるので、ホルダ6
2を移動しながら、赤色の画像成分を1次元イメージセ
ンサ61で、1ラインずつ順次に読み取る。
ホルダ62を動かして原稿を1ライン分移動し、再び上
記のように、赤色,緑色及び青色の読取を順次に行う。
この動作を繰り返せば、原稿の1画面の画像を、R,
G,Bのカラーデータとして読み取ることができる。ま
た、読み取る画像の色成分の切替を画面単位で実施して
も良い。即ち、原稿を所定の読取開始位置に移動した
後、光源ユニット20を制御して、まず、赤色のみを点
灯状態にする。このとき、原稿画像の赤色成分のみが、
1次元イメージセンサ61に結像されるので、ホルダ6
2を移動しながら、赤色の画像成分を1次元イメージセ
ンサ61で、1ラインずつ順次に読み取る。
【0051】赤色の1画面の読取が終了したら、原稿を
所定の読取開始位置に戻し、光源ユニット20を制御し
て、緑色のみを点灯状態にする。そして、ホルダ62を
移動しながら、緑色の画像成分を1ラインずつ順次に読
み取る。緑色の1画面の読取が終了したら、原稿を所定
の読取開始位置に戻し、光源ユニット20を制御して、
青色のみを点灯状態にする。そして、ホルダ62を移動
しながら、青色の画像成分を1ラインずつ順次に読み取
る。
所定の読取開始位置に戻し、光源ユニット20を制御し
て、緑色のみを点灯状態にする。そして、ホルダ62を
移動しながら、緑色の画像成分を1ラインずつ順次に読
み取る。緑色の1画面の読取が終了したら、原稿を所定
の読取開始位置に戻し、光源ユニット20を制御して、
青色のみを点灯状態にする。そして、ホルダ62を移動
しながら、青色の画像成分を1ラインずつ順次に読み取
る。
【0052】もしも、光源モジュール10の蓄熱の程度
が、経時的に大きく変わると、画像の読取時に、照明光
の強度が変わり、読取画像の濃度が、画像の位置に応じ
て変化する。また、赤色,緑色及び青色の画像を順番に
読み取る場合には、照明光の強度変化は、読取画像のカ
ラーバランスに影響する。しかし、光源モジュール10
は、半導体チップ11a〜11hで生じた熱を、効率よ
く放熱するので、経時的な温度変化が小さく、読取画像
の濃度やカラーバランスが大きく変わることはない。
が、経時的に大きく変わると、画像の読取時に、照明光
の強度が変わり、読取画像の濃度が、画像の位置に応じ
て変化する。また、赤色,緑色及び青色の画像を順番に
読み取る場合には、照明光の強度変化は、読取画像のカ
ラーバランスに影響する。しかし、光源モジュール10
は、半導体チップ11a〜11hで生じた熱を、効率よ
く放熱するので、経時的な温度変化が小さく、読取画像
の濃度やカラーバランスが大きく変わることはない。
【0053】
(請求項1)前記基板の他方の面が外気に触れるように
配置されるので、発光手段の半導体チップで生じる熱
を、前記基板を介して、外気に放出できる。このため、
基板及び発光手段の温度上昇を、効果的に抑制できる。
従って、発光手段の発光光量の変化が抑制される。
配置されるので、発光手段の半導体チップで生じる熱
を、前記基板を介して、外気に放出できる。このため、
基板及び発光手段の温度上昇を、効果的に抑制できる。
従って、発光手段の発光光量の変化が抑制される。
【0054】(請求項2)基板の厚みにばらつきがあっ
たとしても、発光手段の取付位置に影響が及ばない。従
って、基板の厚みが一定になるように厳しく管理しなく
ても、個々の装置によって照明のばらつきが発生するこ
とが減少する。
たとしても、発光手段の取付位置に影響が及ばない。従
って、基板の厚みが一定になるように厳しく管理しなく
ても、個々の装置によって照明のばらつきが発生するこ
とが減少する。
【0055】(請求項3)前記基板を支持手段の前記凹
部に配置することにより、前記基板をしっかりと固定で
きる。また、基板を外気に触れさせるための空間の確保
も容易になる。 (請求項4)前記凹部に形成される空間が、前記基板か
らの放熱に利用されるので、放熱効率がよい。
部に配置することにより、前記基板をしっかりと固定で
きる。また、基板を外気に触れさせるための空間の確保
も容易になる。 (請求項4)前記凹部に形成される空間が、前記基板か
らの放熱に利用されるので、放熱効率がよい。
【0056】(請求項5)加工が容易でしかも安価な材
料を、基板の材料として用いることができる。また、よ
り熱伝導率の高い材料を用いることができる。従って、
安価な光源装置を提供できる。 (請求項6)互いに発光波長の異なる、複数種類の半導
体チップを設けるので、照明光の色を変えることができ
る。但し、同一の位置に複数の半導体チップを配置でき
ないので、色を変えると光軸の位置がずれる。ダイクロ
イックミラーを用いて、波長に応じて選択的に光路を切
り替えると、各色の光軸位置を揃えることができる。
料を、基板の材料として用いることができる。また、よ
り熱伝導率の高い材料を用いることができる。従って、
安価な光源装置を提供できる。 (請求項6)互いに発光波長の異なる、複数種類の半導
体チップを設けるので、照明光の色を変えることができ
る。但し、同一の位置に複数の半導体チップを配置でき
ないので、色を変えると光軸の位置がずれる。ダイクロ
イックミラーを用いて、波長に応じて選択的に光路を切
り替えると、各色の光軸位置を揃えることができる。
【0057】(請求項7)金属やセラミックは、比較的
熱伝導率が高いので、熱放射率がよい。 (請求項8)基板の発光手段が配置される面の反対の面
の少なくとも一部を外気に触れる構成となっているの
で、発光手段の放熱効果が高い。よって、従来の装置に
比べて、発光手段は熱による発光量の変動が少なくな
る。従って、読み取った画像に濃度むらが発生するのを
抑制できる。
熱伝導率が高いので、熱放射率がよい。 (請求項8)基板の発光手段が配置される面の反対の面
の少なくとも一部を外気に触れる構成となっているの
で、発光手段の放熱効果が高い。よって、従来の装置に
比べて、発光手段は熱による発光量の変動が少なくな
る。従って、読み取った画像に濃度むらが発生するのを
抑制できる。
【図1】光源モジュール10の平面図である。
【図2】図1のII−II線断面を示す光源モジュール10
の分解図である。
の分解図である。
【図3】光源モジュール10を備える光源ユニット20
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図4】光源ユニット20の平面図である。
【図5】光源ユニット20の底面図である。
【図6】図3のVI−VI線から見た光源ユニット20の縦
断面図である。
断面図である。
【図7】ベースブロック21を裏面側から見た斜視図で
ある。
ある。
【図8】光源ユニット20を用いた照明ユニット50の
斜視図である。
斜視図である。
【図9】図8の照明ユニット50を用いた画像読取装置
の正面図である。
の正面図である。
【図10】光源モジュール10からイメージセンサ61
までの光路を展開して示す模式図である。
までの光路を展開して示す模式図である。
【図11】光源モジュール10からイメージセンサ61
までの光路を展開して示す模式図である。
までの光路を展開して示す模式図である。
【図12】光源ユニット20の各部の分光特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
10 光源モジュール 11 回路部品 11a〜11h 半導体チップ(発光ダイオード) 12 ステム 13 絶縁層 14 電気接続パターン 14a〜14e 導体パターン 15,15a〜15h 電線 16a ランド部 16b 端子部 17 リード線 20 光源ユニット 21 ベースブロック 22 ミラー 22a ダイクロイックミラー面 22b 全反射ミラー面 23 拡散板 50 照明ユニット 51 トーリックミラー 52 ミラー 60 画像読取装置 61 イメージセンサ 62 ホルダ 63 ミラー 64 レンズ
Claims (8)
- 【請求項1】 板形状の基板と、 前記基板の一方の面に形成され、箔状の金属導電体で構
成される電気接続パターンと、該電気接続パターンと電
気的に接続される少なくとも1つの半導体チップで構成
される発光手段と、 前記基板の他方の面の少なくとも一部を、外気に触れさ
せるように支持する支持手段とを設けたことを特徴とす
る光源装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の光源装置において、前記
基板の一方の面が、前記支持手段に接着されていること
を特徴とする光源装置。 - 【請求項3】 請求項2記載の光源装置において、前記
支持手段に凹部が形成され、前記凹部の底面位置に開口
部が形成され、前記凹部の底面位置に前記基板の一方の
面が接着され、前記開口部は前記発光手段の光が通過す
る位置に配置されていることを特徴とする光源装置。 - 【請求項4】 請求項3記載の光源装置において、前記
凹部の深さを、前記基板の厚みより大きくしたことを特
徴とする光源装置。 - 【請求項5】 請求項1記載の光源装置において、前記
基板を、導電性の板形状の材料で構成される基材と、該
基材上に電気絶縁性の材料で形成した絶縁層とで構成
し、前記絶縁層の上に前記電気接続パターンを形成した
ことを特徴とする光源装置。 - 【請求項6】 請求項1記載の光源装置において、前記
発光手段に、互いに発光波長の異なる、複数種類の半導
体チップを設け、前記支持手段上の、前記基板の一方の
面と対向する位置に、ダイクロイックミラーを設けたこ
とを特徴とする光源装置。 - 【請求項7】 請求項1記載の光源装置において、前記
基板は、金属もしくはセラミックで構成されていること
を特徴とする光源装置。 - 【請求項8】 板形状の基板と、 前記基板の一方の面に形成され、箔状の金属導電体で構
成される電気接続パターンと、該電気接続パターンと電
気的に接続される少なくとも1つの半導体チップで構成
される発光手段と、 前記基板の他方の面の少なくとも一部を外気に触れさせ
るように支持する支持手段と、 前記発光手段によって照明される被写体を読み取る読取
手段とを設けたことを特徴とする画像読取装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9235709A JPH1175019A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 光源装置及び画像読取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9235709A JPH1175019A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 光源装置及び画像読取装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1175019A true JPH1175019A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=16990079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9235709A Pending JPH1175019A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 光源装置及び画像読取装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1175019A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002073706A1 (en) | 2001-03-09 | 2002-09-19 | Sony Corporation | Display apparatus and its manufacturing method |
US6734030B2 (en) | 2001-03-06 | 2004-05-11 | Sony Corporation | Semiconductor light emitting device and method of fabricating semiconductor light emitting device |
US6828591B2 (en) | 2000-12-15 | 2004-12-07 | Sony Corporation | Semiconductor light emitting device and fabrication method thereof |
US6830946B2 (en) | 2001-02-01 | 2004-12-14 | Sony Corporation | Device transfer method and panel |
US6831300B2 (en) | 2001-02-21 | 2004-12-14 | Sony Corporation | Semiconductor light emitting device, manufacturing method of a semiconductor light emitting device and connection structure of an electrode layer |
US6870190B2 (en) | 2001-03-06 | 2005-03-22 | Sony Corporation | Display unit and semiconductor light emitting device |
US6924500B2 (en) | 2000-07-18 | 2005-08-02 | Sony Corporation | Semiconductor light-emitting device and process for producing the same |
US7250320B2 (en) | 2003-03-20 | 2007-07-31 | Sony Corporation | Semiconductor light emitting element, manufacturing method thereof, integrated semiconductor light emitting device, manufacturing method thereof, image display device, manufacturing method thereof, illuminating device and manufacturing method thereof |
US7297985B2 (en) | 2001-05-15 | 2007-11-20 | Sony Corporation | Display device and display unit using the same |
-
1997
- 1997-09-01 JP JP9235709A patent/JPH1175019A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US7221001B2 (en) | 2000-07-18 | 2007-05-22 | Sony Corporation | Semiconductor light-emitting device and process for producing the same |
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US6921675B2 (en) | 2001-02-01 | 2005-07-26 | Sony Corporation | Device transfer method and panel |
US7233030B2 (en) | 2001-02-01 | 2007-06-19 | Sony Corporation | Device transfer method and panel |
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WO2002073706A1 (en) | 2001-03-09 | 2002-09-19 | Sony Corporation | Display apparatus and its manufacturing method |
US6773943B2 (en) * | 2001-03-09 | 2004-08-10 | Sony Corporation | Display unit and method of fabricating the same |
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