JPH116779A

JPH116779A - 圧力センサ

Info

Publication number: JPH116779A
Application number: JP16102997A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Shibatani; 博志柴谷; Kensuke Muraishi; 賢介村石
Original assignee: Mitsubishi Materials Corp
Current assignee: Mitsubishi Materials Corp
Priority date: 1997-06-18
Filing date: 1997-06-18
Publication date: 1999-01-12

Abstract

(57)【要約】【課題】比較的大きな圧力がダイヤフラムに作用しても
ダイヤフラムが圧力基準室の四角錐台の上縁に接触せ
ず、ダイヤフラムの動作範囲を狭めない。【解決手段】光ファイバ１２の先端にこの先端面に対向
するように光透過性のセンサ基板１３が設けられ、セン
サ基板の光ファイバ対向面と反対側の面に対向するダイ
ヤフラム１６の表面に光反射膜１４が形成される。セン
サ基板とダイヤフラムとの間に四角錐台状の空洞１７ａ
を有する圧力基準室１７が気密的に隔離される。ダイヤ
フラム１６は外部からの圧力により変形不能な厚肉部２
６と、外部からの圧力により変形可能な円形状の薄肉部
２７とを有する。また薄肉部２７の中心が光ファイバ１
２の軸心に一致しかつ薄肉部２７の直径が圧力基準室１
７の四角錐台状の空洞１７ａの上縁で形成される矩形の
対角線未満に形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバを利用
した光学式の圧力センサに関する。更に詳しくは小型化
が要求される医療用に適した圧力センサに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】この種の圧力センサとして、本出願人
は、光ファイバの先端に先端面に対向するように光透過
性のセンサ基板が設けられ、このセンサ基板の光ファイ
バ対向面と反対側の面に対向するダイヤフラムの表面に
光反射膜が形成され、更にセンサ基板とダイヤフラムと
の間に四角錐台状の空洞からなる圧力基準室が気密的に
隔離された圧力センサ及びその製造方法を特許出願した
（特開平８−２０１１９５）。この圧力センサでは、圧
力基準室がセンサ基板を底壁としかつダイヤフラムを上
壁の一部又は全部として構成される。この圧力基準室は
センサ基板上に設けられた犠牲層の一部又は全部を犠牲
層エッチング技術により消失させることにより形成され
た空洞である。またダイヤフラムは消失前の上記犠牲層
上に形成された堆積膜によって構成される。

【０００３】このように構成された圧力センサでは、圧
力基準室がセンサ基板に設けられた犠牲層を犠牲層エッ
チング技術により消失させて形成される空洞であるた
め、この犠牲層の厚さを予め精度良く設ければ、圧力基
準室の高さは犠牲層の厚さであるため、圧力基準室の高
さを極めて精度良く制御でき、また小型化にも十分に対
応できるようになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の圧力センサ
及びその製造方法では、ダイヤフラムの形状が通常円形
又は正方形である。円形ダイヤフラムの圧力−撓み特性
線はこのダイヤフラムの内部応力が大きいときには図９
のに示すように線形になり、ダイヤフラムの内部応力
が小さくなってもに示すように線形になる。しかし正
方形ダイヤフラムの圧力−撓み特性線はこのダイヤフラ
ムの内部応力が大きいときにはに示すように線形にな
るが、ダイヤフラムの内部応力が小さくなるとに示す
ように非線形になる。従って、ダイヤフラムの理想的形
状は円形であるけれども、円形ダイヤフラムはバルクマ
イクロマシニングでは作製不可能であり、犠牲層エッチ
ング技術を用いて作製しなければならない。

【０００５】図１０及び図１１に示すように、上記円形
ダイヤフラム６を用いた圧力センサ１では、単結晶シリ
コン層２の表面の結晶面が（１００）面となるように形
成されており、単結晶シリコン層２上面の中央に正方形
孔３ａを有する酸化膜３が形成されているため、この単
結晶シリコン層２は上記酸化膜３の正方形孔３ａにより
制御されて下部が上部より小さい面積の四角錐台状の空
洞７ａにエッチングされる。また酸化膜３上面には円形
ダイヤフラム６となる窒化ケイ素膜が形成される。従っ
て、単結晶シリコン層２のエッチング領域は円形ダイヤ
フラム６よりも小さい正方形となるため、比較的大きな
圧力がダイヤフラム６に作用すると、ダイヤフラム６が
図１１の二点鎖線で示すように酸化膜３の正方形孔３ａ
の周縁に接触する問題点があった。この結果、ダイヤフ
ラム６の撓み量が制限され、圧力センサ１の動作範囲が
狭くなるという問題点があった。

【０００６】本発明の目的は、ダイヤフラムが線形な特
性を有し、比較的大きな圧力がダイヤフラムに作用して
もこのダイヤフラムが圧力基準室の四角錐台の上縁に接
触することがなく、動作範囲を狭めることがない圧力セ
ンサを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
図１に示すように、光ファイバ１２の先端にこの先端面
に対向するように設けられた光透過性のセンサ基板１３
と、センサ基板１３の光ファイバ１２対向面と反対側の
面に対向し表面に光反射膜１４が形成されたダイヤフラ
ム１６と、センサ基板１３とダイヤフラム１６との間に
気密的に隔離された四角錐台状の空洞１７ａを有する圧
力基準室１７とを備え、光ファイバ１２から出射する光
を受けるダイヤフラム１６が圧力により変形することに
よって光ファイバ１２に戻る光の変化を圧力として検出
する圧力センサ１１の改良である。その特徴ある構成
は、ダイヤフラム１６が外部からの圧力により変形不能
な厚肉部２６と、外部からの圧力により変形可能な円形
状の薄肉部２７とを有し、薄肉部２７の中心が光ファイ
バ１２の軸心に一致しかつ薄肉部２７の直径が圧力基準
室１７の四角錐台状の空洞１７ａの上縁で形成される矩
形の対角線未満に形成されたところにある。

【０００８】この請求項１に記載された圧力センサで
は、光ファイバ１２から光を出射している状態で、ダイ
ヤフラム１６に外部から圧力が作用すると、ダイヤフラ
ム１６が撓む。このときダイヤフラム１６の圧力により
変形する部分、即ち薄肉部２７は円形であるため、ダイ
ヤフラム１６の撓み量は圧力に正確に比例して変化す
る。この結果、光反射膜１４で反射して光ファイバ１２
に戻る光の強度は上記ダイヤフラム１６の撓み量に応じ
て小さくなる、即ちダイヤフラム１６の撓み量は光ファ
イバ１２に戻る赤外線の強度に正確に反映されるので、
この圧力センサ１１により外部の圧力を正確に測定でき
る。またダイヤフラム１６に比較的大きな圧力が作用し
ても、このダイヤフラム１６が圧力基準室１７の四角錐
台状の空洞１７ａの上縁に接触することは殆どなく、従
ってダイヤフラム１６の動作範囲を狭めることは殆どな
い。

【０００９】請求項２に係る発明は、請求項１に係る発
明であって、更に図１に示すように、光反射膜１４の表
面に所定の厚さで補強部材１９が積層され、補強部材１
９に、孔心が光ファイバ１２の軸心に一致しかつ圧力基
準室１７の四角錐台状の空洞１７ａの上縁で形成される
矩形の対角線未満の直径を有する円形孔１９ａが形成さ
れ、厚肉部２６がダイヤフラム１６と光反射膜１４と補
強部材１９とを積層して形成され、薄肉部２７がダイヤ
フラム１６と光反射膜１４とを積層して形成されたこと
を特徴とする。この請求項２に記載された圧力センサで
は、厚肉部２６がダイヤフラム１６及び光反射膜１４の
他に比較的厚く剛性を有する補強部材１９を積層するこ
とにより形成されるので、ダイヤフラム１６に比較的大
きな圧力が作用しても変形しない。また薄肉部２７は補
強部材１９に上記円形孔１９ａを形成することにより、
ダイヤフラム１６及び光反射膜１４の積層体となるの
で、ダイヤフラム１６に比較的大きな圧力が作用すると
その圧力に比例して変形するけれども、このときダイヤ
フラム１６が圧力基準室１７の四角錐台状の空洞１７ａ
の上縁に接触することは殆どない。

【００１０】請求項３に係る発明は、請求項１に係る発
明であって、更に図１に示すように、薄肉部２７の直径
が圧力基準室１７の四角錐台状の空洞１７の上縁で形成
される矩形の短辺以下に形成されたことを特徴とする。
この請求項３に記載された圧力センサでは、ダイヤフラ
ム１６に比較的大きな圧力が作用しても、このダイヤフ
ラム１６が圧力基準室１７の四角錐台状の空洞１７ａの
上縁に全く接触せず、従ってダイヤフラム１６の動作範
囲を狭めることはない。

【００１１】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１及び図２に示すように、圧力セ
ンサ１１は光ファイバ１２の先端にこの先端面に対向す
るように設けられた光透過性のセンサ基板１３と、セン
サ基板１３の光ファイバ１２対向面と反対側の面に対向
し表面に光反射膜１４が形成されたダイヤフラム１６
と、センサ基板１３とダイヤフラム１６との間に気密的
に隔離された四角錐台状の空洞１７ａを有する圧力基準
室１７とを備える。センサ基板１３は光透過性、即ち赤
外線を透過可能なシリコンウェーハにより厚さ１０〜１
００μｍに形成され、このセンサ基板１３の下面には第
１酸化膜２１を介してファイバ支持部材１８が積層され
る。ファイバ支持部材１８はシリコンウェーハにより厚
さ２００〜５００μｍに形成され、この支持部材１８に
はセンサ基板１３の下面に臨みかつ光ファイバ１２の先
端を挿着可能なファイバ保持孔１８ａが形成される。

【００１２】センサ基板１３の上面には第２酸化膜２２
を介して単結晶シリコン層３１が積層され、この単結晶
シリコン層３１の表面には第３酸化膜２３が形成され
る。単結晶シリコン層３１はシリコンウェーハにより厚
さ２０〜５０μｍに形成され、圧力基準室１７の周壁を
なす。また第３酸化膜２３には光ファイバ１２の先端に
対向しかつ孔心が光ファイバ１２の軸線と一致する正方
形孔２３ａが形成される。圧力基準室１７は単結晶シリ
コン層３１のうち正方形孔２３ａから臨む部分に形成さ
れた四角錐台状の空洞１７ａと、この四角錐台状の空洞
１７ａの上面と第３酸化膜２３の内側上面に形成され上
記正方形孔２３ａより一回り大きい正方形状の扁平の空
洞１７ｂとを有する。また光反射膜１４はＡｕ−Ｃｒ，
Ａｇ，Ｐｔ等により形成される。

【００１３】本実施の形態の特徴ある構成は、ダイヤフ
ラム１６が外部からの圧力により変形不能な厚肉部２６
と、外部からの圧力により変形可能な円形状の薄肉部２
７とを有し、薄肉部２７の中心が光ファイバ１２の軸心
に一致しかつ薄肉部２７の直径が圧力基準室１７の四角
錐台状の空洞１７ａの上縁で形成される矩形の短辺以下
に形成されたところにある。具体的には、光反射膜１４
の表面に所定の厚さで補強部材１９が積層され、補強部
材１９に、孔心が光ファイバ１２の軸心に一致しかつ第
３酸化膜２３の正方形孔２３ａの１辺以下の直径を有す
る円形孔１９ａが形成される。これにより厚肉部２６が
ダイヤフラム１６と光反射膜１４と補強部材１９とを積
層して形成され、薄肉部２７がダイヤフラム１６と光反
射膜１４とを積層して形成される。上記補強部材１９は
多結晶シリコンにより形成されることが好ましい。また
図１及び図２の符号２４は補強部材１９の上面に形成さ
れた第４酸化膜である。

【００１４】このように構成された圧力センサの製造方
法を図１〜図８に基づいて説明する。先ずシリコンウェ
ーハにより形成されたファイバ支持部材１８と、シリコ
ンウェーハにより形成されたセンサ基板１３と、シリコ
ンウェーハにより形成された単結晶シリコン層３１と
を、ＳＯＩ貼合せ技術等の一般的な貼合せ技術によって
貼合せて３層の積層体３５を作製する（図２（ａ））。
この積層体３５の作製に際し、２０μｍや５０μｍとい
った厚さのウェーハは直接作ることが困難であるので、
一般に厚いウェーハを貼合せた後、研磨により所定の厚
さにする。また貼合せ面の一方又は双方に酸化膜２１，
２２を形成しておき、これらの膜２１，２２をエッチス
トップ層として利用することが好ましい。また単結晶シ
リコン層３１となる第３ウェーハ４３はその表面の結晶
面が（１００）面となるように切出される。なお、図２
〜図８では１辺の長さが２００〜２５０μｍと極めて小
さい１つの圧力センサの製造方法を示しているが、上記
ファイバ支持部材１８、センサ基板１３及び単結晶シリ
コン層３１は例えば直径４インチのウェーハから切出さ
れたものであり、上記圧力センサ単体と比較して極めて
大きいものである。

【００１５】上記積層体３５の表面に第３酸化膜２３を
成膜した後、フォトリソグラフィによりパターニングし
て第３酸化膜２３の周縁部分を残し圧力基準室１７の一
部となる中心部分を除去して正方形孔２３ａを形成する
（図２（ｂ）及び図３）。表面に第３酸化膜２３が形成
された積層体３５の表面にＣＶＤ法により多結晶シリコ
ンを成膜した後、フォトリソグラフィによりパターニン
グして上記多結晶シリコンの中心部分を残し周縁部分を
除去して、上記正方形孔２３ａより一回り大きな正方形
状の犠牲層３２を形成する（図２（ｃ）及び図４）。こ
の犠牲層３２により正方形孔２３ａ（図２（ｂ）及び図
３）及びこの孔２３ａ周縁の第３酸化膜２３上面が覆わ
れる。また単結晶シリコン層３１及び犠牲層３２の合計
の厚さが圧力基準室１７の高さとなる。

【００１６】表面に第３酸化膜２３が形成された積層体
３５の表面に、ＣＶＤ法にて窒化ケイ素（Ｓｉ₃Ｎ₄）を
成膜することにより、ダイヤフラム１６を形成する（図
２（ｄ））。このダイヤフラム１６の厚さは圧力感知部
としての特性を考慮して決定されるが、一般に０．１〜
０．３μｍ程度の厚さにすることが好ましい。なお、ダ
イヤフラムは窒化ケイ素膜に限るものではなく、可撓性
及び弾性を有する膜を形成できれば、ＣＶＤ法等で堆積
できる酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）膜等を用いてもよい。

【００１７】次いでフォトリソグラフィによりダイヤフ
ラム１６の上面のうち犠牲層３２と第３酸化膜２３とが
重なっている部分に、犠牲層３２と外部とを連通する４
つの小孔１６ａをエッチングにより穿設し（図２（ｅ）
及び図５）、この積層体３５を水酸化カリウム水溶液等
のエッチング剤に浸漬する。これにより犠牲層３２と単
結晶シリコン層３１とが小孔１６ａを介してエッチング
され、圧力基準室１７が形成される。この場合、単結晶
シリコン層３１として表面の結晶面が（１００）面であ
るシリコンウェーハを用い、また第２酸化膜２２がエッ
チストップ層として機能するので、単結晶シリコン層３
１は第３酸化膜２３の正方形孔２３ａ（図２（ｂ）及び
図３）により制御されて四角錐台状の空洞１７ａにエッ
チングされる。この空洞１７ａの４つの側面は単結晶シ
リコン層３１の上面と５４．７度の角度をなす（１１
１）面となる。このようにして形成された圧力基準室１
７の高さ（四角錐台状の空洞１７ａの高さと扁平の空洞
１７ｂの高さを加算したもの、即ちダイヤフラム１６の
下面と第２酸化膜２２との間隔）は非常に高精度で設定
できる。なお、この実施の形態では、センサ基板の表面
に第２酸化膜を形成しこの酸化膜をエッチストップ層と
したが、予めセンサ基板の表面にボロンを注入した層を
形成しこの層をエッチストップ層としてもよい。

【００１８】次にファイバ支持部材１８に、例えばＳＦ
₆ガスを用いた低温異方性エッチングにより鉛直方向に
延びる光ファイバ１２を挿着可能なファイバ保持孔１８
ａを形成する（図２（ｅ））。この場合もセンサ基板１
３下面の第１酸化膜２１がエッチストップ層として機能
するので、光ファイバ１２の先端面とダイヤフラム１６
との間隔を非常に高精度で制御できる。この後、ダイヤ
フラム１６の上面に、赤外線に対して反射率が高いＡｕ
−Ｃｒ，Ａｇ，Ｐｔ等の金属を蒸着等の手段にて成膜す
ることにより、光反射膜１４を形成するとともに、ダイ
ヤフラム１６に形成された小孔１６ａを閉塞して圧力基
準室１７を密閉する（図２（ｆ））。この光反射膜１４
の厚さは１〜５μｍの範囲に形成することが好ましい。
なお、上記小孔は光反射膜ではなく、例えばプラズマＣ
ＶＤによるＳｉ₃Ｎ₄の成膜等の別の手段によって閉塞し
てもよく、この場合、閉塞した後に光反射膜が形成され
る。

【００１９】更に光反射膜１４の上面にＣＶＤ法により
多結晶シリコンを成膜して補強部材１９を形成する（図
２（ｇ）及び図５）。この補強部材１９は圧力が作用し
ても変形不能なダイヤフラム１６の厚肉部２６を構成す
るため、比較的厚く１０〜５０μｍに形成されることが
好ましい。上記補強部材１９の上面に第４酸化膜２４を
成膜した後、フォトリソグラフィによりパターニングし
て第４酸化膜２４の周縁部分を残し中心部分を除去し
て、中心部分に第３酸化膜２３の正方形孔２３ａ（図２
（ｂ）及び図３）の１辺以下の直径を有する円形孔２４
ａを形成し（図２（ｈ）及び図７）、更にドライエッチ
ングにより補強部材１９の中央に上記円形孔２４ａと略
同一孔径を有する円形孔１９ａを形成する（図２（ｉ）
及び図８）。これによりダイヤフラム１６は上面に補強
部材１９が積層された厚肉部２６と、円形孔１９ａから
臨む薄肉部２７とを有する（図１）。この積層体３５を
１辺が２００〜２５０μｍの正方形に切断することによ
り多数の圧力センサ１１が製造される。

【００２０】なお、この実施の形態では、センサ基板と
してシリコンウェーハを用いたが、ガラスウェーハを用
いてもよい。この場合、光源として可視光を使用でき、
第１ウェーハや第２ウェーハとの接合に陽極接合を用い
ることができ、更にエッチストップ層としても機能する
利点がある。

【００２１】このように製造された圧力センサ１１で
は、光ファイバ１２から赤外線を出射している状態で、
ダイヤフラム１６に外部から圧力が作用すると、ダイヤ
フラム１６が撓む。このときダイヤフラム１６の圧力に
より変形する部分、即ち薄肉部２７は円形であるため、
ダイヤフラム１６の撓み量は圧力に比例して変化する。
この結果、光反射膜１４で反射して光ファイバ１２に戻
る赤外線の強度は上記ダイヤフラム１６の撓み量に応じ
て小さくなる、即ちダイヤフラム１６の撓み量は光ファ
イバ１２に戻る赤外線の強度に正確に反映されるので、
この圧力センサ１１により上記外部の圧力を正確に測定
できる。またダイヤフラム１６に比較的大きな圧力が作
用しても、このダイヤフラム１６が第３酸化膜２３の正
方形孔２３ａ周縁に全く接触することがなく、従ってダ
イヤフラム１６の動作範囲を狭めることはない。

【００２２】なお、この実施の形態では、第３酸化膜に
正方形孔を形成したが、長方形孔でもよい。また、この
実施の形態では、補強部材に形成された円形孔の直径
を、圧力基準室の四角錐台の上縁で形成される正方形孔
の１辺以下としたが、円形孔の直径を上記正方形孔の対
角線未満としてもよい。この場合、この実施の形態のダ
イヤフラムよりは撓み量が制限されるが、従来の圧力セ
ンサよりは大きな撓み量を許容できる。

【００２３】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ダ
イヤフラムが外部からの圧力により変形不能な厚肉部
と、外部からの圧力により変形可能な円形状の薄肉部と
を有し、薄肉部の中心が光ファイバの軸心に一致しかつ
薄肉部の直径を圧力基準室の四角錐台状の空洞の上縁で
形成される矩形の対角線未満に形成したので、ダイヤフ
ラムの撓み量は圧力に比例して変化し、光反射膜で反射
して光ファイバに戻る光の強度はダイヤフラムの撓み量
に応じて小さくなる。この結果、ダイヤフラムの撓み量
は光ファイバに戻る赤外線の強度に正確に反映されるの
で、この圧力センサにより外部の圧力を正確に測定でき
る。またダイヤフラムに比較的大きな圧力が作用して
も、このダイヤフラムが圧力基準室の四角錐台状の空洞
の上縁に接触することは殆どなく、従ってダイヤフラム
の動作範囲を狭めることは殆どない。

【００２４】また光反射膜の表面に所定の厚さで補強部
材を積層し、この補強部材に、孔心が光ファイバの軸心
に一致しかつ圧力基準室の四角錐台状の空洞の上縁で形
成される矩形の対角線未満の直径を有する円形孔を形成
すれば、厚肉部がダイヤフラム及び光反射膜の他に比較
的厚く剛性を有する補強部材を積層することにより形成
されるので、ダイヤフラムに比較的大きな圧力が作用し
ても変形しない。また薄肉部は補強部材に上記円形孔を
形成することにより、ダイヤフラム及び光反射膜の積層
体となるので、ダイヤフラムに比較的大きな圧力が作用
するとその圧力に比例して変形するけれども、このとき
ダイヤフラムが圧力基準室の四角錐台状の空洞の上縁に
接触することは殆どない。更に薄肉部の直径が圧力基準
室の四角錐台状の空洞の上縁で形成される矩形の短辺以
下に形成すれば、ダイヤフラムに比較的大きな圧力が作
用しても、このダイヤフラムが圧力基準室の四角錐台状
の空洞の上縁に接触することは全くなく、従ってダイヤ
フラムの動作範囲を狭めることはない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明実施形態の圧力センサの縦断面図。

【図２】その圧力センサの製造工程を示す断面図。

【図３】図２（ｂ）の平面図。

【図４】図２（ｃ）の平面図。

【図５】図２（ｅ）の平面図。

【図６】図２（ｇ）の平面図。

【図７】図２（ｈ）の平面図。

【図８】図２（ｉ）の平面図。

【図９】円形ダイヤフラム及び正方形ダイヤフラムに印
加する圧力の変化に対するこれらのダイヤフラム中心の
撓み量の変化を示す図。

【図１０】従来例を示す圧力センサの平面図。

【図１１】図１０のＡ−Ａ線断面図。

【符号の説明】

１１圧力センサ１２光ファイバ１３センサ基板１４光反射膜１６ダイヤフラム１７圧力基準室１７ａ四角錐台状の空洞１９補強部材１９ａ円形孔２６厚肉部２７薄肉部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ファイバ(12)の先端に前記先端面に対
向するように設けられた光透過性のセンサ基板(13)と、
前記センサ基板(13)の光ファイバ(12)対向面と反対側の
面に対向し表面に光反射膜(14)が形成されたダイヤフラ
ム(16)と、前記センサ基板(13)と前記ダイヤフラム(16)
との間に気密的に隔離された四角錐台状の空洞(17a)を
有する圧力基準室(17)とを備え、前記光ファイバ(12)か
ら出射する光を受ける前記ダイヤフラム(16)が圧力によ
り変形することによって前記光ファイバ(16)に戻る光の
変化を圧力として検出する圧力センサ(11)において、前記ダイヤフラム(16)が外部からの圧力により変形不能
な厚肉部(26)と、外部からの圧力により変形可能な円形
状の薄肉部(27)とを有し、前記薄肉部(27)の中心が前記光ファイバ(12)の軸心に一
致しかつ前記薄肉部(27)の直径が前記圧力基準室(17)の
四角錐台状の空洞(17a)の上縁で形成される矩形の対角
線未満に形成されたことを特徴とする圧力センサ。
【請求項２】光反射膜(14)の表面に所定の厚さで補強
部材(19)が積層され、前記補強部材(19)に、孔心が前記光ファイバ(12)の軸心
に一致しかつ前記圧力基準室(17)の四角錐台状の空洞(1
7a)の上縁で形成される矩形の対角線未満の直径を有す
る円形孔(19a)が形成され、厚肉部(26)がダイヤフラム(16)と光反射膜(14)と前記補
強部材(19)とを積層して形成され、薄肉部(27)が前記ダイヤフラム(16)と光反射膜(14)とを
積層して形成された請求項１記載の圧力センサ。
【請求項３】薄肉部(27)の直径が圧力基準室(17)の四
角錐台状の空洞(17a)の上縁で形成される矩形の短辺以
下に形成された請求項１又は２記載の圧力センサ。