JPH1164600A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH1164600A JPH1164600A JP22942397A JP22942397A JPH1164600A JP H1164600 A JPH1164600 A JP H1164600A JP 22942397 A JP22942397 A JP 22942397A JP 22942397 A JP22942397 A JP 22942397A JP H1164600 A JPH1164600 A JP H1164600A
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- electron beam
- reflecting
- irradiated
- irradiation
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子銃の数を増やすことなく、コンパクト且
つ簡単な構成の装置により、照射物の側面や下面にも、
必要な電子線が照射されるようにする。 【解決手段】 照射物１０の側方や下方に、電子線２４
を反射する反射装置４０ａ、４０ｂを配設する。
つ簡単な構成の装置により、照射物の側面や下面にも、
必要な電子線が照射されるようにする。 【解決手段】 照射物１０の側方や下方に、電子線２４
を反射する反射装置４０ａ、４０ｂを配設する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線照射装置に
係り、特に、厚さを有する照射物の側面や下面にも、必
要な電子線を照射することが可能な電子線照射装置に関
する。
係り、特に、厚さを有する照射物の側面や下面にも、必
要な電子線を照射することが可能な電子線照射装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ポリエチレンの電子線架橋や、電子滅菌
から始まった電子照射は、適用分野の拡大と加速器の進
歩により、架橋、滅菌を初め、半導体の製造の工程や、
特殊な耐熱部材の製造等、広く用いられるようになって
いる。
から始まった電子照射は、適用分野の拡大と加速器の進
歩により、架橋、滅菌を初め、半導体の製造の工程や、
特殊な耐熱部材の製造等、広く用いられるようになって
いる。
【０００３】電子線は、一般に一直線に進行するため、
厚さを有する照射物の場合、電子線の進行方向とある角
度以内の面は十分に照射されるが、それ以上の角度にな
ると照射量が減少していき、ある角度以上になると、全
く照射されなくなる。
厚さを有する照射物の場合、電子線の進行方向とある角
度以内の面は十分に照射されるが、それ以上の角度にな
ると照射量が減少していき、ある角度以上になると、全
く照射されなくなる。
【０００４】従って、従来は、必要とされる照射面に応
じて、電子銃の数を増やすことが行われている。図７で
は、電子線照射装置２０内に配置された照射物１０の両
側面１０ａ、１０ｂに十分な電子線２４を照射するべ
く、２台の電子銃２２が使用されている。
じて、電子銃の数を増やすことが行われている。図７で
は、電子線照射装置２０内に配置された照射物１０の両
側面１０ａ、１０ｂに十分な電子線２４を照射するべ
く、２台の電子銃２２が使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、照射物
１０の断面形状が複雑であったり、あるいは、下面１０
ｌを含む全面照射が必要な場合には、例えば照射物１０
の上方だけでなく、下方にも更に２台以上追加して、合
計４台以上電子銃を用いる必要があり、電子線照射装置
２０の寸法が大型化したり、コストが高くなるという問
題点を有していた。
１０の断面形状が複雑であったり、あるいは、下面１０
ｌを含む全面照射が必要な場合には、例えば照射物１０
の上方だけでなく、下方にも更に２台以上追加して、合
計４台以上電子銃を用いる必要があり、電子線照射装置
２０の寸法が大型化したり、コストが高くなるという問
題点を有していた。
【０００６】一方、図８に示す如く、多方向からの照射
ができるように改良した電子銃２６を用いて、電子線２
４を照射物１０を囲む多方向から照射することも、原理
的には考えられるが、電子銃２６の内部構造が非常に複
雑となり、実用化が困難であるだけでなく、下面照射が
必要な場合には、このような多方向照射型の電子銃であ
っても、照射物１０の下方にもう１台設ける必要があ
り、合計２台必要となって、電子線照射装置２０が大型
化するだけでなく、コストが高くなるという問題点を有
していた。
ができるように改良した電子銃２６を用いて、電子線２
４を照射物１０を囲む多方向から照射することも、原理
的には考えられるが、電子銃２６の内部構造が非常に複
雑となり、実用化が困難であるだけでなく、下面照射が
必要な場合には、このような多方向照射型の電子銃であ
っても、照射物１０の下方にもう１台設ける必要があ
り、合計２台必要となって、電子線照射装置２０が大型
化するだけでなく、コストが高くなるという問題点を有
していた。
【０００７】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、電子銃の数を増やすことなく、コン
パクト且つ簡単な構成の装置で、照射物の側面や下面を
照射できるようにすることを課題とする。
くなされたもので、電子銃の数を増やすことなく、コン
パクト且つ簡単な構成の装置で、照射物の側面や下面を
照射できるようにすることを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、照射物に電子
線を照射するための電子線照射装置において、照射物の
側方や下方に、電子線を反射する反射手段を配設し、照
射物の側面や下面にも、必要な電子線が照射されるよう
にして、前記課題を解決したものである。
線を照射するための電子線照射装置において、照射物の
側方や下方に、電子線を反射する反射手段を配設し、照
射物の側面や下面にも、必要な電子線が照射されるよう
にして、前記課題を解決したものである。
【０００９】更に、前記反射手段に冷却手段を配設した
ものである。
ものである。
【００１０】又、前記照射物に対する反射手段の距離や
角度を調整する手段を設けたものである。
角度を調整する手段を設けたものである。
【００１１】又、前記反射手段の反射面の形状を変更す
る手段を設けたものである。
る手段を設けたものである。
【００１２】一般に鉛やタングステン等の高Ｚ材料は、
電子線をよく反射する材料として知られている。本発明
は、この特性を電子線照射技術に適用し、照射物の側面
や下面を照射する。即ち、電子銃から出た電子線は、反
射材料の表面にあたり、そこで一部が反射する。そし
て、反射した電子線の一部が照射物にあたる。これによ
り、照射物の側面や下面を照射できる。
電子線をよく反射する材料として知られている。本発明
は、この特性を電子線照射技術に適用し、照射物の側面
や下面を照射する。即ち、電子銃から出た電子線は、反
射材料の表面にあたり、そこで一部が反射する。そし
て、反射した電子線の一部が照射物にあたる。これによ
り、照射物の側面や下面を照射できる。
【００１３】図１に示すような配置関係にある逆台形形
状の照射物１０に対して、上面１０ｕが、上方から照射
される電子線２４の進行方向に対して垂直になるように
照射物１０を設置し、鉛直方向の右側面１０ａ、及び、
水平面に対して約６０°傾いた下向きの左側面１０ｂそ
れぞれの下方に、断面形状が略直角３角形状の反射ブロ
ック３０ａ、３０ｂを配置して、それぞれの反射面３０
ｓの水平面に対する角度θを変えていったときの、上面
１０ｕの照射量に対する、それぞれの面１０ａ、１０ｂ
の照射量の比を測定した結果を図２に実線Ａ（右側面１
０ａ）及び破線Ｂ（左側面１０ｂ）で示す。
状の照射物１０に対して、上面１０ｕが、上方から照射
される電子線２４の進行方向に対して垂直になるように
照射物１０を設置し、鉛直方向の右側面１０ａ、及び、
水平面に対して約６０°傾いた下向きの左側面１０ｂそ
れぞれの下方に、断面形状が略直角３角形状の反射ブロ
ック３０ａ、３０ｂを配置して、それぞれの反射面３０
ｓの水平面に対する角度θを変えていったときの、上面
１０ｕの照射量に対する、それぞれの面１０ａ、１０ｂ
の照射量の比を測定した結果を図２に実線Ａ（右側面１
０ａ）及び破線Ｂ（左側面１０ｂ）で示す。
【００１４】図１において、照射物１０のサイズは、上
面１０ｕの幅が３０ｍｍ、厚さが２０ｍｍ、図の左方の
下向き側面１０ｂの水平面に対する傾斜角θはほぼ６０
°であり、電子線２４の幅は１００ｍｍである。又、前
期反射ブロック30ａ、30ｂは、その下面３０ｌの長さが
３０ｍｍで、その先端間の間隔を２０ｍｍ、該反射ブロ
ック３０ａ、３０ｂの下面３０ｌの前記照射物１０の下
面１０ｌからの距離を８ｍｍとして、向かい合うように
配置した。
面１０ｕの幅が３０ｍｍ、厚さが２０ｍｍ、図の左方の
下向き側面１０ｂの水平面に対する傾斜角θはほぼ６０
°であり、電子線２４の幅は１００ｍｍである。又、前
期反射ブロック30ａ、30ｂは、その下面３０ｌの長さが
３０ｍｍで、その先端間の間隔を２０ｍｍ、該反射ブロ
ック３０ａ、３０ｂの下面３０ｌの前記照射物１０の下
面１０ｌからの距離を８ｍｍとして、向かい合うように
配置した。
【００１５】図２において、横軸は、反射面３０ｓが水
平面に対してなす角度θの正接（ｔａｎ）であり、左端
のtan θ＝０が反射ブロック３０ａ、３０ｂが存在しな
い場合である。
平面に対してなす角度θの正接（ｔａｎ）であり、左端
のtan θ＝０が反射ブロック３０ａ、３０ｂが存在しな
い場合である。
【００１６】図２より、照射物のそれぞれの面には、反
射面の最適な角度があり、特に右側面１０ａのtan θ＝
０．５付近では、上面１０ｕに近い照射量が得られてい
ることが分かる。
射面の最適な角度があり、特に右側面１０ａのtan θ＝
０．５付近では、上面１０ｕに近い照射量が得られてい
ることが分かる。
【００１７】本発明は、このような実験結果に基づいて
なされたものである。
なされたものである。
【００１８】
【発明の実施形態】以下図面を参照して、本発明の実施
形態を詳細に説明する。
形態を詳細に説明する。
【００１９】本発明の第１実施形態は、図３に示す如
く、電子線照射装置２０内に配置された照射物１０に対
して、その上方から電子銃２２により電子線２４を照射
する際に、該照射物１０の斜め下方に１対の反射装置４
０ａ、４０ｂを設けたものである。
く、電子線照射装置２０内に配置された照射物１０に対
して、その上方から電子銃２２により電子線２４を照射
する際に、該照射物１０の斜め下方に１対の反射装置４
０ａ、４０ｂを設けたものである。
【００２０】前記反射装置４０ａ、４０ｂを構成する反
射ブロック４２の裏面には、図４に詳細に示す如く、冷
却パイプ４４が配置され、電子線照射によって生じる温
度上昇による変形が防止されている。
射ブロック４２の裏面には、図４に詳細に示す如く、冷
却パイプ４４が配置され、電子線照射によって生じる温
度上昇による変形が防止されている。
【００２１】又、前記反射ブロック４２には、その左右
方向（矢印Ｃ方向）位置を調整するための位置調整機構
４６、及び、角度を矢印Ｄ方向に調整するための角度調
整機構４８が設けられており、照射物１０の形状、大き
さや電子線の照射エネルギに応じて、最適な位置や角度
に調整できるようにされている。
方向（矢印Ｃ方向）位置を調整するための位置調整機構
４６、及び、角度を矢印Ｄ方向に調整するための角度調
整機構４８が設けられており、照射物１０の形状、大き
さや電子線の照射エネルギに応じて、最適な位置や角度
に調整できるようにされている。
【００２２】なお、第１実施形態では、反射面の形状が
連続した凹面とされていたが、凸面や単一の平面とした
り、あるいは、図５に示す第２実施形態のように、反射
手段を２つの平面状反射板５０ａ、５０ｂに分け、その
間をヒンジ５２でつなぎ、該ヒンジ５２の位置を位置調
節機構５４で矢印Ｅ方向に変えることによって、照射物
１０の形状に応じて反射面の形状を変更可能とすること
もできる。
連続した凹面とされていたが、凸面や単一の平面とした
り、あるいは、図５に示す第２実施形態のように、反射
手段を２つの平面状反射板５０ａ、５０ｂに分け、その
間をヒンジ５２でつなぎ、該ヒンジ５２の位置を位置調
節機構５４で矢印Ｅ方向に変えることによって、照射物
１０の形状に応じて反射面の形状を変更可能とすること
もできる。
【００２３】この第２実施形態によれば、照射物の形状
変化に対する適応性が、特に高い。
変化に対する適応性が、特に高い。
【００２４】なお、前記反射板５０ａ、５０ｂの表面形
状は平面でなく、凹面や凸面等の曲面とすることも可能
である。
状は平面でなく、凹面や凸面等の曲面とすることも可能
である。
【００２５】又、前記実施形態においては、いずれも、
冷却パイプ４４が反射ブロック４２や反射板５０ａ、５
０ｂの裏面に配設されていたが、冷却手段は、これに限
定されず、図６に示す第３実施形態のように、例えば反
射ブロック４２内に冷却孔６０を形成して、その中に水
を通しても良い。又、温度上昇が問題にならない時は、
冷却手段を省略しても良い。
冷却パイプ４４が反射ブロック４２や反射板５０ａ、５
０ｂの裏面に配設されていたが、冷却手段は、これに限
定されず、図６に示す第３実施形態のように、例えば反
射ブロック４２内に冷却孔６０を形成して、その中に水
を通しても良い。又、温度上昇が問題にならない時は、
冷却手段を省略しても良い。
【００２６】前記反射ブロック４２や反射板５０ａ、５
０ｂの材質としては、鉛やタングステンが好適である
が、反射手段の材質はこれに限定されない。
０ｂの材質としては、鉛やタングステンが好適である
が、反射手段の材質はこれに限定されない。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、電子銃の数を増やすこ
となく、コンパクト且つ簡単な装置を用いて、照射物の
側面や下面にも、必要な電子線を照射することが可能と
なる。
となく、コンパクト且つ簡単な装置を用いて、照射物の
側面や下面にも、必要な電子線を照射することが可能と
なる。
【図１】本発明の原理を説明するための、発明者等の実
験における配置を示す断面図
験における配置を示す断面図
【図２】図１による実験結果を示す線図
【図３】本発明の第１実施形態の全体構成を示す断面図
【図４】第１実施形態の詳細構成を示す拡大断面図
【図５】本発明の第２実施形態で用いられる反射装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図６】同じく第３実施形態で用いられる反射装置の構
成を示す断面図
成を示す断面図
【図７】側面照射を行うための従来の電子線照射装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図８】多方向から照射を行うための、考えられる電子
線照射装置の構成を示す断面図
線照射装置の構成を示す断面図
１０…照射物 １０ａ、１０ｂ…側面 １０ｌ…下面 １０ｕ…上面 ２０…電子線照射装置 ２２…電子銃 ２４…電子線 ３０ａ、３０ｂ、４２…反射ブロック ４０ａ、４０ｂ…反射装置 ４４…冷却パイプ ４６、５４…位置調整機構 ４８…角度調整機構 ５０ａ、５０ｂ…反射板 ５２…ヒンジ ６０…冷却孔
Claims (4)
- 【請求項１】照射物に電子線を照射するための電子線照
射装置において、 照射物の側方や下方に、電子線を反射する反射手段を配
設し、 照射物の側面や下面にも、必要な電子線が照射されるよ
うにしたことを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記反射手段に冷却手
段が配設されていることを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項３】請求項１において、前記照射物に対する反
射手段の距離や角度を調整する手段が設けられているこ
とを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項４】請求項１において、前記反射手段の反射面
の形状を変更する手段が設けられていることを特徴とす
る電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22942397A JP3268741B2 (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22942397A JP3268741B2 (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1164600A true JPH1164600A (ja) | 1999-03-05 |
| JP3268741B2 JP3268741B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=16892001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22942397A Expired - Fee Related JP3268741B2 (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3268741B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006190654A (ja) * | 2005-01-08 | 2006-07-20 | Samsung Sdi Co Ltd | 電子シャワー処理された正孔注入層を備える有機電界発光素子及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-08-26 JP JP22942397A patent/JP3268741B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006190654A (ja) * | 2005-01-08 | 2006-07-20 | Samsung Sdi Co Ltd | 電子シャワー処理された正孔注入層を備える有機電界発光素子及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3268741B2 (ja) | 2002-03-25 |
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Legal Events
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