JPH1158977A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPH1158977A
JPH1158977A JP9243461A JP24346197A JPH1158977A JP H1158977 A JPH1158977 A JP H1158977A JP 9243461 A JP9243461 A JP 9243461A JP 24346197 A JP24346197 A JP 24346197A JP H1158977 A JPH1158977 A JP H1158977A
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JP
Japan
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recording
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formula
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Withdrawn
Application number
JP9243461A
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English (en)
Inventor
Emiko Kanbe
江美子 神戸
Atsushi Kadota
敦志 門田
Masahiro Shinkai
正博 新海
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリカーボネート基板を侵さない塗布溶剤に
十分な溶解性をもち、680nm以下の波長光で優れた記
録再生特性を有するヒートモード方式の光記録媒体を提
供する。 【解決手段】 記録および/または再生光の波長が68
0nm以下であり、記録層と反射層とを有する光記録媒体
において、記録層に下記式(I)で表されるローダミン
色素を含有させる。 【化16】 [式(I)において、R1は水素原子、または炭素数1
〜4のアルキル基を表す。R2〜R7は、互いに独立に水
素原子、または炭素数1〜4のアルキル基もしくはアル
コキシ基を表す。X-は対アニオンを表す。]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射層を有し、好
ましくはレーザーを照射することによりピットを形成す
る光記録媒体に関する。特に、記録再生波長が600〜
680nmの光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】現在実用化されている光記録媒体の記録
方法は、照射レーザー光を熱源として記録層に蒸発・分
解等を生じ光学的に検出可能な凹状のピット形成をする
ヒートモード記録方法である。
【0003】一方、まだ問題点が多く実用化されていな
い他記録方法として、各種蛍光体を有する記録層に光を
照射し、物理的・化学的な変化を与え記録し、再生時に
記録層からの発光を検出することを特徴とするフォトン
モード記録方法が、特開平2−308439号や特開平
8−6204号に提案されている。
【0004】従来、ヒートモードの光記録媒体の有機色
素系記録層としては、その一つとしてシアニン色素が挙
げられるが、光劣化が著しく安定性に乏しい。また、そ
の他に、アゾ色素が挙げられるが、耐光性が高いもの
の、反射率が低いなどの問題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
カーボネート基板を侵さない塗布溶剤に十分な溶解性を
もち、680nm以下の波長光で良好なジッターを示すな
ど、優れた記録再生特性を有する光記録媒体を提供する
ことである。さらには耐光性に優れた光記録媒体を提供
することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(3)によって達成される。 (1) 記録および/または再生光の波長が680nm以
下であり、基板上に色素を含有する記録層を有し、この
記録層上に反射層を有し、光を照射することによってピ
ットを形成して記録を行う光記録媒体において、前記記
録層が、下記式(I)で表される色素を含有することを
特徴とする光記録媒体。
【0007】
【化2】
【0008】[式(I)において、R1は水素原子、ま
たは炭素数1〜4のアルキル基を表す。R2、R3
4、R5、R6およびR7は、互いに独立に水素原子、ま
たは炭素数1〜4のアルキル基もしくはアルコキシ基を
表す。X-は対アニオンを表す。] (2) 式(I)中のX-で表される対アニオンが有機
金属錯体のアニオンである上記(1)の光記録媒体。 (3) 記録層が、さらに有機金属錯体の色素を含有す
る上記(1)または(2)の光記録媒体。
【0009】なお、特開平2−308439号、特開平
8−6204号には、本発明の式(I)で表される色素
に包含されるローダミン6G、ローダミンB等を記録層
に含有させた光記録媒体が開示されている。しかし、こ
こに示される光記録媒体は、記録層からの蛍光発光の有
無を検出して情報の記録再生を行うフォトンモードを利
用した光記録媒体であり、本発明のヒートモードを利用
した記録を行い再生時にはその反射率の差を検出する光
記録媒体とは明らかに異なるものである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光記録媒体は、記録および/または再生
光の波長が680nm以下であり、記録層上に反射層を有
し、光の照射によってピットと称される小穴を形成して
記録を行うヒートモード方式のものであり、記録層は式
(I)で表されるローダミン色素を含有する。
【0011】式(I)について説明すると、R1は水素
原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、R2〜R7
は各々水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、または炭
素数1〜4のアルコキシ基を表し、X-は対アニオンを
表す。
【0012】R1〜R7で表される炭素数1〜4のアルキ
ル基としては、直鎖状であっても分岐を有していてもよ
く、具体的にはメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブ
チルが挙げられる。また置換基を有していてもよく、こ
のような置換基としてはメトキシ、エトキシ等のアルコ
キシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ヒド
ロキシオキシ(ヒドロペルオキシ)基、ハロゲン原子等
が挙げられる。置換基を有する場合も炭素数は1〜4で
あることが好ましい。
【0013】R2〜R7で表される炭素数1〜4のアルコ
キシ基としては、そのアルキル部分が直鎖状のものであ
っても分岐を有するものであってもよく、具体的にはメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ等が
挙げられる。無置換のものが好ましいが、さらに置換基
を有するものであってもよい。置換基を有する場合も炭
素数は1〜4であることが好ましい。
【0014】R1としては水素原子、無置換のアルキル
基(メチル、エチル等)が好ましい。
【0015】R2、R7としては水素原子、無置換のアル
キル基(メチル、エチル等)、無置換のアルコキシ基
(メトキシ、エトキシ等)が好ましい。
【0016】R3〜R6としては、水素原子、アルキル基
(メチル、エチル、プロピル、ブチル、エトキシエチル
等)が好ましく、R3とR4のうちの少なくとも一方、R
5とR6のうちの少なくとも一方はアルキル基であること
が好ましい。
【0017】X-で表される対アニオンとして、具体的
にはハロゲン化物イオン(Cl- 、Br- 、I- 等)、
ClO4 -、BF4 -、PF6 -、VO3 -、VO4 3- 、WO4
2- 、CH3 SO3 -、CF3 COO- 、CH3 COO
- 、HSO4 -、CF3 SO3 -、PO4 ・12WO3 3-
パラトルエンスルホン酸イオン(PTS- )、p−三フ
ッ化メチルフェニルスルホン酸イオン(PFS- )等が
挙げられる。なかでも、Cl-、Br-、ClO4 -、BF
4 -等が好ましい。
【0018】また、有機金属錯体のアニオン(陰イオ
ン)が好ましいものとして挙げられる。このような有機
金属錯体としては、金属錯体クエンチャーとして知られ
ているものがある。具体的には、アセチルアセトナート
系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニレンジチ
オール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、
サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート
系等の金属錯体の陰イオンが挙げられる。なかでも、ビ
スフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオンが好ま
しい。ビスフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオ
ンとしては下記式(A)で示されるものが好ましい。
【0019】
【化3】
【0020】式(A)において、Mは中心金属を表わ
し、中心金属としてはNi、Cu、Co、Pd、Pt等
が挙げられ、Ni、Cu等が好ましい。Rはアルキル
基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基またはハロゲ
ン原子を表す。nは1〜4の整数である。
【0021】Rで表されるアルキル基としては直鎖状で
あっても分岐を有していてもよく、炭素数1〜4のもの
が好ましく、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル等が挙げられる。アルコキシ基としては炭素数1〜4
のものが好ましく、メトキシ、エトキシ等が挙げられ
る。アルキル置換アミノ基としては炭素数1〜4のアル
キル基が置換したものが好ましく、ジ−置換体が好まし
く、ジブチルアミノ等が挙げられる。ハロゲン原子とし
てはCl等が挙げられる。
【0022】nは1〜4の整数であるが、特に1〜3の
整数であることが好ましい。
【0023】式(A)で示される陰イオンの具体例を以
下に示すが、本発明はこれに限定されるものでない。こ
こでは、式(A−a)等の表示に従い、M、R01等の組
合せで示している。
【0024】
【化4】
【0025】また、フェニルアゾフェニル金属錯体の陰
イオンが挙げられ、下記式(B−I)で示されるアゾ化
合物と金属との金属錯体の陰イオンが好ましい。なお、
式(B−I)のアゾ化合物を配位子とする金属錯体はク
エンチャー機能を有するものである。
【0026】 Q1−N=N−Q2 (B−I)
【0027】式(B−I)において、Q1およびQ2は各
々活性水素を有する基をジアゾ基の隣接位にもつ芳香環
基を表す。
【0028】式(B−I)について、さらに詳細に説明
すると、Q1、Q2で表される活性水素を有する基をもつ
芳香環基における芳香環としては、炭素環であっても複
素環であってもよく、単環であっても、縮合多環や環集
合の多環であってもよい。このような芳香環としては、
ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキ
サゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン
環、ピロール環などが挙げられ、なかでもベンゼン環、
ナフタレン環、ピロール環が好ましく、特にはベンゼン
環が好ましい。
【0029】Q1、Q2の組合せとしては、ベンゼン環同
士、ベンゼン環とナフタレン環、ベンゼン環とピロール
環等の組合せが好ましく、なかでもベンゼン環同士の組
合せが好ましい。
【0030】Q1、Q2における活性水素を有する基の芳
香環における結合位置は、ジアゾ基の隣接位であり、活
性水素を有する基としては、−OH、−SH、−NH
2 、−COOH、−CONH2 、−SO2 NH2 、−S
3 H等が挙げられ、特に−OHが好ましい。
【0031】また、Q1、Q2で表される芳香環は、アゾ
基、活性水素を有する基のほかに、さらに置換基を有し
ていてもよく、置換基として具体的にはニトロ基、ハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、カルボキシ
ル基、スルホ基、スルファモイル基(好ましくは炭素数
0〜4で、例えばスルファモイル、メチルスルファモイ
ル等)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4で、例え
ばメチル等)、アミノ基等が挙げられる。
【0032】Q1、Q2がベンゼン環同士の組合せである
とき、一方のベンゼン環は、ニトロ基、ハロゲン原子
(好ましくは塩素原子、臭素原子)を置換基として有す
ることが好ましく、特にはニトロ基が好ましい。このよ
うなニトロ基、ハロゲン原子はジアゾ基のメタ位あるい
はパラ位に存在することが好ましく、特にはメタ位のも
のが好ましい。置換基は2個以上存在していてもよく、
このような場合の置換基は同一でも異なるものであって
もよい。また、他方のベンゼン環は、アミノ基を置換基
として有することが好ましく、アミノ基としては、無置
換のアミノ基であってもよいが、特にジアルキルアミノ
基が好ましく、このようなジアルキルアミノ基の総炭素
数は2〜8であることが好ましく、例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルプロ
ピルアミノ、ジブチルアミノ、ヒドロキシエチルメチル
アミノ等が挙げられる。このようなアミノ基の置換位置
はジアゾ基のパラ位であることが好ましい。
【0033】式(B−I)のアゾ化合物を配位子とする
金属錯体の中心金属は形成される金属錯体が対イオンを
もたない状態で陰イオンとなるようなものであればよ
い。中心金属はCo、バナジル(V=O)等であり、こ
のような中心金属と、アゾ化合物配位子(リガンド):
金属2:1の錯体を形成する。この場合の配位子は同一
でも異なるものであってもよい。
【0034】なお、式(B−I)中の活性水素を有する
基は酸アニオン(活性水素を有する基が−OHのときは
−O-)の形で中心金属に配位する。
【0035】以下に式(B−I)で表される陰イオンの
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。ここではアゾ化合物と中心金属の組合せで示して
おり、リガンド:金属=2:1である。なお、具体例の
ものはいずれも1価の陰イオンであり、中心金属が2種
のものは、各金属を中心金属とする金属錯体の陰イオン
の混合体である。また具体例中のMe、Et、Buは各
々メチル、エチル、ブチルを示す。
【0036】
【化5】
【0037】
【化6】
【0038】
【化7】
【0039】
【化8】
【0040】
【化9】
【0041】陰イオンとしては、特に有機金属錯体の陰
イオンが好ましい。
【0042】これらの有機金属錯体の陰イオンのなかで
も、特にフェニルアゾフェニル錯体の陰イオンが光記録
媒体の特性上必要な光学定数を得る上で好ましい。
【0043】以下に、本発明に用いられる一般式(I)
のローダミン色素を示すが、本発明はこれらに限定され
るものでなない。ここでは、式(I)の表示に従って示
し、X-が有機金属錯体の陰イオンであるとき、先に例
示した表示に従って示している。なお、Me、Et、P
r、Buは各々メチル、エチル、プロピル、ブチルを示
す。
【0044】
【化10】
【0045】一般式(I)のローダミン色素は市販され
ているものもあり、また公知の方法によって合成するこ
とができる。
【0046】また、有機金属錯体の陰イオンをもつアゾ
色素を得るには、ClO4 -塩やBF4 -塩を合成したの
ち、目的とする有機金属錯体の陰イオンに応じ、有機金
属錯体の塩を用いて、公知の方法に従って陰イオンを交
換すればよい。
【0047】本発明のローダミン色素の融点(mp)は
220〜350℃であり、λmax(50nm厚の色素薄
膜で測定)は500〜610nmの範囲にある。
【0048】また、635nmまたは650nmの波長にお
ける複素屈折率の実部(n)は2.0〜2.50であ
り、虚部(k)は0.03〜0.10である。
【0049】なお、色素のnおよびkは、所定の透明基
板上に色素膜を光記録媒体の記録層程度の厚さ、例えば
40〜100nm程度の厚さに記録層と同条件で設層し
て、測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サン
プルの635nmまたは650nmにおける反射率および透
過率を測定し、これらの測定値から、例えば、共立全書
「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、算出したも
のである。反射率は測定用サンプルの基板を通しての反
射率あるいは色素膜側からの反射率であり、鏡面反射
(5°程度)にて測定したものである。
【0050】本発明のローダミン色素は、記録層用の色
素として、1種のみを用いても2種以上を併用してもよ
い。
【0051】これらの色素は、耐光性に優れ、有機溶媒
に対する溶解性が十分であり、光記録媒体の基板材料と
して汎用されているポリカーボネート樹脂(PC)を侵
すことがない塗布溶媒に対する溶解度が大きくなる。
【0052】これらの色素を用いた記録層は、特に追記
型の光記録ディスク(DVD−R)に用いることが好ま
しい。このような記録層は、色素含有塗布液を用いて設
層することができ、特に、回転する基板上に塗布液を展
開塗布するスピンコート法によることが好ましい。この
ほか、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピングな
どによってもよい。
【0053】上記のようなスピンコートの後、必要に応
じて塗膜を乾燥させる。このようにして形成される記録
層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定さ
れるものであるが、通常、500〜3000Aである。
【0054】なお、塗布液における色素含有量は、通常
0.05〜10wt% とするのがよい。本発明のアゾ色素
は溶解性が良好であるので、このような含有量の塗布液
を容易に調製することが容易である。具体的に言えば、
本発明のアゾ色素は、主に極性溶媒に良好な溶解性を示
し、アルコールやセロソルブ系ないしアルコキシアルコ
ール系、ジアセトンアルコールなどのケトアルコール、
シクロヘキサンなどのケトン、2,2,3,3−テトラ
フルオロプロパノールなどのフッ素化アルコールなどに
0.5〜10wt% 溶解する。特にポリカーボネート製デ
ィスク基板に塗布する際に好適な塗布溶媒である、エチ
ルセロソルブや2,2,3,3−テトラフルオロプロパ
ノールに1wt% 以上溶解し、短時間に良質なスピンコー
ト膜を成膜することが可能である。
【0055】また、塗布液には適宜バインダー、分散
剤、安定剤などを含有させてもよい。
【0056】本発明の光記録媒体の記録層には本発明の
色素のほか、他の種類の光吸収色素を含有させてもよ
い。このような色素としては、シアニン系色素、上記と
は別種の金属錯体色素、スチリル系色素、ポリフィリン
系色素、上記とは別種のアゾ色素、ホルマザン金属錯体
などが挙げられる。このような場合には、塗布液中にこ
のような色素を含有させて記録層を設層すればよい。
【0057】このような色素として、好ましくは、前記
の対アニオンとなる有機金属錯体の陰イオンの塩が挙げ
られる。式(A)の陰イオンの塩についていえば、塩を
形成する際の対カチオンとしては、例えばテトラブチル
アンモニウムイオン等のアンモニウムイオン、Na+
+等のアルカリ金属イオンなどが好ましい。
【0058】このような式(A)の塩である有機金属錯
体の具体例を以下に示す。
【0059】
【化11】
【0060】また、式(B−I)のアゾ化合物を配位子
とする金属錯体の陰イオンの塩が挙げられ、この場合の
対カチオンとしては、Na+ 、Li+ 、K+ 等の無機系
陽イオン、R11121314+ (ここで、R
11 、R12 、R13 およびR14 は各々水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基等を表す)で表されるアンモニウム
イオン、R111213+ −(CH2k −N+
131211 (ここで、R11 、R12 およびR13 は各
々水素原子、アルキル基、アルコキシ基等を表し、kは
5〜10である)などがある。
【0061】このような式(B−I)の塩である有機金
属錯体の具体例を以下に示す。
【0062】
【化12】
【0063】さらに式(B−I)と類似の式(B−II)
で示されるアゾ化合物を配位子とする金属錯体も好まし
い。
【0064】 Q3−N=N−Q4 (B−II)
【0065】式(B−II)において、Q3は活性水素を
有する基をジアゾ基の隣接位にもつ芳香環基を表し、Q
4は金属原子に配位可能なNを環中のジアゾ基の結合す
る炭素原子の隣接位に有する含窒素複素芳香環基を表
す。
【0066】式(B−II)について、さらに詳細に説明
すると、Q3で表される活性水素を有する基をもつ芳香
環基は、式(B−I)中のQ1、Q2と同義のものであ
る。
【0067】Q4で表される金属原子に配位可能なNを
環中に有する含窒素複素芳香環基における含窒素複素芳
香環としては、単環であっても縮合多環であってもよ
い。このような含窒素複素芳香環の具体例としてはピリ
ジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾ
ール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾ
ール環、ピラジン環、ピロール環などが挙げられ、なか
でもピリジン環、キノリン環、チアゾール環が好まし
い。また、環中におけるNの存在位置はアゾ基が結合す
る炭素原子の隣接位である。これらはQ1、Q2と同様に
置換基を有していてもよい。
【0068】Q3、Q4の組合せとしては、ベンゼン環と
ピリジン環、ベンゼン環とチアゾール環、ベンゼン環と
キノリン環、等の組合せが好ましい。
【0069】これらの金属錯体における中心金属はC
o、バナジル、Ni、Cu等が好ましい。
【0070】これらの金属錯体は、それ自体で電荷をも
たない化合物であるか、あるいは中心金属等によっては
プラスの電荷をもつ化合物である。プラスの電荷をもつ
化合物であるときの対イオンとしてはCl-、Br-、I
-等のハロゲン化物イオン、ClO4 -、BF4 -など、式
(I)のX-のところで示した対アニオンと同様のもの
が挙げられる。
【0071】その他については式(B−I)の場合と同
様である。
【0072】以下に、これらの金属錯体の具体例を、ア
ゾ化合物と中心金属との組合せで示す。
【0073】
【化13】
【0074】
【化14】
【0075】上記の金属錯体はいずれもクエンチャー機
能を有する化合物である。
【0076】これらの化合物は1種のみを用いても2種
以上を併用してもよい。
【0077】特にこのような有機金属錯体の添加は、式
(I)の色素の対アニオンが有機金属錯体の陰イオンで
ないときに、耐光性をより向上させる上で、有効であ
る。
【0078】式(I)の色素と有機金属錯体との混合比
は、モル比で、式(I)の色素:有機金属錯体=3:1
〜1:3が好ましい。
【0079】本発明に用いられる塗布溶媒として、具体
的には、アルコール系(ケトアルコール系、エチレング
リコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコ
ール系を含む。)、脂肪族炭化水素系、ケトン系、エス
テル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系
等から適宜選択すればよい。
【0080】このなかで、アルコール系、脂肪族炭化水
素系などが好ましい。アルコール系のなかでは、アルコ
キシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。
アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子
数が1〜4であることが好ましく、かつアルコール部分
の炭素原子数が1〜5、さらには2〜5であることが好
ましく、総炭素原子数が3〜7であることが好ましい。
具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル
(メチルセロソルブ)やエチレングリコールモノエチル
エーテル(エチルセロソルブ、エトキシエタノールとも
いう)やブチルセロソルブ、2−イソプロポキシ−1−
エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル(セロソルブ)系や1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−ブタノール、3−メトキシ−1
−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、1−エ
トキシ−2−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコ
ール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。
さらには2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール
などのフッ素化アルコールも用いることができる。
【0081】脂肪族炭化水素系としては、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン、シクロオクタン、ジメチルシクロヘキサ
ン、n−オクタン、iso−プロピルシクロヘキサン、
t−ブチルシクロヘキサンなどが好ましく、なかでもエ
チルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどが好
ましい。
【0082】また、ケトン系としてはシクロヘキサノン
などが挙げられる。
【0083】本発明では、特にエチレングリコールモノ
アルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系が好ま
しく、なかでもエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−
2−ブタノール等が好ましく、さらにはこれらの混合溶
媒であってもよく、例えばエチレングリコールモノエチ
ルエーテルと1−メトキシ−2−ブタノールの組合せの
ようなものが挙げられる。また、フッ素アルコールも好
ましく用いられる。
【0084】本発明の光記録媒体の好ましい態様である
635nm、650nm程度の短波長で記録・再生を行う追
記型デジタルビデオディスク(DVD−R)の構成例を
図1に示す。図1は部分断面図である。
【0085】図1で示されるように光記録ディスク10
は、DVD規格に対応した光記録ディスクであり、同様
な構造のディスク2枚の保護膜15および保護膜25同
士を貼り合わせて形成する。接着剤層50の厚さは、1
0〜200μm 程度である。この場合の基板(通常、ポ
リカーボネート樹脂)一枚当たりの厚さは0.6mmであ
り、グルーブ123を有する基板12上に記録層13、
反射層14、保護膜15を順次形成し、一方グルーブ2
23を有する基板22上に同様に記録層23、反射層2
4、保護膜25を形成し、上述のように貼り合わされて
得られるものである。貼り合わせの方法としては、ホッ
トメルト接着剤、遅効性UV接着剤、粘着シート等を利
用できる。
【0086】基板12または22は、ディスク状のもの
であり、基板2の裏面側からの記録および再生を可能と
するために、記録光および再生光(波長600〜680
nm程度、さらには波長630〜680nm程度、なかでも
波長635〜680nm程度のレーザー光、特に635nm
または650nm)に対し、実質的に透明(好ましくは透
過率88%以上)な樹脂あるいはガラスを用いて形成す
るのがよい。また、大きさは、直径64〜200mm程
度、厚さ0.6mm程度のものとする。
【0087】基板12または22の記録層13または2
3形成面には、図1に示すように、トラッキング用のグ
ルーブ123または223が形成される。グルーブ12
3または223は、スパイラル状の連続型グルーブであ
ることが好ましく、深さは0.05〜0.20μm (5
00〜2000A)、幅は0.20〜0.40μm 、グ
ルーブピッチは0.65〜0.85μm であることが好
ましい。グルーブをこのような構成とすることにより、
グルーブの反射レベルを下げることなく、良好なトラッ
キング信号を得ることができる。特にグルーブ幅を0.
20〜0.40μm に規制することは重要であり、グル
ーブ幅を0.2μm 未満とすると、十分な大きさのトラ
ッキング信号が得られにくく、記録時のトラッキングの
わずかなオフセットによって、ジッターが大きくなりや
すい。またグルーブ幅が大きくなると波形ひずみが生じ
やすくなる。
【0088】基板12または22は、材質的には、樹脂
を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アク
リル樹脂、アモルファスポリオレフィン、TPX、ポリ
スチレン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そ
して、このような樹脂を用いて射出成形等の公知の方法
に従って製造することができる。グルーブ123または
223は、基板12または22の成形時に形成すること
が好ましい。なお、基板12または22の製造後に2P
法等によりグルーブ123または223を有する樹脂層
を形成してもよい。また、場合によってはガラス基板を
用いてもよい。
【0089】図1に示されるように、基板12または2
2に設層される記録層13または23は、前記の色素含
有塗布液を用い、前記のように、好ましくはスピンコー
ト法により形成されたものである。スピンコートは通常
の条件に従い、内周から外周にかけて、回転数を500
〜5000rpm の間で調整するなどして行えばよい。
【0090】このようにして形成される記録層13また
は23の厚さは、50〜300nm(500〜3000
A)であり、記録光および再生光波長における複素屈折
率は実部n=2.0〜2.8、虚部k=0.4以下であ
る。
【0091】上記の範囲外の厚さでは反射率が低下し
て、良好な再生を行うことが難しくなる。
【0092】また、上記のようにn、kを規制すること
によって、良好な記録、再生が行える。kが0.4を超
えると、十分な反射率が得られない。nが2.0未満で
は信号の変調度が小さすぎる。nの上限には特に制限は
ないが、色素化合物の合成上の都合等から通常2.8程
度である。
【0093】なお、記録層のnおよびkは、所定の透明
基板上に記録層を例えば40〜100nm程度の厚さに実
際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製し、次い
で、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるい
は記録層側からの反射率を測定することによって求め
る。この場合、反射率は、記録再生光波長(635nmま
たは650nm)を用いて鏡面反射(5°程度)にて測定
する。また、サンプルの透過率を測定する。そして、こ
れらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三
P168〜178に準じ、n、kを算出すればよい。
【0094】図1に示されるように、記録層13または
23上には、直接密着して反射層14または24が設層
される。反射層14または24としては、Au、Cu、
Al、Ag、AgCu等の高反射率金属ないし合金を用
いるのがよい。反射層14または24の厚さは50nm
(500A) 以上であることが好ましく、蒸着、スパッ
タ等により設層すればよい。また、厚さの上限に特に制
限はないが、コスト、生産作業時間等を考慮すると、1
20nm(1200A) 程度以下であることが好ましい。
これにより、反射層14または24単独での反射率は、
90%以上となり、媒体の未記録部の基板を通しての反
射率は十分である。
【0095】図1に示されるように、反射層14または
24上には、保護膜15または25が設層される。保護
膜15または25は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹
脂材質から、通常は、0.5〜100μm 程度の厚さに
設層すればよい。保護膜15または25は、層状であっ
てもシート状であってもよい。保護膜15または25
は、スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、デ
ィッピング等の通常の方法により形成すればよい。
【0096】このような構成の光記録ディスク1に記録
ないし追記を行うには、例えば635nmあるいは650
nmの記録光を、基板12または22を通してパルス状に
照射し、照射部の光反射率を変化させる。なお、記録光
を照射すると、記録層13または23が光を吸収して発
熱し、同時に基板12または22も加熱される。この結
果、基板12または22と記録層13または23との界
面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が生
じ、記録層13と基板12、あるいは記録層23と基板
22との界面に圧力が加わり、グルーブの底面や側壁を
変形させることがある。
【0097】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を比較例ととも
に示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【0098】実施例1 光記録層用色素として、色素I−1を用い、プリグルー
ブ(深さ0.12μm、幅0.30μm 、グルーブピッ
チ0.74μm )を有する直径120mm、厚さ0.6
mmのポリカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法
により色素を含有する記録層を1000A (100nm)
の厚さに形成した。この場合の塗布液として、1.0wt
%の2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液
を用いた。次に、この記録層にAu反射層を850A の
厚さにスパッタ法により形成し、さらに紫外線硬化型の
アクリル樹脂の透明な保護膜(膜厚5μm )を形成し
た。同様にして形成したディスク2枚の保護膜を内側に
して接着剤で貼り付けてディスクを作製した(図1参
照)。
【0099】これをサンプルNo.1とする。
【0100】また、サンプルNo.1において、記録層用
の色素として、色素I−1のかわりに、表1に示すよう
な色素あるいは色素混合物をそれぞれ用いるほかは同様
にしてサンプルを作製した(表1)。
【0101】なお、表1中のサンプルNo.10〜16
は、表1の組合せで、式(I)の色素(I−1、I−
2、I−8)と有機金属錯体(C−1〜C−3、D−1
〜D−3、B−II−2)との混合比がモル比で式(I)
の色素:有機金属錯体=7:3となるような色素混合物
を用いたものである。
【0102】このようにして作製したサンプルに対し、
レーザー光635nmを使用して線速3.5m/sで信号
を記録し、次にこのディスクを線速3.5m/sの650n
mレーザー光で再生し、特性を評価した。なお、レンズ
孔径NA=0.60であった。特性は650nmでの反射
率、変調度(14TMod.)、ジッター(Jitte
r)、635nmでの最適記録パワー(P0 )について評
価した。
【0103】結果を表1に示す。
【0104】
【表1】
【0105】表1の結果より、反射率、変調度、ジッタ
ー共に良好であることがわかる。
【0106】さらに、上記のサンプルNo.1〜25につ
いて耐光性を調べた。耐光性は8万ルックスのキセノン
ランプ(島津社製キセノンフェードメーター)を40時
間照射した後の、ディスクのジッターを測定することに
よって調べた。
【0107】この結果、サンプルNo.10〜25につい
てはジッターの変化は少なかった。また、サンプルNo.
1〜9については、サンプルNo.10〜25に比べジッ
ターの変化は大きかったが、以下の比較例1に示すトリ
メチンシアニン色素を用いたサンプルよりも良化したレ
ベルであった。特に塩形成色素を用いたサンプルNo.1
7〜25で良好な結果が得られ、さらには好ましい構造
の対アニオンを有する色素(I−10〜I−13、I−
15〜I−18)を用いたサンプルでジッターは全く変
化しなかった。
【0108】さらに、上記のサンプルNo.1〜25につ
いて、80℃80%RH100時間の信頼性試験を行っ
た。
【0109】この結果、サンプルNo.17〜25につい
ては特性の劣化がなかった。また、サンプルNo.1〜1
6については上記サンプルに比べ、特性の劣化が大きか
ったが、以下の比較例1に示すトリメチンシアニン色素
を用いたサンプルよりも良化したレベルであった。
【0110】比較例1 シアニン色素T1(下記)を使用したこと以外は実施例
1と同様にディスクサンプルを作製した。作製したサン
プルの評価では、十分な耐光性が得られず、再生時のジ
ッターの劣化が大きかった。信頼性試験でも、変調度、
ジッターの劣化が大きかった。
【0111】
【化15】
【0112】
【発明の効果】本発明によれば、溶解性に優れたローダ
ミン色素を光吸収層として用いることにより、記録感度
と反射率と変調度のバランスに優れ、記録感度が高くジ
ッターが小さいなどの特性に優れた光記録媒体が得られ
る。特に、ローダミン色素として、ローダミン色素カチ
オンと有機金属錯体のアニオンとの塩形成色素を用いた
場合、耐光性、信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ディスクの一例を示す部分断面図で
ある。
【符号の説明】 10 光記録ディスク 12、22 基板 123、223 グルーブ 13、23 記録層 14、24 反射層 15、25 保護膜 50 接着層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 記録および/または再生光の波長が68
    0nm以下であり、基板上に色素を含有する記録層を有
    し、この記録層上に反射層を有し、光を照射することに
    よってピットを形成して記録を行う光記録媒体におい
    て、 前記記録層が、下記式(I)で表される色素を含有する
    ことを特徴とする光記録媒体。 【化1】 [式(I)において、R1は水素原子、または炭素数1
    〜4のアルキル基を表す。R2、R3、R4、R5、R6
    よびR7は、互いに独立に水素原子、または炭素数1〜
    4のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。X-は対
    アニオンを表す。]
  2. 【請求項2】 式(I)中のX-で表される対アニオン
    が有機金属錯体のアニオンである請求項1の光記録媒
    体。
  3. 【請求項3】 記録層が、さらに有機金属錯体の色素を
    含有する請求項1または2の光記録媒体。
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