JPH1158827A - レーザアレイ画像形成装置の作製方法 - Google Patents

レーザアレイ画像形成装置の作製方法

Info

Publication number
JPH1158827A
JPH1158827A JP23333897A JP23333897A JPH1158827A JP H1158827 A JPH1158827 A JP H1158827A JP 23333897 A JP23333897 A JP 23333897A JP 23333897 A JP23333897 A JP 23333897A JP H1158827 A JPH1158827 A JP H1158827A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser array
optical system
axis
image forming
forming apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23333897A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3577905B2 (ja
Inventor
Shoji Yamaguchi
昭治 山口
Tetsuya Kimura
哲也 木村
Hidehiko Yamaguchi
英彦 山口
Hideaki Ashikaga
英昭 足利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP23333897A priority Critical patent/JP3577905B2/ja
Publication of JPH1158827A publication Critical patent/JPH1158827A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3577905B2 publication Critical patent/JP3577905B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高画質化を容易に実現し得るレーザアレイ画
像形成装置の作製方法を提供する。 【解決手段】 あらかじめ設計光軸上に設定された基準
光源4からの光ビームをレーザアレイ1の反射部材1−
1に照射し、その反射光が基準光源4の発光点に戻るよ
うに、レーザアレイを主走査方向、副走査方向の移動お
よび回転により調整する。次に、結像レンズ等からなる
光学系2をレーザアレイ1と基準光源4の間に配置し、
光学系2に取りつけた反射部材2−1に基準光源4から
の光ビームを照射し、その反射光が基準光源4の発光点
に戻るように、光学系2を主走査方向、副走査方向に移
動および回転することで調整する。このように調整した
レーザアレイ1と光学系2を組み込んでレーザアレイ画
像形成装置を作製する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザアレイ画像
形成装置に係り、特に高精度な位置出しを可能としたレ
ーザアレイ画像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザアレイ画像形成装置は、複数の半
導体レーザをアレイ上に配列することにより、従来のよ
うに半導体レーザを走査する機構を不要とした装置であ
る。
【0003】この種の装置として、例えば特開平1−1
52683号公報には、半導体レーザ・ビーム・スキャ
ナが開示されている。この装置は、2次元あるいは列状
に配列された複数の半導体レーザを有する半導体レーザ
アレイと、この半導体レーザアレイからのすべてのレー
ザビームが通過し、感光体上ですべてのビームが集光す
るように配置された光学手段を備えている。この装置に
よれば、高速で、無騒音で、かつ信頼性の高い画像形成
装置が可能と考えられている。
【0004】また、特開昭64−42667号公報に
は、半導体レーザをアレイ化して構成したレーザビーム
プリンタが開示されている。この装置においても、半導
体レーザアレイ、および、感光体上ですべてのビームが
集光するように配置された光学手段を備えており、高速
で、無騒音で、かつ信頼性の高い画像形成装置が実現可
能と考えられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらの画像形成装置
においては、半導体レーザアレイと感光体上のレーザ集
光位置が1対1対応になっている。そのため、半導体レ
ーザアレイや光学手段が位置ずれを起こしたり、傾いた
りすると、目標の感光体上に、各集光ビームを精度良
く、照射できなくなる。これは、画質劣化を引き起こす
原因となる。
【0006】本発明者は、この点に注目し、レーザアレ
イ画像形成装置において高画質を実現するためには、半
導体レーザアレイ、感光体上でビームを集光させるため
の光学手段、および感光体のそれぞれについて、高精度
な位置決めを行なう必要があるという新規な課題を見出
した。
【0007】従って本発明の目的は、高画質化を容易に
実現し得るレーザアレイ画像形成装置の作製方法を提供
することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的は、複数の半導
体レーザをアレイ上に配置したレーザアレイ、およびレ
ーザアレイからの光ビームを集光する光学系に反射部材
をそれぞれ形成し、基準光源からの基準光をこの反射部
材に照射し、反射部材からの反射光の状態に応じて、レ
ーザアレイおよび光学系を調整することにより、達成さ
れる。
【0009】このように本発明では、基準光による反射
光を用いて、レーザアレイおよび光学系を調整するの
で、高精度な位置決めが可能となり、レーザアレイ画像
形成装置の高画質化を実現できる。
【0010】この基準光は、事前に感光体の取付け面又
は感光体面に照射され、その反射光に基づいて、基準光
自体を位置調整することで、精度の向上を図っている。
また、レーザアレイおよび光学系の調整は、その中心位
置ずれおよび傾きについて行うので、それらの取付けは
極めて正確に行うことができる。
【0011】さらに、本発明に係るレーザアレイ画像形
成装置は、レーザアレイおよび光学系の少なくとも一方
に、基準光源からの基準光を反射する反射部材を備える
ので、設置後の調整も簡単で、装置の高画質化を容易に
実現できる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1(a)、(b)は、本発明に
係るレーザアレイ画像形成装置の作製方法の原理図であ
る。まず、図1(a)に示すように、あらかじめ設計光
軸上に設定された基準光源4からの光ビームをレーザア
レイ1の反射部材1−1に照射し、その反射光が基準光
源4の発光点に戻るように、レーザアレイを主走査方
向、副走査方向の移動および回転により調整する。次
に、結像レンズ等からなる光学系2をレーザアレイ1と
基準光源4の間に配置し、光学系2に取りつけた反射部
材2−1に基準光源4からの光ビームを照射し、その反
射光が基準光源4の発光点に戻るように、光学系2を主
走査方向、副走査方向に移動および回転することで調整
する。
【0013】すなわち本発明は、レーザアレイ1および
光学系2に反射部材1−1、2−1をそれぞれ形成し、
あらかじめ設計上の光軸位置に設定された基準光源4を
用いて、この基準光源4からの光ビームを反射部材1−
1、2−1に照射し、その反射光の位置に基づいて、レ
ーザアレイ1と光学系2を高精度に調整することができ
るので、感光面にレーザアレイ1からの集光ビームを高
精度に照射可能となる。本発明により、レーザアレイ画
像形成装置の高画質化を容易に実現し得る。
【0014】図2乃至図7は、本発明に係るレーザアレ
イ画像形成装置の作製方法の一実施例を示すものであ
る。この内、図2乃至図4はレーザアレイの取付けにつ
いて示し、図5乃至図7は光学系の取付けについて示
す。
【0015】まず、図2において、基準光源4からの光
ビームを反射部材3−1が取り付けられた感光体取付け
面(感光体面)3に照射し、そこからの反射光により基
準光を設計光軸位置に設定する。次に感光体取付け面
(感光体面)3を移動し、この基準光をレーザアレイ1
に設けた反射部材1−1に照射し、x軸、y軸、x軸回
り、y軸回り、z軸回りの調整を行う。
【0016】ここで、具体的な調整例について、図を用
いて説明する。 (1)レーザアレイの高精度取付け(図2乃至図4) 図2において、反射部材1−1に基準光源4からの光ビ
ームを照射する。図3に示すように、反射部材1−1は
レーザアレイ1の上方に配置される。反射部材1−1か
らの反射光は、図4に示すような基準光源4に設けた受
光板4−1に照射される。ここで受光板4−1上の反射
光5が基準光源4の中心部に移動するように、レーザア
レイ1に設けた各ステ−ジを調整する。図4に示すよう
な反射光5が受光板4−1に戻ったときは、まずZ軸
(光軸)回りのズテ−ジを調整し、反射光5の中央部の
暗部がY軸に平行になるようにする。次にx軸、y軸、
x軸回り、y軸回りのステ−ジを調整し、反射光5が基
準光源4に一致するようにする。これでy軸、x軸回
り、y軸回りの調整が終了する。そして、レーザアレイ
1のy軸ステ−ジをaだけ+方向に移動し、基準光源4
がレーザアレイ1のx軸上に来るようにする。これでx
軸方向の調整が終了する。 (2)光学系の高精度取付け(図5乃至図7) 図5において、反射部材2−1に基準光源4から光ビー
ムを照射する。反射部材2−1は、図6のように、光学
系2の上方に配置される。反射部材2−1からの反射光
は、図7に示すように、基準光源4に設けた受光板4−
1に照射される。図7に示すような反射光5が受光板に
戻ったときは、レーザアレイ1のx軸、y軸、x軸回
り、y軸回りのステ−ジを調整し、反射光5が基準光源
に一致するようにする。これでy軸、x軸回り、y軸回
りの調整が終了する。そしてレーザアレイ1のy軸ステ
−ジをbだけ+方向に移動し、基準光源4がレーザアレ
イ1のx軸上に来るようにする。これでx軸方向の調整
が終了する。
【0017】ここで、レーザアレイ1および光学系2の
取付けにどの程度の精度が要求されるかを、実施例1を
基にシミュレ−ションを行って算出した。図8は、感光
体上で高画質を得るために必要なビーム径変動20%以
下の許容値を、レーザアレイ(LD)および光学系(レ
ンズ)のそれぞれの中心位置ずれ、および傾きについて
示したものである。また図9の(a)は、受光板4−1
上での中心位置ずれ許容範囲6を示し、同図(b)は、
傾き許容範囲7を示す。受光板4−1上の反射光が中心
位置ずれ許容範囲6および傾き許容範囲7内に収まるよ
うに、レーザアレイ1および光学系2を搭載した各ステ
−ジを調整する。
【0018】図10(a)、(b)は、レーザアレイ1
の中心位置ずれ(Z軸方向)、および光学系2の中心位
置ずれ(Z軸方向)の調整方法を示す図である。ビーム
検出器8の位置調整は、同図(a)のように、レーザア
レイ1と同じ波長λの光源9を十字等の印がついた集光
板10に照射し、集光板10上にピントが合うように、
ビーム検出器8をz軸方向に移動して行う。また、レー
ザアレイ1と光学系2間のZ軸方向の位置調整は、同図
(b)のように、レーザアレイ1と同じ波長λの光源9
を光路上から取り除き、レーザアレイ1からの光ビーム
を集光板10上で観察し、集光板10上で光ビームが最
小となるように、光学系2をz軸方向に移動し調整す
る。
【0019】以上により、レーザアレイ1および光学系
2をx,y,z軸方向およびx,y,z軸回りに高精度
に調整可能となる。
【0020】本実施例1の効果としては、レーザアレイ
1上に反射部材を形成し、レーザアレイ1の発光面と、
ほぼ同一平面に反射面を配置することを可能としたの
で、より高精度な位置、傾き調整が簡単で安価に実現で
きる。また、反射面の中央部に非反射部材を設置し、こ
の反射面からの反射光の暗部の方向を調整することで、
レーザアレイのz軸回りの傾き調整を可能としたので、
ほぼ同時に位置、傾き調整を実施することができる。ま
た、基準光源からの基準ビームを感光体取付け面(又は
感光体面)を基準として調整するので、この基準光源を
用いて調整したレーザアレイ、光学系も感光体取付け面
(又は感光体面)に対して高精度に調整可能となる。
【0021】図11は、レーザアレイ1に取り付ける反
射部材1−1の配置を示す図である。同図(a)は、反
射部材1−1をx軸上に配置した例であり、実施例1と
同様の効果を得ることができる。(b)は、反射部材1
−1をx軸およびy軸上に配置した例であり、実施例1
と同様の効果を得ることができるとともに、両軸に反射
部材が形成されているので、各ステ−ジによる調整後さ
らに、その調整精度を確認することができる。(c)
は、反射部材1−1をx軸およびy軸上に各1組づつ配
置した例であり、実施例1と同様の効果を得ることがで
きるとともに、両軸に反射部材が形成されているので、
各ステ−ジによる調整後さらに、その調整精度をx、y
軸の正、負両方向で確認することができる。
【0022】図12は、光学系2に取り付ける反射部材
2−1の配置を示す図である。同図(a)は、反射部材
2−1をx軸上に配置した例であり、実施例1と同様の
効果を得ることができる。(b)は、反射部材2−1を
x軸およびy軸上に配置した例であり、実施例1と同様
の効果を得ることができるとともに、両軸に反射部材が
形成されているので、各ステ−ジによる調整後さらに、
その調整精度を確認することができる。(c)は、反射
部材2−1をx軸およびy軸上に各1組づつ配置した例
であり、実施例1と同様の効果を得ることができるとと
もに、両軸に反射部材が形成されているので、各ステ−
ジによる調整後さらに、その調整精度をx、y軸の正、
負両方向で確認することができる。
【0023】図13は、レーザアレイ1のz軸回りの傾
き調整を行う際の基準となる反射部材1−1に形成され
た暗部(低反射部)の形状について示したものである。
同図(a)は、レーザアレイ1の上方に取り付けられた
反射部材1−1を示すものである。(b)は、反射部材
1−1として長方形状の暗部をx軸およびy軸方向に配
置したものである。x軸およびy軸の両軸を使用して調
整可能となる。また一方の軸で調整後、他方の軸でその
精度を確認できる。これによりさらに高精度な調整が可
能となる。(c)は、三角形状の暗部をx軸あるいはy
軸方向に配置したものである。三角形の頂点がレーザア
レイの軸中心線上に配置されている。こうすることで、
反射光の三角形の頂点が受光板上の軸中心線上に移動す
るように傾きステ−ジを調整する。これによりさらに高
精度な調整が可能となる。(d)は、三角形状の暗部を
x軸およびy軸方向に配置したものである。x軸および
y軸の両軸を使用して調整可能となる。また1方の軸で
調整後、他方の軸でその精度を確認できる。これにより
さらに高精度な調整が可能となる。
【0024】このように本発明に係るレーザアレイ画像
形成装置の作製方法によれば、レーザアレイおよび光学
系に反射部材が形成され、あらかじめ設計上の光軸位置
に設定された基準光源を用い、この基準光源からのビー
ムをレーザアレイに取り付けた反射部材および光学系に
とりつけた反射部材に照射し、その反射光の位置に基づ
いて、レーザアレイおよび光学系を高精度に取りつける
ができるので、感光面にレーザアレイからの集光ビーム
を常に高精度に照射可能となる。しかも本発明では、比
較的簡易な装置構成で、各構成要素を高精度に位置決め
できるものであある。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、レーザアレイ画像形成
装置の高画質化を容易に実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)、(b)は、本発明に係るレーザアレイ
画像形成装置の作製方法の原理を示す図である。
【図2】レーザアレイの位置の調整と取付け方法を示す
図である。
【図3】レーザアレイに配置された反射部材の位置と形
状を示す図である。
【図4】受光板における反射光を基準光源に一致させる
方法を示す図である。
【図5】光学系の位置の調整と取付け方法を示す図であ
る。
【図6】光学系に配置された反射部材の位置と形状を示
す図である。
【図7】受光板における反射光を基準光源に一致させる
方法を示す図である。
【図8】高画質を得るために必要なビーム径変動の許容
値を示した図である。
【図9】(a)は反射光の中心位置ずれ許容範囲を示す
図、(b)は傾き許容範囲を示す図である。
【図10】(a)はビーム検出器のz軸調整を示す図、
(b)はレーザアレイと光学系間のz軸調整を示す図で
ある。
【図11】レーザアレイに取り付ける反射部材の配置を
示すもので、(a)は反射部材をx軸上に配置した例、
(b)は反射部材をx軸およびy軸上に配置した例、
(c)は反射部材をx軸およびy軸上に各1組づつ配置
した例をそれぞれ示す図である。
【図12】光学系に取り付ける反射部材の配置を示すも
ので、(a)は反射部材をx軸上に配置した例、(b)
は反射部材をx軸およびy軸上に配置した例、(c)は
反射部材をx軸およびy軸上に各1組づつ配置した例を
それぞれ示す図である。
【図13】(a)はレーザアレイの上方に取り付けられ
た反射部材を示す図、(b)は反射部材として長方形状
の暗部をx軸およびy軸方向に配置した図、(c)は三
角形状の暗部をx軸あるいはy軸方向に配置した図、
(d)は三角形状の暗部をx軸およびy軸方向に配置し
た図である。
【符号の説明】
1 レーザアレイ 1−1 反射部材 2 光学系 2−1 反射部材 3 感光体 3−1 反射部材 4 基準光源 4−1 受光板
フロントページの続き (72)発明者 足利 英昭 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリーン テクなかい 富士ゼロックス株式会社内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の半導体レーザをアレイ上に配置し
    たレーザアレイと、前記レーザアレイからの光ビームを
    集光する光学系と、前記光学系により集光した光ビーム
    を照射して画像を形成する感光体とを有するレーザアレ
    イ画像形成装置の作製方法であって、前記レーザアレイ
    および光学系に反射部材をそれぞれ形成し、基準光源か
    らの基準光を前記レーザアレイおよび光学系にそれぞれ
    形成した反射部材に照射し、前記各反射部材からの反射
    光の状態に基づいて、前記レーザアレイおよび光学系を
    調整することを特徴とするレーザアレイ画像形成装置の
    作製方法。
  2. 【請求項2】 前記基準光源からの基準光を前記感光体
    の取付け面又は感光体面に照射し、前記感光体の取付け
    面又は感光体面からの反射光に基づいて前記基準光の位
    置調整を行うことを特徴とする請求項1記載のレーザア
    レイ画像形成装置の作製方法。
  3. 【請求項3】 前記レーザアレイおよび光学系の調整
    は、前記レーザアレイおよび光学系の中心位置ずれおよ
    び傾きについて行うことを特徴とする請求項1記載のレ
    ーザアレイ画像形成装置の作製方法。
  4. 【請求項4】 前記レーザアレイの反射部材が、前記レ
    ーザアレイの基板上に形成されることを特徴とする請求
    項1記載のレーザアレイ画像形成装置の作製方法。
  5. 【請求項5】 前記レーザアレイの反射部材が、前記レ
    ーザアレイの基板周囲に形成されることを特徴とする請
    求項1記載のレーザアレイ画像形成装置の作製方法。
  6. 【請求項6】 前記反射部材が、前記レーザアレイ又は
    光学系に複数個形成されることを特徴とする請求項1記
    載のレーザアレイ画像形成装置の作製方法。
  7. 【請求項7】 前記反射部材が、低反射部を有すること
    を特徴とする請求項1記載のレーザアレイ画像形成装置
    の作製方法。
  8. 【請求項8】 前記低反射部が、前記反射部材に複数個
    形成されることを特徴とする請求項7記載のレーザアレ
    イ画像形成装置の作製方法。
  9. 【請求項9】 前記低反射部の形状が長方形状であるこ
    とを特徴とする請求項7又は8記載のレーザアレイ画像
    形成装置の作製方法。
  10. 【請求項10】 前記低反射部の形状が三角形状である
    ことを特徴とする請求項7又は8記載のレーザアレイ画
    像形成装置の作製方法。
  11. 【請求項11】 複数の半導体レーザをアレイ上に配置
    したレーザアレイと、前記レーザアレイからの光ビーム
    を集光する光学系と、前記光学系により集光した光ビー
    ムを照射して画像を形成する感光体とを有するレーザア
    レイ画像形成装置であって、前記レーザアレイおよび光
    学系の少なくとも一方は、基準光源からの基準光を反射
    する反射部材を有することを特徴とするレーザアレイ画
    像形成装置。
  12. 【請求項12】 前記反射部材は、低反射部を有するこ
    とを特徴とする請求項11記載のレーザアレイ画像形成
    装置。
JP23333897A 1997-08-14 1997-08-14 レーザアレイ画像形成装置の作製方法 Expired - Fee Related JP3577905B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23333897A JP3577905B2 (ja) 1997-08-14 1997-08-14 レーザアレイ画像形成装置の作製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23333897A JP3577905B2 (ja) 1997-08-14 1997-08-14 レーザアレイ画像形成装置の作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1158827A true JPH1158827A (ja) 1999-03-02
JP3577905B2 JP3577905B2 (ja) 2004-10-20

Family

ID=16953592

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23333897A Expired - Fee Related JP3577905B2 (ja) 1997-08-14 1997-08-14 レーザアレイ画像形成装置の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3577905B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7119895B2 (en) 2000-11-28 2006-10-10 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7119895B2 (en) 2000-11-28 2006-10-10 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit

Also Published As

Publication number Publication date
JP3577905B2 (ja) 2004-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7057632B2 (en) Optical scanning apparatus, image forming apparatus, and methods of performing optical scanning using optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP2691717B2 (ja) 走査光学装置
JPS61124919A (ja) 結像光学装置
JP3334447B2 (ja) 光走査装置の光軸調整方法、光軸調整装置、及び光走査装置
JP3627453B2 (ja) 光学走査装置
JP3493848B2 (ja) 光学走査装置
JP3577905B2 (ja) レーザアレイ画像形成装置の作製方法
JP4401088B2 (ja) 光学走査装置
JP2001021822A (ja) 光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
JPH1164755A (ja) レーザー光源及び該光源のピント調整装置及び走査光学系
JP2971005B2 (ja) 光走査装置
JPH04242215A (ja) 光走査装置
JPH0980330A (ja) マルチビーム走査光学系
JPS61126528A (ja) 光走査装置
US6717740B2 (en) Scanning optical system and image recording exposure device
JPH03131817A (ja) 光ビーム走査光学装置
JP2001235697A (ja) 光走査装置
JPH10142542A (ja) 走査光学装置
JP2857395B2 (ja) 走査光学用レンズユニット
JP2679990B2 (ja) 半導体レーザ光学装置
JPH0459621B2 (ja)
JPS63316819A (ja) 光ビ−ム走査装置
JP2757308B2 (ja) 光束走査光学装置
JP2005017341A (ja) 光照射装置
JP2002116398A (ja) 走査光学系および走査光学装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20031218

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20031225

A521 Written amendment

Effective date: 20040220

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040427

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040531

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040622

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040705

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080723

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090723

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100723

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees