JPH115829A - Thermosetting resin composition - Google Patents

Thermosetting resin composition

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JPH115829A
JPH115829A JP16245797A JP16245797A JPH115829A JP H115829 A JPH115829 A JP H115829A JP 16245797 A JP16245797 A JP 16245797A JP 16245797 A JP16245797 A JP 16245797A JP H115829 A JPH115829 A JP H115829A
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JP
Japan
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group
spiral flow
days
thermosetting resin
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP16245797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Go
義幸 郷
Sumiya Miyake
澄也 三宅
Hiroshi Nagata
永田  寛
Akiko Okubo
明子 大久保
Minoru Kobayashi
稔 小林
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH115829A publication Critical patent/JPH115829A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject composition stable for a long period of time at a normal temperature, rapidly curing in molding by heating, useful as electric and electronic parts, by including a specific tetrasubstituted phosphonium tetrasubstituted borate. SOLUTION: This composition contains a tetrasubstituted phosphonium tetrasubstituted borate of formula I (R1 to R4 are each independently a monofunctional aliphatic group or an organic group containing an aromatic ring or a heterocycle; Ar is an aromatic ring formula substituent groups X and Y in the molecule, etc.; X and Y are each a group in which a monofunctional proton releases a proton, and the substituent groups X and Y in the same molecule are bound with a boron atom to form a chelate ring) [e.g. tetraphenylphosphonium-bis(catecholato) borate].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱硬化性樹脂組成
物に関するものである。さらに詳しくは、常温において
は長期間にわたって安定に保存することが可能であり、
また、成形時に加熱したときには速やかに硬化し、良好
な成形性及び高品質の成形品を与えることができ、特に
電気電子部品用として有用な樹脂組成物に関するもので
ある。
[0001] The present invention relates to a thermosetting resin composition. More specifically, it can be stably stored at room temperature for a long time,
Further, the present invention relates to a resin composition which is quickly cured when heated at the time of molding and can provide a molded article having good moldability and high quality, and is particularly useful for electric and electronic parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱硬化性樹脂は、一般的には成形時にお
ける樹脂の硬化を速めるために、触媒を配合して用い
る。例えば、エポキシ樹脂の場合、硬化触媒としては、
アミン類、イミダゾール系化合物、ジアザビシクロウン
デセンなどの含窒素複素環式化合物、オルガノシリコー
ン系化合物、オルガノホスフィン系化合物、第4級アン
モニウム、ホスホニウムあるいはアルソニウム化合物な
ど、種々の化合物が使用されている。
2. Description of the Related Art A thermosetting resin is generally used by blending a catalyst in order to accelerate the curing of the resin during molding. For example, in the case of epoxy resin, as a curing catalyst,
Various compounds such as amines, imidazole compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as diazabicycloundecene, organosilicone compounds, organophosphine compounds, quaternary ammonium, phosphonium or arsonium compounds are used. .

【0003】また、マレイミド系樹脂は加熱のみでラジ
カル硬化させることもできるが、硬化により得られる成
形品の性質は、一般には触媒を用いて硬化したものの方
が良好である。マレイミド系樹脂の硬化触媒としては、
アゾ化合物、有機過酸化物のようなラジカル重合開始
剤、アミン類、イミダゾール系化合物、オルガノホスフ
ィン系化合物、第4級アンモニウム、あるいはホスホニ
ウム化合物のようなイオン触媒など、種々の化合物が用
いられている。
[0003] A maleimide resin can be radically cured only by heating, but the properties of a molded product obtained by curing are generally better when cured using a catalyst. As a curing catalyst for the maleimide resin,
Various compounds such as azo compounds, radical polymerization initiators such as organic peroxides, amines, imidazole compounds, organophosphine compounds, quaternary ammonium, and ion catalysts such as phosphonium compounds are used. .

【0004】通常使用される触媒は、常温などの比較的
低い温度においても硬化促進効果を示すことが多いた
め、例えば、樹脂と他の配合成分とを混合する際の加熱
又は発熱によって、樹脂の硬化を進行させるほか、混合
したのち樹脂組成物を常温で保存する間にも硬化反応を
進行させるために、樹脂組成物の品質の低下を生じやす
い。従って、このような触媒を用いる際には、諸成分と
の混合時の品質管理を厳重にし、しかも保存や運搬にあ
たっては低温に保ち、さらに成形条件等の厳密な管理が
必要であり、作業上の煩雑さが避けられなかった。
[0004] Catalysts that are usually used often exhibit a curing acceleration effect even at a relatively low temperature such as room temperature. For example, heating or heat generation when mixing the resin with other compounding components may cause the resin to harden. In addition to allowing the curing to proceed, the curing reaction also proceeds while the resin composition is stored at room temperature after mixing, so that the quality of the resin composition tends to deteriorate. Therefore, when using such a catalyst, it is necessary to strictly control the quality when mixing with various components, keep the temperature low during storage and transportation, and furthermore, strictly control the molding conditions and the like. Was inevitable.

【0005】そのため近年は、常温のような比較的低温
では樹脂の硬化反応を進行させず、成形時に加熱された
際にのみ硬化反応を促進する、いわゆる潜伏性触媒を開
発するための多くの研究がなされている。触媒の潜伏化
手法の1つとして、触媒の活性点をイオン対化し、保護
基でキャップする潜伏性触媒がある。例えば、特開昭5
1−24399号公報には、テトラフェニルホスホニウ
ムテトラフェニルボレートが、常温保存性及び硬化性改
善に対して有効であることが記載されている。しかし、
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート
は、カチオン性のテトラフェニルホスホニウム基とアニ
オン性のテトラフェニルボレート基のイオン結合が強力
で、融点は300℃以上となり、熱硬化性樹脂組成物に
混練しても、均一に分散させることができないため、触
媒活性が低くなり、成形時に良好な硬化反応性を発現す
ることができない。
[0005] Therefore, in recent years, many studies have been made to develop a so-called latent catalyst, in which the curing reaction of a resin does not proceed at a relatively low temperature such as normal temperature, and the curing reaction is accelerated only when heated during molding. Has been made. As one of the methods of making the catalyst latent, there is a latent catalyst in which the active site of the catalyst is ion-paired and capped with a protecting group. For example, JP
JP 1-24399 describes that tetraphenylphosphonium tetraphenylborate is effective for improving room temperature storage stability and curability. But,
Tetraphenylphosphonium tetraphenylborate has a strong ionic bond between a cationic tetraphenylphosphonium group and an anionic tetraphenylborate group, has a melting point of 300 ° C. or more, and is uniform even when kneaded with a thermosetting resin composition. , The catalyst activity is low, and good curing reactivity cannot be exhibited during molding.

【0006】これに対して、アニオン部とカチオン部の
イオン結合が程良い強さであり、潜伏性触媒として常温
安定性と成形時硬化性が両立した好ましい挙動を示す、
熱硬化性樹脂にドライブレンド可能な触媒の研究がなさ
れ、特公平5−76490号公報には、潜伏性触媒とし
て、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートが提案
されている。この化合物のボロン側の置換基は炭化水素
基で、そのうちの少なくとも1個は炭素数1〜6個のア
ルキル基である。また、特開平8−295721号公報
には、ボロン側がテトラ有機酸ボレートである、テトラ
置換ホスホニウムテトラ置換ボレート、およびその合成
方法が提案されている。特公平5−76490号公報と
同様に、潜伏性触媒として常温での保存安定性と成形時
硬化性が両立した、好ましい挙動を示すとされている。
On the other hand, the ionic bond between the anion portion and the cation portion has a moderate strength, and as a latent catalyst, exhibits favorable behavior in which both room temperature stability and curability during molding are compatible.
Research has been conducted on a catalyst that can be dry-blended with a thermosetting resin. Japanese Patent Publication No. 5-76490 proposes a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate as a latent catalyst. The substituent on the boron side of this compound is a hydrocarbon group, at least one of which is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-295721 proposes a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate in which the boron side is a tetraorganic acid borate, and a method for synthesizing the same. Similar to Japanese Patent Publication No. 5-76490, it is said that the latent catalyst exhibits favorable behavior in which storage stability at room temperature and curability during molding are compatible.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、常温におい
て長期間にわたって安定に保存することが可能であり、
また同時に、成形時の加熱によって優れた硬化性を発揮
し、良好な成形性及び高品質の成形品を与えることがで
きる、熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention can be stably stored at room temperature for a long period of time,
At the same time, another object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition which exhibits excellent curability by heating at the time of molding and can provide a molded article having good moldability and high quality.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記のよ
うな問題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定構造
のテトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートを、熱硬
化性樹脂に配合することにより、常温においては優れた
保存安定性を、加熱成形時においては優れた硬化性を示
し、且つその最終硬化物は、高品質の成形物を与えるこ
とを見い出し、これらの知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate having a specific structure is blended into a thermosetting resin. Thus, the present invention has been found to exhibit excellent storage stability at room temperature and excellent curability during heat molding, and that the final cured product gives a high-quality molded product. Was completed.

【0009】すなわち本発明は、エポキシ樹脂、マレイ
ミド樹脂などからなる群から選択される少なくとも1
種、または2種以上の熱硬化性樹脂の、潜伏性触媒とし
て、一般式[1]で示されるテトラ置換ホスホニウムテ
トラ置換ボレートを配合してなることを特徴とする。
That is, the present invention provides at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a maleimide resin and the like.
It is characterized in that a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1] is blended as a latent catalyst of one or more thermosetting resins.

【0010】[0010]

【化1】 式中、R1〜R4は、芳香環若しくは複素環を有する有機
基又は1価の脂肪族基であり、それらは互いに同一であ
っても異なっていてもよい。Arは、置換基X,Yを分
子内に有する芳香環若しくは複素環を含む基である。X
およびYは1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放
出してなる基であり、同一Ar分子内の置換基X,Y
が、ホウ素原子と結合してキレート環を形成する。
Embedded image In the formula, R 1 to R 4 are an organic group having an aromatic ring or a hetero ring or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different. Ar is a group containing an aromatic ring or a heterocyclic ring having substituents X and Y in the molecule. X
And Y are groups in which a monovalent proton-donating substituent emits a proton, and the substituents X and Y in the same Ar molecule
Binds to a boron atom to form a chelate ring.

【0011】またさらに、一般式[1]で表されるテト
ラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートのうち、X−A
r−Yはプロトン供与体がプロトンを2個放出してなる
基を表し、特に多官能芳香族カルボン酸または多価フェ
ノール化合物が、プロトンを2個放出してなる基である
ことを特徴とする。
Furthermore, among the tetrasubstituted phosphonium tetrasubstituted borates represented by the general formula [1], XA
r-Y represents a group formed by the proton donor releasing two protons, and in particular, a polyfunctional aromatic carboxylic acid or a polyhydric phenol compound is a group formed by releasing two protons. .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、
前記一般式[1]で示されるテトラ置換ホスホニウムテ
トラ置換ボレートからなる潜伏性触媒を、熱硬化性樹脂
に配合してなる組成物である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The thermosetting resin composition of the present invention comprises
This is a composition obtained by blending a latent catalyst comprising the tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1] with a thermosetting resin.

【0013】一般式[1]において、R1〜R4は、芳香
環若しくは複素環を有する有機基又は1価の脂肪族基で
あり、それらは互いに同一であっても異なっていてもよ
い。このような基としては、例えば、メチル基、エチル
基、ブチル基、アリル基、フェニル基、トリル基、ベン
ジル基、エチルフェニル基、フェノキシ基、ナフチル基
等が挙げることができる。また一般式[1]を構成する
ホスホニウム基としては、例えば、テトラフェニルホス
ホニウム基、テトラトリルホスホニウム基、テトラエチ
ルホスホニウム基、テトラメトキシホスホニウム基、テ
トラナフチルホスホニウム基、テトラベンジルホスホニ
ウム基、エチルトリフェニルホスホニウム基、n−ブチ
ルトリフェニルホスホニウム基、2−ヒドロキシエチル
トリフェニルホスホニウム基、トリメチルフェニルホス
ホニウム基、メチルジエチルフェニルホスホニウム基、
メチルジアリルフェニルホスホニウム基、テトラ−n−
ブチルホスホニウム基等を挙げることができる。
In the general formula [1], R 1 to R 4 are an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different. Examples of such a group include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an allyl group, a phenyl group, a tolyl group, a benzyl group, an ethylphenyl group, a phenoxy group, and a naphthyl group. Examples of the phosphonium group constituting the general formula [1] include, for example, a tetraphenylphosphonium group, a tetratolylphosphonium group, a tetraethylphosphonium group, a tetramethoxyphosphonium group, a tetranaphthylphosphonium group, a tetrabenzylphosphonium group, and an ethyltriphenylphosphonium group , N-butyltriphenylphosphonium group, 2-hydroxyethyltriphenylphosphonium group, trimethylphenylphosphonium group, methyldiethylphenylphosphonium group,
Methyl diallyl phenyl phosphonium group, tetra-n-
A butylphosphonium group and the like can be mentioned.

【0014】式中Arは、置換基X,Yを分子内に有す
る芳香環若しくは複素環を含む基である。XおよびY
は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出して
なる基であり、同一Ar分子内の置換基X,Yが、ホウ
素原子と結合してキレート環を形成する。このような有
機基X−Ar−Yを与えるプロトン供与体としては、Ar
が置換基X,Yを有していれば、その他の置換基につい
ては何ら限定されることはなく、3価以上のプロトン供
与体も用いることが可能である。中でも、芳香族あるい
は複素環式の多官能カルボン酸または多価フェノール類
が特に好ましい。この場合の多価フェノールとは、ベン
ゼン環、ナフタレン環、その他の芳香族性の環に結合す
る水素原子が、2個以上水酸基に置換された化合物の総
称である。
In the formula, Ar is an aromatic or heterocyclic group having substituents X and Y in the molecule. X and Y
Is a group in which a monovalent proton donating substituent emits a proton, and the substituents X and Y in the same Ar molecule are bonded to a boron atom to form a chelate ring. Examples of the proton donor that provides such an organic group X—Ar—Y include Ar
Has any of the substituents X and Y, the other substituents are not particularly limited, and a trivalent or higher valent proton donor can be used. Among them, aromatic or heterocyclic polyfunctional carboxylic acids or polyphenols are particularly preferred. In this case, the polyhydric phenol is a general term for compounds in which two or more hydrogen atoms bonded to a benzene ring, a naphthalene ring, or another aromatic ring are substituted with a hydroxyl group.

【0015】そのような多官能カルボン酸、多価フェノ
ールの例としては、カテコール、サリチル酸、o-フタル
酸、1,2-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナ
フタレン、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、3-ヒドロキシ-
2-ナフトエ酸、2,3-ナフタレンジカルボン酸、3,4-ビフ
ェノール、2-ヒドロキシビフェニル-3-カルボン酸、4-
ヒドロキシビフェニル-3-カルボン酸、2,3-ピリジンジ
カルボン酸、2,2'-ビフェノール、1,8-ナフタル酸、2,
2'-ビナフトール等の2価芳香族有機酸が挙げられる。
また、レゾルシン、トリメリット酸、ピロメリット酸、
2,2'-ビフェノール-3-カルボン酸、1,4,5,8-ナフタレン
テトラカルボン酸等の3価以上の芳香族多価有機酸類で
も構わない。上記化合物が一例として挙げられるが、も
ちろんこれらに限定されるものではない。また、上記化
合物の単独はもちろん2種以上の併用も可能である。
Examples of such polyfunctional carboxylic acids and polyhydric phenols include catechol, salicylic acid, o-phthalic acid, 1,2-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 1-hydroxy-2-naphthoic acid , 3-hydroxy-
2-naphthoic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 3,4-biphenol, 2-hydroxybiphenyl-3-carboxylic acid, 4-
Hydroxybiphenyl-3-carboxylic acid, 2,3-pyridinedicarboxylic acid, 2,2′-biphenol, 1,8-naphthalic acid, 2,
And divalent aromatic organic acids such as 2′-binaphthol.
Also, resorcinol, trimellitic acid, pyromellitic acid,
A trivalent or higher aromatic polyvalent organic acid such as 2,2'-biphenol-3-carboxylic acid and 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid may be used. The above compounds are mentioned as an example, but are not limited to them. The above compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0016】一般式[1]で表されるテトラ置換ホスホ
ニウムテトラ置換ボレートからなる潜伏性触媒におい
て、X−Ar−Yで表される有機基が、ホウ素原子と結
合してキレート環構造を形成して結合することにより、
低温における触媒活性の抑制が、環状キレート構造を形
成しないプロトン供与体の場合より一層効果的となり、
常温において樹脂組成物のより長期間の安定保存が可能
となる。
In a latent catalyst comprising a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1], an organic group represented by X-Ar-Y is bonded to a boron atom to form a chelate ring structure. By combining
Suppression of catalytic activity at low temperatures becomes more effective than in the case of a proton donor that does not form a cyclic chelate structure,
At room temperature, the resin composition can be stably stored for a longer period of time.

【0017】一般式[1]で表されるテトラ置換ホスホ
ニウムテトラ置換ボレートからなる潜伏性触媒は、一般
式[2]で表されるテトラ置換ホスホニウムテトラ置換
ボレートと、一般式[3]で示されるキレート環構造を
形成しうる2価以上の芳香族あるいは複素環式のプロト
ン供与体とを、バルクまたは有機溶媒中で150〜25
0℃で反応させることにより、合成することが可能であ
る。
The latent catalyst comprising the tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1] is represented by the general formula [3] and the tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [2]. A divalent or higher valent aromatic or heterocyclic proton donor capable of forming a chelate ring structure is used in bulk or organic solvent for 150 to 25.
It is possible to synthesize by reacting at 0 ° C.

【0018】[0018]

【化2】 式中、R5〜R12は、芳香環若しくは複素環を有する有
機基又は1価の脂肪族基であり、それらは互いに同一で
あっても異なっていてもよい。
Embedded image In the formula, R 5 to R 12 are an organic group having an aromatic ring or a hetero ring or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different.

【0019】[0019]

【化3】 式中、Arは、置換基X,Yを分子内に有する芳香環若
しくは複素環からなる基であり、XおよびYは、1価の
プロトン供与性置換基がプロトンを放出してなる基であ
る。また、nは(n≧2)なる整数を表す。
Embedded image In the formula, Ar is a group comprising an aromatic ring or a heterocyclic ring having substituents X and Y in the molecule, and X and Y are groups formed by a monovalent proton donating substituent releasing a proton. . Further, n represents an integer of (n ≧ 2).

【0020】一般式[1]で表されるテトラ置換ホスホ
ニウムテトラ置換ボレートからなる潜伏性触媒は、熱硬
化性樹脂に配合された場合、常温においては触媒活性を
示さないので、熱硬化性樹脂の硬化反応が進むことな
く、成形時の高温において触媒活性が発現し、しかも一
度発現すると従来の硬化促進剤よりも強い触媒活性を示
して、熱硬化性樹脂を高度に硬化させる。
The latent catalyst comprising the tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1] does not show catalytic activity at room temperature when mixed with the thermosetting resin. The curing reaction does not proceed, and the catalytic activity is exhibited at a high temperature during molding, and once developed, the catalytic activity is stronger than that of a conventional curing accelerator, and the thermosetting resin is highly cured.

【0021】本発明において用いる潜伏性触媒は、1種
のみ単独で使用するのみならず、2種以上を同時に配合
して用いることも可能である。また本発明の目的を損な
わない範囲で他の硬化促進剤と併用することもできる。
The latent catalyst used in the present invention can be used not only alone, but also in combination of two or more. Further, it can be used in combination with other curing accelerators as long as the object of the present invention is not impaired.

【0022】本発明中のテトラ置換ホスホニウムテトラ
置換ボレートからなる潜伏性触媒は、その潜伏性触媒に
よって硬化反応が促進されるすべての熱硬化性樹脂に対
して有効であるが、従来よりホスフィンまたはホスホニ
ウム塩触媒が有効である熱硬化性樹脂に対して特に有効
である。このような熱硬化性樹脂としては、例えば、エ
ポキシ樹脂、特にフェノール樹脂またはカルボン酸無水
物硬化剤を含むエポキシ樹脂や、マレイミド系樹脂を挙
げることができる。これらの樹脂以外にも、シアネート
樹脂、イソシアネート樹脂、アクリレート樹脂、アルケ
ニル樹脂等を挙げることができる。
The latent catalyst comprising a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate in the present invention is effective for all thermosetting resins whose curing reaction is accelerated by the latent catalyst. It is particularly effective for thermosetting resins in which a salt catalyst is effective. Examples of such a thermosetting resin include an epoxy resin, particularly an epoxy resin containing a phenol resin or a carboxylic anhydride curing agent, and a maleimide resin. In addition to these resins, cyanate resins, isocyanate resins, acrylate resins, alkenyl resins and the like can be mentioned.

【0023】テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレー
トからなる潜伏性触媒が特に有効なエポキシ樹脂として
は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール型エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキ
シ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エ
ポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、4,4'-ビス
(1,2-エポキシエチル)ジフェニルエーテル、4,4'-ビ
ス(1,2-エポキシエチル)ビフェニルなどを挙げること
ができ、単独もしくは2種以上の併用も可能である。ま
た、これらのエポキシ化合物に、さらに硬化剤として、
フェノール類、酸無水物類、アミン類を併用することも
可能である。
Particularly effective epoxy resins for which a latent catalyst comprising a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate is effective are bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, brominated bisphenol epoxy resin, biphenyl epoxy resin, phenol novolak epoxy resin. Epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester epoxy resin, glycidylamine epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, stilbene epoxy resin, 4,4'-bis (1,2-epoxy Ethyl) diphenyl ether, 4,4′-bis (1,2-epoxyethyl) biphenyl and the like can be mentioned, and they can be used alone or in combination of two or more kinds. In addition, these epoxy compounds, further as a curing agent,
Phenols, acid anhydrides and amines can be used in combination.

【0024】テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレー
トからなる潜伏性触媒が特に有効なマレイミド樹脂とし
ては、例えば、 N,N'-m-フェニレンビスマレイミド、
N,N'-p-フェニレンビスマレイミド、N,N'-m-トルイレン
ビスマレイミド、N,N'-4,4'-ビフェニレンビスマレイミ
ド、N,N'-4,4'-[3,3'-ジメチルビフェニレン]ビスマ
レイミド、 N,N'-4,4'-[3,3'-ジメチルジフェニルメタ
ン]ビスマレイミド、N,N'-4,4'-[3,3'-ジエチルジフ
ェニルメタン]ビスマレイミド、N,N'-4,4'-ジフェニル
メタンビスマレイミド、N,N'-4,4'-ジフェニルプロパン
ビスマレイミド、N,N'-4,4'-ジフェニルエーテルビスマ
レイミド、N,N'-4,4'-ジフェニルスルホンビスマレイミ
ド、 N,N'-3,3'-ジフェニルスルホンビスマレイミド、
2,2-ビス-(4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル)
プロパン、2,2-ビス-(4-(4-マレイミドフェノキシ)
フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス-(4-(4
-マレイミドフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2-ビ
ス-(4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル)スルホ
ンなどのマレイミド化合物またはこれらのマレイミド化
合物を芳香族アミン化合物や芳香族アリル化合物で変成
したアミンまたはアリル変成マレイミド樹脂を挙げるこ
とができ、単独もしくは2種以上の併用も可能である。
A maleimide resin in which a latent catalyst comprising a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate is particularly effective includes, for example, N, N'-m-phenylenebismaleimide,
N, N'-p-phenylenebismaleimide, N, N'-m-toluylenebismaleimide, N, N'-4,4'-biphenylenebismaleimide, N, N'-4,4 '-[3, 3'-dimethylbiphenylene] bismaleimide, N, N'-4,4 '-[3,3'-dimethyldiphenylmethane] bismaleimide, N, N'-4,4'-[3,3'-diethyldiphenylmethane] Bismaleimide, N, N'-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-4,4'-diphenylpropanebismaleimide, N, N'-4,4'-diphenylether bismaleimide, N, N '-4,4'-diphenylsulfone bismaleimide, N, N'-3,3'-diphenylsulfone bismaleimide,
2,2-bis- (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl)
Propane, 2,2-bis- (4- (4-maleimidophenoxy)
Phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis- (4- (4
Maleimide compounds such as-(maleimidophenoxy) phenyl) sulfone and 2,2-bis- (4- (3-maleimidophenoxy) phenyl) sulfone or amines obtained by modifying these maleimide compounds with aromatic amine compounds or aromatic allyl compounds; An allyl-modified maleimide resin can be mentioned, and it is also possible to use one or a combination of two or more.

【0025】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、必要に応
じてアルミナ、溶融シリカ、結晶シリカ、クレー、タル
ク等の無機充填剤や、離型剤、難燃剤、カップリング剤
等の従来公知の添加剤を配合することもできる。
[0025] The thermosetting resin composition of the present invention may contain, if necessary, inorganic fillers such as alumina, fused silica, crystalline silica, clay, and talc, and mold release agents, flame retardants, and coupling agents. May be added.

【0026】[0026]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。実施例及び比較例において使用し
た触媒(硬化促進剤)の化学構造、及び略号を、以下に
まとめて示す。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. The chemical structures and abbreviations of the catalysts (curing accelerators) used in the examples and comparative examples are summarized below.

【0027】[0027]

【化4】 Embedded image

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】[0029]

【化6】 Embedded image

【0030】[0030]

【化7】 Embedded image

【0031】[0031]

【化8】 Embedded image

【0032】[0032]

【化9】 Embedded image

【0033】[0033]

【化10】 Embedded image

【0034】[0034]

【化11】 Embedded image

【0035】[0035]

【化12】 Embedded image

【0036】[0036]

【化13】 Embedded image

【0037】[0037]

【化14】 Embedded image

【0038】[0038]

【化15】 Embedded image

【0039】各種の触媒を熱硬化性樹脂中に配合して成
形材料を調製し、潜伏性の評価を行なった。材料の評価
には、スパイラルフロー、硬化トルク、および保存性
(スパイラルフロー残存率)を測定したが、それぞれ下
記の方法により行なった。 (1)スパイラルフロー EMMI−I−66に準じたスパイラルフロー測定用の
金型を用い、金型温度175℃、注入圧力70kg/c
m2、硬化時間2分の条件で測定した。スパイラルフロー
は流動性のパラメーターであり、値が大きいほど流動性
が良好である。
Various catalysts were mixed in a thermosetting resin to prepare a molding material, and the latency was evaluated. For evaluation of the material, spiral flow, curing torque, and storage stability (remaining rate of spiral flow) were measured. (1) Spiral flow Using a mold for spiral flow measurement according to EMMI-I-66, mold temperature 175 ° C, injection pressure 70 kg / c
The measurement was performed under the conditions of m 2 and curing time of 2 minutes. Spiral flow is a parameter of fluidity, with higher values indicating better fluidity.

【0040】(2)硬化トルク キュラストメーター(オリエンテック(株)製、JSR
キュラストメーターPS型)を用い、175℃、90秒
後のトルクを求めた。キュラストメーターにおけるトル
クは硬化性のパラメータであり、値の大きい方が硬化性
は良好である。
(2) Curing torque Curast meter (manufactured by Orientec Co., Ltd., JSR
(Curastometer PS type), and the torque after 175 ° C. and 90 seconds was determined. The torque in the curast meter is a parameter of curability, and the larger the value, the better the curability.

【0041】(3)保存性(スパイラルフロー残存率) 成形材料を25℃にて7日および30日間保存した後、
スパイラルフローを再測定し、材料調製直後に測定した
スパイラルフローの初期値に対する百分率(スパイラル
フロー残存率)を求め、保存性の指標とした。このスパ
イラルフロー残存率が大きい値を示すものほど、保存性
は良好であることを表す。
(3) Storage Property (Spiral Flow Residual Rate) After storing the molding material at 25 ° C. for 7 days and 30 days,
The spiral flow was measured again, and the percentage (spiral flow residual ratio) of the initial value of the spiral flow measured immediately after the preparation of the material was determined and used as an index of storage stability. The higher the value of the residual spiral flow, the better the storage stability.

【0042】(実施例1)軟化点65℃、エポキシ当量
210のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(日本化薬(株)製、EOCN−1025−65)67
重量部、軟化点105℃、水酸基当量104のフェノー
ルノボラック樹脂(住友デュレズ(株)製、PR−51
470)33重量部、潜伏性触媒として一般式[4]で
示される4PPB−CT(テトラフェニルホスホニウム
−ビス(カテコラト)ボレート)を3.5重量部、溶融
シリカ300重量部、及びカルナバワックス2重量部を
配合し、90℃で8分間ロール混練して成形材料を得
た。この成形材料のスパイラルフローは77cm、硬化
トルクは77kgf・cmであった。また、25℃・7
日間保存後のスパイラルフロー残存率は95%、25℃
・30日後の残存率は90%であった。
Example 1 Orthocresol novolak type epoxy resin having a softening point of 65 ° C. and an epoxy equivalent of 210 (EOCN-1025-65, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 67
Phenol novolak resin having a softening point of 105 ° C and a hydroxyl equivalent of 104 by weight (PR-51, manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.)
470) 33 parts by weight, 3.5 parts by weight of 4PPB-CT (tetraphenylphosphonium-bis (catecholate) borate) represented by the general formula [4] as a latent catalyst, 300 parts by weight of fused silica, and 2 parts by weight of carnauba wax Parts were blended and roll-kneaded at 90 ° C. for 8 minutes to obtain a molding material. The spiral flow of this molding material was 77 cm, and the curing torque was 77 kgf · cm. In addition, 25 ℃ ・ 7
Spiral flow retention after storage for 95 days is 95%, 25 ° C
-The residual ratio after 30 days was 90%.

【0043】(実施例2)潜伏性触媒として一般式
[5]で示される4PPB−SA(テトラフェニルホス
ホニウム−ビス(サリチラト)ボレート)を3.8重量
部配合した以外は、実施例1と同じ配合・操作により成
形材料を調製した。得られた材料のスパイラルフローは
80cm、硬化トルクは81kgf・cmであった。ま
た、25℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は
96%、25℃・30日後の残存率は92%であった。
Example 2 Same as Example 1 except that 3.8 parts by weight of 4PPB-SA (tetraphenylphosphonium-bis (salicylate) borate) represented by the general formula [5] was blended as a latent catalyst. A molding material was prepared by blending and operation. The spiral flow of the obtained material was 80 cm, and the curing torque was 81 kgf · cm. The spiral flow residual ratio after storage at 25 ° C. for 7 days was 96%, and the residual ratio after storage at 25 ° C. for 30 days was 92%.

【0044】(実施例3)潜伏性触媒として一般式
[6]で示される4PPB−DHN(テトラフェニルホ
スホニウム−ビス(2,3−ジオキシナフタレン)ボレ
ート)を4.1重量部配合した以外は、実施例1と同じ
配合・操作により成形材料を調製した。得られた材料の
スパイラルフローは77cm、硬化トルクは80kgf
・cmであった。また、25℃・7日あいだ保存後のス
パイラルフロー残存率は96%、25℃・30日後の残
存率は91%であった。
(Example 3) Except that 4.1 parts by weight of 4PPB-DHN (tetraphenylphosphonium-bis (2,3-dioxynaphthalene) borate) represented by the general formula [6] was blended as a latent catalyst. A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 1. The spiral flow of the obtained material is 77 cm, and the curing torque is 80 kgf.
Cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 96%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 91%.

【0045】(実施例4)潜伏性触媒として一般式
[7]で示される4PPB−HNA(テトラフェニルホ
スホニウム−ビス(3−オキシ−2−ナフトエート)ボ
レート)を4.4重量部配合した以外は、実施例1と同
じ配合・操作により成形材料を調製した。得られた材料
のスパイラルフローは81cm、硬化トルクは78kg
f・cmであった。また、25℃・7日間保存後のスパ
イラルフロー残存率は97%、25℃・30日後の残存
率は93%であった。
(Example 4) Except that 4.4 parts by weight of 4PPB-HNA (tetraphenylphosphonium-bis (3-oxy-2-naphthoate) borate) represented by the general formula [7] was blended as a latent catalyst. A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 1. The spiral flow of the obtained material is 81 cm, and the curing torque is 78 kg.
f · cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 97%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 93%.

【0046】(実施例5)潜伏性触媒として一般式
[8]で示される4PPB−OBP(テトラフェニルホ
スホニウム−ビス(2,2'−ジオキシビフェニル)ボレ
ート)を4.4重量部配合した以外は、実施例1と同じ
配合・操作により成形材料を調製した。得られた材料の
スパイラルフローは80cm、硬化トルクは75kgf
・cmであった。また、25℃・7日間保存後のスパイ
ラルフロー残存率は96%、25℃・30日後の残存率
は90%であった。
Example 5 Except for blending 4.4 parts by weight of 4PPB-OBP (tetraphenylphosphonium-bis (2,2'-dioxybiphenyl) borate) represented by the general formula [8] as a latent catalyst. Prepared a molding material by the same blending and operation as in Example 1. The spiral flow of the obtained material is 80 cm, and the curing torque is 75 kgf.
Cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C for 7 days was 96%, and the residual rate after storage at 25 ° C for 30 days was 90%.

【0047】(実施例6)潜伏性触媒として一般式
[9]で示される4PPB−BNP(テトラフェニルホ
スホニウム−ビス(1,1'−ビ−2−オキシナフタレ
ン)ボレート)を5.6重量部配合した以外は、実施例
1と同じ配合・操作により成形材料を調製した。得られ
た材料のスパイラルフローは85cm、硬化トルクは8
1kgf・cmであった。また、25℃・7日間保存後
のスパイラルフロー残存率は97%、25℃・30日後
の残存率は91%であった。
Example 6 As a latent catalyst, 5.6 parts by weight of 4PPB-BNP (tetraphenylphosphonium-bis (1,1′-bi-2-oxynaphthalene) borate) represented by the general formula [9] was used. Except for blending, a molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 1. The resulting material has a spiral flow of 85 cm and a curing torque of 8
It was 1 kgf · cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 97%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 91%.

【0048】(比較例1)触媒として一般式[10]で
示されるトリフェニルホスフィンを0.8重量部配合し
た以外は、実施例1と同じ配合・操作により成形材料を
調製した。得られた材料のスパイラルフローは71c
m、硬化トルクは73kgf・cmであった。また、2
5℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は64
%、25℃・30日後の残存率は53%であった。
Comparative Example 1 A molding material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.8 parts by weight of triphenylphosphine represented by the general formula [10] was blended as a catalyst. The spiral flow of the material obtained is 71c
m, the curing torque was 73 kgf · cm. Also, 2
Spiral flow retention after storage at 5 ° C for 7 days is 64
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 53%.

【0049】(比較例2)触媒として一般式[11]で
示される1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウ
ンデセンを0.3重量部配合した以外は、実施例1と同
じ配合・操作により成形材料を調製した。得られた材料
のスパイラルフローは70cm、硬化トルクは71kg
f・cmであった。また、25℃・7日間保存後のスパ
イラルフロー残存率は60%、25℃・30日後の残存
率は48%であった。
Comparative Example 2 The same as Example 1 except that 0.3 part by weight of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene represented by the general formula [11] was blended as a catalyst. A molding material was prepared by blending and operation. The resulting material has a spiral flow of 70 cm and a curing torque of 71 kg.
f · cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 60%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 48%.

【0050】(比較例3)触媒として一般式[12]で
示される2−メチルイミダゾールを0.3重量部配合し
た以外は、実施例1と同じ配合・操作により成形材料を
調製した。得られた材料のスパイラルフローは73c
m、硬化トルクは75kgf・cmであった。また、2
5℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は67
%、25℃・30日後の残存率は58%であった。
Comparative Example 3 A molding material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.3 parts by weight of 2-methylimidazole represented by the general formula [12] was blended as a catalyst. The spiral flow of the obtained material is 73c
m, the curing torque was 75 kgf · cm. Also, 2
The residual spiral flow after storage at 5 ° C for 7 days is 67
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 58%.

【0051】(比較例4)触媒として一般式[13]で
示されるテトラフェニルホスホニウム−テトラフェニル
ボレートを4.0重量部配合した以外は、実施例1と同
じ配合・操作により成形材料を調製した。得られた材料
のスパイラルフローは78cm、硬化トルクは61kg
f・cmであった。また、25℃・7日間保存後のスパ
イラルフロー残存率は95%、25℃・30日後の残存
率は83%であった。
Comparative Example 4 A molding material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 4.0 parts by weight of tetraphenylphosphonium-tetraphenylborate represented by the general formula [13] was blended as a catalyst. . The resulting material has a spiral flow of 78 cm and a curing torque of 61 kg.
f · cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 95%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 83%.

【0052】(比較例5)触媒として一般式[14]で
示される4PPB−ICA(テトラフェニルホスホニウ
ム−テトラキス(イソシアヌラト)ボレート)を3.3
重量部配合した以外は、実施例1と同じ配合・操作によ
り成形材料を調製した。得られた材料のスパイラルフロ
ーは70cm、硬化トルクは73kgf・cmであっ
た。また、25℃・7日間保存後のスパイラルフロー残
存率は93%、25℃・30日後の残存率は76%であ
った。
(Comparative Example 5) As a catalyst, 4PPB-ICA (tetraphenylphosphonium-tetrakis (isocyanurate) borate) represented by the general formula [14] was 3.3.
A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 1 except that it was blended in parts by weight. The spiral flow of the obtained material was 70 cm, and the curing torque was 73 kgf · cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 93%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 76%.

【0053】(比較例6)触媒として一般式[15]で
示される4PPB−BZ(テトラフェニルホスホニウム
−テトラキス(ベンゾトリアゾラト)ボレート)を2.
7重量部配合した以外は、実施例1と同じ配合・操作に
より成形材料を調製した。得られた材料のスパイラルフ
ローは74cm、硬化トルクは70kgf・cmであっ
た。また、25℃・7日間保存後のスパイラルフロー残
存率は91%、25℃・30日後の残存率は71%であ
った。
(Comparative Example 6) 4PPB-BZ (tetraphenylphosphonium-tetrakis (benzotriazolate) borate) represented by the general formula [15] was used as a catalyst.
A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 1, except that 7 parts by weight were blended. The spiral flow of the obtained material was 74 cm, and the curing torque was 70 kgf · cm. The residual ratio of the spiral flow after storage at 25 ° C. for 7 days was 91%, and the residual ratio after storage at 25 ° C. for 30 days was 71%.

【0054】実施例1〜6及び比較例1〜6の結果を、
それぞれ表1及び表2にまとめて示した。
The results of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 were
The results are summarized in Tables 1 and 2, respectively.

【表1】 [Table 1]

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】実施例1〜6の樹脂組成物は、いずれも製
造直後の流動性は適切で良好であり、また25℃・7日
間はもちろん、25℃・30日間保存後においても、す
べて90%以上のスパイラルフロー値を示し、長期の保
存安定性に優れていることが分かる。また、硬化トルク
も高い値を示し良好であった。
Each of the resin compositions of Examples 1 to 6 had appropriate and good fluidity immediately after production, and all of the resin compositions were 90% even after storage at 25 ° C. for 30 days as well as at 25 ° C. for 7 days. The above spiral flow values are shown, and it is understood that the long-term storage stability is excellent. In addition, the curing torque also showed a high value and was good.

【0057】これに対して、比較例1〜3の樹脂組成物
は、硬化トルクにおいては実施例同等の良好な値を示す
ものの、スパイラルフロー残存率は25℃・30日後で
は60%以下、25℃・7日後でも70%以下の低いレ
ベルにとどまった。また、比較例4では、スパイラルフ
ローやスパイラルフロー残存率では比較的良好な値を示
すものの、硬化トルクは実施例に比べて低く、硬化性が
悪かった。さらに、比較例5〜6は、スパイラルフロ
ー、硬化トルク、25℃・7日後のスパイラルフロー残
存率では比較的良好な値を示すものの、25℃・30日
後のスパイラルフロー残存率では実施例に比べて低い値
であった。
On the other hand, the resin compositions of Comparative Examples 1 to 3 exhibited good curing torque values equivalent to those of the Example, but had a spiral flow residual rate of 60% or less after 30 days at 25 ° C. Even after 7 days at 70 ° C, it remained at a low level of 70% or less. Further, in Comparative Example 4, although the spiral flow and the residual ratio of the spiral flow exhibited relatively good values, the curing torque was lower than in the examples, and the curability was poor. Furthermore, Comparative Examples 5 to 6 show relatively good values in spiral flow, curing torque, and residual ratio of spiral flow after 25 days at 25 ° C., however, compared with Examples in spiral flow residual ratio after 25 days and 30 days. Was low.

【0058】(実施例7)融点105℃、エポキシ当量
185のテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂(油化
シェルエポキシ(株)製、YX−4000H)52重量
部、軟化点95℃、水酸基当量177のパラキシレン型
フェノール樹脂(三井東圧化学(株)製、XL−22
5)を48重量部、潜伏性触媒として一般式[4]で示
される4PPB−CTを3.5重量部、溶融シリカ80
0重量部、及びカルナバワックス2重量部を配合し、9
0℃で8分間ロール混練して成形材料を調製した。この
成形材料のスパイラルフローは97cm、硬化トルクは
91kgf・cmであった。また、25℃・7日間保存
後のスパイラルフロー残存率は91%、25℃・30日
後の残存率は83%であった。
Example 7 52 parts by weight of a tetramethylbiphenyl type epoxy resin having a melting point of 105 ° C. and an epoxy equivalent of 185 (YX-4000H manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), a softening point of 95 ° C. and a hydroxyl equivalent of 177 Xylene type phenol resin (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc., XL-22)
5), 48 parts by weight, 3.5 parts by weight of 4PPB-CT represented by the general formula [4] as a latent catalyst, fused silica 80
0 parts by weight and 2 parts by weight of carnauba wax, 9
Roll kneading was performed at 0 ° C. for 8 minutes to prepare a molding material. The spiral flow of this molding material was 97 cm, and the curing torque was 91 kgf · cm. The residual spiral flow after storage at 25 ° C. for 7 days was 91%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 83%.

【0059】(実施例8)潜伏性触媒として一般式
[5]で示される4PPB−SAを3.8重量部配合し
た以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料を
調製した。得られた材料のスパイラルフローは105c
m、硬化トルクは88kgf・cmであった。また、2
5℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は90
%、25℃・30日後の残存率は83%であった。
Example 8 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 3.8 parts by weight of 4PPB-SA represented by the general formula [5] was blended as a latent catalyst. The spiral flow of the material obtained is 105c
m, the curing torque was 88 kgf · cm. Also, 2
Spiral flow retention after storage at 5 ° C for 7 days is 90
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 83%.

【0060】(実施例9)潜伏性触媒として一般式
[6]で示される4PPB−DHNを4.1重量部配合
した以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料
を調製した。得られた材料のスパイラルフローは110
cm、硬化トルクは90kgf・cmであった。また、
25℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は92
%、25℃・30日後の残存率は87%であった。
Example 9 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 4.1 parts by weight of 4PPB-DHN represented by the general formula [6] was blended as a latent catalyst. The spiral flow of the material obtained is 110
cm, and the curing torque was 90 kgf · cm. Also,
Spiral flow residual rate after storage at 25 ° C for 7 days is 92
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 87%.

【0061】(実施例10)潜伏性触媒として一般式
[7]で示される4PPB−HNAを4.4重量部配合
した以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料
を調製した。得られた材料のスパイラルフローは109
cm、硬化トルクは86kgf・cmであった。また、
25℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は94
%、25℃・30日後の残存率は86%であった。
Example 10 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 4.4 parts by weight of 4PPB-HNA represented by the general formula [7] was blended as a latent catalyst. The spiral flow of the material obtained is 109
cm, and the curing torque was 86 kgf · cm. Also,
Spiral flow retention after storage at 25 ° C for 7 days is 94
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 86%.

【0062】(実施例11)潜伏性触媒として一般式
[8]で示される4PPB−OBPを4.4重量部配合
した以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料
を調製した。得られた材料のスパイラルフローは99c
m、硬化トルクは90kgf・cmであった。また、2
5℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は91
%、25℃・30日後の残存率は81%であった。
Example 11 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 4.4 parts by weight of 4PPB-OBP represented by the general formula [8] was blended as a latent catalyst. The spiral flow of the material obtained is 99c
m, the curing torque was 90 kgf · cm. Also, 2
Spiral flow residual rate after storage at 5 ° C for 7 days is 91
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 81%.

【0063】(実施例12)潜伏性触媒として一般式
[9]で示される4PPB−BNPを5.6重量部配合
した以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料
を調製した。得られた材料のスパイラルフローは104
cm、硬化トルクは91kgf・cmであった。また、
25℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は94
%、25℃・30日後の残存率は82%であった。
Example 12 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 5.6 parts by weight of 4PPB-BNP represented by the general formula [9] was blended as a latent catalyst. The spiral flow of the resulting material is 104
cm, and the curing torque was 91 kgf · cm. Also,
Spiral flow retention after storage at 25 ° C for 7 days is 94
%, The residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 82%.

【0064】(比較例7)触媒として一般式[10]で
示されるトリフェニルホスフィンを0.8重量部配合し
た以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料を
調製した。得られた材料のスパイラルフローは86c
m、硬化トルクは89kgf・cmであった。また、2
5℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は59
%、25℃・30日後の残存率は43%であった。
Comparative Example 7 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 0.8 parts by weight of triphenylphosphine represented by the general formula [10] was blended as a catalyst. The spiral flow of the material obtained is 86c
m, the curing torque was 89 kgf · cm. Also, 2
The residual spiral flow after storage at 5 ° C for 7 days is 59.
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 43%.

【0065】(比較例8)触媒として一般式[11]で
示される1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウ
ンデセンを0.3重量部にした以外は実施例7と同じ配
合・操作により成形材料を調製した。得られた材料のス
パイラルフローは84cm、硬化トルクは84kgf・
cmであった。また、25℃・7日間保存後のスパイラ
ルフロー残存率は51%、25℃・30日後の残存率は
40%であった。
Comparative Example 8 The same formulation as in Example 7 except that 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene represented by the general formula [11] was used in an amount of 0.3 part by weight as a catalyst. -A molding material was prepared by the operation. The resulting material has a spiral flow of 84 cm and a curing torque of 84 kgf ·
cm. The residual spiral flow after storage at 25 ° C. for 7 days was 51%, and the residual ratio after storage at 25 ° C. for 30 days was 40%.

【0066】(比較例9)触媒として一般式[12]で
示される2−メチルイミダゾールを0.3重量部配合し
た以外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料を
調製した。得られた材料のスパイラルフローは81c
m、硬化トルクは88kgf・cmであった。また、2
5℃・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は55
%、25℃・30日後の残存率は41%であった。
Comparative Example 9 A molding material was prepared in the same manner as in Example 7, except that 0.3 parts by weight of 2-methylimidazole represented by the general formula [12] was blended as a catalyst. The spiral flow of the obtained material is 81c
m, the curing torque was 88 kgf · cm. Also, 2
Spiral flow residual rate after storage at 5 ° C for 7 days is 55
%, And the residual ratio after 30 days at 25 ° C. was 41%.

【0067】(比較例10)触媒として一般式[13]
で示されるテトラフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレートを4.0重量部配合した以外は、実施例7と同
じ配合・操作により成形材料を調製した。得られた材料
のスパイラルフローは204cm、硬化トルクは38k
gf・cmであった。また、25℃・7日間保存後のス
パイラルフロー残存率は98%、25℃・30日後の残
存率は86%であった。
(Comparative Example 10) A general formula [13] as a catalyst
A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 7, except that 4.0 parts by weight of tetraphenylphosphonium tetraphenylborate represented by the formula (1) was blended. The resulting material has a spiral flow of 204 cm and a curing torque of 38 k.
gf · cm. The spiral flow residual rate after storage at 25 ° C. for 7 days was 98%, and the residual rate after storage at 25 ° C. for 30 days was 86%.

【0068】(比較例11)触媒として一般式[14]
で示される4PPB−ICAを3.3重量部配合した以
外は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料を調製
した。得られた材料のスパイラルフローは101cm、
硬化トルクは90kgf・cmであった。また、25℃
・7日間保存後のスパイラルフロー残存率は91%、2
5℃・30日後の残存率は76%であった。
(Comparative Example 11) A catalyst represented by the general formula [14]
A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 7, except that 3.3 parts by weight of 4PPB-ICA represented by. The spiral flow of the obtained material is 101 cm,
The curing torque was 90 kgf · cm. 25 ° C
-Spiral flow residual rate after storage for 7 days is 91%, 2
The residual rate after 30 days at 5 ° C. was 76%.

【0069】(比較例12)触媒として一般式[15]
で示される4PPB−BZを2.7重量部配合した以外
は、実施例7と同じ配合・操作により成形材料を調製し
た。得られた材料のスパイラルフローは96cm、硬化
トルクは87kgf・cmであった。また、25℃・7
日間保存後のスパイラルフロー残存率は89%、25℃
・30日後の残存率は70%であった。
(Comparative Example 12) A catalyst represented by the general formula [15]
A molding material was prepared by the same blending and operation as in Example 7, except that 2.7 parts by weight of 4PPB-BZ represented by the following formula was blended. The spiral flow of the obtained material was 96 cm, and the curing torque was 87 kgf · cm. In addition, 25 ℃ ・ 7
Spiral flow retention after storage for 89 days is 89%, 25 ° C
-The residual ratio after 30 days was 70%.

【0070】実施例7〜12及び比較例7〜12の結果
を、それぞれ表3及び表4にまとめて示した。
The results of Examples 7 to 12 and Comparative Examples 7 to 12 are summarized in Tables 3 and 4, respectively.

【表3】 [Table 3]

【0071】[0071]

【表4】 [Table 4]

【0072】実施例7〜12の樹脂組成物は、いずれも
製造直後の流動性は適切で良好であり、また25℃・7
日間はもちろん、25℃・30日間保存後においても、
すべて80%以上のスパイラルフロー値を示し、長期の
保存安定性に優れていることが分かる。また、硬化トル
クも高い値を示し良好であった。
All of the resin compositions of Examples 7 to 12 had appropriate and good fluidity immediately after production, and had a temperature of 25 ° C.
After storage for 30 days at 25 ° C, of course,
All of them show a spiral flow value of 80% or more, which indicates that they have excellent long-term storage stability. In addition, the curing torque also showed a high value and was good.

【0073】これに対して、比較例7〜9の樹脂組成物
は、硬化トルクにおいては実施例同等の良好な値を示す
ものの、スパイラルフロー残存率は25℃・30日後で
は50%以下、25℃・7日後でも60%以下の低いレ
ベルにとどまった。また、比較例11では、スパイラル
フローやスパイラルフロー残存率では比較的良好な値を
示すものの、硬化トルクは実施例に比べて低く、硬化性
が悪かった。また、比較例11〜12は、スパイラルフ
ロー、硬化トルク、25℃・7日後のスパイラルフロー
残存率では比較的良好な値を示すものの、25℃・30
日後のスパイラルフロー残存率は、実施例に比べて低い
値であった。
On the other hand, the resin compositions of Comparative Examples 7 to 9 exhibited good curing torque equivalent to that of the Example, but had a residual spiral flow of 50% or less after 25 days at 25 ° C. Even after 7 days at ℃, it remained at a low level of 60% or less. In Comparative Example 11, although the spiral flow and the residual ratio of the spiral flow exhibited relatively good values, the curing torque was lower than in the examples, and the curability was poor. In Comparative Examples 11 to 12, although the spiral flow, the curing torque, and the residual ratio of the spiral flow after 7 days at 25 ° C. show relatively good values, 25 ° C./30
The spiral flow residual rate after the day was a lower value than in the examples.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明で用いられる潜伏性触媒は、常温
においては触媒作用を発現することなく、加熱時には優
れた触媒作用を発揮する。これを用いた熱硬化性樹脂組
成物は、長期間にわたって安定に保存することが可能で
あり、また、成形時には加熱によって速やかに硬化し、
良好な成形性及び高品質な成形品を与える。本発明によ
る潜伏性触媒を配合してなるエポキシ樹脂及びマレイミ
ド樹脂の組成物は、特に電子電気部品用として有用であ
る。
According to the present invention, the latent catalyst used in the present invention does not exhibit a catalytic action at room temperature but exhibits an excellent catalytic action when heated. The thermosetting resin composition using this can be stably stored for a long period of time, and is quickly cured by heating during molding,
Provides good moldability and high quality molded products. The epoxy resin and maleimide resin compositions containing the latent catalyst according to the present invention are particularly useful for electronic and electrical parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大久保 明子 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 小林 稔 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Akiko Okubo 2-58-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Inventor Minoru Kobayashi 2-5-2-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱硬化性樹脂の硬化を促進させる潜伏性
触媒として、一般式[1]で表されるテトラ置換ホスホ
ニウムテトラ置換ボレートを配合してなることを特徴と
する熱硬化性樹脂組成物。 【化1】 式中、R1〜R4は、芳香環若しくは複素環を有する有機
基又は1価の脂肪族基であり、それらは互いに同一であ
っても異なっていてもよい。Arは、置換基X,Yを分
子内に有する芳香環若しくは複素環を含む基である。ま
た、XおよびYは、1価のプロトン供与性置換基がプロ
トンを放出してなる基であり、同一Ar分子内の置換基
X,Yがホウ素原子と結合してキレート環を形成する。
1. A thermosetting resin composition comprising a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1] as a latent catalyst for accelerating the curing of the thermosetting resin. . Embedded image In the formula, R 1 to R 4 are an organic group having an aromatic ring or a hetero ring or a monovalent aliphatic group, which may be the same or different. Ar is a group containing an aromatic ring or a heterocyclic ring having substituents X and Y in the molecule. X and Y are groups in which a monovalent proton-donating substituent emits a proton, and the substituents X and Y in the same Ar molecule combine with a boron atom to form a chelate ring.
【請求項2】 熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂及びマレ
イミド樹脂からなる群から選択される、1種または2種
以上の樹脂系であることを特徴とする、請求項1記載の
熱硬化性樹脂組成物。
2. The thermosetting resin according to claim 1, wherein the thermosetting resin is at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin and a maleimide resin. Composition.
【請求項3】 一般式[1]で表されるテトラ置換ホス
ホニウムテトラ置換ボレートの内、X−Ar−Yで表さ
れるプロトン供与体がプロトンを2個放出してなる基
が、多官能芳香族カルボン酸または多価フェノール化合
物がプロトンを2個放出してなる基である、請求項1も
しくは請求項2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
3. A group obtained by releasing two protons from a proton donor represented by X—Ar—Y in a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate represented by the general formula [1] is a polyfunctional aromatic compound. The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein the aromatic carboxylic acid or the polyhydric phenol compound is a group that releases two protons.
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