JPH09328535A - Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the same - Google Patents

Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the same

Info

Publication number
JPH09328535A
JPH09328535A JP8149061A JP14906196A JPH09328535A JP H09328535 A JPH09328535 A JP H09328535A JP 8149061 A JP8149061 A JP 8149061A JP 14906196 A JP14906196 A JP 14906196A JP H09328535 A JPH09328535 A JP H09328535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
thermosetting resin
resin composition
resin
epoxy resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8149061A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3217266B2 (en
Inventor
Hiromi Honda
博美 本田
Yoshiyuki Go
義幸 郷
Akiko Okubo
明子 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP14906196A priority Critical patent/JP3217266B2/en
Publication of JPH09328535A publication Critical patent/JPH09328535A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3217266B2 publication Critical patent/JP3217266B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a catalyst which does not exhibit catalytic activity at normal temp., enabling a thermosetting resin compsn. to be stored stably for a long term, and exhibits an excellent catalytic activity when heated during molding by selecting a specific phosphonium borate compd. as the catalyst. SOLUTION: This catalyst is a phosphonium borate compd. represented by formula I (wherein R<1> to R<4> are each a monovalent org. group having an arom. or heterocyclic ring or a monovalent aliph. group; and Y<1> to Y<4> are each R<1> provided at least one of them is a group formed by removing a proton from a proton donor selected from among an arom. polycarboxylic acid, an arom. carboxylic acid having at least one acid anhydride group and at least one carboxyl group, a polyphenol compd., and an arom. compd. having at least one carboxyl group and at least one phenolic hydroxyl group) (e.g. a compd. represented by formula II). A thermosetting resin compsn. is prepd. by incorporating the catalyst into a thermosetting resin (pref. an epoxy resin and/or a maleimide resin).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、潜伏性触媒及び該
触媒を配合してなる熱硬化性樹脂組成物に関する。更に
詳しくは、本発明は、種々の熱硬化性樹脂、特にエポキ
シ樹脂及びマレイミド系樹脂に配合して、常温において
は触媒作用を発現することなく長期間にわたって樹脂組
成物を安定に保存することが可能であり、成形時に加熱
すると優れた触媒作用を発揮して良好な成形性及び高品
質の成形品を与えることができる潜伏性触媒、及び該潜
伏性触媒を配合してなる、特に電子電気部品用として有
用な熱硬化性樹脂組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a latent catalyst and a thermosetting resin composition containing the catalyst. More specifically, the present invention can mix various thermosetting resins, particularly epoxy resins and maleimide resins, and stably store the resin composition for a long period of time without exhibiting a catalytic action at room temperature. A latent catalyst which is capable of exerting an excellent catalytic action when heated at the time of molding and can give a molded product having good moldability and high quality, and particularly an electronic / electrical component comprising the latent catalyst. The present invention relates to a thermosetting resin composition which is useful for use.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱硬化性樹脂は、一般的には成形時にお
ける樹脂の硬化を速めるために触媒を配合して用いる。
例えば、エポキシ樹脂の場合、硬化触媒としては、アミ
ン類(特開昭58−173852号公報)、イミダゾー
ル系化合物(特開昭56−160056号公報、特開昭
57−59365号公報、特開昭57−100128号
公報)、ジアザビシクロウンデセン(特開昭56−94
761号公報、特開昭59−75923号公報)などの
含窒素複素環式化合物、オルガノシリコーン系化合物
(特開昭56−133855号公報)、オルガノホスフ
ィン系化合物(特開昭56−130953号公報、特開
昭57−2329号公報)、第4級アンモニウム、ホス
ホニウムあるいはアルソニウム化合物(特開昭55−1
53358号公報、特開昭57−194555号公報、
特開昭58−119656号公報他)など種々の化合物
が使用されている。また、マレイミド系樹脂は熱のみで
硬化させることもできるが、硬化により得られる成形品
の性質は、一般的には触媒を用いて硬化した場合の方が
良好である。マレイミド系樹脂の硬化触媒としては、ア
ゾ化合物、有機過酸化物のようなラジカル重合開始剤
(特開平5−51418号公報)、アミン類、イミダゾ
ール系化合物(特開平4−351629号公報)、オル
ガノホスフィン系化合物(特開昭61−233017号
公報、特開平1−45426号公報)、第4級アンモニ
ウムあるいはホスホニウム化合物などのイオン触媒な
ど、種々の化合物が使用されている。
2. Description of the Related Art A thermosetting resin is generally used by blending a catalyst in order to accelerate the curing of the resin during molding.
For example, in the case of an epoxy resin, amines (JP-A-58-173852), imidazole compounds (JP-A-56-160056, JP-A-57-59365, JP-A-57-59365) are used as curing catalysts. 57-100128), diazabicycloundecene (JP-A-56-94).
761 and JP-A-59-75923), nitrogen-containing heterocyclic compounds, organosilicon compounds (JP-A-56-133855), organophosphine compounds (JP-A-56-130953). , JP-A-57-2329), quaternary ammonium, phosphonium or arsonium compounds (JP-A-55-1).
53358, JP-A-57-194555,
Various compounds such as JP-A-58-119656) are used. Further, the maleimide resin can be cured only by heat, but the properties of the molded product obtained by curing are generally better when cured using a catalyst. As a curing catalyst for the maleimide-based resin, an azo compound, a radical polymerization initiator such as an organic peroxide (JP-A-5-51418), amines, an imidazole-based compound (JP-A-4-351629), an organo Various compounds such as phosphine compounds (JP-A-61-233017, JP-A-1-45426), ion catalysts such as quaternary ammonium or phosphonium compounds are used.

【0003】一般に使用される触媒は、常温などの比較
的低温においても硬化促進効果を示す場合が多いため、
例えば、樹脂と他の配合成分とを混合する際の加熱又は
発熱によって樹脂の硬化を進行させるほか、混合したの
ち樹脂組成物を常温で保存する間にも硬化反応を進める
ために、樹脂組成物の品質、特に溶融粘度の上昇、流動
性の低下による硬化性のばらつきなどを生じやすく、成
形上の障害や成形品の機械的、電気的また化学的特性の
低下の原因となっている。従って、このような触媒を用
いる際には、諸成分との混合時の品質管理を厳重にし、
しかも保存や運搬に当たっては低温に保ち、更に成形条
件の厳密な管理が必要であるなどの煩雑さを避けられな
かった。そのため、近年は常温のような比較的低温では
樹脂の硬化反応を進行させず、成形時に加熱された際に
のみ硬化反応を促進するいわゆる潜伏性触媒を開発する
ための多くの研究が行われているが、その1つに触媒の
活性点をイオン対化し保護基でキャップする潜伏性触媒
がある。例えば、特公昭51−24399号公報には、
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート
(以下TPP−Kという)が、常温保存性及び硬化性改
善に有効であることが記載されている。しかし、TPP
−Kは、カチオン性のテトラフェニルホスホニウム基と
アニオン性のテトラフェニルボレート基のイオン結合が
強力で、融点は300℃以上となり、熱硬化性樹脂組成
物に練り込んでも均一に分散することできないため、触
媒活性が低くなり、成形時に良好な硬化反応性を発現す
ることができない。
Generally used catalysts often exhibit a curing acceleration effect even at a relatively low temperature such as room temperature.
For example, in order to accelerate the curing reaction of the resin by heating or heat generation when mixing the resin and other compounding ingredients, and to promote the curing reaction even after the resin composition is stored at room temperature after mixing, the resin composition Quality, in particular, an increase in melt viscosity and a variation in curability due to a decrease in fluidity are liable to occur, which is a cause of molding problems and deterioration of mechanical, electrical and chemical properties of a molded product. Therefore, when using such a catalyst, strict quality control at the time of mixing with various components,
In addition, it is inevitable to keep it at a low temperature for storage and transportation and to strictly control molding conditions. Therefore, in recent years, many studies have been conducted to develop a so-called latent catalyst that does not progress the curing reaction of the resin at a relatively low temperature such as room temperature and promotes the curing reaction only when heated during molding. One of them is a latent catalyst that ionizes the active site of the catalyst and caps it with a protecting group. For example, Japanese Patent Publication No. 51-24399 discloses that
It is described that tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (hereinafter referred to as TPP-K) is effective in improving the room temperature storage stability and curability. However, TPP
-K has a strong ionic bond between a cationic tetraphenylphosphonium group and an anionic tetraphenylborate group, has a melting point of 300 ° C or higher, and cannot be uniformly dispersed even when kneaded into a thermosetting resin composition. However, the catalytic activity becomes low, and good curing reactivity cannot be exhibited during molding.

【0004】アニオン部とカチオン部のイオン結合が程
よい強さであり、潜伏性触媒として好ましい挙動を示
し、熱硬化性樹脂にドライブレンド可能な触媒の研究が
なされ、特公平5−76490号公報には、潜伏性触媒
としてテトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートが提
案されている。提案されているテトラ置換ホスホニウム
テトラ置換ボレートのボロン側の置換基は炭化水素基
で、その内の少なくとも1個は炭素数1〜6個のアルキ
ル基である。いずれの場合においても、成形時の硬化反
応の際には保護基であるテトラ置換ボレート基は外れ、
触媒の活性点が露出し硬化反応が進行するが、この保護
基であるテトラ置換ボレート基は硬化反応時の高温によ
り分解する。この分解物はボロン側の置換基により異な
るが、マトリックスと異質のものとして硬化物中に分散
したり、場合によっては揮発分として発生することが考
えられ、熱硬化性樹脂組成物の最終硬化物特性に悪影響
を及ぼす可能性がある。
A ionic bond between an anion part and a cation part has a moderate strength, and it exhibits a preferable behavior as a latent catalyst, and a catalyst which can be dry blended with a thermosetting resin has been studied, and it is disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-76490. Proposed a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate as a latent catalyst. The boron-side substituent of the proposed tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate is a hydrocarbon group, at least one of which is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. In any case, the tetra-substituted borate group, which is a protecting group, is removed during the curing reaction during molding,
Although the active sites of the catalyst are exposed and the curing reaction proceeds, the tetra-substituted borate group, which is this protecting group, is decomposed by the high temperature during the curing reaction. Although this decomposed product varies depending on the substituents on the boron side, it may be dispersed in the cured product as a substance different from the matrix, or in some cases generated as a volatile component, and thus the final cured product of the thermosetting resin composition. It may adversely affect the characteristics.

【0005】一方、この熱硬化性樹脂組成物が用いられ
ている有力な分野として、IC、LSIなどの半導体素
子や電気部品などの封止用材料がある。従来より特性や
コストのバランスの点から、エポキシ樹脂組成物が広く
用いられている。このようなエポキシ樹脂封止材におい
て、従来用いられている硬化促進剤は、2−メチルイミ
ダゾール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ
セン−7、トリフェニルホスフィンなどであるが、これ
らの硬化促進剤は前述のように比較的低温でも硬化促進
効果を示すため、これらを用いたエポキシ樹脂封止材は
常温における保存性が悪く、そのため、常温で保存する
と成形時の流動性の低下から充填不良が発生したり、I
Cチップの金ワイヤーが断線し、導通不良が発生するな
どの問題点が生じる。このためエポキシ樹脂封止材は冷
蔵保存及び冷蔵輸送する必要があり、保存、輸送に多大
なコストがかかっているのが現状である。
On the other hand, as a promising field in which the thermosetting resin composition is used, there is a sealing material for semiconductor elements such as IC and LSI and electric parts. Conventionally, epoxy resin compositions have been widely used from the viewpoint of characteristics and cost balance. In such an epoxy resin encapsulant, conventionally used curing accelerators are 2-methylimidazole, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, triphenylphosphine, etc. As described above, the curing accelerators have a curing-accelerating effect even at a relatively low temperature, so the epoxy resin encapsulants using these have poor storage stability at room temperature, and therefore, storage at room temperature reduces fluidity during molding. From the filling failure, I
The gold wire of the C chip is broken, which causes problems such as poor conduction. For this reason, the epoxy resin encapsulant needs to be refrigerated and transported under refrigeration, and the present situation is that storage and transportation are very costly.

【0006】更に近年は、IC、LSIなどの半導体封
止材料における最も大きな問題として、パッケージを実
装する際に発生するクラック、いわゆる半田クラックの
問題がある。この耐半田性を改良するために、無機充填
材を多く含む樹脂組成物が開発されている。多量の無機
充填材の配合を可能とする方法としては、無機充填材の
粒度分布や形状の選択や、エポキシ樹脂の低粘度化など
がある。しかし、樹脂の低粘度化のために樹脂の分子量
を小さくすると、分子が動き易くなって反応の初期段階
では架橋反応が速やかに進み、従って樹脂混練時に架橋
反応が一部進んで所定の流動性が発現せず、また同じ理
由から常温でも反応が起こりやすいので樹脂組成物の常
温保存性が低下するという欠点がある。更に、分子量の
低い樹脂は、初期の反応性は高いが反応の最終段階にお
いては逆に架橋密度が十分に上がらず、封止樹脂が十分
に硬化しないという問題がある。このような半導体封止
材料の最終硬化物特性に対する要求は、特に厳しく、よ
り高品質であることが望まれている。
Further, in recent years, the biggest problem in semiconductor encapsulation materials such as ICs and LSIs is the problem of so-called solder cracks that occur when a package is mounted. In order to improve this solder resistance, resin compositions containing a large amount of inorganic filler have been developed. As a method for enabling the blending of a large amount of inorganic filler, there are selection of particle size distribution and shape of the inorganic filler, and reduction of viscosity of the epoxy resin. However, if the molecular weight of the resin is reduced to reduce the viscosity of the resin, the molecules move easily and the crosslinking reaction proceeds rapidly in the initial stage of the reaction. Does not appear, and for the same reason, the reaction is likely to occur even at room temperature, and thus there is a drawback that the storage stability at room temperature of the resin composition decreases. Further, a resin having a low molecular weight has a high initial reactivity, but in the final stage of the reaction, on the contrary, there is a problem that the crosslinking density is not sufficiently increased and the sealing resin is not sufficiently cured. The requirements for the final cured product properties of such semiconductor encapsulation materials are particularly strict, and higher quality is desired.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、常温におい
ては触媒作用を発現することなく長期間にわたって樹脂
組成物を安定に保存することが可能であり、成形時に加
熱すると優れた触媒作用を発揮して良好な硬化性及び高
品質の成形品を与えることができる潜伏性触媒、及び、
該潜伏性触媒を配合してなる、特に電子電気部品用とし
て有用な熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とし
てなされたものである。
The present invention is capable of stably storing a resin composition for a long period of time without exhibiting a catalytic action at room temperature, and exhibits an excellent catalytic action when heated during molding. A latent catalyst capable of giving a good curability and a high-quality molded article, and
The purpose of the present invention is to provide a thermosetting resin composition containing the latent catalyst, which is particularly useful for electronic and electric parts.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定構造を有す
るテトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートが、熱硬
化性樹脂に配合されたとき、常温においては優れた保存
安定性を、加熱成形時においては優れた硬化性を示し、
且つその最終硬化物は従来用いられている触媒を用いた
場合と比較して何ら劣ることのない物性を示すことを見
いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that when a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate having a specific structure is blended with a thermosetting resin. , Shows excellent storage stability at room temperature, and shows excellent curability during heat molding,
Moreover, they have found that the final cured product has physical properties that are not inferior to those obtained when a conventionally used catalyst is used, and the present invention has been completed based on this finding.

【0009】すなわち、本発明は、(1)一般式[1]
で示されるホスホニウムボレートからなる潜伏性触媒、
That is, the present invention provides (1) general formula [1]
A latent catalyst consisting of phosphonium borate,

【化5】 (ただし、式中、R1、R2、R3及びR4は、芳香環若し
くは複素環を有する1価の有機基又は1価の脂肪族基で
あり、それらは互いに同一であっても異なっていてもよ
い。また、Y1、Y2、Y3及びY4は芳香環若しくは複素
環を有する1価の有機基又は1価の脂肪族基であって、
それらのうちの少なくとも1つは、分子内に2個以上の
カルボキシル基を有する芳香族多価カルボン酸、1分子
内に酸無水物基とカルボキシル基とをそれぞれ少なくと
も1個有する芳香族カルボン酸、1分子内に2個以上の
水酸基を有する多価フェノール化合物、及び1分子内に
カルボキシル基とフェノール性水酸基とをそれぞれ少な
くとも1個有する芳香族化合物の群から選ばれるプロト
ン供与体がプロトンを1個放出してなる基であり、それ
らは互いに同一であっても異なっていてもよい。)
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are monovalent organic groups or monovalent aliphatic groups having an aromatic ring or a heterocycle, and they may be the same or different. Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each a monovalent organic group or a monovalent aliphatic group having an aromatic ring or a heterocycle,
At least one of them is an aromatic polycarboxylic acid having two or more carboxyl groups in the molecule, an aromatic carboxylic acid having at least one acid anhydride group and one carboxyl group in the molecule, A proton donor selected from the group consisting of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule and an aromatic compound having at least one carboxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule has one proton. These groups are released groups, and they may be the same or different from each other. )

【0010】(2)熱硬化性樹脂100重量部及び請求
項1記載の潜伏性触媒0.4〜20重量部を含有するこ
とを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、(3)熱硬化性樹
脂が、エポキシ樹脂及びマレイミド系樹脂からなる群か
ら選択される1種以上の樹脂である請求項2項記載の熱
硬化性樹脂組成物、(4)熱硬化性樹脂組成物が、更に
オキシラン反応性硬化剤を含有する請求項3記載の熱硬
化性樹脂組成物、(5)オキシラン反応性硬化剤が、ジ
アミン、ポリアミン、酸無水物及びフェノール性化合物
よりなる群より選択される1種以上の化合物である請求
項4記載の熱硬化性樹脂組成物、(6)マレイミド系樹
脂が、アルケニルフェノールを含有する樹脂である請求
項3記載の熱硬化性樹脂組成物、(7)(A)1分子内
にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、(B)1
分子内にフェノール性水酸基を2個以上有するフェノー
ル樹脂、(C)請求項1記載の潜伏性触媒、及び(D)
無機充填材を含有し、エポキシ樹脂(A)のエポキシ基
とフェノール樹脂(B)のフェノール性水酸基の当量比
が0.5〜2であり、潜伏性触媒(C)の含有量が、エ
ポキシ樹脂とフェノール樹脂の合計量100重量部当た
り0.4〜20重量部であり、無機充填材(D)の含有
量が、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の合計量100重
量部当たり200〜2400重量部であることを特徴と
する熱硬化性樹脂組成物、(8)エポキシ樹脂(A)
が、融点50〜150℃の結晶性エポキシ樹脂である請
求項7記載の熱硬化性樹脂組成物、(9)無機充填材
(D)の含有量が、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の合
計量100重量部当たり250〜1400重量部である
請求項7又は8記載の熱硬化性樹脂組成物、(10)結
晶性エポキシ樹脂が、一般式[2]、一般式[3]又は
一般式[4]で示される化合物である請求項8又は9記
載の熱硬化性樹脂組成物
(2) A thermosetting resin composition comprising 100 parts by weight of a thermosetting resin and 0.4 to 20 parts by weight of the latent catalyst according to claim 1, (3) a thermosetting composition The thermosetting resin composition according to claim 2, wherein the resin is one or more resins selected from the group consisting of epoxy resins and maleimide resins, and (4) the thermosetting resin composition further comprises an oxirane reaction. A thermosetting resin composition according to claim 3 containing a hydrophilic curing agent, and (5) the oxirane-reactive curing agent is one or more selected from the group consisting of diamines, polyamines, acid anhydrides and phenolic compounds. The thermosetting resin composition according to claim 4, which is a compound, and (6) the maleimide resin is a resin containing alkenylphenol. The thermosetting resin composition according to claim 3, (7) (A) 1 Two epoxy groups in the molecule Epoxy resin having the above, (B) 1
A phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in the molecule, (C) the latent catalyst according to claim 1, and (D)
It contains an inorganic filler, the equivalent ratio of the epoxy groups of the epoxy resin (A) and the phenolic hydroxyl group of the phenol resin (B) is 0.5 to 2, and the content of the latent catalyst (C) is epoxy resin. And the total amount of the phenol resin is 0.4 to 20 parts by weight per 100 parts by weight, and the content of the inorganic filler (D) is 200 to 2400 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin. (8) Epoxy resin (A), which is a thermosetting resin composition
Is a crystalline epoxy resin having a melting point of 50 to 150 ° C., and the thermosetting resin composition according to claim 7, wherein the content of the inorganic filler (D) is (9) the total amount of the epoxy resin and the phenol resin is 100 wt. The thermosetting resin composition according to claim 7 or 8, wherein the crystalline epoxy resin (10) is 250 to 1400 parts by weight per part by the general formula [2], the general formula [3] or the general formula [4]. The thermosetting resin composition according to claim 8 or 9, which is a compound shown.

【0011】[0011]

【化6】 (ただし、式中、R5は水素、炭素数1〜6の鎖状もし
くは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から選
択される基又は原子であり、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。)
[Chemical 6] (In the formula, R 5 is a group or atom selected from hydrogen, a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen, and they are the same or different. May be.)

【0012】[0012]

【化7】 (ただし、式中、R6は水素、炭素数1〜6の鎖状もし
くは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から選
択される基又は原子であり、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。)
[Chemical 7] (In the formula, R 6 is a group or atom selected from hydrogen, a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen, and they may be the same or different. May be.)

【0013】[0013]

【化8】 (ただし、式中、R7は水素、炭素数1〜6の鎖状もし
くは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から選
択される基又は原子であり、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。)を提供するものである。
Embedded image (In the formula, R 7 is a group or atom selected from hydrogen, a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen, and they may be the same or different. May be provided).

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の潜伏性触媒は、一般式
[1]で示されるホスホニウムボレートからなる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The latent catalyst of the present invention comprises phosphonium borate represented by the general formula [1].

【化9】 Embedded image

【0015】ただし、一般式[1]において、ホスホニ
ウム基のR1、R2、R3及びR4は、芳香環若しくは複素
環を有する1価の有機基又は1価の脂肪族基であり、そ
れらは互いに同一であっても異なっていてもよい。この
ようなホスホニウム基としては、例えば、テトラフェニ
ルホスホニウム基、テトラトリルホスホニウム基、テト
ラエチルフェニルホスホニウム基、テトラメトキシフェ
ニルホスホニウム基、テトラナフチルホスホニウム基、
テトラベンジルホスホニウム基、エチルトリフェニルホ
スホニウム基、n−ブチルトリフェニルホスホニウム
基、2−ヒドロキシエチルトリフェニルホスホニウム
基、トリメチルフェニルホスホニウム基、メチルジエチ
ルフェニルホスホニウム基、メチルジアリルフェニルホ
スホニウム基、テトラ−n−ブチルホスホニウム基など
を挙げることができる。一般式[1]において、R1
2、R3及びR4は、芳香環を有する1価の有機基であ
ることが特に好ましく、また、一般式[1]で示される
ホスホニウムボレートの融点は特に限定されるものでは
ないが、均一分散の点からは250℃以下であることが
好ましい。特に、テトラフェニルホスホニウム基を有す
るホスホニウムボレートは、熱硬化性樹脂との相溶性が
良好であり、好適に使用することができる。
However, in the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 and R 4 of the phosphonium group are monovalent organic groups having an aromatic ring or a heterocycle or monovalent aliphatic groups, They may be the same or different from each other. Examples of such phosphonium group include, for example, tetraphenylphosphonium group, tetratolylphosphonium group, tetraethylphenylphosphonium group, tetramethoxyphenylphosphonium group, tetranaphthylphosphonium group,
Tetrabenzylphosphonium group, ethyltriphenylphosphonium group, n-butyltriphenylphosphonium group, 2-hydroxyethyltriphenylphosphonium group, trimethylphenylphosphonium group, methyldiethylphenylphosphonium group, methyldiallylphenylphosphonium group, tetra-n-butyl Examples thereof include a phosphonium group. In the general formula [1], R 1 ,
R 2 , R 3 and R 4 are particularly preferably a monovalent organic group having an aromatic ring, and the melting point of the phosphonium borate represented by the general formula [1] is not particularly limited, From the viewpoint of uniform dispersion, it is preferably 250 ° C or lower. In particular, phosphonium borate having a tetraphenylphosphonium group has good compatibility with a thermosetting resin and can be preferably used.

【0016】一般式[1]において、ボレート基の
1、Y2、Y3及びY4は芳香環若しくは複素環を有する
1価の有機基又は1価の脂肪族基であって、それらのう
ちの少なくとも1つは、分子内に2個以上のカルボキシ
ル基を有する芳香族多価カルボン酸、1分子内に酸無水
物基とカルボキシル基とをそれぞれ少なくとも1個有す
る芳香族カルボン酸、1分子内に2個以上の水酸基を有
する多価フェノール化合物、及び1分子内にカルボキシ
ル基とフェノール性水酸基とをそれぞれ少なくとも1個
有する芳香族化合物の群から選ばれるプロトン供与体が
プロトンを1個放出してなる基であり、それらは互いに
同一であっても異なっていてもよい。このようなボレー
ト基を与えるプロトン供与体としては、例えば、テレフ
タル酸、ナフタレンジカルボン酸、4,4−ビフェニル
ジカルボン酸、4,4'−ジカルボキシジフェニルメタ
ン、トリメリット酸、ピロメリット酸等の芳香族多価カ
ルボン酸類、無水トリメリット酸等の酸無水物基含有芳
香族カルボン酸、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシ
ン、ジヒドロキシナフタレン、4,4−ビフェノール、
4,4'−ジヒドロキシジフェニルメタン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、4,4'−ジ
ヒドロキシジフェニル−2,2−ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(3,5−ジメチル−4−ジヒドロキシフェニ
ル)メタン、ビス(3,5−ジメチル−4−ジヒドロキ
シフェニル)スルホン、4,4−ジヒドロキシスチルベ
ン、4,4−ジヒドロキシ−α−メチルスチルベン、ビ
スフェノールフルオレン等の多価フェノール化合物類、
サリチル酸、ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシナフトエ
酸等の化合物が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
In the general formula [1], the borate groups Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are a monovalent organic group or a monovalent aliphatic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring. At least one of them is an aromatic polycarboxylic acid having two or more carboxyl groups in the molecule, one aromatic carboxylic acid having at least one acid anhydride group and one carboxyl group in one molecule, and one molecule. A proton donor selected from the group consisting of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule and an aromatic compound having at least one carboxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule releases one proton. And groups which are the same or different from each other. Examples of the proton donor that provides such a borate group include aromatic compounds such as terephthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4-biphenyldicarboxylic acid, 4,4′-dicarboxydiphenylmethane, trimellitic acid and pyromellitic acid. Polycarboxylic acid, acid anhydride group-containing aromatic carboxylic acid such as trimellitic anhydride, hydroquinone, catechol, resorcin, dihydroxynaphthalene, 4,4-biphenol,
4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-hexafluoropropane, bis (3,5-dimethyl-4-dihydroxyphenyl) Polyhydric phenol compounds such as methane, bis (3,5-dimethyl-4-dihydroxyphenyl) sulfone, 4,4-dihydroxystilbene, 4,4-dihydroxy-α-methylstilbene and bisphenolfluorene,
Examples thereof include compounds such as salicylic acid, hydroxybenzoic acid, and hydroxynaphthoic acid, but are not limited thereto.

【0017】本発明の一般式[1]で示されるホスホニ
ウムボレートからなる潜伏性触媒は、熱硬化性樹脂に配
合された場合、常温においては触媒活性を示さないので
熱硬化性樹脂の硬化反応が進むことがなく、成形時の高
温において触媒活性が発現し、しかもいったん発現する
と従来の硬化促進剤よりも強い触媒活性を示して熱硬化
性樹脂の硬化度を高める。本発明の一般式[1]で示さ
れるホスホニウムボレートからなる潜伏性触媒は、常温
においてはアニオン性のテトラ置換ボレート基が保護基
として作用し、活性点となるカチオン性のテトラ置換ホ
スホニウム基とイオン結合を形成することによりキャッ
プする。又、熱硬化性樹脂と他の配合成分とを混合する
際の加熱あるいは発熱によっても、この保護基は外れな
い。つまり、カチオン性のテトラ置換ホスホニウム基と
アニオン性のテトラ置換ボレート基の間のイオン結合の
解離に必要なエネルギーは、成形時にのみ得られるもの
である。このとき、ホスホニウムボレートの保護基は外
れ活性点が露出し、硬化反応が進行する。このために
は、カチオン性のテトラ置換ホスホニウム基とアニオン
性のテトラ置換ボレート基のイオン結合が強すぎないこ
とが重要であるが、TPP−Kはイオン結合が強すぎ
る。そのため、融点が300℃以上となり、樹脂組成物
に混練しても均一分散ができず、硬化促進剤としての効
果を十分に発現させることができない。そこで、テトラ
フェニルホスホニウム基とその保護基の結合力を程よく
弱めた構造が望まれる。具体的には、ボロンに結合する
官能基の種類をフェニル基よりも電子吸引性の高い官能
基に変えれば、ボレートアニオンの陰イオン性が低減
し、テトラフェニルホスホニウム基とのイオン結合が弱
くなると共に、融点が200〜250℃となり、樹脂組
成物に均一に混練することが可能となる。
The latent catalyst comprising phosphonium borate represented by the general formula [1] of the present invention does not show catalytic activity at room temperature when blended with a thermosetting resin, so that the curing reaction of the thermosetting resin is It does not proceed and the catalytic activity is expressed at a high temperature during molding, and once expressed, the catalytic activity is stronger than that of a conventional curing accelerator and the curing degree of the thermosetting resin is increased. The latent catalyst composed of phosphonium borate represented by the general formula [1] of the present invention has an anionic tetra-substituted borate group as a protective group at room temperature, and a cationic tetra-substituted phosphonium group serving as an active site and an ion. Cap by forming a bond. Further, the protective group does not come off even by heating or heat generation when mixing the thermosetting resin and other components. That is, the energy required for dissociation of the ionic bond between the cationic tetra-substituted phosphonium group and the anionic tetra-substituted borate group can be obtained only during molding. At this time, the protective group of the phosphonium borate is removed, the active site is exposed, and the curing reaction proceeds. For this purpose, it is important that the ionic bond between the cationic tetra-substituted phosphonium group and the anionic tetra-substituted borate group is not too strong, but TPP-K has too strong an ionic bond. Therefore, the melting point is 300 ° C. or higher, the resin composition cannot be uniformly dispersed even when kneaded, and the effect as a curing accelerator cannot be sufficiently exhibited. Therefore, a structure in which the binding force between the tetraphenylphosphonium group and its protective group is appropriately weakened is desired. Specifically, if the type of the functional group bonded to boron is changed to a functional group having a higher electron-withdrawing property than the phenyl group, the anionicity of the borate anion is reduced, and the ionic bond with the tetraphenylphosphonium group is weakened. At the same time, the melting point becomes 200 to 250 ° C., and the resin composition can be uniformly kneaded.

【0018】また、本発明の潜伏性触媒は、カチオン性
のテトラ置換ホスホニウム基と、アニオン性のテトラ置
換ボレート基の解離に必要なエネルギーは、熱硬化性樹
脂と他の配合成分とを混合する際の加熱あるいは発熱に
よっては得られないため、保護基は外れず、低温での反
応性は低い。成形時の高温では解離に必要なエネルギー
が得られるため、保護基が外れ、高い反応性を示す。つ
まり低温での反応性は低いが高温での反応性は非常に高
いという潜伏性触媒として理想的な反応挙動を示す。そ
のため常温における保存性の向上、混練時に反応が少な
いために封止樹脂の低粘度化、更に高温に加熱したとき
の高い反応性などを達成することができる。本発明の潜
伏性触媒は成形時に保護基が外れる際、保護基の分解物
が発生するが、この保護基の分解物は有効な官能基を分
子内に少なくとも2個有したものであり、発生すると同
時にマトリックスである熱硬化性樹脂と反応し、硬化の
架橋内に取り込まれるため、最終硬化物特性に悪影響を
与えない。本発明のホスホニウムボレートからなる潜伏
性触媒は、エポキシ樹脂、特にフェノール樹脂又はカル
ボン酸無水物硬化剤を含むエポキシ樹脂に対してとりわ
け有用である。また、本発明のホスホニウムボレートか
らなる潜伏性触媒は、マレイミド系樹脂、特にコモノマ
ーとしてアルケニルフェノール類を含有するマレイミド
系樹脂に対しても有用である。
Further, in the latent catalyst of the present invention, the energy required for dissociating the cationic tetra-substituted phosphonium group and the anionic tetra-substituted borate group is obtained by mixing the thermosetting resin with other compounding ingredients. Since it cannot be obtained by heating or heat generation at the time, the protecting group is not removed and the reactivity at low temperature is low. At a high temperature during molding, energy required for dissociation can be obtained, so that the protective group is removed and shows high reactivity. In other words, the reactivity at low temperatures is low, but the reactivity at high temperatures is very high, indicating an ideal reaction behavior as a latent catalyst. Therefore, it is possible to improve the storage stability at room temperature, reduce the viscosity of the sealing resin because of less reaction during kneading, and achieve high reactivity when heated to a high temperature. In the latent catalyst of the present invention, when the protective group is removed during molding, a protective group decomposition product is generated. This protective group decomposition product has at least two effective functional groups in the molecule. At the same time, it reacts with the thermosetting resin that is the matrix and is incorporated into the crosslink of the curing, so that it does not adversely affect the properties of the final cured product. The latent catalysts comprising phosphonium borate of the present invention are particularly useful for epoxy resins, especially phenolic resins or epoxy resins containing carboxylic acid anhydride hardeners. Further, the latent catalyst comprising phosphonium borate of the present invention is also useful for maleimide resins, particularly maleimide resins containing alkenylphenols as comonomers.

【0019】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性
樹脂100重量部及び潜伏性触媒0.4〜20重量部を
含有する。熱硬化性樹脂と潜伏性触媒の混合は、通常適
度の高温下、例えば、70〜150℃、好ましくは80
〜110℃で行うことができる。潜伏性触媒の含有量が
熱硬化性樹脂100重量部当たり0.4重量部未満であ
ると、加熱成形時において十分な硬化性が得られないお
それがある。一方、20重量部を超えると、硬化が速す
ぎて成形時に流動性の低下により充填不良などが生ずる
おそれがある。本発明の潜伏性触媒は、1種を単独で使
用することができ、2種以上を混合して使用することも
でき、更に本発明の目的を損なわない範囲で他の硬化促
進剤と併用することも可能である。本発明のホスホニウ
ムボレートからなる潜伏性触媒は、該潜伏性触媒によっ
て熱硬化が促進されるすべての熱硬化性樹脂に対して特
に制限なく使用することができる。本発明の潜伏性触媒
は、従来よりホスフィン又はホスホニウム塩触媒が有効
である熱硬化性樹脂に対して特に有用である。このよう
な熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂及びマ
レイミド系樹脂を挙げることができるが、これらの樹脂
以外にも、更に、反応性モノマーがシアネート類、イソ
シアネート類、アクリレート類である樹脂、アルケニル
樹脂、アルキニル樹脂などを挙げることができる。
The thermosetting resin composition of the present invention contains 100 parts by weight of the thermosetting resin and 0.4 to 20 parts by weight of the latent catalyst. The mixing of the thermosetting resin and the latent catalyst is usually carried out at an appropriately high temperature, for example, 70 to 150 ° C, preferably 80.
It can be carried out at ˜110 ° C. If the content of the latent catalyst is less than 0.4 parts by weight per 100 parts by weight of the thermosetting resin, sufficient curability may not be obtained during heat molding. On the other hand, if the amount exceeds 20 parts by weight, the curing may be too fast and the fluidity may decrease during molding, resulting in defective filling. The latent catalyst of the present invention may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with other curing accelerators within a range not impairing the object of the present invention. It is also possible. The latent catalyst comprising phosphonium borate of the present invention can be used without particular limitation for all thermosetting resins whose thermosetting is accelerated by the latent catalyst. The latent catalysts of the present invention are particularly useful for thermosetting resins where traditionally phosphine or phosphonium salt catalysts have been effective. Examples of such a thermosetting resin include, for example, epoxy resins and maleimide resins, but in addition to these resins, a resin in which the reactive monomer is a cyanate, an isocyanate, or an acrylate, Examples thereof include alkenyl resin and alkynyl resin.

【0020】本発明の熱硬化性樹脂組成物に使用するエ
ポキシ樹脂は、通常1分子内にオキシラン環を2個以上
有する化合物であり、分子量は340〜7,000程度
で、液状より固体に至るものまでを使用することができ
る。このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、含臭素エポキシ樹脂、ビス
フェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エ
ポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジヒドロキシ
ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エ
ポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、複素環
式エポキシ樹脂、3官能型エポキシ樹脂、トリスヒドロ
キシンフェニルメタン型エポキシ樹脂、スチルベン型エ
ポキシ樹脂及びジシクロペンタジエンとフェノール類を
付加反応により重合させたフェノール樹脂をグリシジル
エーテル化することによって得られるエポキシ樹脂など
を挙げることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物に
使用するマレイミド系樹脂は、マレイミド基を少なくと
も1個分子内に有する樹脂であり、特に限定されるもの
ではないが、ビスマレイミド樹脂などを例示することが
できる。
The epoxy resin used in the thermosetting resin composition of the present invention is usually a compound having two or more oxirane rings in one molecule, and has a molecular weight of about 340 to 7,000, ranging from liquid to solid. Up to one can be used. Examples of such epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bromine-containing epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, dihydroxydiphenylmethane type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, Cresol novolac type epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, heterocyclic type epoxy resin, trifunctional type epoxy resin, trishydroxyne phenylmethane type epoxy resin, stilbene type epoxy resin and An epoxy resin obtained by glycidyl etherification of a phenol resin obtained by polymerizing dicyclopentadiene and a phenol by an addition reaction can be mentioned. The maleimide-based resin used in the thermosetting resin composition of the present invention is a resin having at least one maleimide group in its molecule and is not particularly limited, but examples thereof include bismaleimide resin. .

【0021】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、オキシ
ラン反応性硬化剤を含有せしめることができる。使用す
るオキシラン反応性硬化剤には、特に制限はなく、例え
ば、ジアミノジフェニルメタンなどのジアミン、ジエチ
レントリアミンなどのポリアミン、無水フタル酸、無水
トリメリット酸などの芳香族酸無水物、ヘキサヒドロ無
水フタル酸などの脂環式酸無水物、フェノールノボラッ
ク樹脂などのフェノール系化合物などを挙げることがで
きる。本発明の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂が
1分子内にエポキシ樹脂を2個以上有するエポキシ樹脂
及び1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有するフ
ェノール樹脂よりなり、本発明の潜伏性触媒及び無機充
填材を含有し、エポキシ樹脂のエポキシ基とフェノール
樹脂のフェノール性水酸基の当量比が0.5〜2であ
り、潜伏性触媒の含有量がエポキシ樹脂とフェノール樹
脂の合計量100重量部当たり0.4〜20重量部が好
ましい。
The thermosetting resin composition of the present invention may contain an oxirane-reactive curing agent. The oxirane-reactive curing agent used is not particularly limited, and examples thereof include diamines such as diaminodiphenylmethane, polyamines such as diethylenetriamine, phthalic anhydride, aromatic acid anhydrides such as trimellitic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride. Examples thereof include alicyclic acid anhydrides and phenolic compounds such as phenol novolac resins. The thermosetting resin composition of the present invention comprises an epoxy resin having two or more epoxy resins in one molecule and a phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. It contains a latent catalyst and an inorganic filler, the equivalent ratio of the epoxy groups of the epoxy resin and the phenolic hydroxyl group of the phenol resin is 0.5 to 2, and the latent catalyst content is the total amount of the epoxy resin and the phenol resin. It is preferably 0.4 to 20 parts by weight per 100 parts by weight.

【0022】本発明の熱硬化性樹脂組成物に使用する1
分子内にフェノール性水酸基を2個以上有するフェノー
ル樹脂には特に制限はなく、例えば、フェノールノボラ
ック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、パラキシリレン
変性フェノール樹脂、メタキシリレン・パラキシリレン
変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジ
シクロペンタジエン変性フェノール樹脂などを挙げるこ
とができる。これらのフェノール樹脂は、分子量、軟化
点、水酸基当量などに制限なく使用することができる。
また、これらのフェノール樹脂は、1種を単独で使用す
ることができ、2種以上を混合しても使用することもで
きる。本発明の熱硬化性樹脂組成物を電子電気部品用に
使用する場合は、樹脂中の塩素含有量が低いことが長期
信頼性の点から好ましい。本発明の熱硬化性樹脂組成物
を表面実装対応の封止樹脂として用いる場合には、フェ
ノール樹脂がキシリレン変性フェノール樹脂であること
ががより好ましい。キシリレン変性フェノール樹脂は水
酸基が少ないので、成形品の吸水率が小く、また、キシ
リレンとフェノールが結合している構造のために分子が
適度の屈曲性を有し、硬化反応における立体障害も少な
く、硬化性の阻害も少なく、更に平均分子量を小さくす
ることによって低粘度化が可能であり、平均分子量を小
さくしても化学構造から硬化性の低下などを起こしにく
いという特徴を有している。フェノール樹脂が有するフ
ェノール性水酸基は、エポキシ樹脂が有するオキシラン
環と反応して架橋構造を形成する。エポキシ樹脂のエポ
キシ基とフェノール樹脂のフェノール性水酸基の当量比
が0.5未満であっても、2を超えても、樹脂組成物の
硬化性の低下、あるいは硬化物のガラス転移温度の低下
などが生じるおそれがある。
1 used in the thermosetting resin composition of the present invention
The phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited, and examples thereof include phenol novolac resin, cresol novolac resin, paraxylylene modified phenol resin, metaxylylene / paraxylylene modified phenol resin, terpene modified phenol resin, dicyclopentadiene. Examples thereof include modified phenolic resin. These phenolic resins can be used without limitation in molecular weight, softening point, hydroxyl group equivalent and the like.
Moreover, these phenol resins can be used individually by 1 type and can also be used even if 2 or more types are mixed. When the thermosetting resin composition of the present invention is used for electronic and electrical parts, it is preferable that the resin has a low chlorine content from the viewpoint of long-term reliability. When the thermosetting resin composition of the present invention is used as a sealing resin for surface mounting, it is more preferable that the phenol resin is a xylylene-modified phenol resin. The xylylene-modified phenolic resin has few hydroxyl groups, so the water absorption of the molded product is small, and due to the structure in which xylylene and phenol are bonded, the molecule has appropriate flexibility and there is little steric hindrance in the curing reaction. Further, there is little obstruction of the curability, and it is possible to lower the viscosity by reducing the average molecular weight, and even if the average molecular weight is reduced, the curability is less likely to decrease due to the chemical structure. The phenolic hydroxyl group of the phenol resin reacts with the oxirane ring of the epoxy resin to form a crosslinked structure. When the equivalent ratio of the epoxy group of the epoxy resin and the phenolic hydroxyl group of the phenol resin is less than 0.5 or exceeds 2, the curability of the resin composition decreases, or the glass transition temperature of the cured product decreases. May occur.

【0023】本発明の熱硬化性樹脂組成物に使用する無
機充填材には特に制限はなく、公知の無機充填材を使用
することができる。このような無機充填材としては、例
えば、アルミナ、溶融シリカ、球状シリカ、結晶シリ
カ、2次凝集シリカ、クレー、タルクなどを挙げること
ができる。本発明の組成物を半導体封止用として用いる
場合には、流動性の向上という点から無機充填材が球状
シリカであることが好ましい。球状シリカの形状は、流
動性改善のために粒子自体の形状は限りなく真球状であ
り、かつ粒度分布がブロードであることが好ましい。
The inorganic filler used in the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited, and known inorganic fillers can be used. Examples of such inorganic fillers include alumina, fused silica, spherical silica, crystalline silica, secondary agglomerated silica, clay and talc. When the composition of the present invention is used for sealing a semiconductor, the inorganic filler is preferably spherical silica from the viewpoint of improving fluidity. As for the shape of the spherical silica, it is preferable that the shape of the particles themselves be infinitely spherical and the particle size distribution be broad in order to improve fluidity.

【0024】本発明のエポキシ樹脂及びフェノール樹脂
を含有する熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂が融点
50〜150℃の結晶性エポキシ樹脂であることが特に
好ましい。このような結晶性エポキシ樹脂は、フェニ
ル、ビフェニル、ビスフェノール、ナフタレンなどの平
面構造を有する分子を主鎖に有し、比較的低分子量であ
るために、結晶性を示すものである。結晶性エポキシ樹
脂は、常温では結晶性の固体であるが、いったん溶融す
ると極めて低粘度の液体になる特性を有している。従来
のエポキシ樹脂、例えば、オルソクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂の低粘度化タイプを用いても、溶融粘度
が十分に低下せず、かつエポキシ樹脂自体が常温で融け
やすいため成形作業に困難を伴う場合があるが、結晶性
エポキシ樹脂を用いるとこれらの難点を解決することが
できる。
In the thermosetting resin composition containing the epoxy resin and the phenol resin of the present invention, it is particularly preferable that the epoxy resin is a crystalline epoxy resin having a melting point of 50 to 150 ° C. Such a crystalline epoxy resin has a molecule having a planar structure such as phenyl, biphenyl, bisphenol, and naphthalene in the main chain and has a relatively low molecular weight, and therefore exhibits crystallinity. The crystalline epoxy resin is a crystalline solid at room temperature, but once melted, has the property of becoming a very low-viscosity liquid. Even if a conventional epoxy resin, for example, a low viscosity type of ortho-cresol novolac type epoxy resin is used, the melt viscosity does not decrease sufficiently, and the epoxy resin itself may easily melt at room temperature, which may cause difficulty in molding work. However, these problems can be solved by using a crystalline epoxy resin.

【0025】結晶性エポキシ樹脂としては、一般式
[2]で示されるビフェニル型エポキシ樹脂、一般式
[3]で示されるジヒドロキシジフェニルメタン型エポ
キシ樹脂及び一般式[4]で示されるスチルベン型エポ
キシ樹脂を特に好適に使用することができる。一般式
[2]におけるR5、一般式[3]におけるR6及び一般
式[4]におけるR7は、水素、炭素数1〜6の鎖状も
しくは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から
選択される基又は原子であり、それらは互いに同一であ
っても異なっていても良い。本発明の組成物において、
一般式[2]で示されるエポキシ樹脂、一般式[3]で
示されるエポキシ樹脂及び一般式[4]で示されるエポ
キシ樹脂は、それぞれ単独でも2種以上を混合して使用
することも可能である。結晶性エポキシ樹脂の融点が5
0℃以上であると、常温で融解することがなく、前混合
工程などでの作業性に優れる。結晶性エポキシ樹脂の融
点が150℃以下であると、混練装置中で容易に融解し
て均一に混練することができる。
As the crystalline epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin represented by the general formula [2], a dihydroxydiphenylmethane type epoxy resin represented by the general formula [3] and a stilbene type epoxy resin represented by the general formula [4] are used. It can be used particularly preferably. R 5 in the general formula [2], R 7 in R 6 and the general formula [4] in the general formula [3] is hydrogen, a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, from among halogens Selected groups or atoms, which may be the same or different from each other. In the composition of the present invention,
The epoxy resin represented by the general formula [2], the epoxy resin represented by the general formula [3], and the epoxy resin represented by the general formula [4] can be used alone or in combination of two or more kinds. is there. The melting point of crystalline epoxy resin is 5
When it is 0 ° C. or higher, it does not melt at room temperature and is excellent in workability in the premixing step and the like. When the melting point of the crystalline epoxy resin is 150 ° C. or less, the crystalline epoxy resin can be easily melted and uniformly kneaded in the kneading device.

【0026】本発明のエポキシ樹脂及びフェノール樹脂
を含有する熱硬化性樹脂組成物においては、無機充填材
の含有量が、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂の合計量
100重量部当たり200〜2400重量部であること
が好ましい。無機充填材の含有量がエポキシ樹脂及びフ
ェノール樹脂の合計量100重量部当たり200重量部
未満だと、無機充填材による補強効果が充分に発現しな
いおそれがある。2400重量部を越えると樹脂の流動
性が低下し成形時に充填不良などが生じるおそれがあ
る。特に無機充填材の含有量が、エポキシ樹脂及びフェ
ノール樹脂の合計量100重量部当たり250〜140
0重量部であれば、樹脂組成物の吸水率が低下し、半導
体封止用として使用する場合、耐半田性が向上しクラッ
クの発生を防止することができる。さらに、溶融時の樹
脂組成物の粘度が低く、半導体パッケージ内部の金線変
形を引き起こすおそれがないため、特に好ましい。本発
明の潜伏性触媒は、単独で使用することができ、あるい
は他の硬化促進剤と混合して用いることができる。他の
硬化促進剤と混合して使用する場合、本発明の潜伏性触
媒は、潜伏性触媒と他の硬化促進剤の合計量の50重量
%以上であることが好ましい。本発明の潜伏性触媒が5
0重量%未満であると、本発明の目的を十分に達成する
ことができないおそれがある。本発明の潜伏性触媒と混
合使用することができる他の硬化促進剤としては、例え
ば、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルボレート、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7などを挙げることができ
る。
In the thermosetting resin composition containing the epoxy resin and the phenol resin of the present invention, the content of the inorganic filler is 200 to 2400 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin. It is preferable. When the content of the inorganic filler is less than 200 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin, the reinforcing effect by the inorganic filler may not be sufficiently exhibited. If it exceeds 2400 parts by weight, the fluidity of the resin may be lowered, and filling failure may occur during molding. In particular, the content of the inorganic filler is 250 to 140 per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin.
When it is 0 part by weight, the water absorption of the resin composition is lowered, and when it is used for semiconductor encapsulation, the solder resistance is improved and the occurrence of cracks can be prevented. Further, the viscosity of the resin composition when melted is low, and there is no possibility of causing gold wire deformation inside the semiconductor package, which is particularly preferable. The latent catalyst of the present invention can be used alone or in a mixture with another curing accelerator. When used as a mixture with another curing accelerator, the latent catalyst of the present invention is preferably 50% by weight or more based on the total amount of the latent catalyst and the other curing accelerator. The latent catalyst of the present invention is 5
If it is less than 0% by weight, the object of the present invention may not be sufficiently achieved. Other curing accelerators that can be used in combination with the latent catalyst of the present invention include, for example, triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and the like. Can be mentioned.

【0027】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、必要に応
じて、カーボンブラックなどの着色剤、ブロム化エポキ
シ樹脂、三酸化アンチモンなどの難燃剤、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランなどのカップリング
剤、シリコーンオイル、ゴムなどの低応力成分、離型
剤、酸化防止剤、表面活性剤、カップリング剤などの各
種添加剤を配合することができる。本発明のエポキシ樹
脂組成物は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、潜伏性触
媒、無機充填材、その他添加剤などをミキサーにて常温
混合し、ロール、押出機などの混練機にて混練し、冷却
後粉砕し成形材料とすることができる。
The thermosetting resin composition of the present invention contains, if necessary, a coloring agent such as carbon black, a brominated epoxy resin, a flame retardant such as antimony trioxide, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. Various additives such as a coupling agent, a low-stress component such as silicone oil and rubber, a release agent, an antioxidant, a surface active agent, and a coupling agent can be added. Epoxy resin composition of the present invention, epoxy resin, phenol resin, latent catalyst, inorganic filler, other additives are mixed at room temperature with a mixer, kneaded with a kneader such as a roll, an extruder, and after cooling. It can be crushed into a molding material.

【0028】[0028]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定
されるものではない。実施例及び比較例において使用し
た触媒及び硬化促進剤の略号及び構造を、まとめて以下
に示す。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. The abbreviations and structures of the catalysts and curing accelerators used in the examples and comparative examples are summarized below.

【化10】 Embedded image

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】[0030]

【化12】 [Chemical 12]

【0031】評価方法 (1)スパイラルフロー:EMMI−I−66に準じた
スパイラルフロー測定用の金型を用い、金型温度175
℃、注入圧力70kg/cm、硬化時間2分で測定す
る。スパイラルフローは流動性のパラメータであり、数
値が大きい方が流動性が良好である。単位cm。 (2)硬化トルク:キュラストメータ[(株)オリエンテ
ック製、JSRキュラストメータIVPS型]を用い、1
75℃、90秒後のトルクを求める。キュラストメータ
におけるトルクは硬化性のパラメータであり、数値の大
きい方が硬化性が良好である。単位kgf−cm。 (3)30℃保存性:材料を30℃にて1週間保存した
後スパイラルフローを測定し、材料調製直後のスパイラ
ルフローに対する百分率として表す。単位%。 (4)ガラス転移温度(以下Tgという):材料を金型
温度175℃、硬化時間2分で成形し、175℃で8時
間処理した後、TMA[セイコー電子工業(株)製、56
0M]にて、線膨張法により、ガラス転移温度を測定す
る。単位℃。 (5)25℃保存性:材料を25℃にて1週間保存した
後スパイラルフローを測定し、材料調製直後のスパイラ
ルフローに対する百分率として表す。単位cm。 (6)硬化性:材料を金型温度175℃、硬化時間2分
で成形し、型開き10秒後に、測定したショアD硬度の
値を硬化性とする。 (7)耐半田性:80pQFP(厚さ1.5mm)8個
を、85℃、相対湿度85%で168時間処理した後、
240℃のIRリフロー240℃/10秒間の処理を2
回行い、パッケージクラック個数を目視で観察し、クラ
ックの生じたパッケージがn個であるとき、n/8と表
示する。
Evaluation method (1) Spiral flow: Using a mold for spiral flow measurement according to EMMI-I-66, mold temperature 175
It is measured at a temperature of 70 ° C., an injection pressure of 70 kg / cm 2 , and a curing time of 2 minutes. The spiral flow is a fluidity parameter, and the larger the value, the better the fluidity. Unit cm. (2) Curing torque: using a curast meter [manufactured by Orientec Co., Ltd., JSR curast meter IVPS type], 1
Determine the torque after 90 seconds at 75 ° C. The torque in the curast meter is a parameter of curability, and the larger the value, the better the curability. The unit is kgf-cm. (3) Storability at 30 ° C .: The material was stored at 30 ° C. for 1 week and then the spiral flow was measured, and expressed as a percentage with respect to the spiral flow immediately after preparation of the material. unit%. (4) Glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg): The material was molded at a mold temperature of 175 ° C., a curing time of 2 minutes, and treated at 175 ° C. for 8 hours, and then TMA [manufactured by Seiko Denshi Kogyo KK, 56
At 0 M], the glass transition temperature is measured by the linear expansion method. Unit ° C. (5) Preservability at 25 ° C: After the material was stored at 25 ° C for 1 week, the spiral flow was measured and expressed as a percentage of the spiral flow immediately after preparation of the material. Unit cm. (6) Curability: The material is molded at a mold temperature of 175 ° C. for a curing time of 2 minutes, and after the mold is opened for 10 seconds, the measured Shore D hardness value is defined as the curability. (7) Solder resistance: After treating 8 pieces of 80 pQFP (thickness: 1.5 mm) at 85 ° C. and relative humidity of 85% for 168 hours,
240 ° C IR reflow 240 ° C / 10 seconds treatment 2
The number of package cracks is visually observed, and when the number of cracked packages is n, it is displayed as n / 8.

【0032】実施例1 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂[日本化薬(株)、EOCN−10 25−65、軟化点65℃、エポキシ当量210] 67重量部 フェノールノボラック樹脂[住友デュレズ(株)、PR−51470、軟化点1 05℃、水酸基当量104] 33重量部 TPPK−TPA 3.5重量部 溶融シリカ 300重量部 カルナバワックス 2重量部 を配合し、熱ロールで90℃で8分間混練して成形材料
を得た。スパイラルフロー、硬化トルク、30℃保存性
及びTgを測定した。この成形材料のスパイラルフロー
は82cm、硬化トルクは85kgf−cmであった。
また、30℃保存性は93%、Tgは178℃であっ
た。 実施例2〜4 表1の配合に従い、実施例1と全く同じ操作を繰り返
し、同様に評価した。以上の評価結果を表1に示す。
Example 1 Orthocresol novolac type epoxy resin [Nippon Kayaku Co., Ltd., EOCN-10 25-65, softening point 65 ° C., epoxy equivalent 210] 67 parts by weight Phenol novolac resin [Sumitomo Dures Co., Ltd., PR -51470, softening point 105 [deg.] C., hydroxyl equivalent 104] 33 parts by weight TPPK-TPA 3.5 parts by weight fused silica 300 parts by weight Carnauba wax 2 parts by weight are blended and kneaded at 90 [deg.] C. for 8 minutes for molding. Got the material. Spiral flow, curing torque, storability at 30 ° C. and Tg were measured. The spiral flow of this molding material was 82 cm, and the curing torque was 85 kgf-cm.
Further, the storage stability at 30 ° C. was 93%, and the Tg was 178 ° C. Examples 2 to 4 According to the formulations shown in Table 1, the same operations as in Example 1 were repeated and evaluated in the same manner. Table 1 shows the evaluation results.

【0033】比較例1 実施例1の触媒TPPK−TPA3.5重量部の代わり
に、触媒としてTPPを0.8重量部使用した以外は、
実施例1と全く同じ操作を繰り返した。得られた材料の
スパイラルフローは70cm、硬化トルクは74kgf
−cmであった。また、30℃保存性は56%、Tgは
171℃であった。触媒としてTPPを用いると、保存
安定性が良くない。 比較例2 実施例1のフェノールノボラック樹脂33重量部、触媒
TPPK−TPA3.5重量部の代わりに、フェノール
ノボラック樹脂を31.1重量部、硬化促進剤としてD
BU30重量%を含有するフェノールノボラック樹脂
[サンアプロ(株)、SA841]を2.7重量部使用し
た以外は、実施例1と同様の操作で材料化した。この材
料のスパイラルフローは73cm、硬化トルクは70k
gf−cmであった。また、30℃間保存性は53%、
Tgは169℃であった。硬化促進剤としてDBUを用
いると、保存安定性が良くない。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 Instead of using 3.5 parts by weight of the catalyst TPPK-TPA of Example 1, 0.8 parts by weight of TPP was used as a catalyst.
The exact same operation as in Example 1 was repeated. The obtained material has a spiral flow of 70 cm and a curing torque of 74 kgf.
−cm. Further, the storage stability at 30 ° C was 56%, and the Tg was 171 ° C. When TPP is used as a catalyst, the storage stability is not good. Comparative Example 2 Instead of 33 parts by weight of the phenol novolac resin of Example 1 and 3.5 parts by weight of the catalyst TPPK-TPA, 31.1 parts by weight of the phenol novolac resin and D as a curing accelerator were used.
Material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2.7 parts by weight of phenol novolac resin [SAN APRO KK, SA841] containing 30% by weight of BU was used. The spiral flow of this material is 73 cm and the curing torque is 70 k.
gf-cm. Also, the storage stability at 30 ° C is 53%,
Tg was 169 ° C. When DBU is used as the curing accelerator, the storage stability is not good.

【0034】比較例3、4 表2の配合に従い、実施例1と全く同じ操作を繰り返
し、同様に評価した。評価結果を表2に示す。実施例1
〜5の本発明組成物からなる材料は、いずれも製造直後
の流動性は良好であり、また、30℃で1週間保存した
後も全て90%以上のスパイラルフロー値を示し、保存
安定性に優れている。また、Tgもいずれも178℃以
上の高い値を示している。これに対して、比較例3、4
の触媒TPPK−NO、触媒TPPK−SAを使用した
材料は、30℃の保存性は実施例1〜5と同等の値を示
すものの、Tgは7〜14℃低い値を示している。これ
は、硬化反応時に発生する、触媒の活性点の保護基であ
るボレートアニオンの分解物が1官能のナフトール及び
ステアリン酸がプロトンを1個放出してなる基であるた
め、マトリックスであるエポキシ基と反応し、架橋密度
を低下させていることに由来する。本発明の触媒では、
この硬化反応時に発生するボレートアニオンの分解物
は、オキシラン反応性官能基を2つ以上有する化合物が
プロトンを1個放出してなる基であり、架橋に取り込ま
れる。そのため、従来の触媒を用いた場合よりTgは向
上する。
Comparative Examples 3 and 4 According to the formulations shown in Table 2, the same operation as in Example 1 was repeated and the same evaluation was performed. Table 2 shows the evaluation results. Example 1
All of the materials consisting of the composition of the present invention have good flowability immediately after production, and all have a spiral flow value of 90% or more even after storage for 1 week at 30 ° C., which shows storage stability. Are better. In addition, Tg also shows a high value of 178 ° C. or higher. On the other hand, Comparative Examples 3 and 4
The materials using the catalyst TPPK-NO and the catalyst TPPK-SA of 3 show the same storage stability at 30 ° C. as in Examples 1 to 5, but the Tg shows a low value of 7 to 14 ° C. This is because the decomposition product of the borate anion, which is a protective group for the active site of the catalyst, generated during the curing reaction is a group formed by monofunctional naphthol and stearic acid releasing one proton. It originates in that it reacts with and reduces the crosslink density. In the catalyst of the present invention,
The decomposition product of the borate anion generated during the curing reaction is a group formed by releasing one proton from a compound having two or more oxirane-reactive functional groups, and is incorporated into the crosslink. Therefore, Tg is improved as compared with the case of using the conventional catalyst.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】次に、実施例6〜14で無機充填材量を増
加した材料を作製し、耐半田性の評価を行った。 実施例6 式[5]のビフェニル型エポキシ樹脂(融点105℃) 51.5重量部
Next, materials having an increased amount of inorganic filler were produced in Examples 6 to 14 and solder resistance was evaluated. Example 6 51.5 parts by weight of biphenyl type epoxy resin of the formula [5] (melting point 105 ° C.)

【0038】[0038]

【化13】 Embedded image

【0039】 式[6]のフェノール樹脂(軟化点73℃) 48.5重量部48.5 parts by weight of phenolic resin of the formula [6] (softening point 73 ° C.)

【化14】 Embedded image

【0040】 球状シリカ(平均粒径15μm) 830重量部 TPPK−TPA 4.6重量部 カーボンブラック 2重量部 カルナバワックス 2.8重量部 臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量275) 1.7重量部 を、常温でミキサーで混合した後、100℃で二軸ロー
ルにて混練し、冷却後粉砕し成形材料とした。得られた
成形材料のスパイラルフローは91cm、ショア硬度は
84、25℃保存性は83%、Tgは156℃、耐半田
性は0/8であった。
Spherical silica (average particle size 15 μm) 830 parts by weight TPPK-TPA 4.6 parts by weight Carbon black 2 parts by weight Carnauba wax 2.8 parts by weight Brominated phenol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 275) 1.7 parts by weight After being mixed with a mixer at room temperature, the parts were kneaded with a twin-screw roll at 100 ° C., cooled and pulverized to obtain a molding material. The obtained molding material had a spiral flow of 91 cm, a Shore hardness of 84, a 25 ° C. storage stability of 83%, a Tg of 156 ° C., and a solder resistance of 0/8.

【0041】実施例7〜14、比較例5、6 実施例6と同様にして、表3、表4の配合に従って実施
例6と全く同様にして成形材料を得た。評価結果を表
3、表4に示すなお、実施例6以外で用いた式(7)、
式(8)、式(9)及び式(10)の構造式を以下に示
す。
Examples 7 to 14 and Comparative Examples 5 and 6 In the same manner as in Example 6, molding compounds were obtained in the same manner as in Example 6 according to the formulations shown in Tables 3 and 4. The evaluation results are shown in Tables 3 and 4, where the formula (7) used in other than Example 6
The structural formulas of formula (8), formula (9) and formula (10) are shown below.

【化15】 (融点80℃)Embedded image (Melting point 80 ° C)

【0042】[0042]

【化16】 (融点96℃)Embedded image (Melting point 96 ° C)

【0043】[0043]

【化17】 (ただし、n=0が1に対し、n=1が0.4、n=2
が0.25からなる混合物、軟化点65℃、エポキシ当
量250)
Embedded image (However, n = 0 is 1, whereas n = 1 is 0.4, n = 2
Of 0.25, softening point 65 ° C, epoxy equivalent 250)

【0044】[0044]

【化18】 (ただしn=0が1に対し、n=1が0.25、n≧2
が0.35からなる混合物、軟化点60℃、エポキシ当
量170)
Embedded image (However, n = 0 is 1 whereas n = 1 is 0.25, n ≧ 2
Of 0.35, softening point 60 ° C, epoxy equivalent 170)

【0045】実施例6〜14の本発明の組成物からなる
材料は、いずれも製造直後の流動性は良好であり、ま
た、いずれもショア硬度は80以上、25℃で1週間保
存した後も83%以上のスパイラルフロー値を示し、保
存安定性に優れている。また、Tgもいずれも153℃
以上の高い値を示し、且つ耐半田性試験では、クラック
は全く発生しなかった。これに対して、比較例5、6の
材料は、流動性、25℃保存安定性は実施例6〜14と
同等の性能であるが、Tgは10℃程度低めである。耐
半田性試験では、試験した8個の試料のうち、1〜2個
にクラックが発生した。
All the materials made of the compositions of the present invention of Examples 6 to 14 had good fluidity immediately after production, and all had Shore hardness of 80 or more and were stored at 25 ° C. for 1 week. It has a spiral flow value of 83% or more and is excellent in storage stability. In addition, Tg is 153 ° C
The above high values were exhibited, and cracks did not occur at all in the solder resistance test. On the other hand, the materials of Comparative Examples 5 and 6 have the same fluidity and storage stability at 25 ° C. as those of Examples 6 to 14, but the Tg is about 10 ° C. lower. In the solder resistance test, cracks occurred in 1 to 2 of the 8 tested samples.

【0046】[0046]

【表3】 [Table 3]

【0047】[0047]

【表4】 [Table 4]

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明の潜伏性触媒は、常温においては
触媒作用を発現することなく長期間にわたって樹脂組成
物を安定に保存することが可能であり、成形時に加熱す
ると優れた触媒作用を発揮して良好な成形性及び高品質
の成形品を与える。本発明の潜伏性触媒を配合してなる
エポキシ樹脂組成物は、特に電子電気部品用として有用
である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The latent catalyst of the present invention can stably store the resin composition for a long period of time without exhibiting catalytic action at room temperature, and exhibits excellent catalytic action when heated during molding. To give good moldability and high quality molded products. The epoxy resin composition containing the latent catalyst of the present invention is particularly useful for electronic and electric parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 59/42 NHY C08G 59/42 NHY 59/50 NJA 59/50 NJA 59/62 NJS 59/62 NJS C08K 3/00 C08K 3/00 C08L 63/00 NKT C08L 63/00 NKT ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication C08G 59/42 NHY C08G 59/42 NHY 59/50 NJA 59/50 NJA 59/62 NJS 59/62 NJS C08K 3/00 C08K 3/00 C08L 63/00 NKT C08L 63/00 NKT

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式[1]で示されるホスホニウムボ
レートからなる潜伏性触媒。 【化1】 (ただし、式中、R1、R2、R3及びR4は、芳香環若し
くは複素環を有する1価の有機基又は1価の脂肪族基で
あり、それらは互いに同一であっても異なっていてもよ
い。また、Y1、Y2、Y3及びY4は芳香環若しくは複素
環を有する1価の有機基又は1価の脂肪族基であって、
それらのうちの少なくとも1つは、分子内に2個以上の
カルボキシル基を有する芳香族多価カルボン酸、1分子
内に酸無水物基とカルボキシル基とをそれぞれ少なくと
も1個有する芳香族カルボン酸、1分子内に2個以上の
水酸基を有する多価フェノール化合物、及び1分子内に
カルボキシル基とフェノール性水酸基とをそれぞれ少な
くとも1個有する芳香族化合物の群から選ばれるプロト
ン供与体がプロトンを1個放出してなる基であり、それ
らは互いに同一であっても異なっていてもよい。)
1. A latent catalyst comprising phosphonium borate represented by the general formula [1]. Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are monovalent organic groups or monovalent aliphatic groups having an aromatic ring or a heterocycle, and they may be the same or different. Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each a monovalent organic group or a monovalent aliphatic group having an aromatic ring or a heterocycle,
At least one of them is an aromatic polycarboxylic acid having two or more carboxyl groups in the molecule, an aromatic carboxylic acid having at least one acid anhydride group and one carboxyl group in the molecule, A proton donor selected from the group consisting of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule and an aromatic compound having at least one carboxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule has one proton. These groups are released groups, and they may be the same or different from each other. )
【請求項2】 熱硬化性樹脂100重量部及び請求項1
記載の潜伏性触媒0.4〜20重量部を含有することを
特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
2. A thermosetting resin of 100 parts by weight and claim 1.
A thermosetting resin composition comprising 0.4 to 20 parts by weight of the latent catalyst described above.
【請求項3】 熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂及びマレ
イミド系樹脂からなる群から選択される1種以上の樹脂
である請求項2記載の熱硬化性樹脂組成物。
3. The thermosetting resin composition according to claim 2, wherein the thermosetting resin is one or more resins selected from the group consisting of epoxy resins and maleimide resins.
【請求項4】 熱硬化性樹脂組成物が、更にオキシラン
反応性硬化剤を含有する請求項3記載の熱硬化性樹脂組
成物。
4. The thermosetting resin composition according to claim 3, wherein the thermosetting resin composition further contains an oxirane-reactive curing agent.
【請求項5】 オキシラン反応性硬化剤が、ジアミン、
ポリアミン、酸無水物及びフェノール性化合物よりなる
群より選択される1種以上の化合物である請求項4記載
の熱硬化性樹脂組成物。
5. The oxirane reactive curing agent is a diamine,
The thermosetting resin composition according to claim 4, which is one or more compounds selected from the group consisting of polyamines, acid anhydrides, and phenolic compounds.
【請求項6】 マレイミド系樹脂が、アルケニルフェノ
ールを含有する樹脂である請求項3記載の熱硬化性樹脂
組成物。
6. The thermosetting resin composition according to claim 3, wherein the maleimide resin is a resin containing alkenylphenol.
【請求項7】 (A)1分子内にエポキシ基を2個以上
有するエポキシ樹脂、(B)1分子内にフェノール性水
酸基を2個以上有するフェノール樹脂、(C)請求項1
記載の潜伏性触媒、及び(D)無機充填材を含有し、エ
ポキシ樹脂(A)のエポキシ基とフェノール樹脂(B)
のフェノール性水酸基の当量比が0.5〜2であり、潜
伏性触媒(C)の含有量が、エポキシ樹脂とフェノール
樹脂の合計量100重量部当たり0.4〜20重量部で
あり、無機充填材(D)の含有量が、エポキシ樹脂とフ
ェノール樹脂の合計量100重量部当たり200〜24
00重量部であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成
物。
7. (A) Epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) Phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C).
The latent catalyst described above and (D) an inorganic filler are contained, and the epoxy groups of the epoxy resin (A) and the phenol resin (B) are contained.
Has an equivalent ratio of phenolic hydroxyl groups of 0.5 to 2 and a latent catalyst (C) content of 0.4 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin. The content of the filler (D) is 200 to 24 per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin.
A thermosetting resin composition, characterized in that it is 100 parts by weight.
【請求項8】 エポキシ樹脂(A)が、融点50〜15
0℃の結晶性エポキシ樹脂である請求項7記載の熱硬化
性樹脂組成物。
8. The epoxy resin (A) has a melting point of 50 to 15
The thermosetting resin composition according to claim 7, which is a crystalline epoxy resin at 0 ° C.
【請求項9】 無機充填材(D)の含有量が、エポキシ
樹脂とフェノール樹脂の合計量100重量部当たり25
0〜1400重量部である請求項7、8記載の熱硬化性
樹脂組成物。
9. The content of the inorganic filler (D) is 25 per 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin and the phenol resin.
The thermosetting resin composition according to claim 7, which is 0 to 1400 parts by weight.
【請求項10】 結晶性エポキシ樹脂が、一般式
[2]、一般式[3]又は一般式[4]で示される化合
物である請求項8、9記載の熱硬化性樹脂組成物。 【化2】 (ただし、式中、R5は水素、炭素数1〜6の鎖状もし
くは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から選
択される基又は原子であり、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。) 【化3】 (ただし、式中、R6は水素、炭素数1〜6の鎖状もし
くは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から選
択される基又は原子であり、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。) 【化4】 (ただし、式中、R7は水素、炭素数1〜6の鎖状もし
くは環状アルキル基、フェニル基、ハロゲンの中から選
択される基又は原子であり、それらは互いに同一であっ
ても異なっていても良い。)
10. The thermosetting resin composition according to claim 8, wherein the crystalline epoxy resin is a compound represented by the general formula [2], the general formula [3] or the general formula [4]. Embedded image (In the formula, R 5 is a group or atom selected from hydrogen, a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen, and they are the same or different. May be used.) (In the formula, R 6 is a group or atom selected from hydrogen, a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen, and they may be the same or different. May be used.) (In the formula, R 7 is a group or atom selected from hydrogen, a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and a halogen, and they may be the same or different. May be.)
JP14906196A 1996-06-11 1996-06-11 Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the catalyst Expired - Lifetime JP3217266B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14906196A JP3217266B2 (en) 1996-06-11 1996-06-11 Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the catalyst

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14906196A JP3217266B2 (en) 1996-06-11 1996-06-11 Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the catalyst

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09328535A true JPH09328535A (en) 1997-12-22
JP3217266B2 JP3217266B2 (en) 2001-10-09

Family

ID=15466822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14906196A Expired - Lifetime JP3217266B2 (en) 1996-06-11 1996-06-11 Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the catalyst

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3217266B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001089636A (en) * 1999-07-22 2001-04-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
US6235865B1 (en) 1998-07-02 2001-05-22 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphonium borate compound, making method, curing catalyst, and epoxy resin composition
EP1130041A1 (en) * 1999-07-22 2001-09-05 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Epoxy resin composition and semiconductor device
US6306792B1 (en) 1997-12-03 2001-10-23 Sumitomo Bakelite Company Limited Evaluating moisture resistance reliability of phosphonium borate catalyst
JP2002292285A (en) * 2001-03-30 2002-10-08 Nippon Shokubai Co Ltd Preservation method of resin catalyst for addition reaction of alkylene oxide and its use
US8129467B2 (en) 2005-04-15 2012-03-06 Hitachi Chemical Co., Ltd. Curing accelerating compound-silica composite material, method for producing curing accelerating compound-silica composite material, curing accelerator, curable resin composition, and electronic component device
JP2013127034A (en) * 2011-12-19 2013-06-27 Nitto Denko Corp Epoxy resin composition for sealing sheet-like electronic parts and electronic part device using the same
JP2015074686A (en) * 2013-10-07 2015-04-20 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, and prepreg, laminated board, and print circuit board using the same
JP5888230B2 (en) * 2010-03-10 2016-03-16 味の素株式会社 Resin composition
WO2017126568A1 (en) * 2016-01-20 2017-07-27 新日本理化株式会社 Epoxy resin composition

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6524989B2 (en) 1997-12-03 2003-02-25 Sumitomo Bakelite Company Limited Tetraorganophosponium dicyclic tetraorganoborate catalyst
US6946421B2 (en) 1997-12-03 2005-09-20 Sumitomo Bakelite Company Limited Latent catalyst
US6306792B1 (en) 1997-12-03 2001-10-23 Sumitomo Bakelite Company Limited Evaluating moisture resistance reliability of phosphonium borate catalyst
US6881812B2 (en) 1997-12-03 2005-04-19 Sumitomo Bakelite Company, Ltd. Thermosetting resin and tetraorganophosphonium dicyclic tetraorganoborane catalyst
US6235865B1 (en) 1998-07-02 2001-05-22 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphonium borate compound, making method, curing catalyst, and epoxy resin composition
EP1130041A4 (en) * 1999-07-22 2001-12-12 Sumitomo Bakelite Co Epoxy resin composition and semiconductor device
US6664344B1 (en) 1999-07-22 2003-12-16 Sumitomo Bakelite Company Limited Composition of polyepoxide, phenolic co-condensate and phosphonium-polyphenolic molecular association product
JP2001089636A (en) * 1999-07-22 2001-04-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
EP1130041A1 (en) * 1999-07-22 2001-09-05 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Epoxy resin composition and semiconductor device
KR100629665B1 (en) * 1999-07-22 2006-09-29 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 Epoxy resin composition and semiconductor device
JP4617531B2 (en) * 1999-07-22 2011-01-26 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2002292285A (en) * 2001-03-30 2002-10-08 Nippon Shokubai Co Ltd Preservation method of resin catalyst for addition reaction of alkylene oxide and its use
US8129467B2 (en) 2005-04-15 2012-03-06 Hitachi Chemical Co., Ltd. Curing accelerating compound-silica composite material, method for producing curing accelerating compound-silica composite material, curing accelerator, curable resin composition, and electronic component device
JP5888230B2 (en) * 2010-03-10 2016-03-16 味の素株式会社 Resin composition
JP2013127034A (en) * 2011-12-19 2013-06-27 Nitto Denko Corp Epoxy resin composition for sealing sheet-like electronic parts and electronic part device using the same
JP2015074686A (en) * 2013-10-07 2015-04-20 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, and prepreg, laminated board, and print circuit board using the same
WO2017126568A1 (en) * 2016-01-20 2017-07-27 新日本理化株式会社 Epoxy resin composition
CN108473665A (en) * 2016-01-20 2018-08-31 新日本理化株式会社 Composition epoxy resin
JPWO2017126568A1 (en) * 2016-01-20 2018-11-15 新日本理化株式会社 Epoxy resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP3217266B2 (en) 2001-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3736611B2 (en) Flip chip type semiconductor device sealing material and flip chip type semiconductor device
JP7147680B2 (en) Thermosetting maleimide resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
WO2007037500A9 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
TW201726801A (en) Heat-curable epoxy resin composition
JP2016204626A (en) Composition, epoxy resin curing agent, epoxy resin composition, heat curable composition, cured article, semiconductor device and interlayer insulation material
JP3217266B2 (en) Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the catalyst
JP3695521B2 (en) Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP2004307545A (en) Epoxy resin composition and sealed semiconductor device
JP4538971B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2939166B2 (en) Latent catalyst and thermosetting resin composition containing the catalyst
JP3883146B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
US20020016398A1 (en) Semiconductor encapsulating epoxy resin composition and semiconductor device
JP2002348350A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3056667B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP3585615B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP3389125B2 (en) Latent catalyst
JP2003327666A (en) Epoxy resin composition and semiconductor sealed device
JP3434676B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3672392B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
KR100587453B1 (en) Epoxy Resin Compositions for Sealing Semiconductor and Semiconductor Devices
JP4538972B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH1045872A (en) Epoxy resin composition
JP2003212958A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPS6220521A (en) Epoxy resin composition
JP2000309678A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100803

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130803

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term