JPH1152105A - Antireflection film - Google Patents
Antireflection filmInfo
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- JPH1152105A JPH1152105A JP9213730A JP21373097A JPH1152105A JP H1152105 A JPH1152105 A JP H1152105A JP 9213730 A JP9213730 A JP 9213730A JP 21373097 A JP21373097 A JP 21373097A JP H1152105 A JPH1152105 A JP H1152105A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの表
示画面の表面に設けられた偏光フィルムなどの上に適用
される反射防止フィルムであって、抗菌性や防カビ性に
優れた反射防止フィルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-reflection film applied on a polarizing film or the like provided on the surface of a display screen of a display, and relates to an anti-reflection film having excellent antibacterial and antifungal properties. .
【０００２】[0002]
【従来の技術】ディスプレイの多くは、室内外を問わ
ず、外光が入射する環境下で使用されている。ディスプ
レイ内に入射した外光は、本来の表示光に混合して表示
品質を低下させる。そこで、このような外光のディスプ
レイ内への入射を防止するため、従来より、画面上に反
射防止層として、有機材料又は無機材料からなる低屈折
率層を単層で所定の膜厚に設けることや、有機材料又は
無機材料からなる高屈折率層と低屈折率層とを所定の膜
厚で交互に積層させたものを設けることがなされてい
る。2. Description of the Related Art Many displays are used in environments where external light enters, both indoors and outdoors. The external light incident on the display is mixed with the original display light to lower the display quality. Therefore, in order to prevent such external light from entering the display, conventionally, a low-refractive-index layer made of an organic material or an inorganic material is provided as a single layer to a predetermined thickness as an antireflection layer on the screen. In addition, a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer made of an organic material or an inorganic material are alternately laminated with a predetermined film thickness is provided.
【０００３】この場合、反射防止層を構成する有機材料
としては、主にパーフルオロアルキル等の含フッ素化合
物が使用されており、また、無機材料としては、例え
ば、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＺｎＳ等の酸化物、
フッ化物、硫化物等のセラミックが使用されている。In this case, a fluorine-containing compound such as perfluoroalkyl is mainly used as an organic material constituting the antireflection layer, and TiO 2 , SiO 2 , MgF 2 is used as an inorganic material, for example. , An oxide such as ZnS,
Ceramics such as fluorides and sulfides are used.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ディスプレ
イは不特定多数の人により使用される場合も多いため、
ディスプレイに抗菌性や防カビ性を付与し、衛生面での
安全性を確保することが要請されている。Since displays are often used by an unspecified number of people,
There is a demand for imparting antibacterial and antifungal properties to displays to ensure sanitary safety.
【０００５】このような衛生面での安全性の確保は、近
年、種々の製品に対して求められており、例えば、ＯＡ
機器のタッチパネル部分、画像表示部分等においては、
抗菌性あるいは防カビ性材料として、銀イオン交換型の
ゼオライト、銀イオンを含有するチタン系化合物等が使
用されている。[0005] In recent years, such sanitary safety has been demanded for various products.
In the touch panel, image display, etc. of the device,
As an antibacterial or antifungal material, silver ion-exchanged zeolite, titanium compounds containing silver ions, and the like are used.
【０００６】これら銀イオン交換型のゼオライト、銀イ
オンを含有するチタン系化合物等の従来の抗菌性材料あ
るいは防カビ性材料は、抗菌性あるいは防カビ性の付与
を目的とする製品の基材の構成樹脂に練り込むか、ある
いは、抗菌性材料あるいは防カビ性材料を樹脂に練り込
んだ塗料を製品の基材表面に塗布するという方法で使用
されている。このため、従来の抗菌性材料あるいは防カ
ビ性材料の使用方法をそのまま反射防止フィルムに適用
し、抗菌性材料あるいは防カビ性材料を樹脂に練り込ん
だ塗料を反射防止フィルム上に塗布すると、反射率等の
光学的特性が阻害されるという問題が生じる。Conventional antibacterial materials or antifungal materials such as silver ion-exchange type zeolites and silver-containing titanium compounds are used as base materials for products intended to impart antibacterial or antifungal properties. It is used in a method of kneading into a constituent resin or applying a coating in which an antibacterial material or an antifungal material is kneaded into a resin to a substrate surface of a product. For this reason, when the conventional method of using an antibacterial material or an antifungal material is applied to the antireflection film as it is, and a paint in which the antibacterial material or the antifungal material is kneaded into a resin is applied on the antireflective film, There is a problem that optical characteristics such as the rate are hindered.
【０００７】本発明は以上のような従来技術の課題を解
決しようとするものであり、抗菌性や防カビ性を有し、
衛生面での安全性が向上し、かつ所期の光学特性を有す
る反射防止フィルムを提供することを目的とする。The present invention is intended to solve the above-mentioned problems of the prior art, and has antibacterial and antifungal properties.
It is an object of the present invention to provide an antireflection film having improved hygiene safety and having desired optical characteristics.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、フィルム基材上に反射防止層を有する反
射防止フィルムであって、反射防止層上又は反射防止層
とフィルム基材との間に、抗菌性材料又は防カビ性材料
が含有された抗菌処理層を有することを特徴とする反射
防止フィルムを提供する。According to the present invention, there is provided an antireflection film having an antireflection layer on a film substrate, wherein the antireflection layer or the antireflection layer and a film substrate are provided. And an antireflection film characterized by having an antibacterial treatment layer containing an antibacterial material or an antifungal material.
【０００９】さらにこの好ましい態様として、上記反射
防止フィルムのフィルム基材と反射防止層との間に、ハ
ードコート機能又はアンチグレア機能をもつ有機樹脂層
を有するものを提供する。Further, as a preferred embodiment, there is provided an antireflection film having an organic resin layer having a hard coat function or an antiglare function between the film substrate and the antireflection layer.
【００１０】また、反射防止層上の抗菌処理層が、反射
防止フィルムの最外層をなしている態様、反射防止層が
反射防止フィルムの最外層をなし、その反射防止層に隣
接する下層に抗菌処理層が設けられている態様、反射防
止フィルムの反射防止層が、有機樹脂層上に形成された
セラミック薄膜からなる態様、反射防止フィルムの反射
防止層が、高屈折率層と低屈折率層との積層膜からなる
態様、特にその高屈折率層が屈折率１．８５以上であ
り、低屈折率層が屈折率１．７０以下である態様を提供
する。[0010] Also, the antibacterial treatment layer on the antireflection layer forms the outermost layer of the antireflection film. The antireflection layer forms the outermost layer of the antireflection film, and the lower layer adjacent to the antireflection layer has the antibacterial treatment. The mode in which the treatment layer is provided, the mode in which the antireflection layer of the antireflection film is made of a ceramic thin film formed on an organic resin layer, the mode in which the antireflection layer of the antireflection film has a high refractive index layer and a low refractive index layer , In particular, the high refractive index layer has a refractive index of 1.85 or more, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.70 or less.
【００１１】また、上記の有機樹脂層を有する反射防止
フィルムの当該有機樹脂層が抗菌性材料又は防カビ性材
料を含有し、抗菌処理層となっている態様、反射防止フ
ィルムの抗菌性材料又は防カビ性材料として、酸化モリ
ブデン、酸化亜鉛、及び鉄又はアルミニウムをドープし
た酸化チタンの少なくとも一種が含有されている態様を
提供する。The antireflection film having the above organic resin layer, wherein the organic resin layer contains an antibacterial material or an antifungal material and serves as an antibacterial treatment layer. An embodiment is provided in which at least one of molybdenum oxide, zinc oxide, and titanium oxide doped with iron or aluminum is contained as the anti-mold material.
【００１２】本発明の反射防止フィルムによれば、抗菌
処理層が反射防止層上又は反射防止層とフィルム基材と
の間に設けられており、より好ましくは、反射防止フィ
ルムの最外層に抗菌処理層が設けられているか、又は反
射防止層が反射防止フィルムの最外層をなし、その反射
防止層に隣接する下層に抗菌処理層が設けられているの
で、反射防止フィルムそれ自体が抗菌性及び防カビ性に
優れたものとなる。したがって、反射防止フィルムを表
面に設けた製品に抗菌性や防カビ性を付与するにあた
り、反射防止フィルムを製品の表面に設けた後、抗菌性
材料あるいは防カビ性材料を練り込んだ塗料を反射防止
フィルムと別個に調製し、これを反射防止フィルム上に
塗布することが不要となる。また、本発明の反射防止フ
ィルムは、反射率等の光学的特性が阻害されないという
効果も有するものとなる。According to the antireflection film of the present invention, the antibacterial treatment layer is provided on the antireflection layer or between the antireflection layer and the film substrate. More preferably, the antibacterial treatment layer is provided on the outermost layer of the antireflection film. Since the treatment layer is provided or the antireflection layer forms the outermost layer of the antireflection film and the antibacterial treatment layer is provided in the lower layer adjacent to the antireflection layer, the antireflection film itself has antibacterial properties and It is excellent in mold resistance. Therefore, in order to impart antibacterial and antifungal properties to a product with an antireflective film on the surface, after the antireflective film is provided on the surface of the product, the paint containing the antibacterial material or antifungal material is reflected. It is not necessary to prepare separately from the anti-reflection film and apply it on the anti-reflection film. Further, the antireflection film of the present invention also has an effect that optical characteristics such as reflectance are not impaired.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
反射防止フィルムの例を図面に示し、詳細に説明する。
なお、各図中、同一符号は同一又は同等の構成要素を表
している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an example of an antireflection film according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In each of the drawings, the same reference numerals represent the same or equivalent components.
【００１４】図１は、本発明の一つの態様の反射防止フ
ィルム１Ａである。この反射防止フィルム１Ａは、フィ
ルム基材２、有機樹脂層３、反射防止層４、抗菌処理層
５から構成されている。FIG. 1 shows an antireflection film 1A according to one embodiment of the present invention. This antireflection film 1A is composed of a film substrate 2, an organic resin layer 3, an antireflection layer 4, and an antibacterial treatment layer 5.
【００１５】この反射防止フィルム１Ａにおいて、フィ
ルム基材２は、ある程度の剛性と表面の平滑性を有し、
透明であればよく、種々のプラスチックフィルムを当該
反射防止フィルムの目的に応じて適時、選択することが
できる。例えば、反射防止フィルムがディスプレイの表
面で使用されるものである場合、フィルム基材２には複
屈折のないことが要求されるため、その構成素材として
は、例えば、ポリカーボネート、トリアセチルセルロー
ス、ポリエーテルスルホン、ポリメチルアクリレート等
を挙げることができる。この他、フィルム基材２として
は、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィ
ルム、ポリオレフィンフィルム等汎用性のあるフィルム
素材から形成してもよく、ガラスから形成してもよい
い。フィルム基材２の厚さは用途に応じて設定する。In this antireflection film 1A, the film substrate 2 has a certain degree of rigidity and surface smoothness.
Any plastic film may be used as long as it is transparent, and various plastic films can be appropriately selected according to the purpose of the antireflection film. For example, when the anti-reflection film is used on the surface of a display, the film substrate 2 is required to have no birefringence. Ether sulfone, polymethyl acrylate and the like can be mentioned. In addition, the film substrate 2 may be formed of a general-purpose film material such as a polyester film such as polyethylene terephthalate, a polyolefin film, or may be formed of glass. The thickness of the film substrate 2 is set according to the application.
【００１６】有機樹脂層３は、反射防止フィルム１Ａに
所望の機械的強度を付与するため、フィルム基材２と反
射防止層４との密着性を強固にするため、あるいは防眩
性を付与するため等のため、必要に応じて、ハードコー
ト機能あるいはアンチグレア機能をもつものが設けられ
る。The organic resin layer 3 imparts a desired mechanical strength to the antireflection film 1A, strengthens adhesion between the film substrate 2 and the antireflection layer 4, or imparts antiglare properties. For the purpose of, for example, a device having a hard coat function or an anti-glare function is provided as necessary.
【００１７】この有機樹脂層３としては、透明性があ
り、屈折率がフィルム基材２の屈折率ｎと等しいことが
望ましいが、フィルム基材２の屈折率ｎに対し、±０．
０５以内であればよい。有機樹脂層３の厚さは、機械的
強度の点から１０μｍ以下が好ましく、１〜７μｍがよ
り好ましく、さらに３〜７μｍが好ましいが、反射防止
フィルムに所期の硬さを付与できる限り、特に限定され
ない。The organic resin layer 3 is preferably transparent and has a refractive index equal to the refractive index n of the film substrate 2.
05 or less. The thickness of the organic resin layer 3 is preferably 10 μm or less, more preferably 1 to 7 μm, and still more preferably 3 to 7 μm from the viewpoint of mechanical strength, but as long as the desired hardness can be imparted to the antireflection film, particularly Not limited.
【００１８】また、有機樹脂層３の材質としては、透明
性、密着性、硬さ等の要求性能が満たされる限り特に制
限はない。例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂、シリ
コーン樹脂等を主体とする樹脂から形成することができ
る。また、これらの樹脂に添加剤を含有させることもで
きる。The material of the organic resin layer 3 is not particularly limited as long as required properties such as transparency, adhesion and hardness are satisfied. For example, it can be formed from a resin mainly composed of an ultraviolet curable acrylic resin, silicone resin, or the like. Further, additives may be contained in these resins.
【００１９】ここで添加剤としては、有機樹脂層３にア
ンチグレア機能をもたせる場合には外光を散乱させる透
明顔料などの透明粉末を好ましく使用することができ
る。より具体的には、例えば、酸化チタン、酸化珪素、
酸化亜鉛、酸化アルミニウム等の無機化合物、硫酸バリ
ウム等の無機塩、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウ
ム等のフッ化物等を挙げることができる。また、上記透
明粉末として、ポリジビニルベンゼン、ポリスチレン、
ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂粉末、これらの樹
脂から構成される中空のビーズ、あるいはこれらの樹脂
またはその中空ビーズ表面に表面処理を施した粉末など
も利用することができる。このような透明粉末の大きさ
としては、有機樹脂層３を構成する透明樹脂に分散し、
フィルム基材２上に平滑かつ均一に塗布できるよう〜３
μｍ程度が望ましい。In the case where the organic resin layer 3 has an antiglare function, a transparent powder such as a transparent pigment which scatters external light can be preferably used as the additive. More specifically, for example, titanium oxide, silicon oxide,
Examples include inorganic compounds such as zinc oxide and aluminum oxide, inorganic salts such as barium sulfate, and fluorides such as magnesium fluoride and calcium fluoride. Further, as the transparent powder, polydivinylbenzene, polystyrene,
Resin powders such as polytetrafluoroethylene, hollow beads composed of these resins, or powders obtained by subjecting the surface of these resins or the hollow beads to surface treatment can also be used. As the size of such a transparent powder, it is dispersed in the transparent resin constituting the organic resin layer 3,
3 to allow smooth and uniform coating on film substrate 2
About μm is desirable.
【００２０】反射防止層４は、それを単一層として構成
してもよく、また高屈折率層と低屈折率層とを交互に積
層させた積層膜として構成してもよい。The antireflection layer 4 may be formed as a single layer, or may be formed as a laminated film in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated.
【００２１】単一層とする場合、反射防止層４は、屈折
率１．３５〜１．６程度の低屈折率のセラミック薄膜又
はフッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂等の高分
子樹脂層から形成することができる。ここで、セラミッ
クとは無機化合物を意味し、例えば、ＳｉＯ2等の酸化
物、ＭｇＦ2等のフッ化物の薄膜を形成することができ
る。この場合、反射防止層４の膜厚は、３００ｎｍ以下
とすることが好ましい。特に、フィルム基材２が高分子
樹脂からなる場合、反射防止フィルム１Ａ全体としての
柔軟性を確保し、クラックの発生を防止する点から反射
防止層４を過度に厚く形成することは好ましくない。In the case of a single layer, the antireflection layer 4 is formed from a ceramic thin film having a low refractive index of about 1.35 to 1.6 or a polymer resin layer such as a fluororesin, a silicone resin, and an acrylic resin. be able to. Here, the ceramic means an inorganic compound, for example, can be formed oxide such as SiO 2, a thin film of fluoride MgF 2 or the like. In this case, the thickness of the antireflection layer 4 is preferably set to 300 nm or less. In particular, when the film substrate 2 is made of a polymer resin, it is not preferable to form the antireflection layer 4 excessively thick from the viewpoint of securing the flexibility of the antireflection film 1A as a whole and preventing the occurrence of cracks.
【００２２】また、反射防止層４を、高屈折率層と低屈
折率層とを交互に積層させた積層膜とする場合、各高屈
折率層あるいは低屈折率層の膜厚を、所定の光学膜厚
（ｎ×ｄ（式中、ｎは屈折率、ｄは距離））に設定する
ことにより、所期の反射防止機能を発揮させることが可
能となる。ここで、高屈折率層と低屈折率層のそれぞれ
の屈折率と層厚はそれらの層数等に応じて異なるが、通
常、高屈折率層の屈折率（ｎ）は１．８５以上とし、低
屈折率層の屈折率（ｎ）は１．７０以下、好ましくは
１．６０以下とする。また、高屈折率層と低屈折率層と
の層数は、好ましくはそれぞれ３層以上とする。これに
より、波長領域４７０ｎｍから６５０ｎｍの範囲におけ
る反射率０．５％以下の領域を広げることができる。When the antireflection layer 4 is a laminated film in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated, the thickness of each high refractive index layer or low refractive index layer is adjusted to a predetermined value. By setting the optical film thickness (n × d (where n is a refractive index and d is a distance)), an intended antireflection function can be exhibited. Here, the refractive index and the layer thickness of each of the high refractive index layer and the low refractive index layer are different depending on the number of the layers and the like, but the refractive index (n) of the high refractive index layer is usually 1.85 or more. The low refractive index layer has a refractive index (n) of 1.70 or less, preferably 1.60 or less. In addition, the number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer is preferably three or more, respectively. Thereby, it is possible to widen a region having a reflectance of 0.5% or less in a wavelength region of 470 nm to 650 nm.
【００２３】また、反射防止層４を、高屈折率層と低屈
折率層との積層膜とする場合に、高屈折率層の形成材料
としては、種々の誘電体や導電材料等を適宜選択して用
いることができ、特に、誘電体としては、酸化チタン、
酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化イン
ジウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化錫等を使
用することができる。また、導電材料としては、酸化亜
鉛、酸化インジウム、酸化錫等を使用することができ
る。一方、低屈折率層の形成材料としては、二酸化珪
素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等をあげる
ことができる。When the antireflection layer 4 is a laminated film of a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer, various dielectric and conductive materials are appropriately selected as a material for forming the high-refractive-index layer. Can be used, in particular, as the dielectric, titanium oxide,
Zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, hafnium oxide, cerium oxide, tin oxide, and the like can be used. In addition, as the conductive material, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, or the like can be used. On the other hand, examples of a material for forming the low refractive index layer include silicon dioxide, magnesium fluoride, calcium fluoride, and the like.
【００２４】以上の反射防止層４の各層の形成方法とし
ては、フィルム基材２その他各層にダメージを与えるこ
となく成膜することができる限り、任意の成膜方法を採
用することができる。例えば、反射防止層４として高分
子樹脂層を形成する場合には、スピンコート法により好
ましく形成することができ、この他印刷法によってもよ
い。また、反射防止層４としてセラミック薄膜を形成す
る場合には、乾式法により形成することが好ましい。こ
の乾式法としては、通常の真空蒸着法、スパッタリング
等の物理的気相析出法やＰＶＤ法等の化学的気相析出法
を使用することができる。As a method of forming each layer of the antireflection layer 4, any film forming method can be adopted as long as a film can be formed without damaging the film substrate 2 and other layers. For example, when a polymer resin layer is formed as the antireflection layer 4, it can be preferably formed by a spin coating method, or may be formed by a printing method. When a ceramic thin film is formed as the antireflection layer 4, it is preferable to form it by a dry method. As the dry method, an ordinary physical vapor deposition method such as a vacuum evaporation method and a sputtering method and a chemical vapor deposition method such as a PVD method can be used.
【００２５】この反射防止フィルム１Ａにおいては、反
射防止層４上、即ち、この反射防止フィルム１Ａの最外
層に抗菌処理層５が形成されていることを特徴としてい
る。この抗菌処理層５は、アクリル樹脂等の樹脂に抗菌
性材料又は防カビ性材料を練り込んだものから形成され
ている。The antireflection film 1A is characterized in that an antibacterial treatment layer 5 is formed on the antireflection layer 4, that is, on the outermost layer of the antireflection film 1A. The antibacterial treatment layer 5 is formed of a resin such as an acrylic resin kneaded with an antibacterial material or an antifungal material.
【００２６】ここで、抗菌性材料又は防カビ性材料の種
類としては、特に限定されるものではない。一般には、
銀イオンを含む化合物に抗菌性や防カビ性の効果を発揮
するものが多く、例えば銀イオン交換型のゼオライト、
リン酸チタン銀、リン酸ジルコニウム銀などがあり、こ
れらは用途に応じて適宜使用することができる。Here, the kind of the antibacterial material or the antifungal material is not particularly limited. Generally,
Many compounds exhibiting antibacterial and antifungal effects on compounds containing silver ions, for example, silver ion exchange type zeolites,
There are titanium silver phosphate, silver zirconium phosphate, and the like, and these can be appropriately used depending on the application.
【００２７】しかし、この反射防止フィルム１Ａにおい
ては、抗菌処理層５が反射防止フィルム１Ａの最外層に
形成されているので、抗菌処理層５には所定の透明性が
必要とされ、また光学的性質が不明確にならないように
することが必要となる。さらに、銀イオンのように、光
によって還元反応が生じるものの使用も好ましくない。
そこで、抗菌性材料あるいは防カビ性材料としては、複
合酸化物ではなく、通常の酸化物を使用することが好ま
しい。例えば、銀イオンを含まない化合物として、酸化
亜鉛（屈折率ｎ＝−２．１）、ポリ酸（（タングステン
酸（屈折率ｎ＝−１．９）、モリブデン酸（屈折率ｎ＝
１．６８）等）、さらにはアルミニウムや鉄を少量ドー
プした酸化チタン（屈折率ｎ＝２．３）等を好ましく使
用することができる。これらはいずれも、大腸菌、黄色
ブドウ球菌、緑膿菌に対して抗菌性を有する。また、酸
化チタンはさらに防カビ性も有する。However, in the antireflection film 1A, since the antibacterial treatment layer 5 is formed on the outermost layer of the antireflection film 1A, the antibacterial treatment layer 5 needs to have a predetermined transparency, It is necessary to ensure that the properties are not ambiguous. Furthermore, it is not preferable to use a substance that causes a reduction reaction by light, such as silver ions.
Therefore, it is preferable to use not a composite oxide but a normal oxide as the antibacterial material or the antifungal material. For example, as a compound containing no silver ion, zinc oxide (refractive index n = -2.1), polyacid ((tungstic acid (refractive index n = -1.9), molybdic acid (refractive index n =
1.68)), and titanium oxide (refractive index n = 2.3) doped with a small amount of aluminum or iron can be preferably used. All have antibacterial properties against Escherichia coli, Staphylococcus aureus and Pseudomonas aeruginosa. Titanium oxide also has antifungal properties.
【００２８】これら抗菌性材料あるいは防カビ性材料の
抗菌処理層５における含有量は、これらの抗菌性材料あ
るいは防カビ性材料の粒径等に応じて定まるが、通常、
１０重量％程度とすることができる。The content of the antimicrobial material or the antifungal material in the antimicrobial treatment layer 5 is determined according to the particle size of the antimicrobial material or the antifungal material.
It can be about 10% by weight.
【００２９】抗菌処理層５の厚さは、反射防止層４の機
能を妨げない厚さに適宜設定し、通常は、２０ｎｍ以下
とする。The thickness of the antibacterial treatment layer 5 is appropriately set so as not to hinder the function of the antireflection layer 4, and is usually set to 20 nm or less.
【００３０】以上、図１に基づき、抗菌処理層５が反射
防止フィルムの最外層に形成されている反射防止フィル
ム１Ａの態様について説明したが、本発明においては、
図２に示した反射防止フィルム１Ｂのように、反射防止
層４を最外層とし、この反射防止層４に隣接する下層に
抗菌処理層５を設けてもよい。この場合、抗菌処理層５
は、図１の反射防止フィルム１Ａの有機樹脂層３を構成
する樹脂中に、前述の抗菌性材料あるいは防カビ性材料
を含有させることにより形成することができる。このよ
うに反射防止層４の下層に抗菌処理層５を設けることに
より、図１のように反射防止層４上に抗菌処理層５を設
けた場合に比して光学的に有利となり、また、劣化しに
くくなる。The embodiment of the antireflection film 1A in which the antibacterial treatment layer 5 is formed on the outermost layer of the antireflection film has been described with reference to FIG.
As in the antireflection film 1B shown in FIG. 2, the antireflection layer 4 may be the outermost layer, and the antibacterial treatment layer 5 may be provided in a lower layer adjacent to the antireflection layer 4. In this case, the antibacterial treatment layer 5
Can be formed by incorporating the above-mentioned antibacterial material or antifungal material into the resin constituting the organic resin layer 3 of the antireflection film 1A in FIG. Providing the antibacterial treatment layer 5 below the antireflection layer 4 in this way is optically advantageous compared to the case where the antibacterial treatment layer 5 is provided on the antireflection layer 4 as shown in FIG. Deterioration is less likely.
【００３１】本発明の反射防止フィルムは、図１及び図
２に示した反射防止フィルム１Ａ、１Ｂが有する各層の
他、さらに必要に応じて防汚処理層、帯電防止層等を有
することができる。The antireflection film of the present invention may have, in addition to the layers of the antireflection films 1A and 1B shown in FIGS. 1 and 2, an antifouling treatment layer, an antistatic layer and the like, if necessary. .
【００３２】即ち、防汚処理層は、本発明において、反
射防止層４を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、
反射防止層４上に必要に応じて設けられる。この防汚処
理層の形成材料としては、反射防止層４の機能が阻害さ
れず、防汚処理層としての要求性能が満たされる限り特
に制限はないが、通常、疎水基を有する化合物を好まし
く使用でき、例としてはパーフルオロシラン、フルオロ
カーボン等を使用することができる。防汚処理層の層厚
にも特に制限はないが、通常、２０ｎｍ以下が好まし
く、１０ｎｍ以下がより好ましい。防汚処理層の形成方
法は、当該防汚処理層の形成材料に応じて、例えば、蒸
着、スパッタリング等の物理気相折出法、ＣＶＤ法のよ
うな化学気相折出法あるいは特殊な湿式コーティング等
を用いることができる。That is, in the present invention, the antifouling treatment layer is used to protect the antireflection layer 4 and enhance the antifouling performance.
It is provided on the antireflection layer 4 as needed. The material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the antireflection layer 4 is not hindered and the required performance as the antifouling layer is satisfied. In general, a compound having a hydrophobic group is preferably used. For example, perfluorosilane, fluorocarbon and the like can be used. The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less. The method for forming the antifouling treatment layer is, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition and sputtering, a chemical vapor deposition method such as a CVD method, or a special wet method, depending on the material for forming the antifouling treatment layer. Coating or the like can be used.
【００３３】[0033]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below based on embodiments.
【００３４】実施例１ 図１に示した層構成の反射防止フィルムを次のように作
製した。Example 1 An antireflection film having the layer structure shown in FIG. 1 was produced as follows.
【００３５】まず、フィルム基材２として、厚さ５０μ
ｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用意し、この上に有機樹脂層３として、紫外線硬化型の
アクリル樹脂をダイコート法により厚さ約５μｍ形成し
た。First, as the film substrate 2,
m polyethylene terephthalate (PET) film was prepared, and an ultraviolet-curable acrylic resin having a thickness of about 5 μm was formed thereon as an organic resin layer 3 by a die coating method.
【００３６】次に、反射防止層４として、フッ化マグネ
シウム（ＭｇＦ2）を蒸着法により光学膜厚（ｎｄ値）
１３５ｎｍの厚さに成膜した。そして、その上に抗菌処
理層５として、銀ゼオライトの微粒子（粒径１００〜２
００Å）をアクリル樹脂に分散させた塗料を使用し、厚
さ５μｍの塗膜を形成することにより実施例の反射防止
フィルムを形成した。Next, magnesium fluoride (MgF 2 ) is used as the antireflection layer 4 by an evaporation method to obtain an optical film thickness (nd value).
A film was formed to a thickness of 135 nm. Then, as an antibacterial treatment layer 5 thereon, fine particles of silver zeolite (particle diameter: 100 to 2).
The antireflection film of the example was formed by forming a coating film having a thickness of 5 μm by using a coating material in which (00) was dispersed in an acrylic resin.
【００３７】得られた反射防止フィルムの可視スペクト
ルを紫外・可視分光光度計により測定した。このスペク
トルを図３に示す。The visible spectrum of the obtained antireflection film was measured by an ultraviolet / visible spectrophotometer. This spectrum is shown in FIG.
【００３８】また、大腸菌（Ｅ．Ｃｏｌｉ）、黄色ブド
ウ球菌及び緑膿菌をそれぞれ表１に示した菌数（１ｃｍ
2あたり）で含有する溶液を反射防止フィルムの表面に
滴下し、１時間経過後に菌数を計測した。この結果を表
１に示す。In addition, E. coli, Staphylococcus aureus and Pseudomonas aeruginosa were counted as shown in Table 1 (1 cm
2 ) was dropped onto the surface of the antireflection film, and the number of bacteria was counted after 1 hour. Table 1 shows the results.
【００３９】図３及び表１の結果から、実施例１の反射
防止フィルムは、良好な反射防止能と抗菌性を有してい
ることがわかる。From the results shown in FIG. 3 and Table 1, it can be seen that the antireflection film of Example 1 has good antireflection ability and antibacterial properties.
【００４０】[0040]
【表１】 菌数／ｃｍ2 滴下直後 １時間後 大腸菌（Ｅ．Ｃｏｌｉ）：１００００ ＜１００ 黄色ブドウ球菌 ： １００００ ＜１００ 緑膿菌 ： １００００ ＜１００ 1 hour after dropping the number of bacteria / cm 2 1 hour after E. coli: 10,000 <100 Staphylococcus aureus: 10,000 <100 Pseudomonas aeruginosa: 10,000 <100
【００４１】実施例２ 図２に示した層構成の反射防止フィルムを次のように作
製した。Example 2 An antireflection film having the layer structure shown in FIG. 2 was produced as follows.
【００４２】まず、フィルム基材２として、厚さ５０μ
ｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを
用意し、この上に抗菌処理層５として、紫外線硬化型の
アクリル樹脂に銀ゼオライトの微粒子（粒径１００〜２
００Å）を濃度２ｗｔ％で分散させた塗料をダイコート
法により厚さ約５μｍ形成した。First, as the film substrate 2,
m of polyethylene terephthalate (PET) film, and as an antibacterial treatment layer 5 thereon, ultraviolet curable acrylic resin and silver zeolite fine particles (particle size: 100 to 2).
00Å) was dispersed at a concentration of 2 wt% to form a coating having a thickness of about 5 μm by a die coating method.
【００４３】次に、反射防止層４として、フッ化マグネ
シウム（ＭｇＦ2）を蒸着法により光学膜厚（ｎｄ値）
１３５ｎｍの厚さに成膜した。Next, magnesium fluoride (MgF 2 ) is used as the antireflection layer 4 by an evaporation method to obtain an optical film thickness (nd value).
A film was formed to a thickness of 135 nm.
【００４４】得られた反射防止フィルムの可視スペクト
ルを実施例１と同様に測定した。このスペクトルを図４
に示す。The visible spectrum of the obtained antireflection film was measured in the same manner as in Example 1. This spectrum is shown in FIG.
Shown in
【００４５】また、大腸菌（Ｅ．Ｃｏｌｉ）、黄色ブド
ウ球菌及び緑膿菌をそれぞれ表２に示した菌数で含有す
る溶液を反射防止フィルムの表面に滴下し、１時間経過
後に菌数を計測した。この結果を表２に示す。Further, a solution containing E. coli, Staphylococcus aureus and Pseudomonas aeruginosa each having the number of cells shown in Table 2 was dropped on the surface of the antireflection film, and the number of cells was counted after 1 hour. did. Table 2 shows the results.
【００４６】図４及び表２の結果から、実施例２の反射
防止フィルムは、良好な反射防止能と抗菌性を有してい
ることがわかる。From the results shown in FIG. 4 and Table 2, it can be seen that the antireflection film of Example 2 has good antireflection ability and antibacterial properties.
【００４７】[0047]
【表２】 菌数／ｃｍ2 滴下直後 １時間後 大腸菌（Ｅ．Ｃｏｌｉ）：１００００ ＜１００ 黄色ブドウ球菌 ： １００００ ＜１００ 緑膿菌 ： １００００ ＜１００ 1 hour after dropping the number of bacteria / cm 2 1 hour E. coli: 10,000 <100 Staphylococcus aureus: 10,000 <100 Pseudomonas aeruginosa: 10,000 <100
【００４８】[0048]
【発明の効果】本発明によれば、可視光の反射防止性能
に優れ、かつ抗菌性や防カビ性等の衛生面での安全性も
向上させた反射防止フィルムを得ることができる。According to the present invention, it is possible to obtain an antireflection film having excellent antireflection performance for visible light and improved hygiene safety such as antibacterial property and antifungal property.
【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。FIG. 1 is a layer configuration diagram of an antireflection film of the present invention.
【図２】本発明の反射防止フィルムの他の態様の層構成
図である。FIG. 2 is a layer configuration diagram of another embodiment of the antireflection film of the present invention.
【図３】実施例の反射防止フィルムの可視スペクトルで
ある。FIG. 3 is a visible spectrum of the antireflection film of the example.
【図４】実施例の反射防止フィルムの可視スペクトルで
ある。FIG. 4 is a visible spectrum of the antireflection film of the example.
１Ａ、１Ｂ 反射防止フィルム ２ フィルム基材 ３ 有機樹脂層 ４ 反射防止層 ５ 抗菌処理層 1A, 1B Antireflection film 2 Film substrate 3 Organic resin layer 4 Antireflection layer 5 Antibacterial treatment layer
Claims (9)
射防止フィルムであって、反射防止層上又は反射防止層
とフィルム基材との間に、抗菌性材料又は防カビ性材料
が含有された抗菌処理層を有することを特徴とする反射
防止フィルム。1. An anti-reflection film having an anti-reflection layer on a film substrate, wherein the anti-reflection film contains an antibacterial material or an anti-mold material on the anti-reflection layer or between the anti-reflection layer and the film substrate. An anti-reflection film having an antibacterial treatment layer.
ードコート機能又はアンチグレア機能をもつ有機樹脂層
を有する請求項１記載の反射防止フィルム。2. The anti-reflection film according to claim 1, further comprising an organic resin layer having a hard coat function or an anti-glare function between the film substrate and the anti-reflection layer.
フィルムの最外層をなしている請求項１記載の反射防止
フィルム。3. The antireflection film according to claim 1, wherein the antibacterial treatment layer on the antireflection layer is the outermost layer of the antireflection film.
をなし、その反射防止層に隣接する下層に抗菌処理層が
設けられている請求項１記載の反射防止フィルム。4. The anti-reflection film according to claim 1, wherein the anti-reflection layer forms an outermost layer of the anti-reflection film, and an antibacterial treatment layer is provided below the anti-reflection layer.
たセラミック薄膜からなる請求項２記載の反射防止フィ
ルム。5. The anti-reflection film according to claim 2, wherein the anti-reflection layer comprises a ceramic thin film formed on the organic resin layer.
た、高屈折率層と低屈折率層との積層膜からなる請求項
２記載の反射防止フィルム。6. The antireflection film according to claim 2, wherein the antireflection layer is formed of a laminated film of a high refractive index layer and a low refractive index layer formed on the organic resin layer.
り、低屈折率層が屈折率１．７０以下である請求項６記
載の反射防止フィルム。7. The antireflection film according to claim 6, wherein the high refractive index layer has a refractive index of 1.85 or more, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.70 or less.
料を含有し、抗菌処理層となっている請求項２記載の反
射防止フィルム。8. The antireflection film according to claim 2, wherein the organic resin layer contains an antibacterial material or an antifungal material, and serves as an antibacterial treatment layer.
化モリブデン、酸化亜鉛、及び鉄又はアルミニウムをド
ープした酸化チタンの少なくとも一種が含有されている
請求項１記載の反射防止フィルム。9. The antireflection film according to claim 1, wherein the antibacterial material or the antifungal material contains at least one of molybdenum oxide, zinc oxide, and titanium oxide doped with iron or aluminum.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9213730A JPH1152105A (en) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | Antireflection film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9213730A JPH1152105A (en) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | Antireflection film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1152105A true JPH1152105A (en) | 1999-02-26 |
Family
ID=16644056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9213730A Pending JPH1152105A (en) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | Antireflection film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1152105A (en) |
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