JPH1151315A - 粒子移動量制御装置 - Google Patents
粒子移動量制御装置Info
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- JPH1151315A JPH1151315A JP9208797A JP20879797A JPH1151315A JP H1151315 A JPH1151315 A JP H1151315A JP 9208797 A JP9208797 A JP 9208797A JP 20879797 A JP20879797 A JP 20879797A JP H1151315 A JPH1151315 A JP H1151315A
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- B01J8/384—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only
- B01J8/388—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only externally, i.e. the particles leaving the vessel and subsequently re-entering it
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00017—Controlling the temperature
- B01J2208/00106—Controlling the temperature by indirect heat exchange
- B01J2208/00115—Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements inside the bed of solid particles
- B01J2208/00141—Coils
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- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00548—Flow
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 粒子が供給される第1の流動層と、粒子が排
出される第2の流動層の間に配置され、第1の流動層か
ら第2の流動層に移動する粒子の移動量を制御する粒子
移動量制御装置において、ヒステリシス特性がなくほぼ
比例特性を有するものを提供する。 【解決手段】 流量制御ノズル30a,30b,……
…,30jを水平な管で形成し、これを上下方向に間隔
をあけて配置し、その管の下面に噴出孔31を設け、そ
の噴出孔31から噴出する空気の量を開閉弁33a,3
3b,………,33jまたは流量調整弁35a,35
b,………,35jを用いて各流量制御ノズル毎に制御
する。
出される第2の流動層の間に配置され、第1の流動層か
ら第2の流動層に移動する粒子の移動量を制御する粒子
移動量制御装置において、ヒステリシス特性がなくほぼ
比例特性を有するものを提供する。 【解決手段】 流量制御ノズル30a,30b,……
…,30jを水平な管で形成し、これを上下方向に間隔
をあけて配置し、その管の下面に噴出孔31を設け、そ
の噴出孔31から噴出する空気の量を開閉弁33a,3
3b,………,33jまたは流量調整弁35a,35
b,………,35jを用いて各流量制御ノズル毎に制御
する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は流動層装置におい
て、非機械的方法により粒子の移動量を制御する技術に
関する。
て、非機械的方法により粒子の移動量を制御する技術に
関する。
【0002】
【従来の技術】図11は、粒子移動量制御を必要とする
代表的な固気反応装置である循環流動層ボイラの概念図
である。同図に示すように循環流動層ボイラは、高速流
動層を形成し、その中で燃焼がおこなわれている、コン
バスタ1を有する。コンバスタ1内で高速流動層を形成
している粒子とガスは、コンバスタ1を出て、サイクロ
ン2に送られる。そこで分離された粒子は粒子循環制御
部3に導びかれ、一部は冷却せずにそのままホットリサ
イクル系4、一部は蒸気の発生や過熱によって冷却さ
れ、コールドリサイクル系5からコンバスタ1へもど
る。
代表的な固気反応装置である循環流動層ボイラの概念図
である。同図に示すように循環流動層ボイラは、高速流
動層を形成し、その中で燃焼がおこなわれている、コン
バスタ1を有する。コンバスタ1内で高速流動層を形成
している粒子とガスは、コンバスタ1を出て、サイクロ
ン2に送られる。そこで分離された粒子は粒子循環制御
部3に導びかれ、一部は冷却せずにそのままホットリサ
イクル系4、一部は蒸気の発生や過熱によって冷却さ
れ、コールドリサイクル系5からコンバスタ1へもど
る。
【0003】サイクロン2を出たガスは、対流伝熱面6
で熱交換され、バグフィルタ7、誘引ファン8、煙突9
を経て大気に放出される。燃焼に必要な空気は、ブロア
10a,10bから、粒子循環制御に必要な空気は、ブ
ロア11と空気源12から供給される。
で熱交換され、バグフィルタ7、誘引ファン8、煙突9
を経て大気に放出される。燃焼に必要な空気は、ブロア
10a,10bから、粒子循環制御に必要な空気は、ブ
ロア11と空気源12から供給される。
【0004】図12は従来技術による粒子循環制御部3
の概念的断面図である。粒子循環制御部3の内部は3つ
の流動層20a,20b,20cに分かれており、それ
ぞれブロア11から供給される空気が風箱21a,21
b,21c、ノズル22a,………,22mを経て供給
される。この空気により流動層20a,20b,20c
が形成される。サイクロン2(本図には図示せず)で分
離された粒子は、流動層20bに入りその一部は、高温
のまま無冷却で、流動層20aを経てホットリサイクル
系4からコンバスタ1(本図には図示せず)へ循環す
る。
の概念的断面図である。粒子循環制御部3の内部は3つ
の流動層20a,20b,20cに分かれており、それ
ぞれブロア11から供給される空気が風箱21a,21
b,21c、ノズル22a,………,22mを経て供給
される。この空気により流動層20a,20b,20c
が形成される。サイクロン2(本図には図示せず)で分
離された粒子は、流動層20bに入りその一部は、高温
のまま無冷却で、流動層20aを経てホットリサイクル
系4からコンバスタ1(本図には図示せず)へ循環す
る。
【0005】他の一部の粒子は、流動層20bから流動
層20cへ入り伝熱面24で冷却され、温度が下がった
のちにコールドリサイクル系5からコンバスタ1へ循環
する。コールドリサイクル系5へ流れる粒子量は流量制
御ノズル23で制御され、流量制御ノズル23は空気源
12から供給される空気でコントロールされる。
層20cへ入り伝熱面24で冷却され、温度が下がった
のちにコールドリサイクル系5からコンバスタ1へ循環
する。コールドリサイクル系5へ流れる粒子量は流量制
御ノズル23で制御され、流量制御ノズル23は空気源
12から供給される空気でコントロールされる。
【0006】図13は、従来の構成によるコールドリサ
イクル系5を流れる粒子量と、流量制御ノズル23へ流
す空気量との関係を示す。同図に示す特性をみると次の
ことが分かる。 (i) 流量制御ノズルに流す空気量と粒子のコールド
リサイクル量との関係が非直線的であり、急激に立上が
っている。 (ii) 空気流量を増加させてゆく際、低流量時に粒子
循環が始まらない。 (iii) 空気流量を下げてゆく際にヒステリシス特性が
現われ、制御ノズルに流す空気量を減少させても粒子循
環が停止しなかったり、停止するのに時間を要す。
イクル系5を流れる粒子量と、流量制御ノズル23へ流
す空気量との関係を示す。同図に示す特性をみると次の
ことが分かる。 (i) 流量制御ノズルに流す空気量と粒子のコールド
リサイクル量との関係が非直線的であり、急激に立上が
っている。 (ii) 空気流量を増加させてゆく際、低流量時に粒子
循環が始まらない。 (iii) 空気流量を下げてゆく際にヒステリシス特性が
現われ、制御ノズルに流す空気量を減少させても粒子循
環が停止しなかったり、停止するのに時間を要す。
【0007】これらの特性は、装置運用上の問題をひき
おこす。例にあげたボイラの場合には、燃焼温度の変動
や、蒸発量変動の原因となる。
おこす。例にあげたボイラの場合には、燃焼温度の変動
や、蒸発量変動の原因となる。
【0008】図14は、従来技術による流量制御ノズル
周辺の詳細を示す概念的断面図である。上記運用上の問
題は、流量制御ノズル23と隔壁との間の「開口部高さ
L」が大きいので、流量制御ノズル23へ流す空気量の
変化だけでは流動層20bから流動層20cへの粒子移
動を完全にON/OFF制御できないことが原因で生じ
る。
周辺の詳細を示す概念的断面図である。上記運用上の問
題は、流量制御ノズル23と隔壁との間の「開口部高さ
L」が大きいので、流量制御ノズル23へ流す空気量の
変化だけでは流動層20bから流動層20cへの粒子移
動を完全にON/OFF制御できないことが原因で生じ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】流量制御ノズルに流す
空気量と粒子移動量の間にヒステリシス特性がなくほぼ
比例特性を有する粒子移動量制御装置を提供することを
目的とする。
空気量と粒子移動量の間にヒステリシス特性がなくほぼ
比例特性を有する粒子移動量制御装置を提供することを
目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、粒子が供給される第1の流動層と、粒子が排
出される第2の流動層の間に配置され、第1の流動層か
ら第2の流動層に移動する粒子の移動量を制御する粒子
移動量制御装置において、粒子流量をコントロールする
ための流量制御ノズルを隣接する流動層間に多段化して
設置することと、上記ノズルの上下方向のすきまを、対
象とする粒子の流動時に十分な抵抗となるように決定
し、すきま部へ吹き出す空気の流量に応じて粒子の流量
が変化するようにする。この方策によって隣接する2つ
の流動層間を移動する粒子の流量制御性を非機械的方法
で向上することができる。
するため、粒子が供給される第1の流動層と、粒子が排
出される第2の流動層の間に配置され、第1の流動層か
ら第2の流動層に移動する粒子の移動量を制御する粒子
移動量制御装置において、粒子流量をコントロールする
ための流量制御ノズルを隣接する流動層間に多段化して
設置することと、上記ノズルの上下方向のすきまを、対
象とする粒子の流動時に十分な抵抗となるように決定
し、すきま部へ吹き出す空気の流量に応じて粒子の流量
が変化するようにする。この方策によって隣接する2つ
の流動層間を移動する粒子の流量制御性を非機械的方法
で向上することができる。
【0011】さらに詳しく述べると、上記課題は粒子が
供給される第1の流動層と、粒子が排出される第2の流
動層の間に配置され、第1の流動層から第2の流動層に
移動する粒子の移動量を制御する粒子移動量制御装置に
おいて、上記隣接する流動層の境界領域に間隔をあけて
上下方向に重ねて配設された水平な複数の流量制御用管
から成る流量制御ノズルと、各流量制御ノズルの下面に
設けられた複数の孔からなる噴出孔と、上記噴出孔から
噴出する気体を供給する気体供給装置と、上記噴出孔か
ら噴出する気体の量を制御する噴出気体量制御装置から
なることを特徴とする粒子移動量制御装置によって解決
された。
供給される第1の流動層と、粒子が排出される第2の流
動層の間に配置され、第1の流動層から第2の流動層に
移動する粒子の移動量を制御する粒子移動量制御装置に
おいて、上記隣接する流動層の境界領域に間隔をあけて
上下方向に重ねて配設された水平な複数の流量制御用管
から成る流量制御ノズルと、各流量制御ノズルの下面に
設けられた複数の孔からなる噴出孔と、上記噴出孔から
噴出する気体を供給する気体供給装置と、上記噴出孔か
ら噴出する気体の量を制御する噴出気体量制御装置から
なることを特徴とする粒子移動量制御装置によって解決
された。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は本発明の粒子移動量制御装
置を備える粒子循環制御部の概念的断面図である。図1
2の従来技術の粒子循環制御部の流量制御ノズル23に
代えて、間隔をあけて上下方向に重ねて配設された水平
な複数の管から成る流量制御ノズル30a,30b,…
……30jを有する粒子移動量制御装置が使われてい
る。これ以外の構成は図12と同じであるので、両図で
対応する部材は同一の参照番号を付して説明を省略す
る。
置を備える粒子循環制御部の概念的断面図である。図1
2の従来技術の粒子循環制御部の流量制御ノズル23に
代えて、間隔をあけて上下方向に重ねて配設された水平
な複数の管から成る流量制御ノズル30a,30b,…
……30jを有する粒子移動量制御装置が使われてい
る。これ以外の構成は図12と同じであるので、両図で
対応する部材は同一の参照番号を付して説明を省略す
る。
【0013】図2は図1の粒子移動量制御装置の部分の
拡大図である。流量制御ノズル30a,30b,……
…,30jは流動層20bと20cの間に図面に対して
垂直に配置され、各流量制御ノズルの下面に空気の噴出
孔31が開口している。流量制御ノズル30a,30
b,………,30jのうち、上下方向のすきまの間隔d
は任意である。図の例では流量制御ノズルの直径と同程
度としている。dの決め方は、主に対象粒子の力学的物
性値例えば安息角と呼ばれる値などを基に決定する。
拡大図である。流量制御ノズル30a,30b,……
…,30jは流動層20bと20cの間に図面に対して
垂直に配置され、各流量制御ノズルの下面に空気の噴出
孔31が開口している。流量制御ノズル30a,30
b,………,30jのうち、上下方向のすきまの間隔d
は任意である。図の例では流量制御ノズルの直径と同程
度としている。dの決め方は、主に対象粒子の力学的物
性値例えば安息角と呼ばれる値などを基に決定する。
【0014】図3は流量制御ノズル30a,30b,…
……,30jの配管系統の第1の実施例を示す。共通の
空気源12からの空気は、流量計32、流量調整弁32
bを経て流量制御ノズル30a,30b,………,30
jに入る。この流量制御ノズルに開口する噴出孔31の
寸法・配置は、適用対象プラントの特性や各ノズルを流
れる空気量から適正な圧力損失を持つように設計され
る。
……,30jの配管系統の第1の実施例を示す。共通の
空気源12からの空気は、流量計32、流量調整弁32
bを経て流量制御ノズル30a,30b,………,30
jに入る。この流量制御ノズルに開口する噴出孔31の
寸法・配置は、適用対象プラントの特性や各ノズルを流
れる空気量から適正な圧力損失を持つように設計され
る。
【0015】流量制御ノズル30a,30b,………,
30jの直径Dとこれらの間に形成されるすきまdとの
関係が小さい(一般にd/D<10)ため、すきま部に
存在する粒子の部分を積極的に流動させなければ流動層
20bの粒子は、流動層20c側へほとんど移動しな
い。流量制御ノズル30a,30b,………,30jに
空気を流し、ノズル間のすきま部を流動化させると粒子
は流動層20bから20cへ移動し、流動層20cへ移
動した粒子はコールドリサイクル系5を経て、コンバス
タ1へ循環する。流動層20bと20cの間に上下方向
に設置された流量制御ノズル30a,30b,………,
30jは、流動層を形成する粒子に対し制御可能な抵抗
として作用する。
30jの直径Dとこれらの間に形成されるすきまdとの
関係が小さい(一般にd/D<10)ため、すきま部に
存在する粒子の部分を積極的に流動させなければ流動層
20bの粒子は、流動層20c側へほとんど移動しな
い。流量制御ノズル30a,30b,………,30jに
空気を流し、ノズル間のすきま部を流動化させると粒子
は流動層20bから20cへ移動し、流動層20cへ移
動した粒子はコールドリサイクル系5を経て、コンバス
タ1へ循環する。流動層20bと20cの間に上下方向
に設置された流量制御ノズル30a,30b,………,
30jは、流動層を形成する粒子に対し制御可能な抵抗
として作用する。
【0016】図4は、この操作による粒子循環制御を従
来のものと比較したものである。上下方向に設置された
流量制御ノズルが制御可能な抵抗となるため、流すべき
空気量は増加するが、流量制御ノズルに流す空気量と粒
子のコールドリサイクル量との関係が、従来の構成によ
るものよりもなだらかになり、空気量を増加させる際と
減少させる際とで粒子のコールドリサイクル量が異なる
というヒステリシス特性も解消できる。
来のものと比較したものである。上下方向に設置された
流量制御ノズルが制御可能な抵抗となるため、流すべき
空気量は増加するが、流量制御ノズルに流す空気量と粒
子のコールドリサイクル量との関係が、従来の構成によ
るものよりもなだらかになり、空気量を増加させる際と
減少させる際とで粒子のコールドリサイクル量が異なる
というヒステリシス特性も解消できる。
【0017】図5は本発明の粒子移動量制御装置の流量
制御ノズルの配置および配管系統の第2の実施例を概念
的に示す側面図であり、図6は図5の実施例における粒
子循環制御特性を示す。この実施例では各流量制御ノズ
ルに流す空気を供給・停止できる機構を設け、粒子流量
の目標値に対し、同時に作動させる流量制御ノズルの数
を変化させることで粒子流量の制御をおこなう。この実
施例の主要な構成は第1の実施例と同じである。ただ空
気源12からの空気は流量計32、開閉弁33a,33
b,………,33jを経て流量制御ノズル30a,30
b,………,30jへ接続されている。
制御ノズルの配置および配管系統の第2の実施例を概念
的に示す側面図であり、図6は図5の実施例における粒
子循環制御特性を示す。この実施例では各流量制御ノズ
ルに流す空気を供給・停止できる機構を設け、粒子流量
の目標値に対し、同時に作動させる流量制御ノズルの数
を変化させることで粒子流量の制御をおこなう。この実
施例の主要な構成は第1の実施例と同じである。ただ空
気源12からの空気は流量計32、開閉弁33a,33
b,………,33jを経て流量制御ノズル30a,30
b,………,30jへ接続されている。
【0018】コントローラ34は、粒子流量設定入力な
らびに流量計32の出力を入力として開閉弁33a,3
3b,………,33jを制御する。この実施例では、目
標とする粒子流量設定入力に対し、流量制御ノズル30
a,30b,………,30jのうち、一部のものだけを
開とすることで、粒子流量を制御する。多段化した流量
制御ノズル30a,30b,………,30jは粒子の流
れに対して、制御可能な抵抗として働らくため空気を流
さない流量制御ノズルの部分の粒子は移動しにくい。
らびに流量計32の出力を入力として開閉弁33a,3
3b,………,33jを制御する。この実施例では、目
標とする粒子流量設定入力に対し、流量制御ノズル30
a,30b,………,30jのうち、一部のものだけを
開とすることで、粒子流量を制御する。多段化した流量
制御ノズル30a,30b,………,30jは粒子の流
れに対して、制御可能な抵抗として働らくため空気を流
さない流量制御ノズルの部分の粒子は移動しにくい。
【0019】したがって、空気を流している流量制御ノ
ズルの数、すなわち同時に開とする開閉弁の数と粒子の
コールドリサイクル量との関係は、図6に示すようにな
る。この方法による制御は、デジタル的な制御である。
すなわち、空気を流す流量制御ノズルの数が増えると特
性は階段状に変化する。
ズルの数、すなわち同時に開とする開閉弁の数と粒子の
コールドリサイクル量との関係は、図6に示すようにな
る。この方法による制御は、デジタル的な制御である。
すなわち、空気を流す流量制御ノズルの数が増えると特
性は階段状に変化する。
【0020】図7は本発明の粒子移動量制御装置の流量
制御ノズルの配置および配管系統の第3の実施例を概念
的に示す側面図である。この実施例では各流量制御ノズ
ルに流す空気量を供給・停止できる機構と、任意の空気
流量に設定可能な調整機構を有し、粒子流量の目標値に
対し、同時に作動させる流量制御ノズルの数を変えるこ
とと、同時にその一部に対し、流す空気量を変化させる
こととを組み合せている。
制御ノズルの配置および配管系統の第3の実施例を概念
的に示す側面図である。この実施例では各流量制御ノズ
ルに流す空気量を供給・停止できる機構と、任意の空気
流量に設定可能な調整機構を有し、粒子流量の目標値に
対し、同時に作動させる流量制御ノズルの数を変えるこ
とと、同時にその一部に対し、流す空気量を変化させる
こととを組み合せている。
【0021】主要な構成は第1の実施例と同じである。
ただ空気源12からの空気は、流量計32、流量調整弁
35a,35b,………,35jを経て各流量制御ノズ
ル30a,30b,………,30jへ接続され、さらに
コントローラ034は、粒子流量設定入力ならびに流量
計32の出力を入力として流量調整弁35a,35b,
………,35jをコントロールすることができる。この
実施例では、目標とする粒子流量設定入力に対し、流量
制御ノズル30a,30b,………,30jのうち一部
のものだけを開くとする操作と、開とする流量調整弁3
5a,35b,………,35jのうちさらに一部のもの
について、ガス量を変化させる操作とを組み合せる。こ
の結果、第2の実施例に示したON/OFF制御によ
る、粒子流量制御に加えて流量制御ノズルガスに流す流
量を変えて、粒子流量を変化させる操作を合せたものに
なる。
ただ空気源12からの空気は、流量計32、流量調整弁
35a,35b,………,35jを経て各流量制御ノズ
ル30a,30b,………,30jへ接続され、さらに
コントローラ034は、粒子流量設定入力ならびに流量
計32の出力を入力として流量調整弁35a,35b,
………,35jをコントロールすることができる。この
実施例では、目標とする粒子流量設定入力に対し、流量
制御ノズル30a,30b,………,30jのうち一部
のものだけを開くとする操作と、開とする流量調整弁3
5a,35b,………,35jのうちさらに一部のもの
について、ガス量を変化させる操作とを組み合せる。こ
の結果、第2の実施例に示したON/OFF制御によ
る、粒子流量制御に加えて流量制御ノズルガスに流す流
量を変えて、粒子流量を変化させる操作を合せたものに
なる。
【0022】図8にこの実施例での、同時に開とするバ
ルブの数と粒子のコールドリサイクル量との関係を示
す。同図から分るように、バルブ開閉の組み合せだけの
場合よりも、なめらかな制御を実現できる。なお、本発
明においては、開となっている流量調整弁35a,35
b,………,35jと、流量制御ノズル30a,30
b,………,30j全体で使用される空気量は略比例関
係にあり、粒子のコールドリサイクル量が多いほど空気
の流量も多い。
ルブの数と粒子のコールドリサイクル量との関係を示
す。同図から分るように、バルブ開閉の組み合せだけの
場合よりも、なめらかな制御を実現できる。なお、本発
明においては、開となっている流量調整弁35a,35
b,………,35jと、流量制御ノズル30a,30
b,………,30j全体で使用される空気量は略比例関
係にあり、粒子のコールドリサイクル量が多いほど空気
の流量も多い。
【0023】図9は、流量制御ノズルの配置ならびに配
管系統の第4の実施例を概念的に示す側面図である。こ
の実施例の動作ならびに作用は、第2の実施例と同様で
ある。しかし粒子の循環制御に使用される空気量を、粒
子循環量の大小によらず一定とすることができる点が異
なる。空気源12からの空気は、流量計32、開閉弁3
3a,33b,………,33jを経て流量制御ノズル3
0a,30b,………,30jへ接続されている。また
バイパス用流量調整弁36が、流量計32出口側に接続
されており、バイパス用流量調整弁36の出口側は粒子
循環制御部3の上部に接続される。(図示せず)
管系統の第4の実施例を概念的に示す側面図である。こ
の実施例の動作ならびに作用は、第2の実施例と同様で
ある。しかし粒子の循環制御に使用される空気量を、粒
子循環量の大小によらず一定とすることができる点が異
なる。空気源12からの空気は、流量計32、開閉弁3
3a,33b,………,33jを経て流量制御ノズル3
0a,30b,………,30jへ接続されている。また
バイパス用流量調整弁36が、流量計32出口側に接続
されており、バイパス用流量調整弁36の出口側は粒子
循環制御部3の上部に接続される。(図示せず)
【0024】コントローラ0034は粒子流量設定入力
ならびに流量計32の出力を入力として開閉弁33a,
33b,………,33jの開閉動作およびバイパス用流
量調整弁36の開度を制御する。この実施例では、バイ
パス用流量調整弁36を設置することで、動作している
(開になっている)開閉弁33a,33b,………,3
3jの数が変化した場合でも、本発明を使用している装
置(例えば循環流動層ボイラ)へ流れ、粒子循環に使用
される空気量を一定にすることができる。この結果、例
えばボイラであれば、粒子コールドリサイクル量を変化
させる操作に起因する酸素濃度の変動などを抑制でき
る。
ならびに流量計32の出力を入力として開閉弁33a,
33b,………,33jの開閉動作およびバイパス用流
量調整弁36の開度を制御する。この実施例では、バイ
パス用流量調整弁36を設置することで、動作している
(開になっている)開閉弁33a,33b,………,3
3jの数が変化した場合でも、本発明を使用している装
置(例えば循環流動層ボイラ)へ流れ、粒子循環に使用
される空気量を一定にすることができる。この結果、例
えばボイラであれば、粒子コールドリサイクル量を変化
させる操作に起因する酸素濃度の変動などを抑制でき
る。
【0025】具体的な制御の考え方は次のようになる。
コントローラ0034は、粒子コールドリサイクル量
と、それに対して開操作をすべき開閉弁33a,33
b,………,33jの数に関する関数をもとに開閉弁3
3a,33b,………,33jを操作する。また、開閉
弁33a,33b,………,33jがすべて開になった
状態、すなわち粒子のコールドリサイクル量が最大にな
ったときに流量制御ノズル30a,30b,………,3
0jへ流れる全空気量QT がコントローラ0034に与
えられている。流量計32の指示値が、常にQT となる
ようにバイパス用流量調整弁36をコントロールする。
なお、この実施例は、第3の実施例に対しても同様の考
え方で適用可能である。
コントローラ0034は、粒子コールドリサイクル量
と、それに対して開操作をすべき開閉弁33a,33
b,………,33jの数に関する関数をもとに開閉弁3
3a,33b,………,33jを操作する。また、開閉
弁33a,33b,………,33jがすべて開になった
状態、すなわち粒子のコールドリサイクル量が最大にな
ったときに流量制御ノズル30a,30b,………,3
0jへ流れる全空気量QT がコントローラ0034に与
えられている。流量計32の指示値が、常にQT となる
ようにバイパス用流量調整弁36をコントロールする。
なお、この実施例は、第3の実施例に対しても同様の考
え方で適用可能である。
【0026】図10はこの実施例を適用した粒子循環制
御部の概念的断面図である。主要な構成は、第1の実施
例と同じである。コールドリサイクル系5側の流動層2
0cを形成するための空気系統(風箱21cへつながる
空気の系統)にバイパス用ダンパ(バイパス用流量調整
弁)36を設け、風箱21cへ流れる空気の一部を粒子
循環制御部3の上部へバイパスする機構をもつ。この実
施例は、主に対象とする装置の起動・停止操作時等に適
用される。この実施例では隣接する流動層間の粒子循環
を停止させる目的で、片側の流動層へ流す流動化空気の
一部をバイパスして空塔速度を下げている。
御部の概念的断面図である。主要な構成は、第1の実施
例と同じである。コールドリサイクル系5側の流動層2
0cを形成するための空気系統(風箱21cへつながる
空気の系統)にバイパス用ダンパ(バイパス用流量調整
弁)36を設け、風箱21cへ流れる空気の一部を粒子
循環制御部3の上部へバイパスする機構をもつ。この実
施例は、主に対象とする装置の起動・停止操作時等に適
用される。この実施例では隣接する流動層間の粒子循環
を停止させる目的で、片側の流動層へ流す流動化空気の
一部をバイパスして空塔速度を下げている。
【0027】起動時を例にとって説明する。従来技術に
よるとき、循環流動層ボイラでは、起動時には、燃焼量
が少なく、粒子の全循環量も少ない。したがってボイラ
の熱収支上、コールドリサイクル系5側へ粒子を流す必
要はない。ところが、粒子の全循環量が少ないため、流
動層20a,20b,20cのレベルが低くなり、中で
も流動層20cが特に低くなるため、機械的に粒子の流
路を閉じる機構をもたない場合、流動層20bからの粒
子が流動層20c側へ流れ込むのを抑制できず、起動中
にもかかわらず伝熱面24での熱吸収が生じてしまうな
どの問題が生じることがあった。
よるとき、循環流動層ボイラでは、起動時には、燃焼量
が少なく、粒子の全循環量も少ない。したがってボイラ
の熱収支上、コールドリサイクル系5側へ粒子を流す必
要はない。ところが、粒子の全循環量が少ないため、流
動層20a,20b,20cのレベルが低くなり、中で
も流動層20cが特に低くなるため、機械的に粒子の流
路を閉じる機構をもたない場合、流動層20bからの粒
子が流動層20c側へ流れ込むのを抑制できず、起動中
にもかかわらず伝熱面24での熱吸収が生じてしまうな
どの問題が生じることがあった。
【0028】これに対して、この実施例では、起動時な
ど流動層20bから流動層20cへの粒子移動を抑制し
たい場合には、バイパス用ダンパ(バイパス用流量調整
弁)36を開けて流動層20c部の空塔速度を低下させ
ることができる。この実施例は、第1の実施例から第3
の実施例のいずれにも適用可能である。
ど流動層20bから流動層20cへの粒子移動を抑制し
たい場合には、バイパス用ダンパ(バイパス用流量調整
弁)36を開けて流動層20c部の空塔速度を低下させ
ることができる。この実施例は、第1の実施例から第3
の実施例のいずれにも適用可能である。
【0029】
(1) 隣接する流動層間を移動する粒子の流量を、非
機械的方法で、確実に制御できる。 (2) 流量制御におけるヒステリシス特性がなくな
る。 (3) 移動する粒子の流量を確実にゼロにすることも
できる。 (4) 流動層が厚いときにも、薄いときにも確実に流
量を制御することができる。
機械的方法で、確実に制御できる。 (2) 流量制御におけるヒステリシス特性がなくな
る。 (3) 移動する粒子の流量を確実にゼロにすることも
できる。 (4) 流動層が厚いときにも、薄いときにも確実に流
量を制御することができる。
【図1】本発明の粒子移動量制御装置を備える粒子循環
制御部の概念的断面図である。
制御部の概念的断面図である。
【図2】図1の粒子移動量制御装置の部分の拡大図であ
る。
る。
【図3】図1、図2の粒子移動量制御装置の流量制御ノ
ズルの配置および配管系統の第1の実施例を概念的に示
す側面図である。
ズルの配置および配管系統の第1の実施例を概念的に示
す側面図である。
【図4】図1の粒子移動量制御装置の特性(実線)を従
来技術による図14の粒子移動量制御装置の特性(破
線)と比較して示す特性曲線である。
来技術による図14の粒子移動量制御装置の特性(破
線)と比較して示す特性曲線である。
【図5】本発明の粒子移動量制御装置の流量制御ノズル
の配置および配管系統の第2の実施例を概念的に示す側
面図である。
の配置および配管系統の第2の実施例を概念的に示す側
面図である。
【図6】図5の実施例における粒子循環制御特性を示
す。横軸は同時に開とする弁の数、縦軸は最大流量で正
規化した粒子のコールドリサイクル量を表わす。
す。横軸は同時に開とする弁の数、縦軸は最大流量で正
規化した粒子のコールドリサイクル量を表わす。
【図7】本発明の粒子移動量制御装置の流量制御ノズル
の配置および配管系統の第3の実施例を概念的に示す側
面図である。
の配置および配管系統の第3の実施例を概念的に示す側
面図である。
【図8】図7の実施例における粒子循環制御特性を示
す。横軸は同時に開とする弁の数、縦軸は最大流量で正
規化した粒子のコールドリサイクル量を表わす。
す。横軸は同時に開とする弁の数、縦軸は最大流量で正
規化した粒子のコールドリサイクル量を表わす。
【図9】本発明の粒子移動量制御装置の流量制御ノズル
の配置および配管系統の第4の実施例を概念的に示す側
面図である。
の配置および配管系統の第4の実施例を概念的に示す側
面図である。
【図10】第4の実施例を適用した粒子循環制御部の概
念的断面図である。
念的断面図である。
【図11】粒子移動量制御装置を備える固体気体反応装
置である循環流動層ボイラの概念図である。
置である循環流動層ボイラの概念図である。
【図12】従来技術による粒子循環制御部の概念的断面
図である。
図である。
【図13】従来技術による粒子移動量制御装置における
コールドリサイクル系を流れる粒子量と流量制御ノズル
へ流す空気量の関係を示すグラフである。
コールドリサイクル系を流れる粒子量と流量制御ノズル
へ流す空気量の関係を示すグラフである。
【図14】従来技術による流量制御ノズル周辺の概念的
断面図である。
断面図である。
1 コンバスタ 2 サイクロン 3 粒子循環制御部 4 ホットリサイクル系 5 コールドリサイクル系 6 対流伝熱面 7 バグフィルタ 8 誘引ファン 9 煙突 10a,10b ブロア 11 ブロア 12 空気源 20a,20b,20c 流動層 21a,21b,21c 風箱 22a,………,22m ノズル 23 流量制御ノズル 24 伝熱面 30a,30b,………,30j 流量制御ノズル 31 噴出孔 32 流量計 32b 流量調整弁 33a,33b,………,33j 開閉弁 34, 034,0034 コントローラ 35a,35b,………,35j 流量調整弁 36 バイパス用流量調整弁 D 流量制御ノズルの直径 d 流量制御ノズル間の間隔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 明用 和幸 長崎県長崎市深堀町五丁目717番1号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 (72)発明者 荒川 善久 東京都千代田区丸の内二丁目5番1号 三 菱重工業株式会社内
Claims (8)
- 【請求項1】 隣接する流動層間に上下に複数配設され
た流量制御ノズルを備え、同流量制御ノズルに流動気体
を噴出する噴出孔を設けたことを特徴とする粒子移動量
制御装置。 - 【請求項2】 流動気体を噴出していないときに粒子の
移動に対して抵抗となるように前記流量制御ノズルの間
隔が設定されていることを特徴とする請求項1に記載の
粒子移動量制御装置。 - 【請求項3】 前記流量制御ノズル間のすきまと流量制
御ノズルの上下方向の厚みとの比が10以下であること
を特徴とする請求項2に記載の粒子移動量制御装置。 - 【請求項4】 前記流量制御ノズルに流動気体を供給す
る管路に流量調整弁を設けたことを特徴とする請求項1
〜請求項3のいずれかに記載の粒子移動量制御装置。 - 【請求項5】 前記流量制御ノズルのそれぞれの入口管
路に流量調整弁を設けたことを特徴とする請求項4に記
載の粒子移動量制御装置。 - 【請求項6】 前記流量制御ノズルのそれぞれの入口管
路に開閉弁を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項
3のいずれかに記載の粒子移動量制御装置。 - 【請求項7】 前記流動気体を供給する管路に分岐管路
を設けて粒子が移動する先の流動層の上部空間と接続す
るとともに、同分岐管路に流量調整弁を設けたことを特
徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載の粒子移
動量制御装置。 - 【請求項8】 粒子が移動する先の流動層下部に流動気
体を供給する流路に分岐流路を設けて同流動層の上部空
間と接続するとともに、同分岐流路に流量調整ダンバを
設けたことを特徴とする粒子移動量制御装置。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20879797A JP3595435B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 粒子移動量制御装置 |
PL98327724A PL189012B1 (pl) | 1997-08-04 | 1998-07-27 | Urządzenie fluidyzacyjne |
CZ19982374A CZ289339B6 (cs) | 1997-08-04 | 1998-07-28 | Regulátor mnoľství pohybujících se částic |
IDP981068A ID20658A (id) | 1997-08-04 | 1998-07-31 | Pengendali jumlah gerakan partikel |
US09/127,260 US6122842A (en) | 1997-08-04 | 1998-07-31 | Particle movement amount controller for fluidized beds |
ES98306167T ES2219846T3 (es) | 1997-08-04 | 1998-08-03 | Dispositivo para regular el movimiento de particulas solidad en lechos fluidizados. |
EP98306167A EP0895807B1 (en) | 1997-08-04 | 1998-08-03 | Installation for the control of solid particle movement in fluidised bed |
DE69824497T DE69824497T2 (de) | 1997-08-04 | 1998-08-03 | Vorrichtung zur Regulierung der Bewegung von Feststoffpartikeln in Wirbelschichten |
HU9801785A HU228085B1 (en) | 1997-08-04 | 1998-08-03 | Fluidised bed apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20879797A JP3595435B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 粒子移動量制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1151315A true JPH1151315A (ja) | 1999-02-26 |
JP3595435B2 JP3595435B2 (ja) | 2004-12-02 |
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ID=16562285
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20879797A Expired - Fee Related JP3595435B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 粒子移動量制御装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6122842A (ja) |
EP (1) | EP0895807B1 (ja) |
JP (1) | JP3595435B2 (ja) |
CZ (1) | CZ289339B6 (ja) |
DE (1) | DE69824497T2 (ja) |
ES (1) | ES2219846T3 (ja) |
HU (1) | HU228085B1 (ja) |
ID (1) | ID20658A (ja) |
PL (1) | PL189012B1 (ja) |
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- 1997-08-04 JP JP20879797A patent/JP3595435B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 1998-08-03 ES ES98306167T patent/ES2219846T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-03 EP EP98306167A patent/EP0895807B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-03 HU HU9801785A patent/HU228085B1/hu unknown
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HU9801785D0 (en) | 1998-09-28 |
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