JPH11502841A - シス−４−ｏ−保護−２−シクロペンテノール誘導体の製造 - Google Patents
シス−４−ｏ−保護−２−シクロペンテノール誘導体の製造Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明はa)４−Ｏ−保護−２−シクロペンテノンを適当な有機溶媒に溶解し、そしてb)溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な還元剤で処理することからなる、シス−４−Ｏ−保護−置換−２−シクロペンテノール誘導体の新規な製造法に関する。シス−４−Ｏ−保護−置換−２−シクロペンテノール誘導体は免疫抑制剤として有用な種々のシクロペンタニルおよびシクロペンテニルプリン類似体の製造において、さらに種々のプロスタグラジンの製造において有用な中間体である。
Description
【発明の詳細な説明】
シス−４−０−保護−２−シクロペンテノール
誘導体の製造
本発明はBorcherdingらの欧州特許出願公報0 475 411 A1(1992年３月18日公告
)、同0 475 413 A2(1992年３月18日公告)、および同0 545 413 A1（1993年６月
９日公告）に開示されているような免疫抑制剤として有用な種々のシクロペンタ
ニルおよびシクロペンテニルプリン類似体の製造において有用な中間体であるシ
ス−４−０−保護−２−シクロペンテノール誘導体の新規な製造法に関する。ま
た、シス−４−０−保護−２−シクロペンテノール誘導体は種々のプロスタグラ
ンジンの製造において有用な中間体である。
本発明は式(II)
〔式中、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル
、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-
CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2
CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2、-C(フェニル)3、テトラヒドロ
ピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロピラニ
ル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、テト
ラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3（ここで、R1、R2
およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジル、置換フェニル
または置換ベンジルである）からなる群より選択さ
れる〕のCIS化合物の新規な製造法であって、
a) 式(Ｉ)
（式中、Pgは上記で定義された通りである）の化合物を適当な有機溶媒に溶解し
て、そして
b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な還
元剤で処理することを含む前記方法を提供する。
本発明はさらに、式(IIａ)
〔式中、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル
、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-
CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2
CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2、-C(フェニル)3、テトラヒドロ
ピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロピラニ
ル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、テト
ラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3（ここで、R1、R2
およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジル、置換フェニル
または置換ベンジルである）からなる群より選択される〕のCISエナンチオマー
の新規な製造法であって、
a) 式(Ｉａ)
（式中、Pgは上記で定義された通りである）のエナンチオマー化合物を適当な有
機溶媒に溶解して、そして
b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な還
元剤で処理することを含む前記方法を提供する。
また、本発明は、式(IIｂ)
〔式中、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル
、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-
CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2
CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2、-C(フェニル)3、テトラヒドロ
ピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロピラニ
ル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、テト
ラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3（ここで、R1、R2
およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジル、置換フェニル
または置換ベンジルである）からなる群より選択される〕のCISエナンチオマー
の製造法であって、
a) 式(Ｉｂ)
（式中、Pgは上記で定義された通りである）のエナンチオマー化合物を適当な有
機溶媒に溶解して、そして
b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な還
元剤で処理することを含む前記方法を提供する。
さらに、本発明は式(IIｂ)および(IV)
〔式中、ＺはC2-C4アルカノイルであり、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3
、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCI3、-CH(OCH2CH2
Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(C
H3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2
、テトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテト
ラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオ
ピラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3（
ここで、R1、R2およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジル
、置換フェニルまたは置換ベンジルである）からなる群より選択される〕のCIS
化合物の新規な製造法であって、
a) 式(Ｉ)
（式中、Pgは上記で定義された通りである）の化合物を適当な有機溶媒に溶解し
、
b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な還
元剤で処理して式(II)
（式中、Pgは上記で定義された通りである）のCIS化合物を得、
c) 式(II)のCIS化合物を適当な溶媒中、適当な酵素および過剰の適当なアシ
ル化剤で処理して上記で定義されたような式(IIｂ)および(IV)の化合物の混合物
を得、そして
d) 式(IIｂ)の化合物を式(IV)の化合物から分離することを含む前記方法を提
供する。
本発明はさらに、式(Ｉ)の化合物を適当な還元剤で処理すると同時にまたはそ
の前に適当なアルコールを反応混合物に加える、上記で定義されたような式(II)
、(IIａ)、(IIｂ)または(IV)のCIS化合物の新規な製造法を提供する。
本発明はさらに、式(VIｂ)および(VII)
〔式中、ＺはC2-C4アルカノイルであり、Pgはベンジル、置換ベンジル、
-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH
(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3
)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェ
ニル)2、テトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロ
モテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒド
ロチオピラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1
R2R3（ここで、R1、R2およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベ
ンジル、置換フェニルまたは置換ベンジルである）からなる群より選択される〕
のCIS化合物の新規な製造法であって、
式(VI)
（式中、Pgは上記で定義された通りである）のCIS化合物を適当な溶媒中、適当
な酵素および過剰の適当なアシル化剤で処理して上記で定義されたような式(VI
ｂ)および(VII)の化合物の混合物を得、そして
f) 式(VIｂ)の化合物を式(VII)の化合物から分離することを含む前記方法を
提供する。
「立体異性体」なる用語は空間におけるそれらの原子の配置だけが異なる個々
の分子のすべての異性体についての一般的用語である。それは幾何（シス／トラ
ンス）異性体、および互いに鏡像の関係にない２個以上の不斉中心を有する化合
物の異性体（ジアステレオマー）を含む。「エナンチオマー」なる用語はその鏡
像と重ね合わすことができない光学的に活性な分子を意味し、エナンチオマーは
偏光面をある方向に回転
させ、その鏡像体は偏光面を反対の方向に回転させる。「ラセミ混合物」または
「ラセミ化合物」なる用語は、同量のエナンチオマーの混合物を意味する。ラセ
ミ化合物またはラセミ混合物は光学的に不活性である。本明細書において、化合
物名の初めに付けられる「(＋)」および「(−)」は本化合物による偏光面の回転の符
号を表示するために使用され、(＋)は本化合物が右旋性であることを意味し、そ
して(−)は本化合物が左旋性であることを意味する。
「エナンチオマー的濃縮」なる用語は一方のエナンチオマーの量が他方のエナ
ンチオマーと比べて増加することを意味する。達成されたエナンチオマー的濃縮
を表すのに適した方法は「エナンチオマー過剰率」または「ee」の概念であり、
それは次式により求められる：
（式中、E1は第１エナンチオマーの量であり、そしてE2は第２エナンチオマーの
量である）。例えば、反対開始時の２つのエナンチオマーの比が50：50（ラセミ
混合物）であり、反対により最終比が90：10でエナンチオマー的濃縮が達成され
る場合、第１エナンチオマーのeeは80％である。90％を越えるeeが得られること
が好ましい。
式(IIａ)のエナンチオマーおよびその対応する式(IIｂ)のエナンチオマーは互
いに鏡像の関係にあると理解される。さらに、式(IIａ)および(IIｂ)のエナンチ
オマーはCIS配置であると理解される。また、式(II)のCIS化合物はその対応する
式(IIａ)および(IIｂ)のエナンチオマーからなるラセミ混合物である。さらに、
式(Ｉａ)のエナンチオマー化合物およびその対応する式(Ｉｂ)のエナンチオマー
化合物は互いに鏡像の関係にあると理解される。例えば、下記の式(Ｉａ′)のエ
ナンチオマーお
よび式(Ｉｂ′)のエナンチオマーは互いに鏡像の関係にある。
本明細書で使用される「C1-C4アルキル」なる用語は１〜４個の炭素原子の直鎖
状または分枝状飽和炭化水素基を意味する。この用語の範囲には、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチルなどが含まれる。
本明細書で使用される「C2-C4アルカノイル」なる用語はアセチル、プロピオニ
ルおよびブチリル基を意味する。
本明細書で使用される「C1-C4アルコキシ」なる用語は１〜４個の炭素原子を含
有する直鎖状または分枝状アルコキシ基を意味し、メトキシ、エトキシ、ｎ−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシなどを
含む。
本明細書で使用される「ハロゲン」、「ハロ」、「ハライド」または「hal」な
る用語はフッ素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子を意味する。
「TBDMS」なる用語は式
のｔ−ブチルジメチルシリル基を意味する。
「フェニル」なる用語は式
のフェニル基を意味する。
「ベンジル」または「Bn」なる用語は式
のベンジル基を意味する。
「置換フェニル」なる用語は式
（式中、Ｒは環のオルト、メタまたはパラ位にあるC1-C4アルキル、C1-C4アルコ
キシ、NO2、-CN、Ｆ、Cl、BrまたはＩである）の置換されたフェニル基を意味す
る。
「置換ベンジル」なる用語は式
（式中、Ｒは環のオルト、メタまたはパラ位にあるC1-C4アルキル、C1-C4アルコ
キシ、NO2、-CN、Ｆ、Cl、BrまたはＩである）の置換されたフェニル基を意味す
る。
「THP」なる用語は式
のテトラヒドロ−ピラン−２−イル基を意味する。
「アセチル」、「プロピオニル」および「ブチリル」なる用語はそれぞれ次の
官能基
を意味する。
本明細書において、化合物Ａ
のようなCIS化合物は、シクロペンテニル環の１−位および２−位の水素が共に
環の同一平面上にあり、そして１−位および２−位の置換基OHおよびOJ（ここで
、ＪはＨまたはPgである）もまた互いに環の同一平面上にあることを意味する。
従って、OHおよびOJは１−位および２−位の水素と反対側の平面上にある。
1995年３月27日に出願された「シス−４−Ｏ−保護−２−シクロペンテノール
誘導体の製造」という名称の米国特許出願番号08／411,136は参考文献として本
明細書に組み込まれる。
スキームＩに式(Ｉ)、(II)および(III)の化合物の製造を示す。特に断りがな
ければ、すべての置換基は前記で定義された通りである。試薬および出発物質は
当業者ならば容易に入手可能である。
工程ａにおいて、４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン(2)はMasayoshi Nan
niの日本特許公開公報No．57-62236(1982年４月15日)、またはG．Piancatelliら
のTetrahedron，34，2775(1978年)に記載の方法に従って当業者によりフルフリ
ルアルコール(1)から容易に製造される。
工程ｂにおいて、当業者によく知られている技術および方法を使用して４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンテノン(2)を適当な保護基で保護して式(Ｉ)の化合物
を得る。適当な保護基の例はT．W．Greeneの「有機合成の保護基」、John Wiley
& Sons社、第２章(1981年)に記載されてお
り、例えばメトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、２−メ
トキシエトキシメチル、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロ
エトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル、テトラヒドロピ
ラニル、３−ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メ
トキシテトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、テトラ
ヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、１−エトキシエチル、１−メチル
−１−メトキシエチル、2,2,2−トリクロロエチル、ｔ−ブチル、アリル、シン
ナミル、ｐ−クロロフェニル、ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｏ−ニトロベ
ンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−クロロベンジル、ｐ−ブロモベンジル、ｐ−
シアノベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、トリエチルシリル、
トリイソプロピルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシ
リル、メチルジエチルシリル、ジメチルエチルシリル、メチルジイソプロピルシ
リル、メチル−ジ−ｔ−ブチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリ
ル、フェニルジメチルシリル、ベンジルメチルエチルシリル、フェニルエチルメ
チルシリル、トリ−ｏ−トリルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリルなどである
。好ましくは、適当な保護基はテトラヒドロピラニルおよびｔ−ブチルジメチル
シリルである。最も好ましくは、適当な保護基はｔ−ブチルジメチルシリルおよ
びトリチルである。式(Ｉ)の化合物は一般に、T．W．Greeneの「有機合成の保護
基」、John Wiley & Sons社、第２章（1981年）に記載の方法を使用して当業者
により容易に製造される。例えば、保護工程は４−ヒドロキシ−２−シクロペン
テノン(2)を酸受容体、好ましくはトリエチルアミン、キノリン、ルチジン、イ
ミダゾールまたはピリジンのような窒素塩基の存在下で実質的に無水の不活性有
機溶媒に溶解することに
より行うことができる。好ましい酸受容体はトリエチルアミンである。保護工程
において適当な溶媒は例えば塩化メチレン、テトラヒドロフラン、クロロホルム
、テトラクロロエタン、ニトロメタン、ベンゼン、ジエチルエーテル、アセトニ
トリル、ジメチルホルムアミドなどである。好ましくは、適当な溶媒はテトラヒ
ドロフランである。場合により、触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（DMAP）
を溶液に加えることができる。次に、溶液を約０℃まで冷却し、約１当量の適当
なシリル化剤を溶液に加える。反応混合物を２〜14時間撹拌し、式(Ｉ)の化合物
を単離し、抽出法および蒸留のような当該技術分野でよく知られている方法によ
り精製する。例えば、反応混合物を0.5Ｎ塩酸水溶液に注ぎ込み、相を分離する
。水相を適当な有機溶媒、例えばヘプタンで抽出する。有機抽出物を有機相と合
一し、５％重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、真空下で濃縮する。次に、残留物をクーゲルロア蒸留により精製
して式(Ｉ)の化合物を得ることができる。
工程ｃにおいて、式(Ｉ)の化合物を選択的に還元して式(II)のCIS化合物を得
る。例えば、式(Ｉ)の化合物および適当なルイス酸をアルゴンのような不活性雰
囲気下で撹拌しながら適当な有機溶媒に溶解する。適当な有機溶媒は本質的に無
水であり、適当な有機溶媒の混合物または単一の有機溶媒である。適当な有機溶
媒は例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル
、トルエン／ｔ−ブチルメチルエーテル、ヘプタン／ｔ−ブチルメチルエーテル
、トルエン／ジエチルエーテルなどである。好ましくは、適当な有機溶媒はジエ
チルエーテル、トルエン／ジエチルエーテルまたはトルエン／ｔ−ブチルメチル
エーテルである。最も好ましくは、適当な有機溶媒はトルエン／ジエチ
ルエーテルまたはトルエン／ｔ−ブチルメチルエーテルである。使用される適当
なルイス酸の量は約0.10当量〜約５当量であり、約0.5当量が好ましい。適当な
ルイス酸は例えば塩化リチウム、臭化リチウム、沃化リチウム、過塩素酸リチウ
ム、塩化亜鉛、臭化マグネシウム、塩化セリウム(III)などである。好ましくは
、適当なルイス酸は沃化リチウムおよび臭化リチウムであり、沃化リチウムが最
も好ましい適当なルイス酸である。選択的還元に必要な溶液の温度は約−100℃
〜約20℃である。好ましい温度は約−78℃〜約−10℃であり、約−25℃が最も好
ましい溶液温度である。次に、溶液を適当な還元剤で処理する。使用される適当
な還元剤の好ましい量は約0.4当量〜約５当量であり、約0.5当量が最も好ましい
。適当な還元剤は例えば水素化リチウムアルミニウム、水素化リチウムトリメト
キシアルミニウム、REDAL(登録商標；アルドリッチ化学会社)、ホウ水素化リチ
ウムなどである。好ましくは、適当な還元剤は水素化リチウムアルミニウムであ
る。適当な還元剤を加えた後、反応混合物を約１時間〜約５時間、好ましくは約
２時間撹拌する。次に、反応混合物を注意して急冷し、生成物を単離し、当該技
術分野でよく知られている条件を使用して精製する。例えば、約１〜２当量の水
酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）を反応温度を20℃以下に維持するような速度で加
える。反応混合物を急冷した後、セライト（アルドリッチ化学会社から入手可能
）のような珪藻土のパッドを通して濾過する。次に、珪藻土のパッドを適当な有
機溶媒、例えばトルエンで洗浄する。濾液を分離し、水相を適当な溶媒、例えば
トルエンで抽出する。有機相を合一し、水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）、続い
てブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮
して式(II)の化合物を得る。それはクロマトグラフィーまたは蒸留のような当該
技術分野でよく知ら
れている方法により精製することができる。当業者ならば、ガスクロマトグラフ
ィー(GC)を使用して式(II)のCIS化合物と還元の副生成物である化合物２および
３との比を測定することができる。
さらに、工程ｃにおいて、適当なルイス酸の存在下、または適当なルイス酸を
加えないで、上記のような条件下、適当なアルコールを上記の反応混合物に加え
ることにより式(Ｉ)の化合物を選択的に還元して式(II)のCIS化合物を得ること
ができる。適当なアルコールは例えばイソプロパノール、２−メチル−１−プロ
パノール、２−メチル−２−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メ
チル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、トリエチルシラノール、
ｔ−ブチルジメチルシラノール、メチルジイソプロピルシラノール、イソプロピ
ルジメチルシラノール、トリイソプロピルシラノール、メチル−ジ−ｔ−ブチル
シラノール、トリベンジルシラノール、トリフェニルシラノール、ｔ−ブチルジ
フェニルシラノール、フェニルジメチルシラノール、ベンジルメチルエチルシラ
ノール、フェニルメチルエチルシラノール、トリ−ｏ−トリルシラノール、フェ
ノールなどである。好ましくは、適当なアルコールはイソプロパノールおよびｔ
−ブチルジメチルシラノールであり、より好ましくはｔ−ブチルジメチルシラノ
ールである。加えられるアルコールの量は約０モル％〜約100モル％の範囲であ
る。好ましくは、加えられるアルコールの量は約16モル％〜約30モル％であり、
約20モル％が最も好ましい。より詳しくは、例えば、水素化リチウムアルミニウ
ムのような適当な還元剤を沃化リチウムのような適当なルイス酸とトルエンのよ
うな適当な有機溶媒中で混合する。反応混合物を約−40℃〜約−20℃まで冷却し
、式(Ｉ)の化合物、例えば４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−３−シクロペンタ
ノン、ｔ−ブチルジメチルシラノールおよび
ｔ−ブチルメチルエーテルの混合物をゆっくりと反応混合物に加える。約４時間
撹拌した後、反応混合物を塩化アンモニウム水溶液で急冷し、生成物を単離し、
シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーまたは真空蒸留のような当該技術分野
でよく知られている方法により精製する。
当業者ならば、適当な還元剤を式(Ｉ)の化合物と混合する時に適当なアルコー
ルが存在する場合、試薬を様々な方法で混合できることは理解できよう。例えば
、適当なルイス酸をトルエンのような適当な有機溶媒中で適当な還元剤および適
当なアルコールと混合することができる。次に、反応混合物をｔ−ブチルメチル
エーテルのような適当な有機溶媒中における式(Ｉ)の化合物の溶液で処理して式
(II)のCIS化合物を得る。他の例としては、適当なルイス酸をトルエンのような
適当な有機溶媒中の適当な還元剤、適当なアルコール、および式(Ｉ)の化合物と
混合し、ｔ−ブチルメチルエーテルのような適当な有機溶媒を加えて式(II)のCI
S化合物を得ることができる。
工程ｄにおいて、式(II)のCIS化合物を当該技術分野でよく知られている条件
下で脱保護して式(III)のCIS化合物を得る〔例えば、T．W．Greeneの「有機合成
の保護基」、John Wiley & Sons社、第２章(1981年)を参照〕。例えば、Pgがｔ−
ブチルジメチルシリル基のようなトリアルキルシリル保護基である式(II)の化合
物をテトラヒドロフランのような適当な有機溶媒に溶解する。場合により、次に
それを約0.15当量の適当なアミン、例えばトリエチルアミンで処理し、続いて室
温において約1.1当量のフッ化テトラブチルアンモニウム(１Ｎテトラヒドロフラ
ン溶液として)で処理する。反応混合物を約２〜６時間撹拌し、生成物を単離し
、当該技術分野でよく知られている方法により精製する。例えば、反応混合物を
真空下で濃縮し、残留物を10％アセトン／酢酸エチルのよ
うな適当な溶離剤を用いてシリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィーにより
精製する。次に、精製物質をクロロホルムのような適当な有機溶媒から再結晶し
て式(III)のシス−２−シクロペンテニル−1,4−ジオールを得る。
さらに、工程ｄにおいて、Pgがテトラヒドロ−ピラン−２−イル基である式(I
I)の化合物をメタノールまたはエタノールのような適当な有機溶媒に溶解し、室
温においてピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（PPTS）のような適当な酸で
１〜４時間処理する。生成物を単離し、当該技術分野でよく知られている方法に
より精製する。例えば、反応混合物を重炭酸ナトリウムのような適当な塩基で中
和し、真空下で濃縮する。次に、残留物を10％アセトン／酢酸エチルのような適
当な溶離剤を用いてシリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィーにより精製す
る。次に、精製物質をクロロホルムのような適当な有機溶媒から再結晶して式(I
II)のシス−２−シクロペンテニル−1,4−ジオールを得る。
スキームＩに記載の方法と同様にして、式(IIａ)および(IIｂ)の化合物をその
対応する式(Ｉａ)および(Ｉｂ)の化合物から製造することができる。式(Ｉａ)お
よび(Ｉｂ)の化合物は例えば、一般にM．AsamiのTetrahedron Letters，26(47)
，5803〜5806（1985年）またはS．P．KhanapureらのJ．Org．Chem.，60，7548〜
7551（1995年）に記載の方法に従って当業者により製造されうる。さらに、式(
Ｉａ)および(Ｉｂ)の化合物は下記のスキームIIで製造された式(IIｂ)および(IV
)の化合物から当業者により製造されうる。
スキームIIは式(II)の化合物からの式(IIｂ)および(IV)の化合物の製造を示す
。式(II)の化合物はスキームＩに記載の方法に従って製造することができる。さ
らに、式(II)の化合物はKaneko，C.らの「合成」，875
(1974年)に記載の方法に従ってシクロペンタジエンをシス−２−シクロペンテニ
ル−1,4−ジオールに変換し、次に例えばJain，S.らの「化学と工業」，17，576(1
990年９月)；Rapoport，H．およびCastello，A．のJ．Org．Chem.，51，1006(19
86年)；McDougal，P．らのJ．Org．Chem.，51，3388(1986年)；並びにRoushらの
J．Org．Chem.，56，1636(1991年)に記載のようにして、当業者によく知られて
いる条件下、ジオールを適当な保護基でモノ保護することにより製造することが
できる。特に断りがなければ、すべての置換基は前記で定義された通りである。
試薬および出発物質は当業者ならば容易に入手可能である。
スキームIIの工程Ａにおいて、式(II)の化合物をJohnson，C.R．らのTetrahed
ron Letters，35(12)，1833〜1834(1994年)；C.R．JohnsonおよびS.J．BisのTet
rahedron Letters，33(48)，7287〜7290(1992年)；TheilらのLiebiegs Ann．Che
m.，195〜200(1991年)；TheilらのTetrahedron，47(36)，7569〜7582(1991年)；
並びにTheilらの「合成」，540(1988年)に記載のような、当該技術分野でよく知ら
れている条件下
で酵素が触媒するエナンチオ選択的アシル化に付して式(IIｂ)および(IV)の化合
物を得る。
例えば、式(II)の化合物をｔ−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、トルエン、ヘキ
サンなどのような適当な溶媒または溶媒混合物に溶解する。好ましくは、適当な
溶媒はｔ−ブチルメチルエーテルおよびシクロヘキサンである。溶液を適当な酵
素および過剰の適当なアシル化剤で処理する。適当なアシル化剤は例えば酢酸イ
ソプロペニル、プロピオン酸イソプロペニル、酪酸イソプロペニル、酢酸ビニル
、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどである。好ましくは、適当なアシル化剤
は酢酸ビニルである。場合により、約0.70当量のアルキルアミン、例えばトリエ
チルアミンを約15℃〜約55℃の温度で撹拌しながら加えることができる。適当な
酵素は式(II)の化合物のエナンチオ選択的アシル化を触媒する酵素であり、それ
により本質的にラセミ混合物のうち一方のエナンチオマーだけ、例えば式(IIａ)
の化合物が上記の条件下でアシル化され、Ｚがアセチル、プロピオニルまたはブ
チリルである式(IV)および式(IIｂ)の化合物の混合物を与える。適当な酵素は例
えばパンクレアチン（シグマ化学会社から入手可能）、カンジダアンタークティ
カリパーゼＢ（ノボノルディスクSP 435）、リポザイムIM（ノボノルディスクか
ら入手可能）などである。好ましくは、適当な酵素はパンクレアチンである。好
ましい温度は22℃である。反応混合物を約６時間〜24時間、好ましくは約８時間
撹拌する。次に、反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空下で濃縮して
式(IIｂ)および(IV)の化合物の混合物を得る。得られた式(IIｂ)および(IV)の化
合物の混合物はクロマトグラフィーまたは蒸留のような当業者によく知られてい
る技術および方法により容易に互いに分
離される。例えば、混合物を酢酸エチル／ヘキサンのような適当な溶離剤を用い
てシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して式( IIｂ)の化合物を式(IV
)の化合物から分離することができる。
スキームIIの工程Ｂにおいて、式(IV)の化合物を当業者によく知られている方
法により選択的に加水分解して式(IIａ)の化合物を製造することができる。例え
ば、Pgがテトラヒドロ−ピラン−２−イル保護基またはトリアルキルシリル保護
基、例えばｔ−ブチルジメチルシリル基である式(IV)の化合物を適当な溶媒また
は溶媒混合物、例えばTHF／メタノール／水に溶解し、１当量の適当な塩基、例
えば水酸化リチウム一水和物で処理することができる。反応混合物を室温で約１
〜８時間撹拌し、その生成物を単離し、抽出法およびクロマトグラフィーのよう
な当該技術分野でよく知られている方法により精製する。例えば、反応混合物を
、ジエチルエーテルのような適当な有機溶媒で希釈し、水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、濾過し、そして真空下で濃縮する。次に、残留物を酢酸
エチル／ヘキサンのような適当な溶離剤を用いてシリカゲル上のクロマトグラフ
ィーにより精製して式(IIａ)の化合物を得る。
スキームIIの工程Ｃにおいて、式(IV)の化合物を当業者によく知られている方
法により選択的に加水分解して式(Ｖ)の化合物を製造することができる。例えば
、Pgがテトラヒドロ−ピラン−２−イル保護基である式(IV)の化合物をエタノー
ルのような適当な有機溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸で処理することが
できる。さらに、Pgがｔ−ブチルジメチルシリル基である式(IV)の化合物をテト
ラヒドロフランのような適当な有機溶媒に溶解し、フッ化ｎ−テトラブチルアン
モニウムで処理することができる。それぞれ、反応混合物を室温で約１〜８時間
撹拌し、その生成物を単離し、抽出法およびクロマトグラフィーのような当該技
術分野でよく知られている方法により精製する。例えば、それぞれ、反応混合物
をジエチルエーテルのような適当な有機溶媒で希釈し、水で洗浄し無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、濾過し、そして真空下で濃縮する。次に、残留物を酢酸エ
チル／ヘキサンのような適当な溶離剤を用いてシリカゲル上のクロマトグラフィ
ーにより精製して式(Ｖ)の化合物を得る。
式(IIｂ)および(IIａ)の化合物は当業者に知られている方法により容易にその
対応するＯ−保護４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンのエナンチオマーに変
換することができる。例えば、M.AsamiのTetrahedron Letters，26(47)，5803〜
5806(1985年)；K．LaumenおよびM．SchneiderのTetrahedron Letters，25(51)，
5875〜5878(1984年)；M．NaraらのTetrahedron，36，3161〜3170（1980年）；並
びにJ．NokamiらのTetrahedron Letters，32(21)，2409〜2412(1991年)に記載の
方法と同様にして、Ｏ−保護−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの両方の
エナンチオマーを製造することができる。例えば、式(IIａ)または(IIｂ)の化合
物を塩化メチレンのような適当な有機溶媒に溶解し、二酸化マンガン(MnO2)、ジ
クロム酸ピリジニウム(PDC)またはクロロクロム酸ピリジニウム(PCC)のような適
当な酸化剤で処理して式(Ｉａ)および(Ｉｂ)のケトンを得る。式(IIａ)および(I
Iｂ)の化合物はプロスタグランジンのエナンチオ選択的合成において有用な中間
体である(例えば、M．AsamiのTetrahedron Letters，26(47)，5803〜5806(1985
年)を参照)。さらに、式(Ｉａ)および(Ｉｂ)のエナンチオマーは一般にCorey，E
.J．らのTetrahedron Letters，27，2199(1986年)またはS.P．KhanapureらのJ．
Org．Chem.，60，7548〜7551(1995年)に記載の方法に従って製造することができ
る。
式(VIａ)、(VIｂ)、(VII)および(VIII)の化合物はスキームIIIに記載のように
して製造することができる。特に断りがなければ、すべての置換基は前記で定義
された通りである。試薬および出発物質は当業者ならば容易に入手可能である。
スキームIIIにおいて、式(VI)の化合物は例えば式(II)の化合物の二重
結合を還元することによって、当業者により製造される。さらに詳しくは、式(I
I)の化合物をメタノールのような適当な有機溶媒中でNi2Bと混合し、反応混合物
を水素雰囲気下、室温で約15〜20時間撹拌する。次に、生成物を単離し、当該技
術分野でよく知られている技術および方法により精製する。例えば、水素雰囲気
を窒素でパージし、反応混合物を珪藻土を通して濾過し、固体をメタノールで洗
浄し、そして濾液を真空下で濃縮する。次に、残留物をカラムクロマトグラフィ
ーまたは真空蒸留により精製して式(VI)の精製化合物を得ることができる。
スキームIIIの工程Ａにおいて、式(VI)の化合物をJohnson，C.R．らのTetrahe
dron Letters，35(12)，1833〜1834(1994年)；C.R．JohnsonおよびS.J．BisのTe
trahedron Letters，33（48），7287〜7290（1992年）；ThelらのLiebiegs Ann
．Chem.，195〜200（1991年）；TheilらのTetrahedron，47(36)，7569〜7582(19
91年)；並びにTheilらの「合成」，540(1988年)に記載のような、当該技術分野で
よく知られている条件下で酵素が触媒するエナンチオ選択的アシル化に付して式
(VIｂ)および(VII)の化合物を得る。
例えば、式(VI)の化合物をｔ−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、トルエン、ヘキ
サンなどのような適当な溶媒または溶媒混合物に溶解する。好ましくは、適当な
溶媒はｔ−ブチルメチルエーテルおよびシクロヘキサンである。溶液を適当な酵
素および過剰の適当なアシル化剤で処理する。適当なアシル化剤は例えば酢酸イ
ソプロペニル、プロピオン酸イソプロペニル、酪酸イソプロペニル、酢酸ビニル
、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどである。好ましくは、適当なアシル化剤
は酢酸ビニルである。場合により、約0.70当量のアルキルアミン、例えばトリエ
チ
ルアミンを約15℃〜約55℃の温度で撹拌しながら加えることができる。好ましい
温度は約22℃である。適当な酵素は式(VI)の化合物のエナンチオ選択的アシル化
を触媒する酵素であり、それにより本質的にラセミ混合物のうち一方のエナンチ
オマーだけ、例えば式(VIａ)の化合物が上記の条件下でアシル化され、Ｚがアセ
チル、プロピオニルまたはブチリルである式(VII)および式(VIｂ)の化合物の混
合物を与える。適当な酵素は例えばパンクレアチン（シグマ化学会社から入手可
能）、カンジダアンタークティカリパーゼＢ(ノボノルディスクSP 435)、リポザ
イムIM(ノボノルディスクから入手可能)などである。好ましくは、適当な酵素は
パンクレアチンである。反応混合物を約６時間〜約30時間、好ましくは約８時間
撹拌する。次に、反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空下で濃縮して
式(VIｂ)および(VII)の化合物の混合物を得る。得られた式(VIｂ)および(VII)の
化合物の混合物はクロマトグラフィーまたは蒸留のような当業者によく知られて
いる技術および方法により容易に互いに分離される。例えば、混合物を酢酸エチ
ル／ヘキサンのような適当な溶離剤を用いてシリカゲル上のクロマトグラフィー
により処理して式(VIｂ)の化合物を式(VII)の化合物から分離することができる
。
スキームIIIの工程Ｂにおいて、式(VII)の化合物を当業者によく知られている
方法により選択的に加水分解して式(VIａ)の化合物を製造することができる。例
えば、Pgがテトラヒドロ−ピラン−２−イル保護基またはトリアルキルシリル保
護基、例えばｔ−ブチルジメチルシリル基である式(VII)の化合物を適当な溶媒
または溶媒混合物、例えばTHF／メタノール／水に溶解し、１当量の適当な塩基
、例えば水酸化リチウム一水和物で処理することができる。反応混合物を室温で
約１〜８時間撹拌し、その生成物を単離し、抽出法およびクロマトグラフィーの
ような当該技
術分野でよく知られている方法により精製する。例えば、反応混合物を、ジエチ
ルエーテルのような適当な有機溶媒で希釈し、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、濾過し、そして真空下で濃縮する。次に、残留物を酢酸エチル／
ヘキサンのような適当な溶離剤を用いてシリカゲル上のクロマトグラフィーによ
り精製して式(VIａ)の化合物を得る。
スキームIIIの工程Ｃにおいて、式(VII)の化合物を当業者によく知られている
方法により選択的に加水分解して式(VIII)の化合物を製造することができる。例
えば、Pgがテトラヒドロ−ピラン−２−イル保護基である式(VII)の化合物をエ
タノールのような適当な有機溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸で処理する
ことができる。さらに、Pgがｔ−ブチルジメチルシリル基である式(IV)の化合物
をテトラヒドロフランのような適当な有機溶媒に溶解し、フッ化ｎ−テトラブチ
ルアンモニウムで処理することができる。それぞれ、上記の反応混合物を室温で
約１〜８時間撹拌し、その生成物を単離し、抽出法およびクロマトグラフィーの
ような当該技術分野でよく知られている方法により精製する。例えば、それぞれ
、上記の反応混合物をジエチルエーテルのような適当な有機溶媒で希釈し、水で
洗浄し無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして真空下で濃縮する。次
に、残留物を酢酸エチル／ヘキサンのような適当な溶離剤を用いてシリカゲル上
のクロマトグラフィーにより精製して式(VIII)の化合物を得る。
式(VIｂ)および(VIａ)の化合物は当業者に知られている方法により容易にその
対応するＯ−保護３−ヒドロキシシクロペンタノンのエナンチオマーに変換する
ことができる。例えば、式(VIａ)または(VIｂ)の化合物を塩化メチレンのような
適当な有機溶媒に溶解し、適当な酸化剤、例えばジクロム酸ピリジニウム(PDC)
、クロロクロム酸ピリジニウム(PCC)
またはスワーン(Swern)条件下で処理してその対応するケトンを得る。
次の実施例はスキームＩ、IIおよびIIIに記載した典型的合成法を示す。これ
らの実施例は端なる例示であり、全く本発明の範囲を制限するものではない。
本実施例に記載したガスクロマトグラフィーの保持時間は次の条件下で得られ
たものである：30ｍ×0.32mm HP-5架橋、５％PH MEシリコーンカラムを取り付け
たヒューレットパッカード5890シリーズIIガスクロマトグラフを使用した。流量
は30ml／分に設定し、ヘリウムをキャリヤーガスとして使用した。注入口の温度
は200℃であり、検出器の温度は275℃であり、そして使用したプログラムは初期
温度を100℃に設定し、10分後にそれを10℃／分の速度で200℃まで増加し、その
温度を５分間保持してから終了することからなる。
さらに、特定の化合物のeeを測定するために、キラルクロマトグラフィーが当
業者により容易に利用される。例えば、内径が10ｍ×0.25mmのCDX-β(J & Wサイ
エンティフィックから入手可能)を100℃カラム温度、200℃のインゼクター温度
および220℃の検出器温度のような標準条件下で使用することができる。別法と
して、特定の化合物のeeは当業者によく知られている方法を使用して(Ｒ)−(＋)
−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸または(Ｓ)−(−)−
α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸から本化合物の対応す
るモシャー(Mosher)エステルを製造することにより測定することができる(例え
ば、Dale，J．A.，Dull，D．L．およびMosher，H.S．のJ．Org．Chem.，34(9)，
2543〜2549(1969年)を参照)。得られるそれぞれのジアステレオマーの量は当該
技術分野でよく知られているように、19F NMR、あるいはカラムクロマトグラフ
ィー、キラル、カラムクロマトグラフィーまたは
ガスクロマトグラフィーによる分離によって測定することができ、それにより本
化合物のeeを計算することができる。
本明細書において使用される次の用語は表示した意味を有する。「ｇ」はグラム
を意味し；「mmol」はミリモルを意味し；「ml」はミリリットルを意味し；「bp」を意
味し；「mp」は融点を意味し；「℃」は摂氏温度を意味し；「mmHg」は水銀柱ミリメー
トルを意味し；「μl」はミクロリットルを意味し；「μg」はミクログラムを意味
し；「μM」ミクロモルを意味し；「Rf」は保持時間を意味し；「δ」はテトラメチ
ルシランから低磁場
る20℃におけるナトリウムのはＤ線の比旋光度を意味し；「ｃ」はｇ／mlとして
の濃度を意味し；「DMF」ジメチルホルムアミドを意味し；「THF」はテトラヒドロフ
ランを意味し；「TBME」はｔ−ブチルメチルエーテルを意味し；「NMM」はＮ−
メチルモルホリンを意味し；「DMSO」はジメチルスルホキシドを意味し；そして「
DMAP」は４−ジメチルアミノピリジンを意味する。
実施例 １
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製造
スキームＩ、工程ａ；水（3.7ｌ）中におけるフルフリルアルコール（125ｇ、
1.27モル）の溶液をKH2PO4（6.3ｇ、46.3ミリモル）で処理した。溶液のpHをH3P
O4でpH4.1（pHメタノール）に調整し、次に窒素雰囲気下で40時間99℃に加熱し
た。次に、溶液を冷却し、塩化メチレン（２×500ml）で洗浄した。有機層を合
一し、水（２×500ml）で抽出した。水層および水性抽出物を合一し、真空下（7
0℃、20mmHg）で濃縮して油状物を得た。油状物を塩化メチレン（１ｌ）に溶解
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して表題化合物（66
ｇ、53％）を暗色の油状物として得た。1H NMR（CDCl3）δ7.61(dd，J=5.6，4.8
Hz，1H)，6.20(dd，J=5.6，4.8 Hz，1H)，5.01-5.04(m，1H)，3.61(bs，1H)，2.
75(dd，J=18.5，3.2 Hz，1H)，2.26(dd，J=18.5，6.0 Hz，1H); 13CNMR（CDCl3
）δ 207.4，164.0，134.7，70.1，44.1; IR（ニート）νmax 3387，2974，1711
cm-1; MS（EI）m/e（％相対強度）98(M+，100)。
元素分析値 (C5H6O2・0.16H2Oとして):
計算値 C 59.47％ H 6.30％ H2O 2.9％
実測値 C 59.56％ H 6.52％ H2O 3.0％
実施例 ２
４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シクロペンテノンの製造
スキームＩ、工程ｂ；無水テトラヒドロフラン（１ｌ）中における４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテノン(191ｇ、1.95モル、実施例１で製造した）およびト
リエチルアミン(430ml、3.09モル)の溶液を４−ジメチルアミノピリジン（4.90
ｇ、40.0ミリモル）で処理した。溶液を０℃まで冷却し、温度を10℃以下に維持
しながら10分間にわたってｔ−ブチルジメチルシリルクロライド(278ｇ、1.84モ
ル）を少しずつ加えて処理した。次に、反応混合物を室温で一晩撹拌した。次に
、それをHCl水溶液（0.5Ｎ、１ｌ）に注いだ。相を分離し、水相をヘブタン（２
×１ｌ）で抽出した。有機相および有機抽出物を合一し、HCl水溶液(0.5Ｎ、２
×500ml)、５％重炭酸ナトリウム(500ml)、ブライン(500ml)で洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下（40℃、20mmHg）で濃縮して表題化合
物（325ｇ）を得た。これをクーゲルロア蒸留(70〜80℃、１mmHg)により精製し
て表題化合物(282ｇ、収率72％)を明黄色の油状物として得た。Rf＝0.55、20％
酢酸エチル／ヘキサン、GC保持時間は14.97分であった；1H NMR（CDCl3）δ7.48
(dd，J=5.7，2.4 Hz，1H)，6.20(d，J=5.7 Hz，1H)，4.95-4.99(m，1H)，2.72(d
d，J=18.2，6.0 Hz，1H)，2.25(dd，J=18.2，2.3 Hz，1H)，0.88(s，9H)，0.11(
s，6H);13C NMR(CDCl3)δ 206.4，163.8，134.4，70.8，44.9，25.7，25.6，18.
0;IR（ニート）νmax2957，2931，2887，2858，1725cm-1; MS（EI）m/e（％相対
強度）212(M+，5)，155(M+-57，100)。
元素分析値(C11H20O2Siとして)：
計算値 C 62.21％ H 9.51％
実測値 C 62.39％ H9.50％
実施例 ３ａ
シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；無水トルエン（１ｌ）中における４−ｔ−ブチルジメチ
ルシロキシ−２−シクロペンテノン（50.2ｇ、236ミリモル）の機械的に撹拌さ
れた溶液をアルゴン雰囲気下、沃化リチウム（160ｇ、1.20モル）で処理した。
混合物を−20℃まで冷却し、水素化リチウムアルミニウム（9.0ｇ、237ミリモル
）を一度に加えて処理した。次に、反応混合物を５分間撹拌し、無水ｔ−ブチル
メチルエーテル(200ml)を反応温度を−15℃以下に維持するような速度で加えた
（添加時間は全部で約３分であった）。反応混合物を−20℃で１時間撹拌し、次
にそれを反応温度を20℃以下に維持するような速度で水酸化ナトリウム水溶液（
１Ｎ、250ml）をゆっくりと加えることにより急冷した。次に、得られた懸濁液
を珪藻土のパッドを通して濾過し、パッドをトルエン(400ml)で洗浄した。濾液
相を分離し、水相をトルエン（300ml）で抽出した。有機相および有機抽出物を
合一し、水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ、300ml）、ブライン（300ml）で洗浄し
、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下（40℃、20mmHg）で濃縮し
た。次に、残留物をクーゲルロア蒸留（60〜80℃、１mmHg）により精製して表題
化合物（37.4ｇ、収率74％）を無色の油状物として得た。シス／トランス／１−
２＋１−４付加、95.3／2.1／2.6；Rf＝0.20、20％酢酸エチル／ヘキサン、表題
化合物のGC保持時間は13.95分であり、他方PgがTBDMS基であるスキームＩの化合
物３（トランス）および４（１−２＋１−４付加）に相当する副生成物のGC保持
時間はそれぞれ14.45分および14.06分であった；表題化合物の1H NMR（CDCl3）
δ 5.93(dt，J=5.5，1.7 Hz，1H)，5.84(dt，J=5.5，1.6 Hz，1H)，4.63-4.68(m
，1H)，4.52-4.62(m，1H)，2.76-2.86(bs，1H)，2.69(dt，J=13.8，7.1 Hz，1H)
，1.52(dt，J=13.8，4.7 Hz，1H)，0.90(s，9H)，0.09(s，6H);13C NMR（CDCl3
）δ 136.7，135.6，75.1，75.0，44.5，25.9，18.1; IR（ニート）νmax 3373
，2957，2932 cm-1;MS（EI）m/e（％相対強度）157(M+-57)。
実施例 ３ｂ
シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；無水トルエン(1.5ｌ)中における４−ｔ−ブチルジメチ
ルシロキシ−２−シクロペンテノン（175ｇ、824ミリモル）の機械的に撹拌され
た溶液をアルゴン雰囲気下、沃化リチウム（240ｇ、1.79モル）で処理した。混
合物を−20℃まで冷却し、水素化リチウムアルミニウム(13.5ｇ、356ミリモル)
を一度に加えて処理した。次に、反応混合物を５分間撹拌し、無水ｔ−ブチルメ
チルエーテル(300ml)を反応温度を−15℃以下に維持するような速度で加えた（
添加時間は全部で約３分であった）。反応混合物を−20℃で３時間撹拌し、次に
それを反応温度を20℃以下に維持するような速度で水酸化ナトリウム水溶液(１
Ｎ、250ml)をゆっくりと加えることにより急冷した。次に、得られた懸濁液を珪
藻土のパッドを通して濾過し、パッドをトルエン（400ml）で洗浄した。濾液相
を分離し、水相をトルエン(450ml)で抽出した。有機相および有機抽出物を合一
し、水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ、450
ml）、ブライン(450ml)で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、
真空下（40℃、20mmHg）で濃縮した。次に、残留物をクーゲルロア蒸留(60〜80
℃、１mmHg)により精製して表題化合物（120ｇ、収率68％）を無色の油状物とし
て得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、92／４／４。
実施例 ３ｃ
シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；無水エチルエーテル（20ml）中における４−ｔ−ブチル
ジメチルシロキシ−２−シクロペンテノン（1.01ｇ、4.76ミリモル）の機械的に
撹拌された溶液をアルゴン雰囲気下、沃化リチウム（3.20ｇ、23.9ミリモル）で
処理した。混合物を−78℃まで冷却し、水素化リチウムアルミニウム(184mg、4.
85ミリモル)を一度に加えて処理した。次に、反応混合物を90分間撹拌した。次
に、それを反応温度を20℃以下に維持するような速度で水酸化ナトリウム水溶液
（１Ｎ、23ml）をゆっくりと加えることにより急冷した。次に、得られた懸濁液
を珪藻土のパッドを通して濾過し、パッドをエーテルで洗浄した。濾液相を分離
し、水相をエーテル（20ml）で抽出した。有機相および有機抽出物を合一し、水
酸化ナトリウム水溶液(１Ｎ、20ml)、ブライン(20ml)で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、真空下(40℃、20mmHg)で濃縮した。次に、残留物を
クーゲルロア蒸留（60〜80℃、１mmHg）により精製して表題化合物(820mg、収率
80％)を無色の油状物として得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、88.5
／3.3／8.2。
実施例 ３ｄ
シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノール
の製造
スキームＩ、工程ｃ；無水トルエン（10ml）中における４−ｔ−ブチルジメチ
ルシロキシ−２−シクロペンテノン(501mg、2.36ミリモル)の機械的に撹拌され
た溶液をアルゴン雰囲気下、臭化リチウム（1.06ｇ、12.2ミリモル）で処理した
。混合物を氷／塩浴で−20℃まで冷却し、水素化リチウムアルミニウム（92.0mg
、2.42ミリモル）を一度に、次にｔ−ブチルメチルエーテル(1.0ml)を加えて処
理した。氷／塩浴を氷浴に代え、次に、反応混合物を０℃で２時間撹拌した。次
に、それを反応温度を20℃以下に維持するような速度で水酸化ナトリウム水溶液
(１Ｎ、7.0ml)をゆっくりと加えることにより急冷した。次に、得られた懸濁液
を珪藻土のパッドを通して濾過し、パッドをトルエンで洗浄した。濾液相を分離
し、水相をトルエンで抽出した。有機相および有機抽出物を合一し、水酸化ナト
リウム水溶液（１Ｎ）、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、
濾過し、真空下（40℃、20mmHg）で濃縮した。次に、残留物をクーゲルロア蒸留
（60〜80℃、１mmHg）により精製して表題化合物(350mg、収率69％)を無色の油
状物として得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、92.7／6.3／1.0。
実施例 ３ｅ
シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；ZnCl2の撹拌溶液(19ml、19ミリモル、１Ｍエーテル溶液
)をアルゴン雰囲気下、４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シクロペンテノ
ン(2.0ｇ、9.42ミリモル)で処理した。溶液を−20℃まで冷却し、反応温度を−1
5℃以下に維持するような速度で水素化リチウムアルミニウム（9.0ml、9.0ミリ
モル、１Ｍエーテル溶液）を滴加し
て処理した。−20℃で約２時間撹拌した後、約５mlの１Ｎ NaOHを加えた。反応
混合物を珪藻土を通して濾過し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真
空下で濃縮して表題化合物(1.3ｇ)を得た。シス／トランス／１−２＋１−４付
加、81／３／16。
実施例 ３ｆ
シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；無水トルエン（15ml）中における４−ｔ−ブチルジメチ
ルシロキシ−２−シクロペンテノン(2.0ｇ、9.42ミリモル)の撹拌溶液をアルゴ
ン雰囲気下、MgBr2（3.5ｇ、19.0モル）で処理した。混合物を−25℃まで冷却し
、水素化リチウムアルミニウム(178mg、4.69ミリモル)で一度に加えて処理し、
次に無水ｔ−ブチルメチルエーテル（3.0ml）を加えた。反応混合物を−20℃で
２時間、次に室温で一晩撹拌した。さらに水素化リチウムアルミニウム（178mg
、4.69ミリモル）を室温で加え、反応混合物を２時間撹拌した。次に、反応混合
物を１ＮNaOH（５ml）をゆっくりと加えることにより急冷し、次にに珪藻土を通
して濾過した。濾液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮
して表題化合物(1.3ｇ)を得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、90／３
／７。
実施例 ３ｇ
2.８モル％のｔ−ブチルジメチルシラノールを反応混合物に加えるシス−４−ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；メカニカルスターラー、低温温度計、および上部に窒素
バブラーを有する60mlの滴下ロートを備えた100mlのフラスコ
に水素化リチウムアルミニウム（0.5ｇ、0.013モル）、沃化リチウム(6.7ｇ、0.
05モル)およびトルエン（34ｇ）を入れた。スラリーを−40℃まで冷却し、滴下
ロートに４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−３−シクロペンタノン（5.0ｇ、0.0
24ミリモル；ヒューレット・パッカード5890シリーズIIガスクロマトグラフ、ヒ
ューレット・パッカード積分器、ヒューレット・パッカードカラム、PH-1、10ｍ
、0.53mm ID、2.56μm、190℃の注入口、270℃の検出器を用いて、50℃の出発温
度で２分間、次に20℃／分の速度で250℃まで５分間増加する勾配を使用するガ
スクロマトグラフィーにより測定して2.8％のｔ−ブチルジメチルシラノールを
含有する）およびｔ−ブチルメチルエーテル（18ｇ、TBME）を入れた。シクロペ
ンテノン／TBME溶液を内部反応温度を−30℃〜−36℃に維持するような速度で５
分間にわたってスラリーに加えた。反応混合物を−30℃に加温し、４時間撹拌し
た。反応混合物を塩化アンモニウム（20ｇ）の５重量％水溶液をゆっくり加える
ことにより急却した。トルエン（20ｇ）を加え、相を分離した。次に、水相をト
ルエン（30ｇ）で抽出した。有機相を合一し、水（30ｇ）で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物を0.2mmHg(63〜66℃
)で14cmの充填ガラスビーズ（４mm）カラムを用いた真空蒸留により精製して表
題化合物（3.9ｇ、77％）を得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、95／
４／１。
実施例 ３ｈ
16モル％のｔ−ブチルジメチルシラノールを反応混合物に加えるシス−４−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；メカニカルスターラー、低温温度計、および上
部に窒素バブラーを有する60mlの滴下ロートを備えた100mlのフラスコに水素化
リチウムアルミニウム（0.5ｇ、0.013モル）、沃化リチウム(6.7ｇ、0.05モル)
およびトルエン（34ｇ）を入れた。スラリーを−30℃まで冷却し、滴下ロートに
４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−３−シクロペンタノン（4.3ｇ、0.02モル、
実施例３ｇのように測定して2.8％のｔ−ブチルジメチルシラノールを含有する
）、ｔ−ブチルジメチルシラノール（0.6ｇ、0.005モル）およびｔ−ブチルメチ
ルエーテル（18ｇ、TBME）を入れた。さらにｔ−ブチルジメチルシラノールを加
えて16％のｔ−ブチルジメチルシラノールを含有するように溶液を調整した。シ
クロペンテノン／シラノール／TBME溶液を一度に加えると、８℃の発熱が起こっ
た。反応混合物を冷却し、−28℃〜−32℃に1.5時間維持した。反応混合物を塩
化アンモニウム（20ｇ）の５重量％水溶液をゆっくり加えることにより急却し、
相を分離した。水相を塩化メチレン(２×20ｇ)で抽出した。有機相を合一し、水
（20ｇ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮し
た。残留物を0.5mmHg(67〜70℃)で14cmの充填ガラスビーズ（４mm）カラムを用
いた真空蒸留により精製して表題化合物(3.5ｇ、81％)を得た。シス／トランス
／１−２＋１−４付加、96.3／2.8／0.9。
実施例 ３ｉ
17モル％のｔ−ブチルジメチルシラノールを反応混合物に加えるシス−４−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；メカニカルスターラー、低温温度計、および上部に窒素
バブラーを有する60mlの滴下ロートを備えた100mlのフラスコに水素化リチウム
アルミニウム（0.5ｇ、0.013モル）、沃化リチウム
(1.4ｇ、0.010モル)およびトルエン(34ｇ)を入れた。スラリーを−33℃まで冷却
し、滴下ロートに４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−３−シクロペンタノン（4.
3ｇ、0.02モル、実施例３ｇのようにして2.8％のｔ−ブチルジメチルシラノール
を含有する）、ｔ−ブチルジメチルシラノール(0.6ｇ、0.005モル)およびｔ−ブ
チルメチルエーテル(18ｇ、TBME)を入れた。さらにｔ−ブチルジメチルシラノー
ルを加えて17％のｔ−ブチルジメチルシラノールを含有するように溶液を調整し
た。シクロペンテノン／シラノール／TBME溶液を一度に加えると、内部温度が−
23℃になった。反応混合物の温度を約−30℃に23時間維持し、それを塩化アンモ
ニウム（21ｇ）の５重量％水溶液で急冷した。相を分離し、水相をトルエン（２
×20ｇ）で抽出した。有機相を合一し、水（25ｇ）で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物を0.4mmHg(65〜68℃)で14c
mの充填ガラスビーズ（４mm）カラムを用いた真空蒸留により精製して表題化合
物(3.2ｇ、74％)を得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、96.2／2.8／１
。
実施例 ３ｊ
18モル％のｔ−ブチルジメチルシラノールを反応混合物に加えるシス−４−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；メカニカルスターラー、低温温度計、および上部に窒素
バブラーを有する60mlの滴下ロートを備えた100mlのフラスコに水素化リチウム
アルミニウム(0.5ｇ、0.013モル)およびトルエン(30ｇ)を入れた。スラリーを−
30℃まで冷却し、滴下ロートにｔ−ブチルジメチルシラノール（0.6ｇ、0.005モ
ル）およびトルエン（９ｇ）を入れた。シラノール／トルエン溶液を一度に加え
ると、穏やかにガスが発
生した。さらにｔ−ブチルジメチルシラノールを加えて18％のｔ−ブチルジメチ
ルシラノールを含有するように溶液を調整した。混合物を−25℃〜−30℃の温度
で15分間撹拌した。滴下ロートに４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−３−シクロ
ペンタノン(4.3ｇ、0.02モル、実施例３ｇのように測定して2.8％のｔ−ブチル
ジメチルシラノールを含有する)およびｔ−ブチルメチルエーテル（13ｇ、TBME
）を入れた。シクロペンテノン／TBME溶液を一度にスラリーに加えると、９℃の
発熱(−21℃の内部反応温度)が起こった。反応混合物の温度を−25℃付近に1.5
時間維持し、反応混合物を５重量％塩化アンモニウム水溶液で急冷した。トルエ
ン（20ｇ）を加え、相を分離した。水相をトルエン（30ｇ）で抽出した。有機相
を合一し、水（30ｇ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真
空下で濃縮した。残留物を0.5mmHg(67〜69℃)で14cmの充填ガラスビーズ（４mm
）カラムを用いた真空蒸留により精製して表題化合物(3.1ｇ、72％)を得た。シ
ス／トランス／１−２＋１−４付加、95／3.9／1.1。
実施例 ３ｋ
20モル％のイソプロパノールを反応混合物に加えるシス−４−ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；トルエン（34ml）中における水素化リチウムアルミニウ
ム（350mg、９ミリモル）および沃化リチウム（1.16ｇ、8.7ミリモル）のスラリ
ーを−30℃まで冷却し、４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−３−シクロペンタノ
ン(3.509ｇ、16.5ミリモル)、ｔ−ブチルメチルエーテル（17ml）およびイソプ
ロパノール（0.25ml、20モル％）の溶液を22分間にわたって滴加して処理した。
温度は−25℃まで上がった。次に、反応混合物を−20℃〜−25℃で2.5時間撹拌
した。飽和塩化アン
モニウム（20ml）、次に水（５ml）を反応混合物に加えた。反応混合物を室温ま
で加温し、濾過した。固体をトルエン（20ml）で洗浄した。濾液の相を分離した
。水相をトルエン（20ml）で抽出した。有機相を合一し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物をクーゲルロア蒸留(0.4mmHg／
60〜75℃)により精製して無色の油状物（2.17ｇ、61％）を得た。シス／トラン
ス／１−２＋１−４付加、95.9／3.1／１。
実施例 ４
シス−２−シクロペンテニル−1,4−ジオールの製造
スキームＩ、工程ｄ；テトラヒドロフラン(250ml)中におけるシス−４−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノール(50ｇ、0.233モル)の溶
液を室温においてトリエチルアミン（5.00ml、0.036モル）、続いてフッ化テト
ラブチルアンモニウム（250mlの1.0Ｎテトラヒドロフラン溶液、0.250モル）で
処理した。反応混合物を３時間撹拌し、真空下（40℃、20mmHg）で濃縮した。次
に、残留物をクロマトグラフィー（シリカゲル、100×160mm、10％アセトン／酢
酸エチル）により精製し、クロロホルムから再結晶して表題化合物（18.0ｇ、77
％）を白色の針状結晶として得た。融点57〜58℃。Rf＝0.25（10％アセトン／酢
酸エチル）。1H NMR（CDCl3）δ6.01(s，2H)，4.62-4.68(m，1H)，4.02(d,J=7.3
Hz，1H)，2.73(dt，J=14.6，7.3 Hz，1H)，1.57(dt，J=14.5，3.4 Hz，1H);13C
NMR（CDCl3）δ 136.3，74.9，43.3; IR（KBr）νmax3402，3391，3364 cm-1;
MS（CI）m/e(％相対強度)83(M+H-H2O，
100)。
元素分析値 (C5H8O2として):
計算値 C59.98％ H8.05％
実測値 C59.79％ H8.36％
実施例 ５
４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−２−エノンの
製造
スキームＩ、工程ｂ；テトラヒドロフラン（24ml）中における４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノン(1.41ｇ、14.4ミリモル)の溶液を3,4−ジヒドロ−２Ｈ
−ピラン（２ml）およびピリジニウムｐ−トルエンスルホネート(500mg、PPTS)
で処理した。反応混合物を室温で18時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル(25m
l)で希釈し、50％飽和ブライン(２×30ml)で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。得られた褐色の粗製油状物をシ
リカゲルのプラグ（25ｇ、33％酢酸エチル／ヘキサン）を通して濾過することに
より精製して表題化合物を黄色の油状物（2.00ｇ、76％）として得た。1H NMR(C
DCl3)δ 7.46(2×dd，1H，J=16.3，5.7 Hz)，6.2(m，1H)，4.9(m，1H)，4.80(d
appt，1H，J=23.8，2.9 Hz)，3.9(m，1H)，3.6(m，1H)，2.73(2×dd，1H，J=18.
4，6.2 Hz)，2.35(2×d，1H，J=18.4 Hz)，1.8(m，1H)，1.6(m，4H); IR（ニー
ト）νmax2944，2870，2855，1723，1348，1202，1182，1152，1128，1078，103
2 cm-1; MS（CI）m/e（％相対強度）183(M+H+，28)，85(100)。
実施例 ６
シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−２−エ
ノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；水素化リチウムアルミニウム（222mg、5.8ミリモル)、
沃化リチウム（3.2ｇ、24ミリモル）、ｔ−ブチルメチルエーテル（６ml）およ
びトルエン（16ml）のスラリーを−15℃まで冷却した。ｔ−ブチルメチルエーテ
ル（２ml）およびトルエン（２ml）中における４−（テトラヒドロ−ピラン−２
−イルオキシ）−シクロペンタ−２−エノン（2.179ｇ、11.97ミリモル、実施例
５で製造した）の溶液を40分間にわたって滴加した。反応混合物を30分間撹拌し
た。水酸化ナトリウム（１Ｎ、５ml）を反応混合物にゆっくりと加えた。スラリ
ーを濾過し、得られた相を分離した。水相を酢酸エチル（２×10ml）で抽出した
。有機抽出物を有機相と合一し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下
で濃縮した。粗製油状物をクロマトグラフィー（シリカゲル、30ｇ、50％酢酸エ
チル／ヘキサン、400ml）により精製して表題化合物(1.62ｇ、73％)を得た。シ
ス／トランス／１−２＋１−４付加、88／８／４；1H NMR（CDCl3）δ 6.1(m，1
H)，4.7(m，1H)，4.6(m，2H)，3.9(m，1H)，3.5(m，1H)，2.7(m，1H)，1.4-2.0(
m，8H);13C NMR（CDCl3）δ 137.2，137.1，134.8，133.6，98.3，97.8，79.7，
79.5，74.7，74.5，62.6，62.5，42.0，41.1，31.1，30.9，25.4，19.6，19.5;
IR（ニート）νmax2944，2870，2855，1723，1348，1202，1182，1152，1128，1
078，1032 cm-1; MS（CI）m/e（％相対強度）183(M＋H+，7)，167(M+H+-H2O，
40)，85(100)。
実施例 ７
シス−２−シクロペンテニル−1,4−ジオールの製造
スキームＩ、工程ｄ；エタノール（４ml）中におけるシス−４−（テトラヒド
ロ−ラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−２−エノール(338mg、実施例６で
製造した)の溶液をｐ−トルエンスルホン酸一水和物（38mg、p-TsOH・H2O）で処
理した。反応混合物を室温で２時間撹拌した。炭酸カリウム(116mg)を加え、反
応混合物を25％ヘキサン／酢酸エチル（10ml）で希釈した。この溶液をシリカゲ
ル（10ｇ）のプラグに注ぎ、25％ヘキサン／酢酸エチル（３×30ml）および酢酸
エチル（２×40ml）で溶離して表題化合物(167mg、90％)を得た。シス／トラン
ス／１−２＋１−４付加、88／８／４。
実施例 ８
４−ｔ−ブトキシ−シクロペンタ−２−エノンの製造
スキームＩ、工程ｂ；塩化メチレン中における４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノン（1.15ｇ、11.7ミリモル）の溶液を３℃まで冷却し、ｔ−ブチルトリク
ロロアセトイミデート(4.2ml、23.7ミリモル)、続いて三フッ化ホウ素ジエチル
エテラート（0.15ml）で処理した。反応混合物を３〜10℃で２時間撹拌し、室温
まで加温し、22時間撹拌した。反応混合物を重炭酸ナトリウム(250mg)で処理し
、濾過した。濾液を真空下で濃縮し、残留物をクロマトグラフィー（シリカゲル
、39ｇ、20％酢酸エチル／ヘキサン、600ml）により精製して表題化合物（355mg
、40％）
を黄色の油状物として得た。1H NMR（CDCl3）δ 7.44(dd，1H，J=18Hz)，6.2(d
，1H，J=5.4 Hz)，4.8(m，1H)，2.68(dd，1H，J=5.8，18Hz)，2.25(d，1H，J=18
Hz)，1.27(s，9H); IR（ニート）νmax2976，2936，1721，1368，1352，1188，1
103，1161 cm-1; MS（CI）m/e（％相対強度）155(M+H+，22)，99(100)。
実施例 ９
シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；水素化リチウムアルミニウム（55mg、1.44ミリモル）、
沃化リチウム（1.65ｇ、5.76ミリモル）、ｔ−ブチルメチルエーテル（２ml）お
よびトルエン（３ml）のスラリーを−15℃まで冷却した。スラリーを５分間にわ
たって４−ｔ−ブトキシ−シクロペンタ−２−エノン(430mg、2.79ミリモル、１
mlのトルエンに溶解した)を滴加して処理した。反応混合物を−20℃〜−12℃で
２時間撹拌し、次に室温まで加温し、30分間撹拌した。反応混合物を水酸化ナト
リウム（１Ｎ、１ml）、続いてｔ−ブチルメチルエーテル（10ml）で処理し、濾
過した。濾液の相を分離し、水相をｔ−ブチルメチルエーテル（15ml）で抽出し
た。有機抽出物および有機相を合一し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、
真空下で濃縮した。残留物をクロマトグラフィー（シリカゲル、30ｇ、33％酢酸
エチル／ヘキサン）により精製して表題化合物（183mg、42％）を黄色の油状物
として得た。シス／トランス／１−２＋１−４付加、87／9.8／3.2;1H NMR（CDC
l3）δ 5.9(m，1H)，5.8(m，1H)，4.6(m，1H)，4.5(m，1H)，2.7(m，1H)，2.0(d
，1H，J=9.6 Hz)，1.5(d
appt，1H，J=4.5，14 Hz)，1.2(s，9H);13C NMR（CDCl3）δ 136.6，136，75.5
，74.4，74，44.6，28.7; νmax3395，2974，2938，2907，2878，1389，1364，1
117，1169，1022 cm-1; MS（CI）m/e（％相対強度）157(M+H+-H2O)，57，83(100
)。
実施例 10
(−)−シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノール(
Ａ)および(−)−酢酸 ４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロペンタ−２
−エニルエステル(Ｂ)の製造
スキームII、工程Ａ；シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シク
ロペンテノール（10.0ｇ、46.6ミリモル、実施例３ａで製造した）をｔ−ブチル
メチルエーテル（60ml、無水）に溶解した。溶液にトリエチルアミン(4.5ml、32
.3ミリモル)、パンクレアチン（30ｇ、シグマ化学会社から入手可能）および酢
酸ビニル(22ml、239ミリモル)を加えた。反応混合物を室温で７時間撹拌した。
反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空下で濃縮した。生成物をシリカ
ゲル上のクロマトグラフィー（５％〜20％酢酸エチル／ヘキサン）により分解し
て(−)−酢酸４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロペンタ−２−エニル
エステル(Ｂ，6.1ｇ、収率51％、99％ ee)、〔α〕D−0.2°(ｃ＝0.52、クロロ
ホルム)を黄色の油状物として、また(−)−シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２−シクロペンテノール(Ａ，4.7ｇ、収率47％、＞99％ee)、〔α〕D
−18.6°(ｃ＝1.01、クロロホルム)を黄色の油状物として得た。
実施例 11
(−)−シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−
２−エノール(Ａ)および(−)−酢酸シス−４−(テトラヒドロ−ピラン−２−イ
ルオキシ)−シクロペンタ−２−エニルエステル(Ｂ)の製造
スキームII、工程Ａ；シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）
−シクロペンタ−２−エノール(1.091ｇ、5.92ミリモル、実施例６で製造した)
をｔ−ブチルメチルエーテル(8.6ml、無水)に溶解した。溶液にトリエチルアミ
ン(0.59ml、4.2ミリモル)、パンクレアチン（3.2ｇ、シグマ化学会社から入手可
能）および酢酸ビニル（2.7ml、29ミリモル）を加えた。反応混合物を室温で７
時間撹拌した。反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空下で濃縮した。
生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィー（10％〜20％酢酸エチル／ヘキサン
）により分解して(−)−酢酸シス−４−(テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキ
シ)−シクロペンタ−２−エニルエステル(Ｂ，601mg、収率45％、91％ ee）、〔
α〕D＝−19.8°（ｃ＝1.00、クロロホルム）を黄色の油状物として、また(−)
−シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−２−
エノール（Ａ，560mg、収率50％、94％ ee）、〔α〕D＝−9.9°(ｃ＝1.06、ク
ロロホルム)を黄色の油状物として得た。(−)−シス−４−（テトラヒドロ−ピ
ラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−２−エノール
元素分析値（C11H16O3・0.13H2Oとして）
計算値 C 64.38％ H 8.78％
実測値 C 64.32％ H 8.97％
(−)−酢酸シス−４−(テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ)−シクロペンタ
−２−エニルエステル
元素分析値 （C12H18O4として）
計算値 C 63.70％ H 8.01％
実測値 C 63.42％ H 8.09％
実施例 12
(＋)−シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノールの
製造
スキームII、工程Ｂ；(−)−酢酸 ４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シ
クロペンタ−２−エニルエステル(2.3ミリモル、実施例10で製造した)をTHF／メ
タノール／水（2.7／0.9／0.9ml）に溶解した。水酸化リチウム一水和物(2.5ミ
リモル)を撹拌しながら加えた。室温で約３時間撹拌した後、反応混合物を水(10
ml)で希釈し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機相を合一し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物をフラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲル、20％酢酸エチル／ヘキサン)により精製して表題
化合物(452m
実施例 13
(＋)−シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ−
２−エノールの製造
スキームII、工程Ｂ；(−)−酢酸 シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−
イルオキシ）−シクロペンタ−２−エニルエステル（106mg、0.47ミリモル、実
施例11で製造した）をTHF／メタノール／水(1.5／0.5／0.5ml）に溶解した。水
酸化リチウム一水和物(0.57ミリモル)を撹拌しながら加えた。室温で約３時間撹
拌した後、反応混合物をｔ−ブチルメチルエーテル（10ml）および水（10ml）で
希釈した。ｔ−ブチルメチルエーテル（２×10ml）で抽出した。有機抽出物を合
一し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物を
フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、2.5ｇ、1.7×2.5cmカラム、50％酢
酸エチル／ヘキサン、150ml)により精製して表題化合物(80mg、収率93
実施例 14
(−)−シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エノール(Ａ)および(
−)−酢酸 シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エニルエステル(
Ｂ)の製造
スキームII、工程Ａ；シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エノ
ール（485mg、3.1ミリモル、実施例９で製造した）をｔ−ブチルメチルエーテル
(8.6ml、無水)に溶解した。溶液にトリエチルアミン(0.7当量)、パンクレアチン
（３重量当量、シグマ化学会社から入手可
能）および酢酸ビニル（５当量）を加えた。反応混合物を室温で17時間撹拌した
。反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空下で濃縮した。生成物をシリ
カゲル上のクロマトグラフィー(10％〜20％酢酸エチル／ヘキサン)により分解し
て(−)−酢酸 シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エニルエステ
ル(Ｂ，収率50％、76％ee)、〔α〕D＝−10.9°(ｃ＝0.98、クロロホルム)；1H
NMR（CDCl3）δ 5.94(d，1H，J=5.5 Hz)，5.89(d，1H，J=5.5 Hz)，5.46(appt，
1H，J=5.5 Hz)，4.52(appt，1H，J=5.5 Hz)，2.8(m，1H)，2.0(s，3H)，1.6(d a
ppt，1H，J=4.8，14 Hz)，1.22(s，9H);13C NMR（CDCl3）δ 171.2，138.6，131
.6，77.4，77.2，41，28.7，28.6，21.4; IR（ニート）νmax2976，1738，1364
，1242，1196，1067，1020 cm-1; CIMS m/e（％相対強度）199(M+H+，4)，139(M
＋H+-AcOH，70)，83(100)、をまた(−)−シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロ
ペンタ−２−エノール(Ａ，194mg、収率40％、＞98 ee)、〔α〕D＝−17.2°(ｃ
＝1.09、クロロホルム)を黄色の油状物として得た。
(−)−シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エノール
元素分析値(C9H16O2として)：
計算値 C 69.19％ H 10.32％
実測値 C 69.07％ H 10.37％
(−)−酢酸シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エニルエステル
元素分析値 (C11H18O3として)：
計算値 C 66.64％ H 9.15％
実測値 C 67.11％ H 9.03％
実施例 15
(＋)−シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ−２−エノールの製造
スキームII、工程Ｂ；(−)−酢酸シス−４−ｔ−ブチルオキシ−シクロペンタ
−２−エニルエステル（90mg、0.45ミリモル、実施例14で製造した）をTHF／メ
タノール／水（1.5／0.5／0.5ml）に溶解した。水酸化リチウム一水和物（23.7m
g）を撹拌しながら加えた。室温で約２時間撹拌した後、反応混合物を水（10ml
）で希釈し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機相を合一し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物をフラッシュクロ
マトグラフィー（シリカゲル、２ｇ、40％ジエチルエーテル／ヘキサン、1.5×2
.5cmカラム）により精製して表題化合物(71mg、定量的収率、76％ ee)を淡黄
実施例 16
シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２−エノールの製造
スキームＩ、工程ｂ；実施例８に記載の手順と同様にして、４−ベンジルオキ
シ−２−シクロペンタ−２−エノンを４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン、
ベンジルトリクロロアセトイミデートおよび三フッ化ホウ素ジエチルエテラート
から製造した。
スキームＩ、工程ｃ；ジエチルエーテル（４ml）中における水素化リ
チウムアルミニウム（45mg、1.2ミリモル）および沃化リチウム（451mg、3.37ミ
リモル）の溶液を−30℃まで冷却し、５分間にわたってジエチルエーテル（１ml
）中における４−ベンジルオキシ−２−シクロペンタ−２−エノン(444mg、2.36
ミリモル、上記で製造した)の溶液を滴加して処理した。反応混合物を−25℃で1
.5時間撹拌し、１Ｎ水酸化ナトリウム（１ml）で処理した。反応混合物を室温ま
で加温し、濾過した。濾液を酢酸エチル（２×10ml）で抽出した。有機相を無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物をクロマトグ
ラフィーにより精製して表題化合物（151mg、収率34％）を淡黄色の油状物とし
て得た。28／４／３、シス／トランス／1,4＋1,2；1H NMR（CDCl3）δ 7.3(m，5
H)，6.05(appt，2H，J=7 Hz)，4.6(m，1H)，4.56(dd，2H，J=11.7，17 Hz)，4.4
4(dd，1H，J=4，6.8 Hz)，2.7(m，1H)，1.67(d appt，1H，J=4，14 Hz);13C NMR
（CDCl3）δ 138.6，137.4，134.5，128.7，128.1，127.9，81.7，75.3，71.3，
41.3; IR（ニート）νmax3381，2918，2851，1360，1072，1051，1028 cm-1; CI
MS m/e（％相対強度）173(M+H+-H2O)，91(100)。
元素分析値 (C12H14O2として)：
計算値 C 75.77％ H 7.41％
実測値 C 75.61％ H 7.78％
実施例 17
(−)−シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２−エノール(Ａ)および(−)
−酢酸シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２−エニルエステル(Ｂ)の製
造
スキームII、工程Ａ；シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２−エノー
ル(500mg、実施例16で製造した)をｔ−ブチルメチルエーテル（8.6ml、無水）に
溶解した。溶液にトリエチルアミン（0.7当量）、パンクレアチン（３重量当量
、シグマ化学会社から入手可能）および酢酸ビニル（５当量）を加えた。反応混
合物を室温で７時間撹拌した。反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空
下で濃縮した。生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィー（20％酢酸エチル／
ヘキサン）により分解して(−)−シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２
−エノー
および(−)−酢酸シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２−エ
ロロホルム)を得た。1H NMR（CDCl3）δ 7.3(m，5H)，6.13(d，1H，J=5 Hz)，5.
99(d，1H，J=5 Hz)，5.5(m，1H)，4.59(d，1H，J=11.8 Hz)，4.54(d，1H，J=11.
8 Hz)，4.5(m，1H)，2.78(d appt，1H，J=7.2，14.3 Hz)，2.05(s，3H)，1.76(d
appt，1H，J=4.4，14.3 Hz);13C NMR(CDCl3)δ 171.1，138.5，136.4，133.1，
128.7，128，127.9，81.4，77.1，71.2，37.8，21.4。
実施例 18
(＋)−シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−２−エノールの製造
スキームII、工程Ｂ；(−)−酢酸シス−４−ベンジルオキシ−シクロペンタ−
２−エニルエステル(158mg、0.68ミリモル、実施例17で製造
した)をTHF／メタノール／水（1.5／0.5／0.5ml）に溶解した。水酸化リチウム
一水和物（0.75ミリモル）を撹拌しながら加えた。室温で約２時間撹拌した後、
反応混合物を水（10ml）で希釈し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機
相を合一し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残
留物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、２ｇ、20％酢酸エチル／ヘ
キサン、1.5×2.5cmカラム)
（ｃ＝0.93、クロロホルム）。
実施例 19
(−)−シス−４−アセトキシ−シクロペンタ−２−エノールの製造
スキームII、工程Ｂ；(−)−酢酸シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−シクロペンタ−２−エニルエステル(11.53ｇ、45ミリモル、実施例10で製造し
た)をテトラヒドロフラン(49.5ml)およびトリエチルアミン(0.7ml)に溶解した。
溶液をフッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム溶液（49.5mlの１Ｍ THF溶液、49
.5ミリモル）で処理し、室温で２時間撹拌した。反応混合物を真空下で濃縮し、
残留物をクロマトグラフィー（シリカゲル、33％〜50％酢酸エチル／ヘキサン）
により精製して白色の固体（5.85ｇ）を得、それをｔ−ブチルメチルエーテル／
ヘプタン（80ml／100ml）から再結晶して表題化合物(4.99ｇ、収率78％、
〜49℃；1H NMR（CDCl3）δ 6.12-6.14(m，1H)，5.99-6.01(m，1H)，5.49-5.54(
m，1H)，4.70-4.77(m，1H)，2.83(dt，1H，J=14.5，7.3 Hz)，
2.22(d，1H，J=7.8 Hz)，2.08(s，3H)，1.6(dt，1H，J=14.5，3.8 Hz)。
実施例 20
(＋)−酢酸シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロペンタ−２−エ
ニルエステルの製造
(−)−シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノール
（１ｇ、4.67ミリモル、実施例10で製造した）をピリジン（20ml）に溶解し、無
水酢酸（２ml）で処理した。反応混合物を一晩撹拌した。反応混合物をジエチル
エーテル（100ml）で希釈し、３Ｍ塩酸(３×100ml)、飽和重炭酸ナトリウム(100
ml)、ブライン（100ml）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、
真空下で濃縮して表題化合物（１ｇ、収率98％）を得た。Rf＝0.5（５％酢酸エ
チル／ヘキサン）、
1H)，5.5(m，1H)，4.7(m，1H)，2.8(m，1H)，2.05(s，3H)，1.6(m，1H)，0.91(s
，9H)，0.09(s，6H);13C NMR（CDCl3）δ 170.8，138.8，131.1，76.9，74.8，4
1.1，25.8，21.1，18.1，-4.7，-4.6; IR(ニート)νmax2955，2932，2859，1739
，1369，1240，1105，1062，1049 cm-1; CIMSm/e（％相対強度）256(M+H+，7)，
197(M+H+-AcOH，100)。
元素分析値 (C13H24O3Siとして)
計算値 C 60.90％ H 9.43％
実測値 C 60.89％ H 9.67％
実施例 21
(＋)−酢酸シス−４−(テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ)−シクロペンタ
−２−エニルエステル(Ｂ)の製造
(−)−シス−４−（テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ）−シクロペンタ
−２−エノール（292mg、1.59ミリモル、実施例11で製造した）をピリジン（2.8
ml）に溶解し、無水酢酸(0.39ml)およびジメチルアミノピリジン（16mg）で処理
した。反応混合物を一晩撹拌した。反応混合物を真空下で濃縮し、残留物を酢酸
エチル（10ml）に溶解した。ブラインで1/2飽和させた0.5Ｍ塩酸（２×10ml）、
飽和重炭酸ナトリウム（10ml）、ブライン（10ml）で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物をクロマトグラフィー(シ
リカゲル、10ｇ、1.5×４cmカラム、20％酢酸エチル／ヘキサン)により精製して
表題化合物（290mg、81％）を得た。
実施例 22
(−)−シス−４−アセトキシ−シクロペンタ−２−エノールの製造
(−)−酢酸シス−４−(テトラヒドロ−ピラン−２−イルオキシ)−シクロペン
タ−２−エニルエステル(192mg、0.85ミリモル、実施例11で製造した)をエタノ
ール（1.5ml）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（11.7mg）で処理した。反応
混合物を室温で２時間撹拌した。炭酸塩ま
たは重炭酸塩を加えて反応混合物を中和し、真空下で濃縮した。残留物をクロマ
トグラフィー(シリカゲル、３ｇ、1.5×３cmカラム、33％酢酸エチル／ヘキサン
、80ml)により精製して表題化合物（90mg、収率75％、
実施例 23
(−)−シス−３−アセトキシ−シクロペンタノールの製造
(−)−シス−４−アセトキシ−シクロペンタ−２−エノール(11.0ｇ、77.４ミ
リモル、実施例19で製造した)をエタノール（50ml）に溶解し、ラネーニッケル
（1.1ｇ、前もって水（２×50ml）およびエタノール(２×50ml)で洗浄した、Ra-
Ni）で処理した。大気を50psi(344.74kPa)の水素で満たし、混合物を振盪した。
20分後、溶液を濾過し、濾液をトリエチルアミン（1.0ml、7.2ミリモル）で処理
した。１時間後、溶液を真空下で濃縮し、残留物をクーゲルロア蒸留（68〜80℃
、１mmHg）により蒸留して表題化合物（9.74ｇ、87％）を無色の油状物として得
た。
実施例 24
（1S,3R）−酢酸３−メタンスルホニルオキシ−シクロペンチルエステルの製造
（1S,3R）シス−３−アセトキシ−シクロペンタノール（9.75ｇ、67.6ミリモ
ル、実施例23で製造した）をｔ−ブチルメチルエーテル（80ml、
無水）に溶解し、撹拌しながら−８℃まで冷却した。塩化メタンスルホニル(5.7
ml、73.6ミリモル、塩化メシル)を５分間にわたって加え、次に温度を−２℃以
下に維持しながら約30分間にわたってトリエチルアミン（11.4ml、81.2ml）を滴
加した。氷浴を取り外し、混合物を２時間撹拌した。混合物を水／ブライン混合
物（50ml／50ml）に注いだ。層を分離し、水層をｔ−ブチルメチルエーテル(100
ml)で抽出した。有機層および抽出物を合一し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
し、濾過し、真空下で濃縮して表題化合物（14.4ｇ）を黄色の油状物として得た
；1H NMR(CDCl3)δ 5.1(m，2H)，3.02(s，3H)，2.41(m，1H)，2.05(s，3H)，2.0
(m，5H)。
実施例 25
(−)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロペンタノールの製造
(−)−シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノール
（28.85ｇ、135ミリモル、実施例10で製造した）をエタノール（75ml）に溶解し
、ラネーニッケル（1.85ｇ、32ミリモル、前もって水（２×50ml）およびエタノ
ール（２×50ml）で洗浄した）で処理した。大気を50psi（344.74kPa）の水素で
満たし、混合物を振盪した。5.25時間後、反応混合物を濾過した。濾液を０℃ま
で冷却し、ホウ水素化ナトリウム（0.54ｇ、14.3ミリモル）で処理した。２時間
撹拌した後、溶液を真空下で濃縮し、得られた油状物をクーゲルロア蒸留（40〜
60℃、１mmHg）により蒸留して表題化合物（25.5ｇ、87％）を無色の油状物とし
4.4(m，1H)，4.3(m，1H)，3.03(d，1H，J=10.5 Hz)，1.9-1.6(m，6H)，0.89(s，
9H)，0.07(s，6H);13C NMR（CDCl3）δ 74.9，74.1，44.4，34.2，34.1，25.8，
17.9，-4.9，-5.0; IR（ニート）νmax3405，2957，2932，2888，2858，1256，1
091，1069，1038，1026 cm-1; CIMS m/e（％相対強度）217(M+H+，81)，199(M+H+
-H2O，37)，67(100)。
この(−)−エナンチオマー(表題化合物)は上記のキラルなカラムを使用して(＋)
−エナンチオマー（対掌体）から分離することができない。
元素分析値 (C11H24O2Siとして)
計算値 C 61.06％ H 11.17％
実測値 C 61.28％ H 10.85％
上記実施例23および25の還元はまた、白金／Al2O3、ホウ化ニッケル、白金／C
aCO3、ウィルキンソン触媒〔(C6H5)3P〕3RhCl）などの触媒を使用して行なうこ
とができる。
実施例 26
(1S,3R)−メタンスルホン酸３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロペン
チルエステルの製造
(−)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロペンタノール（9.
20ｇ、42.5ミリモル）を無水ｔ−ブチルメチルエーテル(50ml)に溶解し、−５℃
まで冷却した。氷浴を使用して温度を−５℃〜−２℃に維持するような速度で溶
液を塩化メタンスルホニル(3.6ｇ、46.5ミリモル、塩化メシル)、次にトリエチ
ルアミン（7.2ml、51.7ミリモル）で
処理した。氷浴を取り外し、溶液を２時間撹拌した。混合物を分液ロートに移し
、ブライン／水（50ml／50ml）で処理した。層を分離し、水層をｔ−ブチルメチ
ルエーテル（２×50ml）で抽出した。有機層および抽出物を合一し、ブラインで
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して表題化合
物（12.1ｇ、収率97％）を無色の油状物として得た；1H NMR（CDCl3）δ 5.1(m
，1H)，4.2(m，1H)，2.99(s，3H)，2.3(m，1H)，2.0(m，3H)，1.8(m，2H)，0.88
(s，9H)，0.05(s，6H)。
実施例 27
４−トリチルオキシ−２−シクロペンテノンの製造
スキームＩ、工程ｂ；塩化メチレン（20ml）中における塩化トリチル（3.44ｇ
、12.3ミリモル）の溶液を1,8-ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ−７−エン（2
.2ml、14.7ミリモル、DBU）、続いて４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン（1
.01ｇ、10.0ミリモル、５mlの塩化メチレン中、実施例１で製造した）で処理し
た。反応混合物を室温で３日間撹拌し、氷（約25ml）に注いだ。相を分離し、有
機相を水（25ml）で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過
し、真空下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、10〜
20％酢酸エチル／ヘキサン）により精製して表題化合物（1.26ｇ、36％）を淡黄
色の油状物として得た；1H NMR（CDCl3）δ 7.5(m，6H)，7.3(m，9H)，6.85(dd
，1H)，6.05(d，1H)，4.8(m，1H)，2.1(m，2H);13C NMR(CDCl3)δ 206.6，162.9
，144.3，135.2，128.8，128.4，127.7，88.2，
73.1，43.4; IR（KBr）νmax3061，1719，1491，1449，1352，1181，1107，1053
cm-1。
実施例 28
(＋／−)−シス−４−トリチルオキシ−２−シクロペンテノールの製造
スキームＩ、工程ｃ；トルエン（８ml）中における４−トリチルオキシ−２−
シクロペンテノン（1.03ｇ、3.03ミリモル、実施例27で製造した）のスラリーを
−20まで冷却し、水素化リチウムアルミニウム（76mg、2.0ml）、続いて沃化リ
チウム（1.06ｇ、7.9ミリモル）で処理し、ｔ−ブチルメチルエーテル（２ml）
を２分間にわたって滴加した。反応混合物を−20℃で１時間撹拌し、30分かけて
０℃まで加温し、０℃〜15℃で４時間撹拌した。反応混合物を１Ｎ NaOH(２ml)
をゆっくりと加えることにより急冷し、反応混合物を濾過した。固体をｔ−ブチ
ルメチルエーテルで洗浄し、濾液の相を分離した。有機相を無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル、20％酢酸エチル／ヘキサン）により精製して表題化合物(980mg、
95％)を白色の泡状物として得た。1H NMR（CDCl3）δ 7.5(m，6H)，7.3(m，9H)
，5.79(d，1H)，5.14(d，1H)，4.5(m，1H)，4.4(m，1H)，2.2(m，1H)，1.42(d，
1H);13C NMR（CDCl3）δ 145.1，136.2，135.9，129.0，128.1，127.3，87.7，7
7.4，74.9，43.2; IR(KBr)νmax3422，3057，1491，1364，1084，1065，1024 cm-1
。
実施例 28ａ
シス−２−シクロペンテニル−1,4−ジオールの製造
エタノール（２ml）中における(＋／−)−シス−４−トリチルオキシ−２−シ
クロペンテノール（200mg、0.58ミリモル、実施例28で製造した）の溶液をｐ−
トルエンスルホン酸（20mg）で処理し、55℃で８時間撹拌した。反応混合物を真
空下（55℃／15mmHg）で濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル、10％アセトン／酢酸エチル）により精製して表題化合物（58mg）を得た。シ
ス／トランス／１−２＋１−４付加、30／１／極微量。
実施例 29
(＋／−)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノールの製
造
メタノール（14ml）中で(＋／−)−シス−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２−シクロペンテノール（2.50ｇ、11.6ミリモル、実施例３で製造した）お
よびNi2B(メタノール中、8.5mlの0.14Ｍスラリー、10モル％)を混合した。スラ
リーを水素雰囲気下で18.5時間撹拌した。水素雰囲気を窒素に代え、珪藻土を通
して濾過し、固体をメタノール（50ml）で洗浄した。濾液を真空下（15mmHg／40
℃）で濃縮し、残留物をクーゲルロア蒸留（0.6mmHg／60〜65℃）により精製し
て表題化合物(2.31ｇ、92％)を無色の油状物として得た。
実施例 30
(1S,3R)−(−)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノー
ル(Ａ)および(1R,3S)−(＋)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシク
ロペンタニルアセテート(Ｂ)の製造
スキームIII、工程Ａ；ｔ−ブチルメチルエーテル(12ml)中で(＋／−)−シス
−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノール(2.119ｇ、9.8ミリ
モル、実施例29で製造した)、パンクレアチン（6.2ｇ、３重量当量）、トリエチ
ルアミン（0.9ml、6.5ミリモル）および酢酸ビニル(4.3ml)を混合し、室温で27
時間撹拌した。反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾液を真空下（室温／15mm
Hg）で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィー〔シリカゲル、55ｇ、ヘキ
サン(300ml)、次に５％酢酸エチル／ヘキサン(500ml)〕により精製して(1R,3S)
−(＋)−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタニルアセテート〔1.
23ｇ、収率49％、98％ ee(キラルなカラムを使用してガスクロマトグラフィーに
より測定した)〕および(1S,3R)−(−)−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシ
クロペンタノール〔771mg、収率37％、92％ ee（そのアセテート誘導体のGCキラ
ルカラム分析により測定した）、実施例30ａ参照〕を得た。
(1S,3R)−(−)−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタ
1H NMR（CDCl3）δ 4.4(m，1H)，4.3(m，1H)，3.03(d，1H)，1.9-1.6(m，6H)，0
.89(s，9H)，0.07(s，6H);13C NMR（CDCl3）δ 74.9，74.1，
44.4，34.2，34.1，25.8，17.9，-4.9，-5.0; IR（ニート）νmax3405，2957，2
932，2888，2858，1256，1091，1069，1038，1026 cm-1。
元素分析値 (C11H24O2Siとして)：
計算値 C 61.06％ H 11.18％
実測値 C 61.32％ H 11.13％
(1R,3S)−(＋)−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタ
ム);
元素分析値 (C13H26O3Siとして)：
計算値 C 60.42％ H 10.14％
実測値 C 60.70％ H 10.51％
実施例 30ａ
(1S,3R)−(−)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタニル
アセテートの製造
(1S,3R)−(−)−シス−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノ
ール（209mg、2.5ミリモル、実施例30で製造した）、ピリジン(１ml)、無水酢酸
（0.1ml）およびDMAP（５mg）を混合した。反応混合物を室温で15.5時間撹拌し
た。反応混合物をジエチルエーテル（10ml）で希釈し、塩化ナトリウムで1/2飽
和させた0.5Ｍ HCl（２×10ml）、飽和重炭酸ナトリウム（10ml）、続いてブラ
イン（10ml）で洗浄した。濾液を分析した結果、表題化合物は92％ eeであった
。有機相を無水硫酸
(ｃ＝0.99、クロロホルム)；1H NMR（CDCl3）δ 5.0(m，1H)，4.2(m，1H)，2.2(
m，1H)，2.02(s，3H)，1.9(m，1H)，1.7(m，2H)，0.89(s，9H)，0.05(s，3H)，0
.04(s，3H);13C NMR（CDCl3）δ 171.3，75.0，72.7，42.3，34.3，30.5，26.0
，21.5，18.3，-4.5; IR(ニート)νmax2957，2932，2859，1740，1250，1115，1
096，1045 cm-1。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ
Ｃ０７Ｄ 307/20 Ｃ０７Ｄ 307/20
309/12 309/12
333/32 333/32
Ｃ０７Ｆ 7/08 Ｃ０７Ｆ 7/08 Ｇ
7/18 7/18 Ｈ
// Ｃ０７Ｃ 35/06 Ｃ０７Ｃ 35/06
Ｃ０７Ｍ 7:00
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，
ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ
Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ
，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，
ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ
Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ
，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ
，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，Ｉ
Ｓ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ
，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，
ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，Ｓ
Ｄ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ
，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ
(72)発明者 エバンズ，ジヨナサン・シー
アメリカ合衆国ミシガン州 48642．ミツ
ドランド．コングレスドライブ4616
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １．式(II) 〔式中、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニ ル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3 、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、 -CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH（フェニル）2、-C（フェニル）3、テトラ ヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロ ピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル 、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3(ここで、R1 、R2およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジル、置換フェ ニルまたは置換ベンジルである)からなる群より選択される〕のCIS化合物の新規 な製造法であって、 a) 式(Ｉ) （式中、Pgは上記で定義された通りである）の化合物を適当な有機溶媒に溶解 して、そして b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な 還元剤で処理することを含む前記方法。 ２．適当な還元剤は水素化リチウムアルミニウムである請求項１記載の方法。 ３．適当な有機溶媒はトルエン／ジエチルエーテルである請求項２記載の方法。 ４．適当な有機溶媒はジエチルエーテルである請求項２記載の方法。 ５．適当な有機溶媒はトルエン／ｔ−ブチルエーテルである請求項２記載の方法 。 ６．適当なルイス酸は沃化リチウムである請求項２、３または４の何れかの項記 載の方法。 ７．混合物を約−78℃〜約10℃の温度に冷却する請求項６記載の方法。 ８．混合物を約−25℃の温度に冷却する請求項６記載の方法。 ９．Pgはｔ−ブチルジメチルシリルである請求項８記載の方法。 10．式(IIａ) 〔式中、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニ ル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3 、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、 -CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH（フェニル）2、-C（フェニル）3、テトラ ヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロ ピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル 、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3(ここで、R1 、R2およびR3は互いに独立して C1-C4アルキル、フェニル、ベンジル、置換フェニルまたは置換ベンジルである) からなる群より選択される〕のCISエナンチオマーの新規な製造法であって、 a) 式(Ｉａ) （式中、Pgは上記で定義された通りである）のエナンチオマー化合物を適当な 有機溶媒に溶解して、そして b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な 還元剤で処理することを含む前記方法。 11．式(IIｂ) 〔式中、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニ ル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3 、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、 -CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2、-C(フェニル)3、テトラヒド ロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテトラヒドロピラ ニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、テ トラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3(ここで、R1、R2 およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジル、置換フェニル または置換ベン ジルである)からなる群より選択される〕のCISエナンチオマーの製造法であって 、 a) 式(Ｉｂ) （式中、Pgは上記で定義された通りである）のエナンチオマー化合物を適当な 有機溶媒に溶解して、そして b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な 還元剤で処理することを含む前記方法。 12．式(IIｂ)および(IV) 〔式中、ＺはC2-C4アルカノイルであり、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2H OCH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2 CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OC H(CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル )2、テトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテ トラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチ オピラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオ フラニルおよびSiR1R2R3(ここで、R1、R2およびR3は互いに独立してC1-C4アルキ ル、フェニル、ベンジル、置換フェニルまたは置換ベンジルである)からなる群 より選択される〕のCIS化合物の新規な製造法であって、 a) 式(Ｉ) （式中、Pgは上記で定義された通りである）の化合物を適当な有機溶媒に溶解 し、 b) 溶液を約−100℃〜約20℃の温度において適当なルイス酸および適当な 還元剤で処理して式(II) （式中、Pgは上記で定義された通りである）のCIS化合物を得、 c) 式(II)のCIS化合物を適当な溶媒中、適当な酵素および過剰の適当なア シル化剤で処理して上記で定義されたような式(IIｂ)および(IV)の化合物の混合 物を得、そして d) 式(IIｂ)の化合物を式(IV)の化合物から分離することを含む前記方法。 13．適当なアシル化剤は酢酸ビニルである請求項12記載の方法。 14．適当な酵素はパンクレアチンである請求項13記載の方法。 15．適当な溶媒はｔ−ブチルメチルエーテルである請求項14記載の方法。 16．適当な溶媒はシクロヘキサンである請求項14記載の方法。 17．さらに式(IV) 〔式中、ＺはC2-C4アルカノイルであり、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2O CH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2 CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH (CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2 、-C(フェニル)3、テトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル 、３−ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシ テトラヒドロチオピラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル およびSiR1R2R3（ここで、R1、R2およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フ ェニル、ベンジル、置換フェニルまたは置換ベンジルである）からなる群より選 択される〕の化合物を加水分解することを含む請求項12記載の式(IIａ) の化合物の製造法。 18．式(Ｉ)、(Ｉａ)または(Ｉｂ)の化合物を適当な還元剤で処理すると同時にま たはその前に適当なアルコールを反応混合物に加える請求項１、10、11、12また は17記載の方法。 19．適当なアルコールはｔ−ブチルジメチルシラノールである請求項18記載の方 法。 20．適当なアルコールはイソプロパノールである請求項18記載の方法。 21．式(VIｂ)および(VII) 〔式中、ＺはC2-C4アルカノイルであり、Pgはベンジル、置換ベンジル、-CH2O CH3、-CH2SCH3、-CH2OCH2フェニル、-CH2OCH2CH2OCH3、-CH2OCH2CCl3、-CH(OCH2 CH2Cl)2、-CH2OCH2CH2Si(CH3)3、-CH(OC2H5)CH3、-C(OCH3)(CH3)2、-CH(CH3)OCH (CH3)2、-CH2CCl3、-C(CH3)3、-CH2CH=CH2、-CH2CH=CHフェニル、-CH(フェニル)2 、テトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、３−ブロモテ トラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチ オピラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニルおよびSiR1R2R3 （ここで、R1、R2およびR3は互いに独立してC1-C4アルキル、フェニル、ベンジ ル、置換フェニルまたは置換ベンジルである）からなる群より選択される〕のCI S化合物の新規な製造法であって、 式(VI) （式中、Pgは上記で定義された通りである）のCIS化合物を適当な溶媒 中、適当な酵素および過剰の適当なアシル化剤で処理して上記で定義されたよう な式(VIｂ)および(VII)の化合物の混合物を得、そして f) 式(VIｂ)の化合物を式(VII)の化合物から分離することを含む前記方法 。 22．適当なアシル化剤は酢酸ビニルである請求項21記載の方法。 23．適当な酵素はパンクレアチンである請求項22記載の方法。 24．適当な溶媒はｔ−ブチルメチルエーテルである請求項23記載の方法。
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