JPH1149779A - チオビニルセファロスポリン誘導体の製造法 - Google Patents

チオビニルセファロスポリン誘導体の製造法

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JPH1149779A
JPH1149779A JP9208162A JP20816297A JPH1149779A JP H1149779 A JPH1149779 A JP H1149779A JP 9208162 A JP9208162 A JP 9208162A JP 20816297 A JP20816297 A JP 20816297A JP H1149779 A JPH1149779 A JP H1149779A
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JP
Japan
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group
compound
formula
amino
alkyl
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Withdrawn
Application number
JP9208162A
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English (en)
Inventor
Hironaga Masuya
浩大 桝屋
Norichika Matsumoto
憲親 松本
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication date
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】 【課題】抗菌作用を有するＥ体であるチオビニルセファ
ロスポリン誘導体の製造法の提供。 【解決手段】一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1は保護されたもしくはアシル化されたアミ
ノ基を、Ｒ2は保護されていてもよいカルボキシル基を
それぞれ示す〕で表わされる化合物またはその塩に、リ
ン化合物の存在下にジスルフィド化合物を作用させるこ
とにより、Ｅ体である一般式 【化２】 〔式中、Ｒ4は硫黄原子を介する基を示す。他の各記号
は前記と同意義を有する。〕で表わされる化合物または
その塩を有利に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗菌作用を有する
セファロスポリン誘導体を製造するための合成中間体の
製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開昭５５−１５４９８１号公報には、
セファロスポリン誘導体の３位がエナミノメチル基であ
る化合物を加水分解反応に付しスルホン酸エノールエス
テル誘導体あるいはアシルエノラート誘導体に変換し、
これにチオール化合物を作用させて３位がチオビニル基
である誘導体を製造する方法が示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】特開昭５５−１５４９
８１号公報に記載の方法では、３位がチオビニル基であ
る誘導体は、Ｅ体およびＺ体の混合物として得られ、Ｅ
体を得るには、該混合物を分離手段、例えば、クロマト
グラフィー等に付す必要がある。このような分離手段を
行わなければならない場合には、工業的生産の上では、
工程数が増えしかも操作が繁雑であるため、工業的製造
においては、不都合である。抗菌作用を有するセファロ
スポリン誘導体を工業的に有利に製造するために、工程
数が少なく、特定の立体配位を有する化合物の有利な製
造法が望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の事
情に鑑み、鋭意研究を行ったところ、一般式
【化３】 〔式中、Ｒ1は保護されたもしくはアシル化されたアミ
ノ基を、Ｒ2は保護されていてもよいカルボキシル基を
それぞれ示す〕で表わされる化合物またはその塩に、リ
ン化合物の存在下にジスルフィド化合物を作用させるこ
とにより、Ｅ体である一般式
【化４】 〔式中、Ｒ4は硫黄原子を介する基を示す。他の各記号
は前記と同意義を有する。〕で表わされる化合物または
その塩を有利に製造することができることを見いだし、
これに基づいてさらに研究した結果、本発明を完成し
た。
【０００５】本発明は、（１）一般式
【化５】 〔式中、Ｒ1は保護されたもしくはアシル化されたアミ
ノ基を、Ｒ2は保護されていてもよいカルボキシル基を
それぞれ示す〕で表わされる化合物またはその塩に、リ
ン化合物の存在下にジスルフィド化合物を作用させるこ
とを特徴とする一般式
【化６】 〔式中、Ｒ4は硫黄原子を介する基を示す。他の各記号
は前記と同意義を有する。〕で表わされる化合物または
その塩の製造法、
【０００６】（２）ジスルフィド化合物が式Ｒ5−Ｓ−
Ｓ−Ｒ5［式中、Ｒ5はそれぞれ置換されていてもよい炭
化水素または複素環基を示す］で表わされる化合物であ
る上記（１）項記載の製造法、（３）リン化合物が３価
のリン化合物である上記（１）項記載の製造法、（４）
３価のリン化合物がトリアルキルホスフィンである上記
（３）項記載の製造法、（５）トリアルキルホスフィン
がトリ−ｎ−ブチルホスフィンである上記（４）項記載
の製造法、（６）Ｒ5で示される複素環基が窒素原子を
１〜３個含む５〜８員環状基またはその縮合環基である
上記（１）項記載の製造法、および（７）Ｒ5で示され
る複素環基が４−ピリジル基である上記（４）項記載の
製造法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ1で示される保
護されたアミノ基における保護基としては、β−ラクタ
ムおよびペプチドの分野におけるアミノ基の保護基が適
宜に採用されうる。該アミノ基の保護基としてはたとえ
ば、置換されていてもよいＣ1-6アルカノイル基，置換
されていてもよいＣ3-5アルケノイル基，置換されてい
てもよいＣ6-10アリール−カルボニル基，複素環カルボ
ニル基，置換されていてもよいＣ1-10アルキルスルホニ
ル基，カンファースルホニル基、置換されていてもよい
Ｃ6-1 0アリールスルホニル基，置換オキシカルボニル
基，置換されていてもよいカルバモイル基，置換されて
いてもよいチオカルバモイル基，置換されていてもよい
Ｃ6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいジＣ
6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいトリＣ
6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいＣ6-10
アリール−メチレン基，置換されていてもよいＣ6-10ア
リールチオ基，置換シリル基，２−Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニル−１−メチル−１−エテニル基，式Ｍ'ＯＣ
Ｏ−〔式中、Ｍ'はアルカリ金属を示す。〕で表される
基などが用いられる。
【０００８】該「置換されていてもよいＣ1-6アルカノ
イル基」としてはたとえば、ハロゲン，オキソ，Ｃ1-6
アルコキシ，Ｃ1-6アルカノイル，Ｃ6-10アリール，ハ
ロゲノＣ6-10アリール，Ｃ6-10アリールオキシ，ハロゲ
ノＣ6-10アリールオキシ，Ｃ6-10アリールチオなどから
選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよいＣ
1-6アルカノイル基が用いられ、具体的にはたとえば、
ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バレリ
ル，ピバロイル，サクシニル，グルタリル，モノクロロ
アセチル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチル，モ
ノブロモアセチル，モノフルオロアセチル，ジフルオロ
アセチル，トリフルオロアセチル，モノヨードアセチ
ル，アセトアセチル，３−オキソブチリル，４−クロロ
−３−オキソブチリル，フェニルアセチル，ｐ−クロロ
フェニルアセチル，フェノキシアセチル，ｐ−クロロフ
ェノキシアセチルなどが用いられる。該「置換されてい
てもよいＣ3-5アルケノイル基」としてはたとえば、ハ
ロゲン，Ｃ6-10アリールなどから選ばれた１〜３個の置
換基で置換されていてもよいＣ3-5アルケノイル基が用
いられ、具体的にはたとえば、アクリロイル，クロトノ
イル，マレオイル，シンナモイル，ｐ−クロロシンナモ
イル，β−フェニルシンナモイルなどが用いられる。該
「置換されていてもよいＣ6-10アリール−カルボニル
基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，ヒドロキ
シ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた
１〜３個の置換基で置換されていてもよいＣ6-10アリー
ル−カルボニル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベ
ンゾイル，ナフトイル，フタロイル，ｐ−トルオイル，
ｐ−tert−ブチルベンゾイル，ｐ−ヒドロキシベンゾイ
ル，ｐ−メトキシベンゾイル，ｐ−tert−ブトキシベン
ゾイル，ｐ−クロロベンゾイル，ｐ−ニトロベンゾイル
などが用いられる。
【０００９】該「複素環カルボニル基」における「複素
環基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を１
個とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はた
とえば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸
素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好まし
くは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。
このような複素環基の具体的としては、後述のＲ5にお
けえる置換されていてもよい複素環基の複素環基の具体
例と同様のものが挙げられる。該「置換されていてもよ
いＣ1-10アルキルスルホニル基」としてはたとえば、ハ
ロゲン，Ｃ6-10アリール，Ｃ6-10アリールオキシなどか
ら選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよいＣ
1-10アルキルスルホニル基が用いられ、具体的にはたと
えばメタンスルホニル，エタンスルホニルなどが用いら
れる。
【００１０】該「置換されていてもよいＣ6-10アリール
スルホニル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，
Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜
３個の置換基で置換されていてもよいＣ6-10アリールス
ルホニル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンゼン
スルホニル，ナフタレンスルホニル，ｐ−トルエンスル
ホニル，ｐ−tert−ブチルベンゼンスルホニル，ｐ−メ
トキシベンゼンスルホニル，ｐ−クロロベンゼンスルホ
ニル，ｐ−ニトロベンゼンスルホニルなどが用いられ
る。該「置換オキシカルボニル基」としてはたとえば、
Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基，Ｃ3-10シクロアルキ
ルオキシカルボニル基，Ｃ5-10架橋環式炭化水素オキシ
カルボニル基，Ｃ2-10アルケノイルオキシ−カルボニル
基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基またはＣ7-19
アラルキルオキシ−カルボニル基のほか、それらがさら
にＣ1-6アルコキシ基，Ｃ1-6アルカノイル基，置換シリ
ル基（後記する置換シリル基、例、トリメチルシリル，
tert−ブチルジメチルシリル等），Ｃ1-6アルキルスル
ホニル基，ハロゲン，シアノ，Ｃ1-6アルキル基，ニト
ロ等から選ばれる置換基を１〜３個有しているものも含
まれる。具体的には例えばメトキシメチルオキシカルボ
ニル，アセチルメチルオキシカルボニル，２−トリメチ
ルシリルエトキシカルボニル，２−メタンスルホニルエ
トキシカルボニル，２,２,２−トリクロロエトキシカル
ボニル，２−シアノエトキシカルボニル，アリルオキシ
カルボニル，ｐ−メチルフエノキシカルボニル，ｐ−メ
トキシフエノキシカルボニル，ｐ−クロロフエノキシカ
ルボニル，ｍ−ニトロフエノキシカルボニル，ｐ−メチ
ルベンジルオキシカルボニル，ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル，ｐ−クロロベンジルオキシカルボニ
ル，ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル，ｏ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル，３,４−ジメトキシ−６−
ニトロベンジルオキシカルボニルなどが用いられる。
【００１１】該「置換されていてもよいカルバモイル
基」としてはたとえば、Ｃ1-6アルキル基，Ｃ6-10アリ
ール基，Ｃ1-6アルカノイル基，Ｃ6-10アリール−カル
ボニル基，Ｃ1-6アルコキシ−フェニル基などから選ば
れた１または２個の置換基で置換されていてもよいカル
バモイル基が用いられ、具体的にはたとえば、Ｎ−メチ
ルカルバモイル，Ｎ−エチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジ
メチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル，
Ｎ−フェニルカルバモイル，Ｎ−アセチルカルバモイ
ル，Ｎ−ベンゾイルカルバモイル，Ｎ−（ｐ−メトキシ
フェニル）カルバモイルなどが用いられる。 該「置換されていてもよいチオカルバモイル基」として
はたとえば、Ｃ1-6アルキル基，Ｃ6-10アリール基など
から選ばれた１または２個の置換基で置換されていても
よいチオカルバモイル基が用いられ、たとえば、チオカ
ルバモイル，Ｎ−メチルチオカルバモイル，Ｎ−フェニ
ルチオカルバモイルなどが用いられる。該「置換されて
いてもよいＣ6-10アリール−メチル基」としてはたとえ
ば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキ
シなどから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていて
もよいＣ6-10アリール−メチル基が用いられ、具体的に
はたとえば、ベンジル，ナフチルメチル，ｐ−メチルベ
ンジル，ｐ−メトキシベンジル，ｐ−クロロベンジル，
ｐ−ニトロベンジルなどが用いられる。該「置換されて
いてもよいジＣ6-10アリール−メチル基」としてはたと
えば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコ
キシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置換されてい
てもよいジＣ6-10アリール−メチル基が用いられ、具体
的にはたとえば、ベンツヒドリル，ジ（ｐ−トリル）メ
チルなどが用いられる。該「置換されていてもよいトリ
Ｃ6-10アリール−メチル基」としてはたとえば、ハロゲ
ン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから
選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよいトリ
Ｃ6-10アリール−メチル基が用いられ、具体的にはたと
えば、トリチル，トリ（ｐ−トリル）メチルなどが用い
られる。該「置換されていてもよいＣ6-10アリール−メ
チレン基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいＣ6-10アリール−メ
チレン基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンジリデ
ン，ｐ−メチルベンジリデン，ｐ−クロロベンジリデン
などが用いられる。該「置換されていてもよいＣ6-10ア
リールチオ基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，
Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜
３個の置換基で置換されていてもよいＣ6-10アリールチ
オ基が用いられ、具体的にはたとえば、ｏ−ニトロフェ
ニルチオなどが用いられる。
【００１２】該「置換シリル基」は保護されるアミノ基
とあわさって式Ｒ8Ｒ9Ｒ10ＳiＮＨ−，(Ｒ8Ｒ9Ｒ10Ｓi)
2Ｎ−または
【化７】 〔式中、Ｒ8,Ｒ9,Ｒ10,Ｒ11,Ｒ12,Ｒ11aおよびＲ12aは
それぞれＣ1-6アルキル基またはＣ6-10アリール基を、
ＺaはＣ1-3アルキレン基（メチレン，エチレン，プロピ
レン）を示す〕で表わされるような基を形成する。
【００１３】該「置換シリル基」の好ましい例としては
たとえば、トリメチルシリル，tert−ブチルジメチルシ
リル，−Ｓi(ＣＨ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−などが用
いられる。該「２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル−１
−メチル−１−エテニル基」として具体的にはたとえ
ば、２−メトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニ
ル，２−エトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニ
ル，２−tert−ブトキシカルボニル−１−メチル−１−
エテニル，２−シクロヘキシルオキシカルボニル−１−
メチル−１−エテニル，２−ノルボルニルオキシカルボ
ニル−１−メチル−１−エテニルなどが用いられる。 上記式において、Ｒ1はＣ1-10アルコキシ−カルボニル
基、Ｃ6-10アリール基で置換されていてもよいＣ1-6ア
ルカノイル基が好ましく、該Ｃ1-10アルコキシ−カルボ
ニル基としてはtert−ブトキシカルボニルが特に好まし
く、該Ｃ6-10アリール基で置換されていてもよいＣ1-6
アルカノイル基としてはホルミル、フェニルアセチル等
が特に好ましい。
【００１４】アシル化されたアミノ基におけるアシル基
としては、従来知られているペニシリン誘導体の６位ア
ミノ基に置換しているアシル基、セファロスポリン誘導
体の７位アミノ基に置換しているアシル基等が用いられ
る。アシル基の例としては、例えば、式
【化８】 ［式中、Ｒ20はアルキルまたは複素環基＊を表す］で表
わされる基、式
【化９】 ［式中、Ｒ21は水素、アミノ酸残基、アミノ基の保護基
または式Ｒ23−(ＣＨ2)ｎ1−ＣＯ−（式中、Ｒ23は複素
環基＊を、ｎ１は０〜２の整数を、それぞれ表す）で表
わされる基を、Ｒ22はアルキル、フェニル＊または複素
環基＊をそれぞれ表す］で表わされる基、
【００１５】式
【化１０】 ［式中、Ｒ24は式
【化１１】 （式中、Ｒ26はアルキル基＊、複素環基＊またはフェニ
ル＊を、Ｒ27は水素、アルキル＊、シクロアルキル、ア
ルケニル＊、アルカノイル＊または式−Ｒ28−Ｒ29（式
中、Ｒ28はアルキレンまたはアルケニレンを、Ｒ29はフ
ェニル＊、カルボキシまたはそのエステルまたはモノま
たはジアルキルアミノをそれぞれ表す。）で表わされる
基を、それぞれ表す。）で表わされる基を、Ｒ25は結合
手または式
【化１２】 （式中、Ｒ30はアルキル、フェニル＊またはチアゾリル
基＊を表す）で表わされる基を、それぞれ表す。］で表
わされる基、
【００１６】式
【化１３】 ［式中、Ｒ31はヒドロキシ、ヒドロキッスルホニルオキ
シ、カルボキシ、カルバモイル＊、スルファモイル＊、
スルホまたはフェノキシ＊−カルボニル、ホルミルオキ
シを、Ｒ32は水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
ニトロ、ヒドロキシを、それぞれ表わす。］で表わされ
る基、式
【化１４】 ［式中、Ｒ33はシアノ、フェニル＊、フェノキシ＊、ア
ルキル＊、アルケニレン＊または複素環基＊を、Ｒ34は
結合手または−Ｓ−をそれぞれ表わす］で表わされる基
などが挙げられる。前記Ｒ24における式
【化１５】 は、式
【化１６】 で表わされるシン異性体と式
【化１７】 で表わされるアンチ異性体またはそれらの混合物を表わ
す。
【００１７】前記式中、式［Ｂ］で表わされる基で好ま
しいものとしては、式
【化１８】 ［式中、Ｒ21'はアミノ基の保護基または式Ｒ23−(ＣＨ
2)ｎ1−ＣＯ−（式中、Ｒ23は複素環基＊を、ｎ１は０
〜２の整数を、それぞれ表す）で表わされる基を、
Ｒ22'はフェニル＊または複素環基＊をそれぞれ表す］
で表わされる基が挙げられる。前記式中、式［Ｃ］で表
わされる基で好ましいものとしては、式
【化１９】 ［式中、Ｒ26'は複素環基＊またはフェニル＊を、Ｒ27'
は水素、アルキル＊または式−Ｒ28−Ｒ29'（式中、Ｒ
28は前記と同意義を、Ｒ29'はカルボキシルまたはその
エステルをそれぞれ表す。）で表わされる基を、それぞ
れ表す。］で表わされる基が挙げられる。
【００１８】前記式中、式［Ｅ］で表わされる基で好ま
しいものとしては、式
【化２０】 ［式中、Ｒ33'は複素環基＊を、Ｒ34は前記と同意義を
示す］で表わされる基が挙げられる。特に、抗菌作用に
関しては、式
【化２１】 ［式中、Ｑ7はアミノまたは保護されたアミノ基を、Ｑ8
はアルキル＊、アルケニル、式−ＣＨ2ＣＯＯＱ9で表わ
される基または式
【化２２】 で表わされる基を示す。式中、ＣＯＯＱ9はカルボキシ
ルまたはそのエステルを、ＸはＣＨまたはＮをそれぞれ
示す。］で表わされる基が、Ｒ1のアシル化されたアミ
ノ基のアシルとしてより好ましい。
【００１９】上記基Ｒ20〜Ｒ34において、「置換基を有
していてもよい」基の場合には、基の右に＊印を付して
表わす。例えば、「置換基を有していてもよいアルキ
ル」の場合には「アルキル＊」として表わす。この場
合、置換基の数は１個に限定されず、置換される基によ
っては、２〜数個（好ましくは、２〜４個）の同一また
は相異なる置換基を有していてもよい。上記基におい
て、アルキル基としては、Ｃ1-6アルキル基が好まし
く、その例としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ter
t−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、２,２−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘ
キシルなどが挙げられる。上記基において、置換基を有
していてもよい複素環基における複素環基としては、前
記の複素環カルボニル基における複素環基と同様のもの
が挙げられる。上記基において、アミノ酸残基として
は、例えば、グリシル、アラニル、バリル、ロイシル、
イソロイシル、セリル、スレオニル、システイル、シス
チル、メチオニル、α−またはβ−アスパラギル、α−
またはγ−グルタミル、リジル、アルギニル、フェニル
アラニル、フェニルグリシル、チロシル、ヒスチジル、
トリプトファニル、プロリルなどが挙げられる。上記基
において、アミノ基の保護基としては、前記したものと
同様のものが挙げられる。上記基において、アルケニル
基としては、Ｃ2-6アルケニル基が好ましく、その例と
しては、ビニル、アリル、１−プロペニル、イソプロペ
ニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、ブ
タジエニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メタリ
ル、３−メタリル、２−メチルアリル、１,１−ジメチ
ルアリル、ヘキサトリエニル、１−ペンテニル、１−ヘ
キセニルなどが挙げられる。上記基において、アルキレ
ン基としては、Ｃ1-6アルキレン基が好ましく、その例
としては、例えば、メチレン、エチレン、ｎ−プロピレ
ン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、イソブチレン、ｎ
−ペンチレン、ｎ−ヘキシレンなどが挙げられる。上記
基において、アルケニレン基としては、Ｃ2-6アルケニ
レン基が好ましく、その例としては、例えば、ビニレ
ン、プロペニレン、ブテニレンなどが挙げられる。
【００２０】上記基において、カルボキシル基における
エステルとしては、Ｃ1-6アルキルエステル（例、メチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ｎ−
ブチルエステル、イソブチルエステル、sec-ブチルエス
テル、tert-ブチルエステル等）等が挙げられる。上記
基において、アルコキシ基としては、Ｃ1-6アルコキシ
基が好ましく、その例としては、例えば、メトキシ、エ
トキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオ
キシ、tert-ペンチルオキシ、２,２−ジメチルプロピル
オキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシなど
が挙げられる。上記基において、アルカノイル基として
は、Ｃ1-6アルカノイル基が好ましく、その例として
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロ
イル、ヘキサノイルなどが挙げられる。上記基におい
て、置換基を有していてもよい複素環基における置換
基、置換基を有していてもよいフェニル基における置換
基、置換基を有していてもよいチアゾリル基における置
換基、置換基を有していてもよいフェノキシカルボニル
基における置換基および置換基を有していてもよいフェ
ノキシ基における置換基としては、例えば、(1)Ｃ1-6ア
ルキル、(2)Ｃ1-6アルコキシ、(3)Ｃ2-6アルケニル、
(4)Ｃ6-10アリール、(5)Ｃ7-20アラルキル、(6)メルカ
プト、(7)Ｃ1-6アルキルチオ、(8)Ｃ6-14アリールチ
オ、(9)Ｃ7-19アラルキルチオ、(10)Ｃ1-6アルキルスル
ホニル、(11)Ｃ6-10アリールスルホニル、(12)Ｃ7-20ア
ラルキルスルホニル、(13)トリハロゲノＣ1-6アルキ
ル，(14)ヒドロキシ、(15)オキソ、(16)チオキソ、(17)
ハロゲン、(18)ニトロ、(19)アミノ、(20)シアノ、(21)
カルバモイル、(22)カルボキシ、(23)Ｃ1-6アルカノイ
ル、(24)Ｃ1-6アルカノイルオキシ、(25)Ｃ1-6アルカノ
イルアミノ、(26)ヒドロキシＣ1-6アルキル，(27)カル
ボキシ−Ｃ1-6アルキル、(28)ハロゲノＣ1-6アルキル，
(29)モノ−またはジ−Ｃ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキ
ル、(30)ピリジル、(31)チエニル、(32)チアジアゾリ
ル、(33)フェニルなどが挙げられる。置換基を有してい
てもよいチアゾリル基における置換基としては、上記し
たものに加え、Ｃ2-6アシルアミノが挙げられ、該Ｃ2-6
アシルアミノは、置換基として、１〜２個のＣ1-4アル
キル（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル
等）、Ｃ1-4アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、ｎ
−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブ
トキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ等）、ハロゲ
ン、ヒドロキシ、アミノ等を有していてもよい。置換基
を有していてもよい複素環基における置換基としては、
上記したＣ6-14アリールは、置換基として、１〜２個の
Ｃ1-4アルキル（例は上記と同様）、Ｃ1-4アルコキシ
（例は上記と同様）、ハロゲン、ニトロ、アミノ等を有
していてもよい。
【００２１】上記において、置換基を有していてもよい
カルバモイルにおける置換基としては、例えば、ナトリ
ウムやカリウムなどと適宜塩を形成したスルホ、カルバ
モイル、スルファモイル、アミジノ、Ｃ1-4アルキル
（例は上記と同様）などが挙げられる。上記において、
置換基を有していてもよいスルファモイルにおける置換
基としては、例えば、Ｃ1-4アルキル（例は上記と同
様）、アミジノなどが挙げられる。上記において、置換
基を有していてもよいアルキルにおける置換基として
は、例えば、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、トリフル
オロメチルなどが挙げられる。上記において、置換基を
有していてもよいアルケニルにおける置換基としては、
例えば、カルボキシ、シアノなどが挙げられる。上記に
おいて、置換基を有していてもよいアルカノイルにおけ
る置換基としては、例えば、ハロゲン、ヒドロキシ、シ
アノ、トリフルオロメチルなどが挙げられる。
【００２２】上記のアシル基において、式［Ａ］で表さ
れるアシル基の具体例としては、例えば、３−（２，６
−ジクロロフェニル）−５−メチルイソキサゾール−４
−イル−カルボニル、４−エチル−２，３−ジオキソ−
１−ピペラジノカルボニルなどが挙げられる。上記のア
シル基において、式［Ｂ］で表されるアシル基の具体例
としては、例えば、Ｄ−アラニル、ベンジルＮα −カ
ルボベンゾキシ−γ−Ｄ−グルタミル−Ｄ−アラニル、
Ｄ−フェニルグリシル−Ｄ−アラニル、Ｎ−カルボベン
ゾキシ−Ｄ−アラニル、Ｎ−カルボベンゾキシ−Ｄ−フ
ェニルグリシル、Ｄ−アラニル−Ｄ−フェニルグリシ
ル、γ−Ｄ−グルタミル−Ｄ−アラニル、２−(４−エ
チル−２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミ
ド）−２−フェニルアセチル、２−(４−エチル−２,３
−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド)−２−(４
−スルホキシフェニル)アセチル、Ｎ−(４−エチル−
２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボニル)−Ｄ−ア
ラニル、Ｎ−(４−エチル−２,３−ジオキソ−１−ピペ
ラジノカルボニル)−Ｄ−フェニルグリシル、２,２−ビ
ス−(４−エチル−２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカ
ルボキサミド)アセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾ
リル)−２−(４−エチル−２,３−ジオキソ−１−ピペ
ラジノカルボキサミド)アセチル、２−(４−ヒドロキシ
−６−メチルニコチンアミド)−２−フェニルアセチ
ル、２−(４−ヒドロキシ−６−メチルニコチンアミド)
−２−(４−ヒドロキシフェニル)アセチル、２−｛５,
８−ジヒドロ−２−(４−ホルミル−１−ピペラジニル)
−５−オキソピリド[２,３−ｄ]ピリミジン−６−カル
ボキサミド}−２−フェニルアセチル、２−(３,５−ジ
オキソ−１,２,４−トリアジン−６−カルボキサミド)
−２−(４−ヒドロキシフェニル)アセチル、２−(３−
フルフリデンアミノ−２−オキソイミダゾリジン−１−
カルボキサミド)−２−フェニルアセチル、２−(クマリ
ン−３−カルボキサミド)−２−フェニルアセチル，２
−(４−ヒドロキシ−７−メチル−１，８−ナフチリジ
ン−３−カルボキサミド)−２−フェニルアセチル、２
−(４−ヒドロキシ−７−トリフルオロメチルキノリン
−３−カルボキサミド)−２−フェニルアセチル、Ｎ−
[２−（２−アミノ−４−チアゾリル）アセチル]−Ｄ−
フェニルグリシル、２−(６−ブロモ−１−エチルー
１，４−ジヒドロ−４−オキソチエノ[２，３−ｂ]ピリ
ジン−３−カルボキサミド)−２−フェニルアセチル，
２−(４−エチル−２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカ
ルボキサミド)−２−チエニルアセチル、２−(４−ｎ−
ペンチル−２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキ
サミド)−２−チエニルアセチル、２−(４−ｎ−オクチ
ル−２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド)
−２−チエニルアセチル、２−(４−シクロへキシル−
２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド)−２
−チエニルアセチル、２−[４−(２−フェニルエチル)
−２,３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド]−
２−チエニルアセチル、２−(３−メチルスルホニル−
２−オキソイミダゾリジン−１−カルボキサミド)−２
−フェニルアセチル，２−(３−フルフリデンアミノ−
２−オキソイミダゾリジン−１−カルボキサミド)−２
−(４−ヒドロキシフェニル）アセチル、２−(４−エチ
ル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミ
ド)−２−(４−ベンジルオキシフェニル)アセチル、２
−(４−エチル−２,3-シ゛オキソ-1-ヒ゜ヘ゜ラシ゛ノカルホ゛キサミト゛)−２−(４
−メトキシフェニル)アセチル、２−(８−ヒドロキシ
１,５ナフチリジン−７−カルボキサミド)−２−フェニ
ルアセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２−
ホルムアミドアセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾ
リル)−２−アセタミドアセチルなどが挙げられる。
【００２３】式［Ｃ］で表わされるアシル基の具体例と
して、例えば、Ｎ−[２−(２−アミノ−４−チアゾリ
ル)−２−メトキシイミノアセチル]−Ｄ−アラニル、Ｎ
−[２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２−メトキシ
イミノアセチル]−Ｄ−フェニルグリシル、２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−[２−(２−アミノ−４
−チアゾリル)−２−メトキシイミノアセタミド]−アセ
チル、２−(２−クロロアセタミド−４−チアゾリル)−
２−メトキシイミノアセチル、２−(２−アミノ−４−
チアゾリル)−２−メトキシイミノアセチル、２−(２−
アミノ−４−チアゾリル)−２−エトキシイミノアセチ
ル、２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２−プロポキ
シイミノアセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾリル)
−２−ブトキシイミノアセチル、２−(２−アミノ−４
−チアゾリル)−２−ベンジルオキシイミノアセチル、
２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２−アリルオキシ
イミノアセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−
２−[(１−メチル−１−カルボキシエチル)オキシイミ
ノ]アセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２
−[(１−メチル−１−メトキシカルボニルエチル)オキ
シイミノ]アセチル、２−(２−アミノ−４−チアゾリ
ル)−２−カルボキシメチルオキシイミノアセチル、２
−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２−カルボキシビニ
ルオキシイミノアセチル、２−(２−アミノ−４−チア
ゾリル)−２−カルボキシエチルオキシイミノアセチ
ル、２−(２−アミノ−４−チアゾリル)−２−メトキシ
カルボニルエチルオキシイミノアセチル、２−(２−ア
ミノ−５−クロロ−４−チアゾリル)−２−メトキシイ
ミノアセチル、２−(２−アミノ−５−ブロモ−４−チ
アゾリル)−２−メトキシイミノアセチル、２−(２−ア
ミノ−４−チアゾリル)−２−オキシイミノアセチル、
２−チエニル−２−メトキシイミノアセチル、２−フリ
ル−２−メトキシイミノアセチル、２−(１,２,４−チ
アジアゾール−３−イル)−２−メトキシイミノアセチ
ル、２−(５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３
−イル)−２−メトキシイミノアセチル、２−(５−アミ
ノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イル)−２−フル
オロメトキシイミノアセチル、２−(５−アミノ−１,
２,４−チアジアゾール−３−イル)−２−フルオロエト
キシイミノアセチル、２−(１,２,４−チアジアゾール
−５−イル)−２−メトキシイミノアセチル、２−(１,
３,４−チアジアゾリル)−２−メトキシイミノアセチ
ル、２−(４−ハイドロキシフェニル)−２−メトキシイ
ミノアセチル、２−フェニル−２−メトキシイミノアセ
チル、２−フェニル−２−オキシイミノアセチル、２−
[４−(γ−Ｄ−グルタミルオキシ)フェニル]−２−オキ
シイミノアセチル、２−[４−(３−アミノ−３−カルボ
キシプロポキシ）フェニル]−２−オキシイミノアセチ
ルなどが挙げられる。
【００２４】式［Ｄ］で表わされるアシル基の具体例と
しては、例えば、α−スルホフェニルアセチル、α−ハ
イドロキシフェニルアセチル、α−ウレイドフェニルア
セチル、α−スルホウレイドフェニルアセチル、α−ス
ルファモイルフェニルアセチル、α−フェノキシカルボ
ニルフェニルアセチル、α−(ｐ−トリルオキシカルボ
ニル)フェニルアセチル、α−ホルミルオキシフェニル
アセチルなどが挙げられる。式［Ｅ］で表わされるアシ
ル基の具体例としては、例えば、シアノアセチル、フェ
ニルアセチル、フェノキシアセチル、トリフルオロメチ
ルチオアセチル、シアノメチルチオアセチル、１Ｈ−テ
トラゾリル−１−アセチル、チエニルアセチル、２−
(２−アミノ−４−チアゾリル)アセチル、４−ピリジル
チオアセチル、２−チエニルチオアセチル、３,５−ジ
クロロ−１,４−ジヒドロ−４−オキソピリジン−１−
アセチル、β−カルボキシビニルチオアセチル、２−
(２−アミノメチルフェニル)アセチルなどが挙げられ
る。上記のアシル基中のアミノ基および／またはカルボ
キシル基および／またはヒドロキシル基は、保護基を有
している場合も含む。該アミノ基の保護基としては、前
述の「アミノ基の保護基」と同様のものが挙げられる。
また、カルボキシル基およびヒドロキシル基の保護基と
しては、前記Ｒ2で述べたものなどが挙げられる。
【００２５】上記一般式におけるＲ2で示される保護さ
れていてもよいカルボキシル基における保護基として
は、通常有機合成化学の分野で使用される、特にセファ
ロスポリンなどのβ−ラクタム系抗生物質の分野で使用
されるカルボキシル基の保護基が用いられる。そのよう
な保護基としては、それぞれ置換されていてもよいＣ
1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、Ｃ6-10アリール基
またはＣ7-20アラルキル基などがあげられる。そのよう
なＣ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、Ｃ6-10アリー
ル基またはＣ7-20アラルキル基の置換基としては、たと
えばヒドロキシル基、ニトロ基、ハロゲン、Ｃ1-6アル
コキシ基、Ｃ1-10アルカノイルオキシ基、Ｃ3-10シクロ
アルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ6-10アリール−カル
ボニルオキシ基、Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルオキシ
基、Ｃ3-10シクロアルキルオキシ−カルボニルオキシ
基、Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ基、トリ（Ｃ
1-6アルキル）シリル基（例、トリメチルシリル，tert
−ブチルジメチルシリル）、Ｃ1-6アルキルチオ基など
をあげることができる。このような置換基の数は好まし
くは１ないし３個であって、複数の置換基の場合はそれ
らは同一であっても異なっていてもよい。Ｒ2として
は、置換されていてもよいＣ7-20アラルキル基が好まし
く、特にベンツヒドリル、メトキシベンジル等が好まし
い。
【００２６】上記式中、Ｒ4で表わされる硫黄原子を介
する基としては、例えば、式−Ｓ(Ｏ)ｎ−Ｒ5（式中、
ｎは０〜２の整数を、Ｒ5は、水素原子、置換基を有し
ていてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよい複
素環基をぞれぞれ示す）で表わされる基が挙げられる。
該炭化水素基としては、たとえば、(1)Ｃ1-15アルキル
基（例、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テト
ラデシル、ペンダデシルなど）、(2)Ｃ3-10シクロアル
キル基（例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオク
チル、シクロノニルなど）、(3)Ｃ2-10アルケニル基
（例、ビニル、アリル、１−ブテニル、２−ブテニル、
ブタジエニル、イソプロペニル、２−メチルアリル、ヘ
キサトリエニル、３−オクテニルなど）、(4)Ｃ2-10ア
ルキニル基（例、エチニル、プロパルギル、２−プロピ
ニル、イソプロピニル、２-ブチニル、３−ヘキシニル
など）、(5)Ｃ3-10シクロアルケニル基（例、シクロプ
ロペニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル）、
(6)Ｃ6-14アリール基（例、フェニル、ナフチル、アン
トリル、フェナントリル、アセナフチル、アントラセニ
ルなど）、(7)Ｃ7-19アラルキル基（例、ベンジル、フ
ェネチル、ベンツヒドリル、トリチル）などが挙げられ
る。
【００２７】該炭化水素基は、１〜６個、好ましくは１
〜３個の置換基を有していてもよく、該置換基の例とし
ては、例えば、(1)ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素）、(2)ニトロ、(3)ニトロソ、(4)ヒドロキ
シ、(5)オキソ、(6)チオキソ、(7)スルホ、(8)シアノ、
(9)アジド、(10)カルバモイル、(11)Ｎ-モノ置換カルバ
モイル基（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ル、プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル
などのＣ1-6アルキルカルバモイル基など）、(12)Ｎ,Ｎ
-ジ置換カルバモイル基（例、ジメチルカルバモイル、
ジエチルカルバモイルなどのＣ1-6アルキル基で置換さ
れたＮ,Ｎ-ジ置換カルバモイル基など）、(13)スルファ
モイル基、(14)Ｎ-モノ置換スルファモイル基（例、メ
チルスルファモイル、エチルスルファモイル、プロピル
スルファモイル基などのＣ1-6アルキル基を有するＮ-ア
ルキルスルファモイル基など）、(15)Ｎ,Ｎ-ジ置換スル
ファモイル基（例、ジメチルスルファモイル、ジエチル
スルファモイルなどのＣ1-6アルキル基で置換されたＮ,
Ｎ-ジ置換スルファモイル基など）、(16)カルボキシル
基、(17)Ｃ1-4アルコキシ−カルボニル基（例、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカ
ルボニルなど）、(18)Ｃ1-6アルコキシ基（例、メトキ
シ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−
ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブト
キシなど）、(19)Ｃ6-16アリールオキシ基（例、フェニ
ルオキシ、ナフチルオキシなど）、(20)Ｃ2-4アルケニ
ルオキシ基（例、ビニルオキシ、アリルオキシなど）、
(21)シクロアルキルオキシ基（例、シクロプロピルオキ
シ、シクロエチルオキシなどのＣ3-7アラルキルオキシ
基など）、(22)アラルキルオキシ基（例、ベンジルオキ
シなどＣ7-13アラルキルオキシ基など）、(23)Ｃ1-3ア
ルキレンジオキシ（例、メチレンジオキシ、エチレンジ
オキシ、プロピレンジオキシなど）、(24)メルカプト
基、(25)Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチ
ルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブ
チルチオ、tert−ブチルチオなど）、(26)アラルキルチ
オ基（例、ベンジルチオなどのＣ7-13アラルキルチオ基
など）、(27)アリールチオ基（例、フェニルチオ、ナフ
チルチオなど）、(28)Ｃ1-6アルキルスルフィニル基
（例、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロ
ピルスルフィニル、ブチルスルフィニルなど）、(29)Ｃ
1-6アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル、エ
チルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニ
ルなど）、(30)式−Ｓ(Ｏ)ｔ−Ｒ （式中、ｔは０〜２
の整数を、Ｒ はアミノを示す。）で示される基、(31)
アミノ、(32)Ｃ1-6アシルアミノ（例、ホルミルアミ
ノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノなど）、(33)
モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルアミノ（例、メチルア
ミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、イソプロピ
ルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノなど）、(34)Ｃ1-6アシル（例、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ヘキサノ
イルなど）、(35)Ｃ6-12アリール−カルボニル（例、ベ
ンゾイルなど）、(36)複素環基〔例、窒素原子、酸素原
子及び硫黄原子から選ばれる１ないし４個のヘテロ原子
を含有する５ないし１０員の芳香族複素環基（例、フリ
ル、チエニル、ピロリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イミダゾリル、
トリアゾリル、テトラゾリル、ピラゾリル、ピリジル、
ピリミジル、ピリダジニル、キノリル、イソキノリル、
インドリルなど）、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子か
ら選ばれる１ないし４個のヘテロ原子を含有する３ない
し９員の非芳香族複素環基（例、オキシラニル、アゼチ
ジニル、オキセタニル、チエタニル、ピロリジニル、テ
トラヒドロフリル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒ
ドロピラニル、オキサゾリジノ、モルホリニル、チオモ
ルホリニル、チアゾリジノ、ピペラジニル、ヘキサメチ
ルイミノなど）〕などが挙げられる。なお、炭素原子が
オキソ基で置換された場合は、−ＣＯ−で表わされる基
となる。
【００２８】上記の炭化水素基の置換基は、さらに置換
基を１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有していても
よく、該さらに有していてよい置換基としては、例え
ば、(1)ヒドロキシ、(2)アミノ、(3)Ｃ1-4アルキル基
（例、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル）、
(4)ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、(5)
Ｃ1-4アルキルチオ（例、メチルチオ、エチルチオ、ｎ
−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、
ｔ−ブチルチオなど）、(6)Ｃ1-4アルコキシ（例、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブ
トキシなど）などを有していてもよい。
【００２９】前記置換されていてもよい複素環基におけ
る複素環基としては、例えば、酸素原子，硫黄原子また
は窒素原子のヘテロ原子を１〜４個含む５〜８員の複素
環状基またはその縮合複素環基が挙げられる。このよう
な複素環基としては、(1)例えば、２−または３−チエ
ニル、２−または３−フリル、２−または３−ピロリ
ル、２−,４−または５−オキサゾリル、２−,４−また
は５−チアゾリル、３−,４−または５−ピラゾリル、
２−,４−または５−イミダゾリル、３−,４−または５
−イソオキサゾリル、３−,４−または５−イソチアゾ
リル、３−または５−(１,２,４−オキサジアゾリル)、
１,３,４−オキサジアゾリル、３−または５−(１,２,
４−チアジアゾリル)、１,３,４−チアジアゾリル、４
−または５−(１,２,３−チアジアゾリル)、１,２,５−
チアジアゾリル、１,２,３−トリアゾリル、１,２,４−
トリアゾリル、１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル等の炭
素原子以外に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等から選ば
れたヘテロ原子を１ないし４個含む５員複素環基、(2)
例えば、２−,３−または４−ピリジル、２−,４−また
は５−ピリミジニル、２−,４−または５−ピリミジニ
ル、チオモルホリニル、モルホリニル、オキソイミダジ
ニル、トリアジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピ
ラニル、チオピラニル、１,４−オキサジニル、１,４−
チアジニル、１,３−チアジニル、ピペラジニル、トリ
アジニル、オキソトリアジニル、３−または４−ピリダ
ジニル、ピラジニル、３−または４−ピリダジニル等の
炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等から選
ばれたヘテロ原子を１ないし４個含む６員複素環基、
(3)例えば、ベンゾフリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾ
オキサゾリル、テトラゾロ[１,５−ｂ]ピリダジニル、
トリアゾロ[４,５−ｂ]ピリダジニル、ベンツイミダゾ
リル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラ
ジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、インドリジニ
ル、キノリジニル、１,８−ナフチリジニル、プリニ
ル、プテリジニル、ジベンゾフラニル、カルバゾリル、
アクリジニル、フェナントリジニル、クロマニル、ベン
ゾオキサジニル、フェナジニル、フェノチアジニル、フ
ェノキサジニル、式
【化２３】 〔式中、Ｂ環はヘテロ原子が１または２個の窒素原子で
ある６員芳香族複素環を示す。〕で表されるイミダゾー
ル縮合環基等の炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子、窒
素原子等から選ばれたヘテロ原子を１ないし４個含む２
環性または３環性縮合複素環基、が挙げられる。
【００３０】上記置換されていてもよい複素環基におけ
る複素環基の好ましいものとしては、例えば、イミダゾ
リル，オキサゾリル，イソオキサゾリル，チアゾリル，
１,４−チアジニル，イミダゾリニル、式
【化２４】
【００３１】
【化２５】 ［式中の記号は前記と同意義］で表わされる基などが挙
げられる。
【００３２】該複素環基が置換基を有している場合の置
換基としては、例えば(1)Ｃ1-6アルキル（例、メチル，
エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチ
ル，sec-ブチル，tert-ブチル等）、(2)Ｃ2-6アルケニ
ル（例、ビニル，1-メチルビニル，1-プロペニル，アリ
ル等）、(3)Ｃ2-6アルキニル（例、エチニル，1-プロピ
ニル，プロパルギル等）、(4)Ｃ3-6シクロアルキル
（例、シクロプロピル，シクロブチル，シクロペンチ
ル，シクロヘキシル等）、(5)Ｃ5-7シクロアルケニル
（例、シクロペンテニル，シクロヘキセニル等）、(6)
Ｃ7-11アラルキル（例、ベンジル，α-メチルベンジ
ル，フェネチル等）、(7)Ｃ6-14アリール（例、フェニ
ル，ナフチル等）、(8)Ｃ1-6アルコキシ（例、メトキ
シ，エトキシ，プロポキシ，iso-プロポキシ，n-ブトキ
シ，iso-ブトキシ，sec-ブトキシ，tert-ブトキシ
等）、(9)Ｃ6-14アリールオキシ（例、フェノキシ
等）、(10)Ｃ1-6アルカノイル（例、ホルミル，アセチ
ル，プロピオニル，n-ブチリル，iso-ブチリル等）、(1
1)Ｃ6-14アリール-カルボニル（例、ベンゾイル等）、
(12)Ｃ1-6アルカノイルオキシ（例、ホルミルオキシ，
アセチルオキシ，プロピオニルオキシ，n-ブチリルオキ
シ，iso-ブチリルオキシ等）、(13)Ｃ6-14アリール-カ
ルボニルオキシ（例、ベンゾイルオキシ等）、(14)カル
ボキシル、(15)Ｃ1-6アルコキシ-カルボニル（例、メト
キシカルボニル，エトキシカルボニル，n-プロポキシカ
ルボニル，iso-プロポキシカルボニル，n-ブトキシカル
ボニル，イソブトキシカルボニル，tert-ブトキシカル
ボニル等）、(16)カルバモイル基、(17)Ｎ−モノ−Ｃ
1-4アルキルカルバモイル（例、N-メチルカルバモイ
ル，N-エチルカルバモイル，N-プロピルカルバモイル，
N-イソプロピルカルバモイル，N-ブチルカルバモイル
等）、(18)Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ1-4アルキルカルバモイル
（例、N,N-ジ メチルカルバモイル，N,N-ジエチルカル
バモイル，N,N-ジプロピルカルバモイル，N,N-ジブチル
カルバモイル等）、(19)環状アミノカルボニル（例、1-
アジリジニルカルボニル，1-アゼチジニルカルボニル，
1-ピロリジニルカルボニル，1-ピペリジニルカルボニ
ル，N-メチルピペラジニルカルボニル，モルホリノカル
ボニル等）、(20)ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素）、(21)モノ−，ジ−またはトリハロゲノＣ1-4
アルキル（例、クロロメチル，ジクロロメチル，トリフ
ルオロメチル，トリフルオロエチル等）、(22)オキソ
基、(23)アミジノ、(24)イミノ基、(25)アミノ、(26)モ
ノ−又はジＣ1-4アルキルアミノ（例、メチルアミノ，
エチルアミノ，プロピルアミノ，イソプロピルアミノ，
ブチルアミノ，ジメチルアミノ，ジエチルアミノ，ジプ
ロピルアミノ，ジイソプロピルアミノ，ジブチルアミノ
等）、(27)炭素原子と１個の窒素原子以外に酸素原子、
硫黄原子、窒素原子等から選ばれたヘテロ原子を１ない
し３個含んでいてもよい３ないし６員の環状アミノ基
（例、アジリジニル，アゼチジニル，ピロリジニル，ピ
ロリニル，ピロリル，イミダゾリル，ビラゾリル，イミ
ダゾリジニル，ピペリジノ，モルホリノ，ジヒドロピリ
ジル，ピリジル，N-メチルピペラジニル，N-エチルピペ
ラジニル等）、(28)Ｃ1-6アルカノイルアミノ（例、ホ
ルムアミド，アセタミド，トリフルオロアセタミド，プ
ロピオニルアミド，ブチリルアミド，イソブチリルアミ
ド等）、(29)ベンツアミド，(30)カルバモイルアミノ、
(31)Ｎ−Ｃ1-4アルキルカルバモイルアミノ（例、N-メ
チルカルバモイルアミノ，N-エチルカルバモイルアミ
ノ，N-プロピルカルバモイルアミノ，N-イソプロピルカ
ルバモイルアミノ，N-ブチルカルバモイルアミノ等）、
(32)Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ1-4アルキルカルバモイルアミノ
（例、N,N-ジメチルカルバモイルアミノ，N,N-ジエチル
カルバモイルアミノ，N,N-ジプロピルカルバモイルアミ
ノ，N,N-ジブチルカルバモイルアミノ等）、(33)Ｃ1-3
アルキレンジオキシ（例、メチレンジオキシ，エチレン
ジオキシ等）、(34)ヒドロキシル、(35)エポキシ（−Ｏ
−）、(36)ニトロ、(37)シアノ、(38)メルカプト、(39)
スルホ、(40)スルフイノ、(41)ホスホノ、(42)ジヒドロ
キシボリール、(43)スルファモイル、(44)Ｃ1-6アルキ
ルスルファモイル（例、N-メチルスルファモイル，N-エ
チルスルファモイル，N-プロピルスルファモイル，N-イ
ソプロピルスルファモイル，N-ブチルスルファモイル
等）、(45)ジＣ1-6アルキルスルファモイル（例、N,N-
ジメチルスルファモイル，N,N-ジエチルスルファモイ
ル，N,N-ジプロピルスルファモイル，N,N-ジブチルスル
ファモイル等）、(46)Ｃ1-6アルキルチオ（例、メチル
チオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソプロピルチオ，
n-ブチルチオ，sec-ブチルチオ，tert-ブチルチオ
等）、(47)フェニルチオ、(48)Ｃ1-6アルキルスルフィ
ニル（例、メチルスルフィニル，エチルスルフィニル，
プロピルスルフィニル，ブチルスルフィニル等）、(49)
フェニルスルフィニル、(50)Ｃ1-6アルキルスルホニル
（例、メチルスルホニル，エチルスルホニル，プロピル
スルホニル，ブチルスルホニル等）、(51)フェニルスル
ホニルなどが挙げられる。置換の数は１ないし６個、好
ましくは１ないし３個さらに好ましくは１ないし２個で
ある。上記置換基は、さらに置換基を１〜３個、さらに
好ましくは１〜２個有していてもよく、該さらに置換さ
れている基としては、例えば、(1)Ｃ1-3アルキル（例、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イ
ソブチル，sec-ブチル，tert-ブチル等），(2)トリフル
オロメチル、(3)Ｃ1-3アルコキシ（例、メトキシ，エト
キシ，プロポキシ，iso-プロポキシ，n-ブトキシ，iso-
ブトキシ，sec-ブトキシ，tert-ブトキシ等），(4)ハロ
ゲン（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素），(5)ニト
ロ、(5)スルファモイル、(6)Ｃ1-3アルコキシ−カルボ
ニル、(7)Ｃ1-4アルキルチオ（例、メチルチオ，エチル
チオ，プロピルチオ，イソプロピルチオ，n-ブチルチ
オ，sec-ブチルチオ，tert-ブチルチオ等）などが挙げ
られる。
【００３３】上記イミダゾール縮合環基におけるイミダ
ゾール環および／または環Ｂは、好ましくは１または２
個の置換基を有していてもよい。かかる置換基としては
たとえば、水酸基，ヒドロキシＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6
アルキル基，Ｃ2-6アルケニル基，Ｃ2-6アルキニル基，
Ｃ3-10シクロアルキル基，Ｃ5-6シクロアルケニル基，
Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基，Ｃ6-10アリー
ル基，Ｃ7-12アラルキル基，複素環基，Ｃ1-6アルコキ
シ基，Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基，アミノＣ
1-6アルコキシ基，Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基，Ｃ
6-10アリールオキシ基，Ｃ7-19アラルキルオキシ基，メ
ルカプト基，メルカプトＣ1-6アルキル基，スルホ基，
スルホＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6アルキルチオ基，Ｃ1-6
アルキルチオＣ1-6アルキル基，Ｃ3-10シクロアルキル
チオ基，Ｃ6-10アリールチオ基，Ｃ7-19アラルキルチオ
基，アミノＣ1-6アルキルチオ基，アミノ基，アミノＣ
1-6アルキル基，モノＣ1-6アルキルアミノ基，ジＣ1-6
アルキルアミノ基，モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アル
キル基，ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基，Ｃ
3-10シクロアルキルアミノ基，Ｃ6-10アリールアミノ
基，Ｃ7-19アラルキルアミノ基，環状アミノ基，環状ア
ミノＣ1-6アルキル基，環状アミノＣ1-6アルキルアミノ
基，カルバモイル基，Ｃ1-6アルキルカルバモイル基，
アジド基，ニトロ基，ハロゲン原子，ハロゲノＣ1-6ア
ルキル基，シアノ基，シアノＣ1-6アルキル基，カルボ
キシル基，カルボキシＣ1-6アルキル基，Ｃ1-10アルコ
キシ−カルボニル基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルＣ
1-6アルキル基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル
基，Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基，Ｃ6-10ア
リール−アシル基，Ｃ1-6アルカノイル基，Ｃ2-6アルカ
ノイルＣ1-6アルキル基，Ｃ3-5アルケノイル基，Ｃ6-10
アリール−アシルオキシ基，Ｃ2-6アルカノイルオキシ
基，Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基，Ｃ3-5
アルケノイルオキシ基，カルバモイルＣ1-6アルキル
基，チオカルバモイル基，カルバモイルオキシ基，カル
バモイルオキシＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6アルカノイルア
ミノ基，Ｃ6-10アリール−アシルアミノ基，スルホンア
ミド基，カルボキシアミノ基，Ｃ1-10アルコキシ−カル
ボキサミド基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド
基，Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミド基などが
用いられる。Ｒ5で表される基としては、４−ピリジ
ル、イミダゾ[１,２−ｂ]ピリダジン−６−イル等が特
に好ましい。
【００３４】本願明細書において特に明記されていない
場合の各基の具体例を次に示す。 ハロゲン原子：フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など； Ｃ1-6アルキル基：メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、２，２−ジメチルプロピル、ヘキシルなど； Ｃ2-6アルケニル基：ビニル、アリル、１−プロペニ
ル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３
−ブテニル、メタリル、１,１−ジメチルアリルなど； Ｃ2-6アルキニル基：エチニル、１−プロピニル、２−
プロピニル、２−ブチニル、２−ペンチニル、２−ヘキ
シニルなど； Ｃ3-10シクロアルキル基：シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル、シクロデシルなど； Ｃ5-6シクロアルケニル基：シクロペンテニル、シクロ
ペンタジエニル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエ
ニルなど； Ｃ6-10アリール基：フェニル、ナフチルなど； Ｃ7-20アラルキル基：ベンジル、１−フェニルエチル、
２−フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、ベンツヒドリルなど；
【００３５】ハロゲノＣ1-6アルキル基：フルオロメチ
ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメ
チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、２−フルオ
ロエチル、２,２−ジフルオロエチル、２,２,２−トリ
フルオロエチル、２−クロロエチル、２,２−ジクロロ
エチル、２,２,２−トリクロロエチル、２−ブロモエチ
ル、２−ヨードエチルなど； シアノＣ1-6アルキル基：シアノメチル、２−シアノエ
チルなど； カルボキシＣ1-6アルキル基：カルボキシメチル、１−
カルボキシエチル、２−カルボキシエチルなど； スルホＣ1-6アルキル基：スルホメチル、２−スルホエ
チルなど； ヒドロキシＣ1-6アルキル基：ヒドロキシメチル、１−
ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロ
キシプロピルなど； メルカプトＣ1-6アルキル基：メルカプトメチル、１−
メルカプトエチル、２−メルカプトエチルなど； アミノＣ1-6アルキル基：アミノメチル、２−アミノエ
チル、３−アミノプロピルなど； モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基：メチルアミ
ノメチル、エチルアミノメチル、２−(Ｎ−メチルアミ
ノ)エチル、３−(Ｎ−メチルアミノ)プロピルなど； ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基：Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアミノメチル、Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル、２
−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)エチル、２−(Ｎ,Ｎ−ジエ
チルアミノ)エチル、３−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)プロ
ピルなど； 環状アミノＣ1-6アルキル基：ピロリジノメチル、ピペ
リジノメチル、ピペラジノメチル、モルホリノメチル、
２−(モルホリノ)エチルなど； Ｃ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基：メトキシメチル、エ
トキシメチル、２−メトキシエチルなど； Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基：メチルチオメチ
ル、２−メチルチオエチルなど； Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基：シクロプロピ
ルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチ
ル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シ
クロオクチルメチル、シクロデシルメチルなど； Ｃ2-6アルカノイルＣ1-6アルキル基：アセチルメチル、
１−アセチルエチル、２−アセチルエチルなど； Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基：アセトキシ
メチル、１−アセトキシエチル、２−アセトキシエチル
など； Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルＣ1-6アルキル基：メト
キシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、te
rt−ブトキシカルボニルメチルなど； カルバモイルＣ1-6アルキル基：カルバモイルメチル、
２−カルバモイルエチルなど； カルバモイルオキシＣ1-6アルキル基：カルバモイルオ
キシメチル、１−カルバモイルオキシエチルなど；
【００３６】Ｃ1-10アルコキシ基：メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、２,２−ジメ
チルプロピルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキ
シ、デシルオキシなど； Ｃ1-6アルコキシ基：メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、tert−
ブトキシ、ペンチルオキシ、２,２−ジメチルプロピル
オキシ、ヘキシルオキシなど； Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基：シクロプロピルオキ
シ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シク
ロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオク
チルオキシ、シクロデシルオキシなど； Ｃ6-10アリールオキシ基：フェノキシ、ナフチルオキシ
など； Ｃ7-19アラルキルオキシ基：ベンジルオキシ、１−フェ
ニルエチルオキシ、２−フェニルエチルオキシ、ベンツ
ヒドリルオキシなど； アミノＣ1-6アルコキシ基：アミノメトキシ、２−アミ
ノエトキシ、３−アミノプロポキシなど；
【００３７】Ｃ1-6アルキルチオ基：メチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、
tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、２,２−ジメチルプ
ロピルチオ、ヘキシルチオなど； Ｃ3-10シクロアルキルチオ基：シクロプロピルチオ、シ
クロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシル
チオ、シクロヘプチルチオ、シクロオクチルチオ、シク
ロデシルチオなど； Ｃ6-10アリールチオ基：フェニルチオ、ナフチルチオな
ど； Ｃ7-19アラルキルチオ基：ベンジルチオ、フェニルエチ
ルチオ、ベンツヒドリルチオ、トリチルチオなど； アミノＣ1-6アルキルチオ基：アミノメチルチオ、２−
アミノエチルチオ、３−アミノプロピルチオなど； Ｃ1-6アルキルスルホニル基：メチルスルホニル、エチ
ルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスル
ホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、te
rt−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、２,２−
ジメチルプロピルスルホニル、ヘキシルスルホニルな
ど；
【００３８】モノＣ1-6アルキルアミノ基：メチルアミ
ノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、ｎ−ブチルア
ミノなど； ジＣ1-6アルキルアミノ基：ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、メチルエチルアミノ、ジ−（ｎ−プロピル）ア
ミノ、ジ−（ｎ−ブチル）アミノなど； トリＣ1-6アルキルアンモニウム基：トリメチルアンモ
ニウムなど； Ｃ3-10シクロアルキルアミノ基：シクロプロピルアミ
ノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノな
ど； Ｃ6-10アリールアミノ基：アニリノ、Ｎ−メチルアニリ
ノなど； Ｃ7-19アラルキルアミノ基：ベンジルアミノ、１−フェ
ニルエチルアミノ、２−フェニルエチルアミノ、ベンツ
ヒドリルアミノなど； 環状アミノ基：ピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ、
モルホリノ、１−ピロリルなど； 環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基：ピロリジノエチル
アミノ、ピペリジノエチルアミノ、ピペラジノエチルア
ミノ、モルホリノエチルアミノなど； Ｃ1-6アルカノイルアミノ基：アセトアミド、プロピオ
ンアミド、ブチルアミド、バレロアミド、ピバロアミド
など； Ｃ6-10アリール−カルボニルアミノ基：ベンズアミド、
ナフトイルアミド、フタルイミドなど； Ｃ6-10アリール−Ｃ1-6アルカノイルアミノ基：フェニ
ルアセチルアミノなど；
【００３９】Ｃ1-10アルカノイル基：ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル、
サクシニル、グルタリル、ヘキサノイルなど； Ｃ1-6アルカノイル基：ホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、バレリル、ピバロイル、サクシニル、
グルタリルなど； Ｃ2-6アルカノイルオキシ基：アセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチリルオキシ、バレリルオキシ、ピバロイ
ルオキシなど； Ｃ3-5アルケノイル基：アクリロイル、クロトノイル、
マレオイルなど； Ｃ3-5アルケノイルオキシ基：アクリロイルオキシ、ク
ロトノイルオキシ、マレオイルオキシなど； Ｃ6-10アリール−カルボニル基：ベンゾイル、ナフトイ
ル、フタロイル、フェニルアセチルなど； Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ基：ベンゾイルオキ
シ、ナフトイルオキシ、フェニルアセトキシなど； Ｃ3-10シクロアルキル−カルボニル基：シクロプロピル
カルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチル
カルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチ
ルカルボニル、シクロオクチルカルボニル、シクロデシ
ルカルボニルなど； Ｃ5-6シクロアルケニル−カルボニル基：シクロペンテ
ニルカルボニル、シクロペンタジエニルカルボニル、シ
クロヘキセニルカルボニル、シクロヘキサジエニルカル
ボニルなど； Ｃ7-19アラルキル−カルボニル基：フェニルアセチル、
フェニルプロピオニル、α,α−ジフェニルアセチル、
α,α,α−トリフェニルアセチルなど； Ｃ6-10アリール−Ｃ1-6アルカノイル基：フェニルアセ
チルなど； Ｃ6-10アリール−Ｃ1-6アルカノイルオキシ基：フェニ
ルアセチルオキシなど； Ｃ1-6アルキルスルホニル基：メチルスルホニル、エチ
ルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスル
ホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、te
rt−ブチルスルホニルなど； Ｃ6-10アリールスルホニル基：フェニルスルホニルな
ど；
【００４０】Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基：メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、イソブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、２,２−ジメチルプロ
ピルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘ
プチルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニルな
ど； Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルオキシ基：メトキシカル
ボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、プロポキシ
カルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、
ブトキシカルボニルオキシ、イソブトキシカルボニルオ
キシ、tert−ブトキシカルボニルオキシ、ペンチルオキ
シカルボニルオキシ、２,２−ジメチルプロピルオキシ
カルボニルオキシ、ヘキシルオキシカルボニルオキシ、
ヘプチルオキシカルボニルオキシ、デシルオキシカルボ
ニルオキシなど； Ｃ3-10シクロアルキルオキシ−カルボニル基：シクロプ
ロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニ
ル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシル
オキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、
シクロオクチルオキシカルボニル、シクロデシルオキシ
カルボニルなど； Ｃ3-10シクロアルキルオキシ−カルボニルオキシ基：シ
クロプロピルオキシカルボニルオキシ、シクロブチルオ
キシカルボニルオキシ、シクロペンチルオキシカルボニ
ルオキシ、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ、シ
クロヘプチルオキシカルボニルオキシ、シクロオクチル
オキシカルボニルオキシ、シクロデシルオキシカルボニ
ルオキシなど； Ｃ3-10シクロアルキルオキシ−カルボニルオキシ基：シ
クロプロピルオキシカルボニルオキシ、シクロブチルオ
キシカルボニルオキシ、シクロペンチルオキシカルボニ
ルオキシ、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ、シ
クロヘプチルオキシカルボニルオキシ、シクロオクチル
オキシカルボニルオキシ、シクロデシルオキシカルボニ
ルオキシなど； Ｃ5-10架橋環式炭化水素オキシ−カルボニル基：ノルボ
ルニルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニ
ルなど； Ｃ2-10アルケニルオキシ−カルボニル基：アリルオキシ
カルボニルなど； Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基：フェノキシカル
ボニル、ナフチルオキシカルボニルなど Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基：ベンジルオキ
シカルボニル、ベンツヒドリルオキシカルボニルなど； アミノＣ1-6アルキル−カルボニル基：２−アミノエチ
ルカルボニル、３−アミノプロピルカルボニルなど； モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル−カルボニル
基：メチルアミノメチルカルボニル、２−エチルアミノ
エチルカルボニルなど； ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル−カルボニル基：
ジメチルアミノメチルカルボニル、ジエチルアミノメチ
ルカルボニルなど； 環状アミノアルキルカルボニル基：イミダゾリノメチ
ル、ピラゾリノエチルなど；
【００４１】Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミド基：メ
トキシカルボキサミド（ＣＨ3ＯＣＯＮＨ−）、エトキ
シカルボキサミド、tert−ブトキシカルボキサミドな
ど； Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基：フェノキシ
カルボキサミド（Ｃ6Ｈ5ＯＣＯＮＨ−）など； Ｃ7-10アラルキルオキシ−カルボキサミド基：ベンジル
オキシカルボキサミド（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2ＯＣＯＮＨ−）、
ベンツヒドリルオキシカルボキサミドなど； Ｃ1-6アルキルウレイド基：メチルウレイド、エチルウ
レイド、ｎ−プロピルウレイドなど； スルホンアミド基：メタンスルホニル、エタンスルホニ
ルなど。
【００４２】本発明の方法は、化合物(II)またはその塩
に、リン化合物の存在下にジスルフィド化合物を作用さ
せることにより、化合物(Ｉ)またはその塩を製造する。
該ジスルフィド化合物は、式Ｒ5−Ｓ−Ｓ−Ｒ5（式中、
Ｒ5は前記と同意義）で表わされる化合物が挙げられ
る。本反応において用いられるリン化合物としては、３
価のリン化合物が好ましい。該リン化合物としては、式
（Ｒ3）3Ｐ（式中、Ｒ3は、置換基を有していてもよい
炭化水素基を示す）で表わされる化合物が挙げられる。
該Ｒ3で表わされる置換基を有していてもよい炭化水素
基としては、前記したＲ5で表わされる置換基を有して
いてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられる。該炭
化水素基としては、アルキル基、なかでも、Ｃ1-10アル
キル基が好ましく、Ｃ1-4アルキル基（例、メチル、エ
チル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソ
ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル）がより好ましく、
特にｎ−ブチルが好ましい。
【００４３】式（Ｒ3）3Ｐで表わされるリン化合物の例
としては、例えば、トリメチルフォスフィン、トリエチ
ルフォスフィン、トリ−ｎ−プロピルフォスフィン、ト
リイソプロピルフォスフィン、トリ−ｎ−ブチルフォス
フィン、トリ−ｎ−ヘキシルフォスフィン、トリ−ｎ−
オクチルフォスフィンなどが挙げられる。
【００４４】本発明の製造法においては、化合物(II)ま
たはその塩１モルに対し、ジスルフィド化合物約１〜５
当量、好ましくは約１.５〜２当量が用いられる。リン
化合物は、化合物(II)またはその塩１モルに対し、リン
化合物約１〜１.５当量、好ましくは約１.１〜１.２当
量が用いられる。反応は、一般に溶媒中で行なわれ、反
応を阻害しない溶媒が適宜に選択される。このような溶
媒としては、例えば、エーテル類（例、ジオキサン，テ
トラヒドロフラン，ジエチルエーテル，tert−ブチルメ
チルエーテル，ジイソプロピルエーテル，エチレングリ
コール−ジメチルエーテルなど），エステル類（例、ギ
酸エチル，酢酸エチル，酢酸ｎ−ブチルなど）、ハロゲ
ン化炭化水素類（例、ジクロロメタン，クロロホルム，
四塩化炭素，トリクレン，１,２−ジクロロエタンな
ど）、炭化水素類（例、ｎ−ヘキサン，ベンゼン，トル
エンなど）、アミド類（例、ホルムアミド，Ｎ,Ｎ−ジ
メチルホルムアミド，Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドな
ど）、ケトン類（例、アセトン，メチルエチルケトン，
メチルイソブチルケトンなど）、ニトリル類（例、アセ
トニトリル，プロピオニトリルなど）などのほか、ジメ
チルスルホキシド，スルホラン，ヘキサメチルホスホル
アミドなどが、単独でまたは混合溶媒として用いられ
る。これら溶媒において、アミド類が好ましく、なかで
も、Ｎ−メチルピロリドンが最も好ましい。本反応を効
率良く進行させるために、少量の水を存在させるのがよ
い。加えられる水の量としては、０.５〜１当量、が好
ましく、０.３〜０.４当量がさらに好ましい。反応は、
遮光、窒素気流下に行うのが好ましい。反応温度は、約
−４０℃〜−１０℃に、好ましくは約−２５℃〜−１５
℃に保ちながら、約３０分〜２時間、好ましくは１〜
１.５時間反応を行うのが好ましい。反応終了後、得ら
れた化合物(Ｉ)は、単離せずに次の反応に付すか、ある
いは、必要に応じ、公知の手段、例えば、濃縮、減圧濃
縮、蒸留、分溜、溶媒抽出、液性変換、、転溶、クロマ
トグラフィー、結晶化、再結晶などにより、単離・精製
することができる。
【００４５】本発明の製造法における化合物の塩として
は、無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基塩，無機酸
付加塩，有機酸付加塩などがあげられる。無機塩基塩と
してはアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩，カリウ
ム塩など），アルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム
塩など）などが、有機塩基塩としてはたとえばトリメチ
ルアミン塩，トリエチルアミン塩，tert−ブチルジメチ
ルアミン塩, ジベンジルメチルアミン塩，ベンジルジメ
チルアミン塩，Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン塩，ピリジン
塩，キノリン塩などが、無機酸付加塩としてはたとえば
塩酸塩，臭化水素酸塩，硫酸塩，硝酸塩，リン酸塩など
が、有機酸付加塩としてはギ酸塩，酢酸塩，トリフルオ
ロ酢酸塩，メタンスルホン酸塩, ｐ−トルエンスルホン
酸塩などがあげられる。
【００４６】このようにして得られた化合物(Ｉ)におい
てＲ1が保護されたアミノ基である化合物またはその塩
は、例えば、特開昭５５−１５４９８１号公報に記載の
セファロスポリン誘導体の製造の原料化合物として用い
ることができ、また、ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／２３７
９８号公報、ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／３８４５１号公
報に記載の抗菌剤として有用なセファロスポリン誘導体
を製造するための合成原料として用いることができる。
【００４７】即ち、例えば、本発明の製造法によって得
られたＲ1が保護されたアミノ基である化合物（Ｉ）ま
たはその塩は、
【化２６】 〔式中、Ｒ13は置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ
14は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ15は置換され
ていてもよい炭化水素基を、その他の記号は前記と同意
義を示す。〕で示されるように、化合物(III)に導くこ
とができる。上記式中、Ｒ13、Ｒ15で示される置換され
ていてもよい炭化水素基は、上記Ｒ3、Ｒ4で示される置
換されていてもよい炭化水素基と同様の基が用いられ
る。Ｒ14で示される保護されていてもよいアミノ基の保
護基は上記Ｒ1と同様の基が用いられる。このようにし
て得られた化合物（Ｉ）においてＲ1がアシル化された
アミノ基である化合物、特に、一般式
【化２７】 （式中の各記号は、前記と同意義）で表わされる化合物
またはその塩は、シュードモナス属を含むグラム陰性菌
ならびにブドウ球菌およびＭＲＳＡを含むグラム陽性菌
などに対して広範囲の抗菌スペクトルと優れた抗菌作用
を有しており、これらの菌に基づく感染症に対する抗菌
剤として有用である（ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／２３７
９８号公報、ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／３８４５１号公
報）。
【００４８】なお、本発明方法において用いられる原料
化合物(II)は、例えば、特開昭５５−１９４９８１号公
報に記載の方法あるいはそれと同様の方法で製造される
一般式
【化２８】 ［式中、Ｒ31は炭素原子、硫黄原子もしくはケイ素原子
を介するアミノ基の保護基またはアシル基を、Ｒ32はカ
ルボキシル基の保護基をそれぞれ示す］で表わされる化
合物またはその塩とトリス(ジメチルアミノ)メタンとを
反応させ一般式
【化２９】 ［式中の各記号は前記と同意義を示す］で表わされる化
合物またはその塩を得、得られた化合物を加水分解反応
に付すことにより製造することができる。該Ｒ31で表わ
されるアミノ基の保護基やアシル基としては、前記した
Ｒ1におけるそれらと同様のものが挙げられる。該Ｒ32
で示されるカルボキシル基の保護基としては、前記した
Ｒ2で示される保護されていてもよいカルボキシル基の
保護基と同様のものが挙げられる。
【００４９】上記化合物(IV)またはその塩とトリス(ジ
メチルアミノ)メタンとを反応させ、化合物(Ｖ)または
その塩を製造する方法においては、化合物(IV)１モルに
対してトリス(ジメチルアミノ)メタンを約１〜５当量、
好ましくは約２〜３当量を反応させる。反応は、通常セ
ファロスポリン誘導体の製造において用いられる溶媒が
用いられ、その例としては、例えば、芳香族炭化水素類
（例、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、ハロゲン化
炭化水素類（例、四塩化炭素、１,２−ジクロルエタ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム等）、飽和炭化水素
類（例、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等）、エ
ーテル類（例、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン等）、ケトン類
（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリル類
（例、アセトニトリル等）、スルホキシド類（例、ジメ
チルスルホキシド等）、アミド系溶媒（Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルトリアミド
等）、エステル類（例、酢酸エチル等）、塩基性溶媒
（例、ピリジン等）等が挙げられるが、なかでも、アミ
ド系溶媒が好ましく、特に、Ｎ−メチルピロリドンが好
ましい。用いられる溶媒の量は、化合物(IV)に対し、約
５〜３０倍量、好ましくは、約１０〜２０倍量である。
本反応は、反応温度約０〜８０℃、好ましくは約２０〜
５０℃で、約１〜１２時間、好ましくは約４〜５時間反
応させることにより行われる。反応終了後、得られた化
合物(Ｖ)は、単離せずに次の反応に付すか、あるいは、
必要に応じ、公知の手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、蒸
留、分溜、溶媒抽出、液性変換、、転溶、クロマトグラ
フィー、結晶化、再結晶などにより、単離・精製するこ
とができる。
【００５０】得られた化合物(Ｖ)は、加水分解に付し、
化合物(II)を製造する。該加水分解反応は、化合物(Ｖ)
に酸を作用させることにより行われる。該酸としては、
一般に、有機酸（例、蟻酸、酢酸等）または鉱酸（例、
硫酸、塩酸、リン酸等）が挙げられる。反応は、通常セ
ファロスポリン誘導体の製造において用いられる溶媒が
用いられ、その例としては、例えば、アルコール類
（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソプロパノール、ｎ−ブタノール、３−ペンタノール
等）、芳香族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例、四塩化炭素、
１,２−ジクロルエタン、ジクロロメタン、クロロホル
ム等）、飽和炭化水素類（例、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン等）、エーテル類（例、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等）、ケトン類（例、アセトン、メチルエチルケトン
等）、ニトリル類（例、アセトニトリル等）、スルホキ
シド類（例、ジメチルスルホキシド等）、アミド系溶媒
（Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホ
ルトリアミド等）、エステル類（例、酢酸エチル等）、
塩基性溶媒（例、ピリジン等）等が挙げられるが、なか
でも、ニトリル類、特に、アセトニトリルが好ましい。
本反応は、反応温度約２０〜５０℃、好ましくは約３０
〜４０℃で、約１〜１０時間、好ましくは約２〜４時間
反応させることにより行われる。反応終了後、得られた
化合物(II)は、単離せずに次の反応に付すか、あるい
は、必要に応じ、公知の手段、例えば、濃縮、減圧濃
縮、蒸留、分溜、溶媒抽出、液性変換、、転溶、クロマ
トグラフィー、結晶化、再結晶などにより、単離・精製
することができる。
【００５１】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明はそれらに限定されるものではな
い。 参考例１ ７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−(２−ジ
メチルアミノ)ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンツヒドリルエステルの製造：特開昭５５−１５４９
８１号公報の実施例１に記載の方法と同様の方法で製造
された７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−メ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンツヒドリルエ
ステル(４.７８ｇ)を無水Ｎ−メチルピロリドン(９０ｍ
ｌ)に溶解し、アルゴン気流下に４５℃に加温した。か
きまぜながらトリス(ジメチルアミノ)メタン(３.４ｍ
ｌ)を３.５時間を要して滴下し、さらに２０分間同温度
で反応させた。反応液を氷冷し、酢酸エチル(１００ｍ
ｌ)、飽和食塩水(３００ｍｌ)を加えて分液し、水層を
酢酸エチル(７０ｍｌ)ずつで３回抽出した。酢酸エチル
層を合わせ、飽和塩化アンモニウム水溶液(１００ｍｌ)
ずつで３回洗浄した。酢酸エチル抽出液の高速液体クロ
マトグラフィー(ＨＰＬＣ)による定量から、標記化合物
５.１０ｇ（収率：９５.７％）の生成を確認した。ま
た、酢酸エチル抽出液の一部を乾固して得られる淡褐色
泡状物のＮＭＲを測定して、生成物が△3体のみである
ことを確認した。1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3，δ）：1.49(9H,s), 2.89(6H,s),
3.18(2H,m), 5.07(1H,d,J=4Hz), 5.29(1H,dd,J=4Hz,8H
z), 5.66(1H,d,J=8Hz), 6.50(1H,d,J=13.5Hz), 6.75(1
H,d,J=13.5Hz), 6,87(1H,s), 7.2-7.6(10H,m)．
【００５２】参考例２ ７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−ホルミル
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンツヒドリル
エステルの製造：参考例１で製造された７β−tert−ブ
トキシカルボニルアミノ−３−(２−ジメチルアミノ)ビ
ニル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンツヒドリルエ
ステル（１９８ｍｇ）をアセトニトリル（１０ｍｌ）に
溶かし、１モル濃度のリン酸（２ｍｌ）を加え、３５℃
で３.５時間かきまぜた。反応液に酢酸エチル（３０ｍ
ｌ）および飽和食塩水（３０ｍｌ）を加え、かきまぜた
後分液して水層を除き、酢酸エチル層を飽和食塩水（３
０ｍｌ）で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、蒸発乾
固して飴状の残留物を得た。本品を酢酸エチル（１０ｍ
ｌ）に溶かし、氷冷したイソプロピルエーテル（５０ｍ
ｌ）中にかきまぜながらゆっくり滴下した。得られたス
ラリーを１時間かきまぜて、室温まで昇温した後、濾過
した。得られたケーキをイソプロピルエーテルで洗い、
風乾した後、シリカゲル上で減圧乾燥して淡褐色粉末状
の標記化合物（１９０ｍｇ）を得た。本品をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン＝
１：１）で精製して、淡褐色粉末状の標記化合物（１６
１ｍｇ、収率８５.８％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）：1.47(9H,s), 2,85-3.7
3(2H,m), 3.24&3.58(2H,ABq,J=18.2Hz), 4.99(1H,d,J=
4.8Hz), 5.30(1H,d,J=9.7), 5.66(1H,dd,J=4.8Hz,9.7H
z), 6.88(1H,s), 7.22-7.48(10H,m), 9.55(1H,s)．
【００５３】実施例１ ７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−[(Ｅ)−
２−(４−ピリジル)チオビニル]−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンツヒドリルエステルの製造：上記参考例
２で製造された７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ
−３−ホルミルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンツヒドリルエステル(９９８ｍｇ)をＮ−メチルピロ
リドン(１５ｍｌ)に溶解し、アルゴン気流下に水(１７.
５μＬ)を加え１０分間かきまぜた。ついで、４−ピリ
ジルジスルフィド(８１０ｍｇ)を加えて溶解した後、−
２３℃に冷却した。この溶液にトリ−ｎ−ブチルホスフ
ィン(０.９５ｍｌ)を加え−２３〜−１５℃で１時間か
きまぜた。反応液に氷片(１５０ｇ)、酢酸エチル(１５
０ｍｌ)および飽和食塩水(５０ｍｌ)を加えてかきまぜ
たのち、分液した。水層はさらに酢酸エチル(５０ｍｌ)
で抽出した。酢酸エチル層を合わせて飽和食塩水(５０
ｍｌ)ずつで２回洗浄した。酢酸エチル抽出液のＨＰＬ
Ｃによる定量により標記化合物８９１.４ｍｇ(７５.５
％)の生成を確認した。 １Ｈ−ＮＭＲ(CDCl3、δ)：1.47(9H,s), 3.59&3.71(2H,
ABq,J=18Hz), 5.02(1H,d,J=4.8Hz), 5.32(1H,d,J=9.6H
z), 5.65(1H,dd,J=4.8Hz,9.6Hz), 6.66(1H,d,J=15.6H
z), 6.99(1H,s), 7.17(2H,dd,J=1.6Hz,4.6Hz), 7.3-7.5
(10H,m), 8.47(2H,dd,J=1.6Hz,4.6Hz)．
【００５４】実施例２ ７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−[(Ｅ)−
２−(イミダゾ［１,２−ｂ］ピリダジン−６−イル)チ
オビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸ベンツヒド
リルエステルの製造：上記参考例２で製造された７β−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−ホルミルメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンツヒドリルエステ
ル(２２５ｍｇ)をＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解
し、アルゴン気流下０℃で６−イミダゾ[１,２−ｂ]ピ
リダジニルジスルフィド(３００ｍｇ)、ついでトリ−ｎ
−ブチルホスフィン(０.２７ｍｌ)を加え同温度で１時
間反応させた。反応液に酢酸エチル(３０ｍｌ)、氷片
(２０ｇ)、飽和食塩水(２０ｍｌ)を加えて分液した。酢
酸エチル層を飽和食塩水(２０ｍｌ)ずつで２回洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮した。油
状残留物をイソプロピルエーテル(２０ｍｌ)に溶解して
氷冷し、ヘキサン(３０ｍｌ)を加えた。析出した沈殿を
濾過し、乾燥すると、標記化合物２４０ｍｇ(８４.５
％)が黄色の粉末として得られた。1 Ｈ−ＮＭＲ(CDCl3，δ)：1.48(9H,s), 3.68&3.81(2H,A
Bq,J=18Hz), 5.04(1H,d=4.8Hz), 5.37(1H,d,J=9.6Hz),
5.67(1H,dd,J=4.8Hz,9.6Hz), 6.85(1H,d,J=9.4Hz), 6.9
9(1H,s), 7.2-7.6(10H,m), 7.72(1H,s), 7.82(1H,d,J=
9.4Hz), 7.93(1H,s)．
【００５５】
【発明の効果】本発明の方法によれば、３位にチオビニ
ル基を有するＥ体であるセファロスポリン誘導体を工程
数が少なく、しかも収率良く製造することができる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1は保護されたもしくはアシル化されたアミ
    ノ基を、Ｒ2は保護されていてもよいカルボキシル基を
    それぞれ示す〕で表わされる化合物またはその塩に、リ
    ン化合物の存在下にジスルフィド化合物を作用させるこ
    とを特徴とする一般式 【化２】 〔式中、Ｒ4は硫黄原子を介する基を示す。他の各記号
    は前記と同意義を有する。〕で表わされる化合物または
    その塩の製造法。
  2. 【請求項２】ジスルフィド化合物が式Ｒ5−Ｓ−Ｓ−Ｒ5
    ［式中、Ｒ5はそれぞれ置換されていてもよい炭化水素
    または複素環基を示す］で表わされる化合物である請求
    項１記載の製造法。
  3. 【請求項３】リン化合物が３価のリン化合物である請求
    項１記載の製造法。
  4. 【請求項４】３価のリン化合物がトリアルキルホスフィ
    ンである請求項３記載の製造法。
  5. 【請求項５】トリアルキルホスフィンがトリ−ｎ−ブチ
    ルホスフィンである請求項４記載の製造法。
  6. 【請求項６】Ｒ5で示される複素環基が窒素原子を１〜
    ３個含む５〜８員環状基またはその縮合環基である請求
    項１記載の製造法。
  7. 【請求項７】Ｒ5で示される複素環基が４−ピリジル基
    である請求項４記載の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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