JPH1147543A - ガス処理装置 - Google Patents

ガス処理装置

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Publication number
JPH1147543A
JPH1147543A JP20433597A JP20433597A JPH1147543A JP H1147543 A JPH1147543 A JP H1147543A JP 20433597 A JP20433597 A JP 20433597A JP 20433597 A JP20433597 A JP 20433597A JP H1147543 A JPH1147543 A JP H1147543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
reaction chamber
processing apparatus
partition plates
fine particles
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP20433597A
Other languages
English (en)
Inventor
Kingo Azuma
欣吾 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP20433597A priority Critical patent/JPH1147543A/ja
Publication of JPH1147543A publication Critical patent/JPH1147543A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微粒子を含んだ有毒ガスの処理が可能なガス
処理装置を提供する。 【解決手段】 ガス入口10とガス出口12を有する円
筒状の反応室2内に、高圧電源8に接続された外部電極
3と内部電極4を同芯状に配設し、これらの両電極3,
4間に回転軸13を介して回転される複数の仕切り板6
を放射状に設け、該仕切り板6間に強誘電体ペレット7
を充填するとともに、反応室2の底面部分に微細孔を有
する分離壁14を設け、該分離壁14の外周側に微粒子
回収ダクト15を設けてなることを特徴とするガス処理
装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス処理装置に関
する。さらに詳しくは、ゴミ焼却炉において排出される
有毒な排気ガスを処理するガス処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のペレット充填型ガス処理装置の縦
断面図を図3に示す。この装置101は、反応室102
内に一対の平板多孔電極103,104を配設し、該電
極103と電極104との間に球状強誘電体ペレット1
05を充填し、上記電極103と電極104との間に、
交流高電圧電源106によって高電圧を印加することが
できるようにしたものである。この高電圧の印加によっ
て、球状強誘電体ペレット105同士によって形成され
る空隙107にプラズマを生成させ、反応室102の上
部に設けた吸気口108から取り込んだガス109の中
の有毒ガス成分を分解して、排気口110から排気する
構造のもである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来のガス処理装置101では、ゴミ焼却場から排出され
る排気ガスのような微粒子を含んだガス109を処理す
ると、この微粒子が球状強誘電体ペレット105の表面
に付着し、プラズマの放電条件が変化するとともに、球
状強誘電体ペレット105の空隙107が減少し、ガス
処理装置101を長時間運転すると、処理能力が低下
し、処理量が減少するという問題があった。
【0004】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、微粒子を含んだ有毒ガスの処理が可能なガス処理装
置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を解
決するためになされたものであり、請求項1に記載され
た発明は、ガス入口とガス出口を有する円筒状の反応室
内に、高圧電源に接続された外部電極と内部電極を同芯
状に配設し、これらの両電極間に回転軸を介して回転さ
れる複数の仕切り板を放射状に設けると共に、該仕切り
板間に強誘電体ペレットを充填してなることを特徴とす
るガス処理装置である。また、請求項2に記載された発
明は、上記反応室の底面部分に微細孔を有する分離壁を
設け、該分離壁の外周側に微粒子回収ダクトを設けてな
ることを特徴とする請求項1記載のガス処理装置であ
る。
【0006】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照しながら、本
発明に係るガス処理装置を詳細に説明する。図1は本装
置1の縦断面図、図2は図1のA−A線による横断面図
である。円筒形をした反応室2の内部に、同軸的(同芯
状)に、円筒形状を有する外部電極3及び内部電極4を
設けてある。外部電極3は反応室2の外周面内側に配設
し、内部電極4は反応室2内に設けた内壁5の外側に配
設している。また、内部電極4には仕切板6を反応室2
の径方向に3〜6枚、等間隔に取り付けている。この仕
切板6と反応室2によって画成された空間には、直径1
〜5mmの球状強誘電体ペレット7を70〜80%の割合
で充填している。ペレット7は、ほぼ同じ直径のものを
用いることが好ましい。ここで、ペレット7は、一般的
に、誘電体材料の粉体を転動によって団子状に固め、こ
れを乾燥又は焼成して強度を増した、従来慣用されてい
るものである。そして、外部電極3と内部電極4は、交
流高電圧電源8に接続されており、該電極間3,4に高
電圧を印加することにより、球状強誘電体ペレット7に
電界が印加されコロナ放電が発生する。
【0007】また、10は吸気口、11はペレット間の
空隙、12は排気口、13は回転軸であり、反応室2の
底面には、球状強誘電体ペレット7の直径より十分小さ
な穴を多数有する分離壁14を設けており、該分離壁1
4の下部には回収ダクト15が配設されている。上記の
ような構造を有するガス処理装置1において、微粒子を
含んだガス9は吸気口10から反応室2内に導入され、
球状強誘電体ペレット7間の空隙11を通って排気口1
2から排出される。その際、強い電界が印加された空間
に球状強誘電体ペレット7が置かれると、この周辺の電
界が球状強誘電体ペレット7に集中し、より強い電界が
生じる。この強い電界により、ガスに電離が起こりプラ
ズマが発生する。微粒子を含んだガス9が上記のプラズ
マ領域に侵入すると、微粒子が帯電してペレット表面に
付着する。付着した微粒子には、電界が集中し、プラズ
マ中の電子が高エネルギーで衝突するため、微粒子に含
まれる有毒ガスが放出、分解される。
【0008】回転軸13を回転することにより、反応室
2内で球状強誘電体ペレット7は互いに衝突し、該球状
強誘電体ペレット7に付着していた微粒子は、振り落と
されて重力により反応室2の下部へ移動する。底面に達
した微粒子は分離壁13の穴を通って回収ダクト14に
入り、ガス9から分離される。かくして、ペレット7は
微粒子付着前の状態に戻り、放電が安定する。
【0009】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るガス
処理装置によれば、微粒子を含んだ有毒ガスの処理が可
能になり、有毒ガスの分解効率を改善することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るガス処理装置の縦断面図である。
【図2】図1のA−A線による横断面図である。
【図3】従来のガス処理装置の縦断面図である。
【符号の説明】
1 ガス処理装置 2 反応室 3 外部電極 4 内部電極 5 内壁 6 仕切板 7 球状強誘電体ペレット 8 交流高電圧電源 9 ガス 10 吸気口 11 空隙 12 排気口 13 回転軸 14 分離壁 15 回収ダクト

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガス入口とガス出口を有する円筒状の反
    応室内に、高圧電源に接続された外部電極と内部電極を
    同芯状に配設し、これらの両電極間に回転軸を介して回
    転される複数の仕切り板を放射状に設けると共に、該仕
    切り板間に強誘電体ペレットを充填してなることを特徴
    とするガス処理装置。
  2. 【請求項2】 上記反応室の底面部分に微細孔を有する
    分離壁を設け、該分離壁の外周側に微粒子回収ダクトを
    設けてなることを特徴とする請求項1記載のガス処理装
    置。
JP20433597A 1997-07-30 1997-07-30 ガス処理装置 Withdrawn JPH1147543A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007021380A (ja) * 2005-07-15 2007-02-01 Setec:Kk 粒子充填層集塵装置

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Effective date: 20041005