JPH1144663A - 集積回路部品の解析装置及び解析方法 - Google Patents
集積回路部品の解析装置及び解析方法Info
- Publication number
- JPH1144663A JPH1144663A JP9201865A JP20186597A JPH1144663A JP H1144663 A JPH1144663 A JP H1144663A JP 9201865 A JP9201865 A JP 9201865A JP 20186597 A JP20186597 A JP 20186597A JP H1144663 A JPH1144663 A JP H1144663A
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- JP
- Japan
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- signal
- sample
- integrated circuit
- component
- frequency
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 これまで位置決めのために使用されていた電
位コントラスト像を利用して集積回路内部の各種動作解
析を可能にした集積回路部品の解析装置及び解析方法を
提供する。 【解決手段】 信号発生器２０から信号が入力された集
積回路部品の試料１５に対し、走査形電子顕微鏡１０に
より電子ビームで走査して上記試料１５から放射される
二次電子を検出し、上記走査形電子顕微鏡１０により得
られた二次電子信号について任意の周波数に対する振幅
成分又は位相成分を求める周波数解析を信号処理装置３
０により行い、上記信号処理装置３０により解析された
任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を画像表示
装置５０で二次元画像表示する。
位コントラスト像を利用して集積回路内部の各種動作解
析を可能にした集積回路部品の解析装置及び解析方法を
提供する。 【解決手段】 信号発生器２０から信号が入力された集
積回路部品の試料１５に対し、走査形電子顕微鏡１０に
より電子ビームで走査して上記試料１５から放射される
二次電子を検出し、上記走査形電子顕微鏡１０により得
られた二次電子信号について任意の周波数に対する振幅
成分又は位相成分を求める周波数解析を信号処理装置３
０により行い、上記信号処理装置３０により解析された
任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を画像表示
装置５０で二次元画像表示する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査形電子顕微鏡
を用いて集積回路内部の動作を解析する集積回路部品の
解析装置及び解析方法に関する。
を用いて集積回路内部の動作を解析する集積回路部品の
解析装置及び解析方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】集積回路内部の動作を解析する解析装置
として、走査形電子顕微鏡（SEM：scanning electron m
icroscpe）における電位コントラスト（表面電位に応じ
て現れるＳＥＭ画像上のコントラスト）を利用して、集
積回路内部の配線電位を直接測定することにより試験を
行う電子ビーム（EB：e-beam）テスタが知られている。
従来、ＥＢテスタでは、電位コントラスト像をモニタ表
示して位置決めのために使用していた。
として、走査形電子顕微鏡（SEM：scanning electron m
icroscpe）における電位コントラスト（表面電位に応じ
て現れるＳＥＭ画像上のコントラスト）を利用して、集
積回路内部の配線電位を直接測定することにより試験を
行う電子ビーム（EB：e-beam）テスタが知られている。
従来、ＥＢテスタでは、電位コントラスト像をモニタ表
示して位置決めのために使用していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、ＥＢテスタで
は、電位コントラスト像をモニタ表示して位置決めのた
めに使用していた。
は、電位コントラスト像をモニタ表示して位置決めのた
めに使用していた。
【０００４】そこで本発明の目的は、これまで位置決め
のために使用されていた電位コントラスト像を利用して
集積回路内部の各種動作解析を可能にした集積回路部品
の解析装置及び解析方法を提供することにある。
のために使用されていた電位コントラスト像を利用して
集積回路内部の各種動作解析を可能にした集積回路部品
の解析装置及び解析方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る集積回路部
品の解析装置は、集積回路部品の試料に入力する信号を
発生する信号発生装置と、上記信号発生装置から信号が
入力された試料を電子ビームにより走査して、上記試料
から放射される二次電子を検出する走査形電子顕微鏡
と、上記走査形電子顕微鏡により得られた二次電子信号
について任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を
求める周波数解析を行う信号処理装置と、上記信号処理
装置により解析された任意の周波数に対する振幅成分又
は位相成分を二次元画像表示する画像表示装置とを備え
ることを特徴とする。
品の解析装置は、集積回路部品の試料に入力する信号を
発生する信号発生装置と、上記信号発生装置から信号が
入力された試料を電子ビームにより走査して、上記試料
から放射される二次電子を検出する走査形電子顕微鏡
と、上記走査形電子顕微鏡により得られた二次電子信号
について任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を
求める周波数解析を行う信号処理装置と、上記信号処理
装置により解析された任意の周波数に対する振幅成分又
は位相成分を二次元画像表示する画像表示装置とを備え
ることを特徴とする。
【０００６】また、本発明に係る集積回路部品の解析方
法は、集積回路部品の試料に信号を入力し、信号が入力
された試料を電子ビームにより走査して、上記試料から
放射される二次電子を検出し、検出された二次電子信号
について任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を
求める周波数解析を行い、上記任意の周波数に対する振
幅成分又は位相成分を二次元画像表示することを特徴と
する。
法は、集積回路部品の試料に信号を入力し、信号が入力
された試料を電子ビームにより走査して、上記試料から
放射される二次電子を検出し、検出された二次電子信号
について任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を
求める周波数解析を行い、上記任意の周波数に対する振
幅成分又は位相成分を二次元画像表示することを特徴と
する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【０００８】本発明は、例えば図１に示すような構成の
ＥＢテスタシステムに適用される。この図１に示したＥ
Ｂテスタシステム１００は、走査形電子顕微鏡１０、こ
の走査形電子顕微鏡１０に接続された信号発生器２０、
信号処理装置３０や計算機４０などからなる。
ＥＢテスタシステムに適用される。この図１に示したＥ
Ｂテスタシステム１００は、走査形電子顕微鏡１０、こ
の走査形電子顕微鏡１０に接続された信号発生器２０、
信号処理装置３０や計算機４０などからなる。
【０００９】このＥＢテスタシステム１００において、
走査形電子顕微鏡１０は、電子銃１１が出射する電子ビ
ームにより集積回路部品の試料１５を走査して、上記試
料１５から放射される二次電子を二次電子検出器１２に
より検出するものもので、図示しない排気系や走査制御
系等を備えてなる。また、信号発生器２０は、上記集積
回路部品の試料１５へ入力する信号を発生する。そし
て、上記走査形電子顕微鏡１０は、上記信号発生器２０
から信号が入力された試料１５を電子ビームにより走査
して、上記試料１５から放射される二次電子を二次電子
検出器１２により検出する。
走査形電子顕微鏡１０は、電子銃１１が出射する電子ビ
ームにより集積回路部品の試料１５を走査して、上記試
料１５から放射される二次電子を二次電子検出器１２に
より検出するものもので、図示しない排気系や走査制御
系等を備えてなる。また、信号発生器２０は、上記集積
回路部品の試料１５へ入力する信号を発生する。そし
て、上記走査形電子顕微鏡１０は、上記信号発生器２０
から信号が入力された試料１５を電子ビームにより走査
して、上記試料１５から放射される二次電子を二次電子
検出器１２により検出する。
【００１０】また、信号処理装置３０は、上記走査形電
子顕微鏡１０の二次電子検出器１２により、上記試料１
５から放射された二次電子を検出して得られた二次電子
信号が供給されており、この二次電子信号を電位コント
ラスト像や電圧波形に変換すると共に上記二次電子信号
について任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を
求める周波数解析を行う。
子顕微鏡１０の二次電子検出器１２により、上記試料１
５から放射された二次電子を検出して得られた二次電子
信号が供給されており、この二次電子信号を電位コント
ラスト像や電圧波形に変換すると共に上記二次電子信号
について任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を
求める周波数解析を行う。
【００１１】そして、計算機４０は、上記走査形電子顕
微鏡１０、信号発生器２０や信号処理装置３０を走査す
るためにインターフェースとして機能する。この計算機
４０は、画像表示装置５０が接続されており、上記二次
電子信号を信号処理装置３０により変換することにより
得られる電位コントラスト像や電圧波形などを上記画像
表示装置５０で二次元画像表示するようになっている。
微鏡１０、信号発生器２０や信号処理装置３０を走査す
るためにインターフェースとして機能する。この計算機
４０は、画像表示装置５０が接続されており、上記二次
電子信号を信号処理装置３０により変換することにより
得られる電位コントラスト像や電圧波形などを上記画像
表示装置５０で二次元画像表示するようになっている。
【００１２】このＥＢテスタシステム１００で観測され
る集積回路部品の試料１５についての電位コントラスト
像を図２に模式的に示す。この電位コントラスト像は、
モニタ像として上記画像表示装置５０で二次元画像表示
される。上記計算機４０は、このモニタ像の画像領域を
適当な数の画素の集まりに区分し、上記走査形電子顕微
鏡１０を制御して二次元的に電子ビームを走査しなが
ら、区分毎に二次電子信号の電圧波形を観察するよう
に、上記走査形電子顕微鏡１０、信号発生器２０や信号
処理装置３０を制御する。例えば図３に示すように、２
５６×２５６に分けると１枚のモニタ像は６５５３６個
の区分から構成されることになる。そして、上記信号処
理装置３０は、得られた区分毎の電圧波形をフーリエ変
換などの手法を用いて周波数解析することにより、任意
の周波数に対する振幅成分又は位相成分を求める。
る集積回路部品の試料１５についての電位コントラスト
像を図２に模式的に示す。この電位コントラスト像は、
モニタ像として上記画像表示装置５０で二次元画像表示
される。上記計算機４０は、このモニタ像の画像領域を
適当な数の画素の集まりに区分し、上記走査形電子顕微
鏡１０を制御して二次元的に電子ビームを走査しなが
ら、区分毎に二次電子信号の電圧波形を観察するよう
に、上記走査形電子顕微鏡１０、信号発生器２０や信号
処理装置３０を制御する。例えば図３に示すように、２
５６×２５６に分けると１枚のモニタ像は６５５３６個
の区分から構成されることになる。そして、上記信号処
理装置３０は、得られた区分毎の電圧波形をフーリエ変
換などの手法を用いて周波数解析することにより、任意
の周波数に対する振幅成分又は位相成分を求める。
【００１３】例えば、図２に電位コントラスト像を示し
た集積回路部品の試料１５における第１の配線１（１Ａ
Ｌ：第１層のアルミニューム配線）に対応する区分で
は、例えば図４の（Ａ）に示すような電圧波形が観測さ
れ、この電圧波形をフーリエ変換することにより図４の
（Ｂ）に示すような周波数成分が存在していることがわ
かる。また、上記集積回路部品の試料１５における第２
配線２（１ＡＬ：第１層のアルミニューム配線）の区分
では、例えば図５の（Ａ）に示すような電圧波形が観測
され、この電圧波形をフーリエ変換することにより図５
の（Ｂ）に示すような周波数成分が存在していることが
わかる。さらに、上記集積回路部品の試料１５における
第３の配線３（２ＡＬ：第２層のアルミニューム配線）
の区分では、例えば図６の（Ａ）に示すような変化のな
い電圧波形が観測され、この電圧波形をフーリエ変換す
ることにより図６の（Ｂ）に示すように周波数成分が存
在していないことがわかる。そして、例えば周期ｔの周
波数ｆについて着目すると、その周波数ｆの成分は、第
２の配線２の区分でのみ観測されることがわかる。
た集積回路部品の試料１５における第１の配線１（１Ａ
Ｌ：第１層のアルミニューム配線）に対応する区分で
は、例えば図４の（Ａ）に示すような電圧波形が観測さ
れ、この電圧波形をフーリエ変換することにより図４の
（Ｂ）に示すような周波数成分が存在していることがわ
かる。また、上記集積回路部品の試料１５における第２
配線２（１ＡＬ：第１層のアルミニューム配線）の区分
では、例えば図５の（Ａ）に示すような電圧波形が観測
され、この電圧波形をフーリエ変換することにより図５
の（Ｂ）に示すような周波数成分が存在していることが
わかる。さらに、上記集積回路部品の試料１５における
第３の配線３（２ＡＬ：第２層のアルミニューム配線）
の区分では、例えば図６の（Ａ）に示すような変化のな
い電圧波形が観測され、この電圧波形をフーリエ変換す
ることにより図６の（Ｂ）に示すように周波数成分が存
在していないことがわかる。そして、例えば周期ｔの周
波数ｆについて着目すると、その周波数ｆの成分は、第
２の配線２の区分でのみ観測されることがわかる。
【００１４】したがって、区分毎の電圧波形を周波数解
析して、周波数ｆの振幅値を二次元画像表示すると、図
７に示すように、周波数ｆの成分を持つ配線２の領域が
顕著となる結果が得られる。
析して、周波数ｆの振幅値を二次元画像表示すると、図
７に示すように、周波数ｆの成分を持つ配線２の領域が
顕著となる結果が得られる。
【００１５】なお、以上の説明では振幅成分について述
べたが、同様に位相成分についての表示も可能である。
べたが、同様に位相成分についての表示も可能である。
【００１６】このように、このＥＢテスタシステムで
は、集積回路部品の試料１５についての電位コントラス
ト像から任意の周波数の信号像のみを抽出ことにより、
各種動作解析を行うことができる。例えばフラッシュメ
モリの書き込みモードの一連の動作（データ取り込み、
データ書き込み、ベリファイ）から、データ取り込み動
作のみを抽出させ、二次元画像表示することができる。
は、集積回路部品の試料１５についての電位コントラス
ト像から任意の周波数の信号像のみを抽出ことにより、
各種動作解析を行うことができる。例えばフラッシュメ
モリの書き込みモードの一連の動作（データ取り込み、
データ書き込み、ベリファイ）から、データ取り込み動
作のみを抽出させ、二次元画像表示することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、本発明では、信号を入力
した集積回路の試料を電子ビームにより走査して、上記
試料から放射される二次電子を検出し、検出された二次
電子信号について任意の周波数に対する振幅成分又は位
相成分を求める周波数解析を行い、上記任意の周波数に
対する振幅成分又は位相成分を二次元画像表示すること
により、上記集積回路の試料の各種動作解析を行うこと
ができる。
した集積回路の試料を電子ビームにより走査して、上記
試料から放射される二次電子を検出し、検出された二次
電子信号について任意の周波数に対する振幅成分又は位
相成分を求める周波数解析を行い、上記任意の周波数に
対する振幅成分又は位相成分を二次元画像表示すること
により、上記集積回路の試料の各種動作解析を行うこと
ができる。
【図１】本発明を適用したＥＢテスタシステムの構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図２】上記ＥＢテスタシステムで観測される集積回路
部品の試料についての電位コントラスト像を模式的に示
す図である。
部品の試料についての電位コントラスト像を模式的に示
す図である。
【図３】上記ＥＢテスタシステムにおいて２５６×２５
６に分けたモニタ像の区分を示す図である。
６に分けたモニタ像の区分を示す図である。
【図４】集積回路部品の試料における第１の配線に対応
する区分で観測される電圧波形とその周波数成分を示す
図である。
する区分で観測される電圧波形とその周波数成分を示す
図である。
【図５】集積回路部品の試料における第２の配線に対応
する区分で観測される電圧波形とその周波数成分を示す
図である。
する区分で観測される電圧波形とその周波数成分を示す
図である。
【図６】集積回路部品の試料における第３の配線に対応
する区分で観測される電圧波形とその周波数成分を示す
図である。
する区分で観測される電圧波形とその周波数成分を示す
図である。
【図７】上記ＥＢテスタシステムにおいて、区分毎の電
圧波形を周波数解析して、周波数ｆの振幅値を二次元画
像表示した結果を示す図である。
圧波形を周波数解析して、周波数ｆの振幅値を二次元画
像表示した結果を示す図である。
１０ 走査形電子顕微鏡、２０ 信号発生器、３０ 信
号処理装置、４０ 計算機、１１ 電子銃、１２ 二次
電子検出器、１５ 試料、１００ ＥＢテスタシステム
号処理装置、４０ 計算機、１１ 電子銃、１２ 二次
電子検出器、１５ 試料、１００ ＥＢテスタシステム
Claims (2)
- 【請求項１】 集積回路部品の試料に入力する信号を発
生する信号発生装置と、 上記信号発生装置から信号が入力された試料を電子ビー
ムにより走査して、上記試料から放射される二次電子を
検出する走査形電子顕微鏡と、 上記走査形電子顕微鏡により得られた二次電子信号につ
いて任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を求め
る周波数解析を行う信号処理装置と、 上記信号処理装置により解析された任意の周波数に対す
る振幅成分又は位相成分を二次元画像表示する画像表示
装置とを備えることを特徴とする集積回路部品の解析装
置。 - 【請求項２】 集積回路部品の試料に信号を入力し、 信号が入力された試料を電子ビームにより走査して、上
記試料から放射される二次電子を検出し、 検出された二次電子信号について任意の周波数に対する
振幅成分又は位相成分を求める周波数解析を行い、 上記任意の周波数に対する振幅成分又は位相成分を二次
元画像表示することを特徴とする集積回路部品の解析方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9201865A JPH1144663A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | 集積回路部品の解析装置及び解析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9201865A JPH1144663A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | 集積回路部品の解析装置及び解析方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1144663A true JPH1144663A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=16448180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9201865A Withdrawn JPH1144663A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | 集積回路部品の解析装置及び解析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1144663A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7948242B2 (en) | 2004-11-04 | 2011-05-24 | Panasonic Corporation | Integrated circuit and integrated circuit package |
-
1997
- 1997-07-28 JP JP9201865A patent/JPH1144663A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7948242B2 (en) | 2004-11-04 | 2011-05-24 | Panasonic Corporation | Integrated circuit and integrated circuit package |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041005 |