JPH11354610A - 基板搬送装置および基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送装置および基板搬送方法

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JPH11354610A
JPH11354610A JP10163585A JP16358598A JPH11354610A JP H11354610 A JPH11354610 A JP H11354610A JP 10163585 A JP10163585 A JP 10163585A JP 16358598 A JP16358598 A JP 16358598A JP H11354610 A JPH11354610 A JP H11354610A
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JP
Japan
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substrate
blade
transfer
holding table
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP10163585A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuhiro Yoshinaga
光宏 吉永
Hideo Haraguchi
秀夫 原口
Izuru Matsuda
出 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体素子,液晶ディスプレイパネル,太陽
電池等の製造における薄膜形成工程、あるいは微細加工
工程などに用いられる基板搬送装置において、搬送トラ
ブルを未然に防ぐように基板搬送ブレードの撓み量の測
定を装置稼働中に行う。 【解決手段】 ブレード3と基板保持台5との間で処理
基板4を移す際、基板持ち上げピン6で処理基板4を持
ち上げて移す。パルスモータ12により基板持ち上げピ
ン6の上下動を駆動する軸にロードセル11が設けられ
ており、基板持ち上げピン6にかかる荷重の変化時点を
測定するとともに、その変化時点間の駆動用パルスモー
タ12のパルス数を管理し、ブレード3と基板保持台5
との距離を測定してブレード3の撓み量を測定する。撓
み量がある値以上になると基板搬送トラブル発生の可能
性があるとして、エラー信号を出力する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子,液晶
ディスプレイパネル,太陽電池等の製造における薄膜形
成工程、あるいは微細加工工程などに用いられる基板搬
送装置および基板搬送方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、この種の基板搬送装置は、デバイ
スの高性能化とその処理コストの低減のために、高精度
化,高速化,大面積化,低ダメージ化を実現する取り組
みが盛んに行われている。このような中で、特に基板の
大面積化が進み、基板および基板搬送ブレードの大型化
が行われてきた。これに伴い、従来以上に基板搬送ブレ
ードにて重量物を搬送することとなり、搬送ブレードを
構成する各種部品(特にベアリングなど)への負担が大
きくなってきている。そこで、従来以上に基板を精度よ
く搬送し、かつ搬送トラブルの発生を未然に防ぐため
に、基板搬送ブレードの撓み量などを管理する機能を有
する装置が必要とされてきている。
【0003】従来の技術では、真空容器内での基板搬送
中に基板搬送ブレードの位置ずれや撓み量を測定するこ
とは不可能であり、搬送トラブルが起きて初めて基板搬
送ブレードの位置ずれや撓み量が発見される。または、
定期的に規定の測定治具を用いて大気中にて基板搬送ブ
レードの位置ずれや撓み量を測定し、基板搬送トラブル
を未然に防ぐという方法を取るしかなく、装置停止など
が必須であり、生産性低減の原因の一つでもあった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題点を解決するためになされたもので、搬送トラブル
が未然に防げるように基板搬送ブレードの撓み量の測定
を装置稼働中に行うことができる基板搬送装置および基
板搬送方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の基板搬送装置は、真空容器内で処理基板を
搬送するブレードと、処理基板を処理するために載置す
る基板保持台と、前記ブレードと前記基板保持台との間
で処理基板を移す際にその処理基板を持ち上げる基板持
ち上げ機構と、前記基板持ち上げ機構と前記ブレード間
で処理基板を受渡しするときの前記ブレードの撓み量を
検出する手段と、前記ブレードの撓み量が所定の値を超
えたとき基板搬送を不適切と判断する制御手段とを備え
ていることを特徴とする。
【0006】また、本発明の基板搬送方法は、真空容器
内において、基板を搬送するブレードと基板を処理する
基板保持台との間で、基板持ち上げ手段により移す工程
と、前記基板持ち上げ手段が前記ブレードから基板を持
ち上げたとき、あるいは前記ブレードに基板を載置した
とき、前記基板持ち上げ手段に掛かる荷重が変化したこ
とを検出する工程と、荷重の変化位置と前記基板保持台
との距離を検出する工程とを有し、その距離から測定さ
れる前記ブレードの撓み量が所定の値を超えたとき、基
板搬送を不適切と判断することを特徴とする。
【0007】前記基板搬送装置または基板搬送方法によ
れば、装置稼働中の真空容器内で基板搬送ブレードの位
置ずれや撓み量を測定することが可能になり、基板の搬
送トラブルを未然に防ぎ、装置の信頼性を高め、製品不
良を無くすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0009】図1は、本発明の一実施の形態における基
板搬送装置を示したものであり、ドライエッチング装置
を例にしている。
【0010】図1において、1は真空排気手段と反応ガ
ス供給手段とを有する真空容器、2は真空排気手段を有
する真空容器、7は真空容器1と真空容器2とを区切る
ゲートである。3は真空容器1と真空容器2との間の基
板搬送を行うブレード、4は処理基板、5は基板保持台
である。基板保持台5の内部には、処理基板4を持ち上
げる基板持ち上げピン6、基板持ち上げピン6から延び
たボールネジ8を有している。ボールネジ8はベローズ
9が被って大気よりシールされており、ボールネジ8の
端部は駆動源となるパルスモータ12の回転軸と直結さ
れている。また、パルスモータ12の回転軸には基板持
ち上げピン6にかかる荷重を検出する歪ゲージ式のロー
ドセル11が設けられており、そのロードセル11のデ
ータは装置制御回路13に送られ、パルスモータ12の
パルス数も装置制御回路13で管理されるようになって
いる。
【0011】次に、上記のように構成された基板搬送装
置について、その動作を説明する。真空容器1,2を真
空にし、両者が同圧の真空状態になった時、ゲート7を
開けて、ブレード3により処理基板4を真空容器2から
真空容器1に搬送する。パルスモータ12が回転し、基
板持ち上げピン6が上昇し、処理基板4はブレード3よ
り上方に持ち上げられる。処理基板4を持ち上げている
間にブレード3は真空容器2に戻り、ゲート7が閉ま
る。この後、パルスモータ12およびボールネジ8が回
転し、基板持ち上げピン6が下降して、処理基板4は基
板保持台5の上に載置される。
【0012】真空容器1において、処理基板4がドライ
エッチング処理(詳細な説明は省略する)された後、再
度真空容器1,2は真空排気される。真空容器1,2が
同圧に真空排気された後、前記動作とは逆の動作で、処
理基板4は基板持ち上げピン6により基板保持台5から
持ち上げられ、ゲート7が開き、ブレード3が処理基板
4の下に移動し、基板持ち上げピン6が下降する。処理
基板4も下降してブレード3上に載り、ブレード3は真
空容器2に移動してゲート7は閉まる。
【0013】次に、この処理基板4の受渡しの際にブレ
ード3の撓み量を検出する方法について述べる。ロード
セル11は基板持ち上げピン6の中心軸と一致している
ため、持ち上げ力そのものをロードセル11の電気信号
として取り込むことができ、処理基板4の荷重がブレー
ド3から基板持ち上げピン6に移動した時点を装置制御
回路13に持ち上げ力の変化点として入力させる。ま
た、基板持ち上げピン6を上下させるパルスモータ12
のパルス数は常時装置制御回路13に伝達されている。
そして、ロードセル11からの持ち上げ力変化時点のパ
ルスモータ12のパルス数から基板保持台5とブレード
3との距離を測定し、その値がある範囲から外れたとき
は、ブレード3または搬送ブレード全体に撓みが発生し
ており、搬送トラブル発生の可能性があるとして装置制
御回路13が判断してエラー信号を出力する。
【0014】また、処理基板4を基板保持台5から持ち
上げピン6によりブレード3に移すときも同様に、ロー
ドセル11に掛かっている処理基板4の荷重がなくなっ
た時のタイミングでのパルスモータ12のパルス数から
基板保持台5とブレード3との距離を求め、ある範囲外
であるときは不適切な基板受渡しが今後行われる可能性
があるとして、エラー信号を発信し、基板受渡しのミス
を防止することができる。
【0015】なお、本実施の形態において、ドライエッ
チング装置を例に取って説明したが、プラズマCVD装
置やスパッタリング装置、あるいはアッシング装置等に
本発明が適用されることは言うまでもない。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板受渡し時のエラーを未然に防ぐことができ、装置の
信頼性を高め、生産性向上や製品不良を無くするという
有利な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態における基板搬送装置の
構成図
【符号の説明】
1,2 真空容器 3 ブレード 4 処理基板 5 基板保持台 6 持ち上げピン 7 ゲート 8 ボールネジ 9 ベローズ 11 ロードセル 12 パルスモータ 13 装置制御回路

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空容器内で処理基板を搬送するブレー
    ドと、処理基板を処理するために載置する基板保持台
    と、前記ブレードと前記基板保持台との間で処理基板を
    移す際にその処理基板を持ち上げる基板持ち上げ機構
    と、前記基板持ち上げ機構と前記ブレード間で処理基板
    を受渡しするときの前記ブレードの撓み量を検出する手
    段と、前記ブレードの撓み量が所定の値を超えたとき基
    板搬送を不適切と判断する制御手段とを備えていること
    を特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 基板持ち上げ機構は、真空容器内に配置
    された基板持ち上げピンと、前記基板持ち上げピンから
    延びかつ真空シール材としてのベローズで覆われた駆動
    軸と、この駆動軸に回転軸が直結された駆動用のモータ
    と、前記モータの回転軸に設けられ前記ブレードの撓み
    量を測定する測定器からなることを特徴とする請求項1
    記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 測定器は歪ゲージ式ロードセル、モータ
    はパルスモータからなり、基板持ち上げピンがブレード
    と基板保持台の一方から処理基板を受け取り、他方に渡
    す際の前記歪ゲージ式ロードセルに掛かる荷重の変化時
    点とその時点間の前記パルスモータのパルス数を制御手
    段に取り込むことを特徴とする請求項2記載の基板搬送
    装置。
  4. 【請求項4】 制御手段は、パルスモータのパルス数を
    データとして管理し、そのパルス数からブレードの撓み
    量を測定し、その値が所定の範囲を外れたとき基板搬送
    を不適切と判断し、表示することを特徴とする請求項3
    記載の基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 真空容器内において、ブレードにより搬
    送した基板を、基板持ち上げ手段により基板保持台に移
    す工程と、前記基板持ち上げ手段が前記ブレードから基
    板を持ち上げたとき、前記基板持ち上げ手段に掛かる荷
    重が変化したことを検出する工程と、荷重の変化位置と
    基板を載置する基板保持台との距離を検出する工程とを
    有し、その距離から測定される前記ブレードの撓み量が
    所定の値を超えたとき、基板搬送を不適切と判断するこ
    とを特徴とする基板搬送方法。
  6. 【請求項6】 真空容器内において、基板保持台で処理
    した基板を、基板持ち上げ手段により基板を搬送するブ
    レードに移す工程と、前記基板持ち上げ手段が前記ブレ
    ードに基板を載置したとき、前記基板持ち上げ手段に掛
    かる荷重が変化したことを検出する工程と、荷重の変化
    位置と前記基板保持台との距離を検出する工程とを有
    し、その距離から測定される前記ブレードの撓み量が所
    定の値を超えたとき、基板搬送を不適切と判断すること
    を特徴とする基板搬送方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023228761A1 (ja) * 2022-05-24 2023-11-30 東京エレクトロン株式会社 基板保持具、基板処理装置及び基板搬送方法
US11984344B2 (en) 2019-11-25 2024-05-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Lift apparatus and substrate processing apparatus including the same

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