JPH11352200A - Damage analysing method of semiconductor integrated circuit - Google Patents

Damage analysing method of semiconductor integrated circuit

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JPH11352200A
JPH11352200A JP10156027A JP15602798A JPH11352200A JP H11352200 A JPH11352200 A JP H11352200A JP 10156027 A JP10156027 A JP 10156027A JP 15602798 A JP15602798 A JP 15602798A JP H11352200 A JPH11352200 A JP H11352200A
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JP
Japan
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failure
test
test pattern
integrated circuit
semiconductor integrated
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JP10156027A
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Japanese (ja)
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Akimitsu Tateishi
石 昭 光 立
Mitsuaki Ishikawa
川 光 昭 石
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a damage analysis method of a semiconductor integrated circuit capable of shortening the analysis time by reducing the candidates of a damaged portion and the number of steps for the damage analysis. SOLUTION: A non-compressed test pattern 110 and a non-compressed damage dictionary 111 are produced using a connection data 101 of a circuit. A test of a semiconductor integrated circuit 112 is carried out using the non-compressed test pattern 110 to produce a manufacture test result 114. The candidates of a damaged portion are extracted using the manufacture test result 114 and the non-compressed damage dictionary 111 to prepare a list 116. Damage analysis is carried out based on the list 116 to specify a damaged portion. Thus, the number of detectable damage candidates is reduced by the respective test patterns by using the non-compressed test patterns and a reduction of the number of analysis steps and shortening of an analysis time can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
おける故障部位を特定するための故障解析方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a failure analysis method for specifying a failure site in a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路を不良品と判定した場
合、故障部位を特定するために故障解析を行う。故障解
析は、一般に故障シミュレータ及びテストパターン自動
生成処理を用いて、テストパターンと、このテストパタ
ーンにより検出可能な故障部位の候補を示す故障辞書を
生成して行う。そして、故障を解析して得られた結果
は、製造工程へ迅速にフィードバックする必要がある。
2. Description of the Related Art When a semiconductor integrated circuit is determined to be defective, a failure analysis is performed to identify a failed part. The failure analysis is generally performed by using a failure simulator and a test pattern automatic generation process to generate a test pattern and a failure dictionary indicating candidates for a failure part detectable by the test pattern. The result obtained by analyzing the failure needs to be promptly fed back to the manufacturing process.

【0003】従来の故障解析方法における処理の手順を
図11に示す。半導体集積回路の論理的な接続関係を示
す接続データ901と、テストパターンを自動生成する
ために必要な情報を収集したテストパターン自動生成用
ライブラリ902とがテストパターン自動生成処理工程
903に与えられる。このテストパターン自動生成処理
工程903には、発生したテストパターンを圧縮する処
理を行う工程904が含まれている。例えば、テストパ
ターン0(010101)で検出可能な故障部位の候補
がa、テストパターン1(100100)で検出可能な
故障部位の候補がb及びc、テストパターン2(011
101)で検出可能な故障部位の候補がa及びc、テス
トパターン3(111000)で検出可能な故障部位の
候補がa、b及びcであるとする。テストパターン3は
故障部位の候補a、b及びcの全てが検出可能であり、
テストパターン0〜2と故障部位の候補が重複してい
る。よって、これらのテストパターン0〜2を削除し、
テストパターン3のみを用いることで、テストパターン
のデータ量を削減し、テスト時間を短縮することができ
る。また、テストパターン自動生成処理工程903は、
故障辞書906を生成して出力する。この故障辞書90
6は、上述したようにテストパターンとこのパターンで
検出可能な故障部位の候補との対応表に相当するもので
ある。
FIG. 11 shows a procedure of processing in a conventional failure analysis method. The connection data 901 indicating the logical connection relationship of the semiconductor integrated circuit and the test pattern automatic generation library 902 which collects information necessary for automatically generating a test pattern are provided to the test pattern automatic generation processing step 903. The test pattern automatic generation processing step 903 includes a step 904 of performing processing for compressing the generated test pattern. For example, a candidate for a failure part detectable in the test pattern 0 (010101) is a, a candidate for a failure part detectable in the test pattern 1 (100100) is b and c, and the test pattern 2 (011)
It is assumed that the candidates for the failure part detectable in 101) are a and c, and the candidates for the failure part detectable in test pattern 3 (111000) are a, b, and c. The test pattern 3 can detect all of the failure site candidates a, b, and c,
The test patterns 0 to 2 and the failure site candidates are overlapping. Therefore, these test patterns 0 to 2 are deleted,
By using only the test pattern 3, the data amount of the test pattern can be reduced, and the test time can be reduced. Further, the test pattern automatic generation processing step 903 includes:
A failure dictionary 906 is generated and output. This failure dictionary 90
Reference numeral 6 corresponds to the correspondence table between the test pattern and the candidates for the faulty part detectable by this pattern as described above.

【0004】このようにして圧縮されたテストパターン
905が、製造試験工程908に入力される。製造試験
工程908では、実際に製造されて得られた半導体集積
回路907にテストパターン905に基づいて電気信号
等が印加されて試験が行われ、製造試験結果909が出
力される。
[0004] The test pattern 905 thus compressed is input to a manufacturing test process 908. In the manufacturing test step 908, an electric signal or the like is applied to the semiconductor integrated circuit 907 actually manufactured based on the test pattern 905 to perform a test, and a manufacturing test result 909 is output.

【0005】故障部位候補抽出処理工程910に、製造
試験結果909と故障辞書906とが入力され、故障部
位の候補を示すリスト911が出力されて故障解析工程
912に送られる。
[0005] The manufacturing test result 909 and the failure dictionary 906 are input to the failure part candidate extraction processing step 910, and a list 911 indicating the failure part candidates is output and sent to the failure analysis step 912.

【0006】故障解析工程912では、故障部位候補リ
スト911に基づいて故障解析が行われ、故障部位が特
定される。
In the failure analysis step 912, failure analysis is performed based on the failure part candidate list 911, and a failure part is specified.

【0007】上述した故障解析方法では、テストパター
ンを工程903において自動的に発生したものを用いて
試験を行っている。これに対し、以下に述べる従来の他
の故障解析方法では、人手を介して作成したテストパタ
ーンを用いており、この解析方法の手順を図12に示
す。
In the above-described failure analysis method, a test is performed using a test pattern automatically generated in step 903. On the other hand, another conventional failure analysis method described below uses a test pattern created manually, and the procedure of this analysis method is shown in FIG.

【0008】回路の論理的接続関係を示した接続データ
1001及び上記テストパターン1002と、故障シミ
ュレータ用ライブラリ1003とが故障シミュレータ1
004に与えられる。これにより、故障シミュレータ1
004において故障辞書1005が生成されて出力され
る。
The connection data 1001 indicating the logical connection relationship of the circuit and the test pattern 1002 and the failure simulator library 1003 are stored in the failure simulator 1
004. Thereby, the failure simulator 1
At 004, a failure dictionary 1005 is generated and output.

【0009】出力された故障辞書1005とテストパタ
ーン1002とが製造試験工程1007に与えられ、製
造された半導体集積回路1006に対して試験が行わ
れ、製造試験結果1008が出力される。故障部位候補
抽出処理工程1009においてこの製造試験結果100
8と故障辞書1005とが用いられ、故障部位候補リス
ト1010が生成される。故障解析工程1011にこの
リスト1010が入力され、故障解析が行われて故障部
位が特定される。
The output failure dictionary 1005 and test pattern 1002 are provided to a manufacturing test process 1007, a test is performed on the manufactured semiconductor integrated circuit 1006, and a manufacturing test result 1008 is output. In the failure part candidate extraction processing step 1009, this manufacturing test result 100
8 and the failure dictionary 1005 are used to generate a failure site candidate list 1010. This list 1010 is input to the failure analysis step 1011, and a failure analysis is performed to identify a failure part.

【0010】さらに、従来の他の故障解析方法の手順を
図13に示す。この解析方法では、テストパターンを自
動的に生成して試験を行う。接続データ1101とテス
トパターン自動生成用ライブラリ1102とがテストパ
ターン自動生成処理工程1103に与えられ、テストパ
ターン1104及び故障辞書1105が生成される。こ
のテストパターン1104が製造試験工程1107に与
えられ、製造された半導体集積回路1106に試験が行
われて製造試験結果1108が出力される。
FIG. 13 shows the procedure of another conventional failure analysis method. In this analysis method, a test is performed by automatically generating a test pattern. The connection data 1101 and the test pattern automatic generation library 1102 are provided to an automatic test pattern generation processing step 1103, and a test pattern 1104 and a failure dictionary 1105 are generated. The test pattern 1104 is provided to a manufacturing test step 1107, and a test is performed on the manufactured semiconductor integrated circuit 1106 to output a manufacturing test result 1108.

【0011】製造試験結果1108と故障辞書1105
とが故障部位候補抽出処理工程1109に入力され、故
障部位候補リスト1110が生成されて故障解析工程1
111に与えられる。故障解析工程1111において故
障部位候補リスト1110が用いられて故障解析が行わ
れ、故障部位が特定される。
Manufacturing test result 1108 and failure dictionary 1105
Is input to the failure part candidate extraction processing step 1109, a failure part candidate list 1110 is generated, and the failure analysis step 1109 is performed.
111. In the failure analysis step 1111, a failure analysis is performed using the failure part candidate list 1110, and a failure part is specified.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかし、半導体集積回
路の大規模化に伴い、一つのテストパターンで検出可能
な故障部位の候補数が増加し、故障部位を特定すること
が困難になってきた。即ち、故障部位の候補数が増加す
ると、故障解析工程912、1011又は1111にお
ける工数が増えるので、解析処理が繁雑になる。特に、
テストパターン自動発生処理工程903により圧縮され
たテストパターンを用いると、上述のようにパターンの
数は減少するが一つのパターンで検出可能な故障部位の
候補数が増大するので、解析に要する時間が増大する。
However, as the size of the semiconductor integrated circuit increases, the number of candidates for a faulty part which can be detected by one test pattern increases, and it becomes difficult to specify the faulty part. . In other words, if the number of failure site candidates increases, the number of steps in the failure analysis process 912, 1011 or 1111 increases, and the analysis process becomes complicated. Especially,
When the test patterns compressed in the test pattern automatic generation processing step 903 are used, the number of patterns decreases as described above, but the number of candidates for a faulty part that can be detected by one pattern increases. Increase.

【0013】また、回路設計においても故障の制御や観
測を容易に行うためのテスト容易化設計手法は確立され
ているが、故障部位の特定を容易化するための設計手法
は確立されていない。
In circuit design, a testability design method for easily controlling and observing a fault has been established, but a design method for facilitating identification of a faulty part has not been established.

【0014】本発明は上記事情に鑑み、一つのテストパ
ターンで検出可能な故障部位の候補数を減少させること
で故障部位の特定を容易化し、故障解析の工数を低減し
解析時間を短縮することが可能な半導体集積回路の故障
解析方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, the present invention facilitates the identification of a faulty part by reducing the number of candidates for a faulty part that can be detected by one test pattern, and reduces the man-hour for failure analysis and shortens the analysis time. It is an object of the present invention to provide a method for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit, which is capable of performing the above.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
の故障解析方法は、半導体集積回路にテストパターンを
与えて試験を行い、故障部位を特定するための解析を行
う方法であって、半導体集積回路の接続データを用い
て、圧縮されていないテストパターンと、このテストパ
ターンに対応した故障辞書とを生成する工程と、生成さ
れた前記テストパターンを用いて半導体集積回路の試験
を行い、試験結果を生成する工程と、前記試験結果と前
記故障辞書とを用いて、故障部位の候補を抽出する工程
と、抽出された前記故障部位の候補に基づいて故障解析
を行い、故障部位を特定する工程とを備えることを特徴
としている。
A failure analysis method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a method for performing a test by giving a test pattern to a semiconductor integrated circuit and performing an analysis for specifying a failure portion. A step of generating an uncompressed test pattern and a failure dictionary corresponding to the test pattern using the connection data of the integrated circuit; and performing a test on the semiconductor integrated circuit using the generated test pattern. Generating a result, using the test result and the failure dictionary, extracting a candidate for a failure part, performing failure analysis based on the extracted candidate for the failure part, and specifying the failure part And a process.

【0016】圧縮されていないテストパターンを用いる
ことで、各々のテストパターンにより検出可能な故障候
補の数が減少し、解析工数の減少及び解析時間の短縮が
可能となる。
By using uncompressed test patterns, the number of fault candidates detectable by each test pattern is reduced, and the number of analysis steps and the analysis time can be reduced.

【0017】また、本発明の半導体集積回路の故障解析
方法は、半導体集積回路の接続データを用いて第一次テ
ストパターンと、この第一次テストパターンに対応した
第一次故障辞書とを生成する工程と、生成された前記第
一次テストパターンを用いて半導体集積回路の試験を行
い、第一次試験結果を生成する工程と、前記第一次試験
結果と前記第一次故障辞書とを用いて、故障部位の候補
を抽出して第一次故障部位候補リストを作成する工程
と、前記第一次故障部位候補リストを用いて、特定の部
位に故障が存在すると仮定する工程と、仮定した前記特
定の部位に伝播させるためのテストパターンを1組又は
複数組作成し、前記テストパターンが1組であるときは
このテストパターンを第二次テストパターンとし、前記
テストパターンが複数組存在する場合は、検出可能な故
障部位の数が最も少ないものを第二次テストパターンと
して選択する工程と、前記第二次テストパターンに対応
した第二次故障辞書を作成する工程と、前記第二次テス
トパターンを用いて半導体集積回路の試験を行い、第二
次試験結果を生成する工程と、前記第二次試験結果と前
記第二次故障辞書とを用いて、故障部位の候補を抽出し
て第二次故障部位候補リストを作成する工程と、前記第
二次故障部位候補リストを用いて故障解析を行い、故障
部位を特定する工程とを備えている。
Further, in the failure analysis method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, a primary test pattern and a primary failure dictionary corresponding to the primary test pattern are generated using connection data of the semiconductor integrated circuit. Performing a test of the semiconductor integrated circuit using the generated primary test pattern, and generating a primary test result, the primary test result and the primary failure dictionary Extracting a candidate for a failure site to create a primary failure site candidate list; andusing the primary failure site candidate list to assume that a failure exists at a specific site. One or a plurality of test patterns to be propagated to the specific part are created, and when the test pattern is one set, this test pattern is used as a secondary test pattern, and the test pattern is duplicated. If there is a set, the step of selecting the smallest number of detectable failure sites as the secondary test pattern, and creating a secondary failure dictionary corresponding to the secondary test pattern, Performing a test of the semiconductor integrated circuit using the secondary test pattern, generating a secondary test result, and using the secondary test result and the secondary failure dictionary to determine a candidate for a failed part. The method includes the steps of extracting and creating a secondary failure site candidate list, and performing a failure analysis using the secondary failure site candidate list to identify a failure site.

【0018】あるいは、本発明の半導体集積回路の故障
解析方法は、半導体集積回路に固有の特定の故障部位の
候補を示す情報と、前記テストパターンとを用いて、前
記特定の故障部位の候補に伝播させるために編集した編
集テストパターンを作成し、さらにこの編集テストパタ
ーンに対応した故障辞書を作成する工程と、作成した前
記編集テストパターンを用いて半導体集積回路の試験を
行い、試験結果を生成する工程と、前記試験結果と前記
故障辞書とを用いて、故障部位の候補を抽出する工程
と、抽出された前記故障部位の候補に基づいて故障解析
を行い、故障部位を特定する工程とを備えている。
Alternatively, the method for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit according to the present invention uses the information indicating candidates for a specific failure site unique to the semiconductor integrated circuit and the test pattern as the candidate for the specific failure site. A step of creating an edited test pattern edited for propagation and a step of creating a failure dictionary corresponding to the edited test pattern; and performing a test of the semiconductor integrated circuit using the created edited test pattern to generate a test result. Using the test result and the failure dictionary to extract a candidate for a failed part; performing a failure analysis based on the extracted candidate for the failed part; and identifying a failed part. Have.

【0019】さらに、本発明の半導体集積回路の故障解
析方法は、半導体集積回路の接続データと、半導体集積
回路に固有の特定の故障部位の候補を示す情報とを用い
て、前記特定の故障部位の候補にテストパターンを伝播
させるときの観測性が向上する回路を付加する処理を行
う工程と、前記回路を付加した後の半導体集積回路の接
続データを用いて、テストパターンと、このテストパタ
ーンに対応した故障辞書とを作成する工程と、作成した
前記テストパターンを用いて半導体集積回路の試験を行
い、試験結果を生成する工程と、前記試験結果と前記故
障辞書とを用いて、故障部位の候補を抽出する工程と、
抽出された前記故障部位の候補に基づいて故障解析を行
い、故障部位を特定する工程とを備えている。
Further, the method for analyzing a failure in a semiconductor integrated circuit according to the present invention uses the connection data of the semiconductor integrated circuit and information indicating a candidate for a specific failure site specific to the semiconductor integrated circuit. Performing a process of adding a circuit that improves the observability when propagating the test pattern to the candidate, and using the connection data of the semiconductor integrated circuit after the circuit is added, using the test pattern and the test pattern. A step of creating a corresponding failure dictionary; a step of performing a test of the semiconductor integrated circuit using the created test pattern; and a step of generating a test result; and Extracting candidates;
Performing a failure analysis based on the extracted failure site candidates to identify the failure site.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】本発明の第1の実施の形態による半導体集
積回路の故障解析方法は、図1に示されるような手順で
処理を行う。回路の接続データ101と、テストパター
ン自動生成用ライブラリ102とがテストパターン自動
生成処理工程103に与えられ、テストパターンと故障
辞書とが生成される。ここで、工程103にはテストパ
ターン圧縮処理104が含まれており、圧縮されたテス
トパターン105と、このテストパターン105に対応
する辞書106と、圧縮処理により捨てられたテストパ
ターン及び捨てられたパターンに対応する辞書に関する
非圧縮情報107とが生成されて出力される。
The failure analysis method for a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention performs processing according to the procedure shown in FIG. The circuit connection data 101 and the test pattern automatic generation library 102 are given to the test pattern automatic generation processing step 103, and a test pattern and a fault dictionary are generated. Here, the step 103 includes a test pattern compression process 104, a compressed test pattern 105, a dictionary 106 corresponding to the test pattern 105, a test pattern discarded by the compression process, and a discarded pattern. Is generated and output.

【0022】上述したように、圧縮前のテストパターン
が例えばテストパターン0(010101)で検出可能
な故障部位の候補がa、テストパターン1(10010
0)で検出可能な故障部位の候補がb及びc、テストパ
ターン2(011101)で検出可能な故障部位の候補
がa及びc、テストパターン3(111000)で検出
可能な故障部位の候補がa、b及びcであるとする。こ
の場合、圧縮後のテストパターンとして、故障部位の候
補a、b及びcの全てを含むテストパターン3のみが抽
出され、他のテストパターン0〜2は圧縮により捨てら
れて非圧縮情報107に含まれる。
As described above, the test pattern before compression can be detected, for example, in test pattern 0 (010101) as a candidate for a failure part, and test pattern 1 (10010
0), b and c are candidates for a failure site that can be detected in the test pattern 2 (011101), a and c are candidates for a failure site that can be detected in the test pattern 3 (111000), and a is a candidate for a failure site that can be detected in the test pattern 3 (111000). , B and c. In this case, as the test pattern after compression, only the test pattern 3 including all the failure site candidates a, b, and c is extracted, and the other test patterns 0 to 2 are discarded by compression and included in the uncompressed information 107. It is.

【0023】圧縮テストパターン105と、製造された
半導体集積回路112とが製造試験工程118に与えら
れ、試験が行われて製造試験結果119が出力される。
工程120において、製造試験結果119を用いて故障
が存在すると判定した場合は、以降の処理108、10
9へ移る。
The compressed test pattern 105 and the manufactured semiconductor integrated circuit 112 are provided to a manufacturing test step 118, where a test is performed and a manufacturing test result 119 is output.
If it is determined in step 120 that a failure exists using the manufacturing test result 119, the subsequent processes 108, 10
Move to 9.

【0024】圧縮テストパターン105と非圧縮情報1
07とが非圧縮テストパターン生成処理工程108に入
力され、圧縮前のテストパターン110が生成されて出
力される。即ち、上記テストパターン0〜3を例にとる
と、圧縮後のテストパターン3と圧縮情報に含まれるテ
ストパターン0〜2を合成した全てのテストパターン0
〜3に戻される。
Compression test pattern 105 and uncompressed information 1
07 is input to the non-compressed test pattern generation processing step 108, and the test pattern 110 before compression is generated and output. That is, taking the above test patterns 0 to 3 as an example, all the test patterns 0 obtained by synthesizing the test pattern 3 after compression and the test patterns 0 to 2 included in the compression information.
Returned to ~ 3.

【0025】同様に、圧縮後のテストパターンとこれに
より検出可能な故障部位の候補との対応関係を示した故
障辞書106と非圧縮情報107とが非圧縮故障辞書作
成処理109に入力され、圧縮前の非圧縮テストパター
ン110とこれにより検出可能な故障部位の候補との対
応表に相当する非圧縮故障辞書111が生成される。非
圧縮テストパターン110と、故障の存在する上記半導
体集積回路112とが製造試験工程113に与えられて
試験が行われ、製造試験結果114が出力される。この
製造試験結果114と非圧縮故障辞書111とが故障部
位候補抽出処理工程115に入力され、故障部位候補リ
スト116が生成される。故障解析工程117におい
て、故障部位候補リスト116が用いられて故障解析が
行われ、故障部位が特定される。
Similarly, the failure dictionary 106 and the non-compression information 107 indicating the correspondence between the compressed test pattern and the candidates of the failure parts detectable by the test pattern are input to the non-compression failure dictionary creation processing 109, An uncompressed failure dictionary 111 corresponding to a correspondence table between the previous uncompressed test pattern 110 and a candidate for a failure part that can be detected thereby is generated. The uncompressed test pattern 110 and the semiconductor integrated circuit 112 having a failure are provided to a manufacturing test step 113 to perform a test, and a manufacturing test result 114 is output. The manufacturing test result 114 and the uncompressed failure dictionary 111 are input to the failure part candidate extraction processing step 115, and a failure part candidate list 116 is generated. In the failure analysis step 117, a failure analysis is performed using the failure part candidate list 116, and a failure part is specified.

【0026】このように、本実施の形態は非圧縮テスト
パターン110とこのテストパターン110に対応した
非圧縮故障辞書111とを用いて故障部位を特定する。
非圧縮テストパターン110は、上述したように圧縮テ
ストパターン105よりもテストパターンのデータ量は
多いが、一つ一つのテストパターンにより検出可能な故
障部位の候補数は少ない。よって、故障解析の工数が減
少し、解析に要する時間を短縮することができる。
As described above, in the present embodiment, a failure site is specified using the uncompressed test pattern 110 and the uncompressed failure dictionary 111 corresponding to the test pattern 110.
As described above, the uncompressed test pattern 110 has a larger test pattern data amount than the compressed test pattern 105, but has a smaller number of failure site candidates that can be detected by each test pattern. Therefore, the number of steps for failure analysis is reduced, and the time required for analysis can be reduced.

【0027】本発明の第2の実施の形態は、図2に示さ
れるような工程を備えている。上記第1の実施の形態と
同様に、回路の接続データ201と、テストパターン自
動生成用ライブラリ202とがテストパターン自動生成
処理工程203に与えられる。この工程203には、テ
ストパターン圧縮処理工程204が含まれている。そし
て、上記第1の実施の形態とは異なり、工程203にお
いて、圧縮される前の非圧縮テストパターンと圧縮後の
テストパターンとが混合した圧縮/非圧縮混合テストパ
ターン205と、この混合テストパターン205と検出
可能な故障部位の候補との関係を示した圧縮/非圧縮混
合故障辞書206とが生成されて出力される。
The second embodiment of the present invention includes steps as shown in FIG. As in the first embodiment, the circuit connection data 201 and the test pattern automatic generation library 202 are provided to the test pattern automatic generation processing step 203. This step 203 includes a test pattern compression processing step 204. Unlike the first embodiment, in step 203, a compressed / uncompressed mixed test pattern 205 in which an uncompressed test pattern before compression and a test pattern after compression are mixed, and the mixed test pattern 205 A compressed / non-compressed mixed fault dictionary 206 indicating the relationship between 205 and a detectable fault site candidate is generated and output.

【0028】圧縮/非圧縮混合テストパターン205は
非圧縮テストパターン抽出処理工程209に入力され、
非圧縮テストパターン209が出力される。さらに、圧
縮/非圧縮混合故障辞書206は非圧縮故障辞書抽出処
理208に入力されて非圧縮故障辞書210が出力され
る。
The compressed / uncompressed mixed test pattern 205 is input to an uncompressed test pattern extraction processing step 209,
An uncompressed test pattern 209 is output. Further, the compressed / non-compressed mixed fault dictionary 206 is input to the non-compressed fault dictionary extraction processing 208, and the non-compressed fault dictionary 210 is output.

【0029】非圧縮テストパターン209が製造試験工
程212に与えられ、製造された半導体集積回路211
が試験されて製造試験結果213が出力される。故障部
位候補抽出処理工程214に、非圧縮故障辞書210と
製造試験結果213とが与えられ、故障部位候補リスト
215が生成されて故障解析工程216に出力される。
故障解析工程216において故障部位候補リスト215
に基づいて故障解析が行われ、故障部位が特定される。
The uncompressed test pattern 209 is provided to the manufacturing test step 212, and the manufactured semiconductor integrated circuit 211 is manufactured.
Are tested, and a production test result 213 is output. The uncompressed failure dictionary 210 and the manufacturing test result 213 are given to the failure part candidate extraction processing step 214, and a failure part candidate list 215 is generated and output to the failure analysis step 216.
Failure part candidate list 215 in failure analysis step 216
A failure analysis is performed on the basis of the data, and a failure site is specified.

【0030】本実施の形態では、非圧縮テストパターン
209と非圧縮故障辞書210とを抽出して故障部位の
特定を行うことにより、各々のテストパターンで検出可
能な故障部位の候補数を減少させ、故障解析の工数及び
時間を短縮することができる。
In the present embodiment, by extracting the uncompressed test pattern 209 and the uncompressed fault dictionary 210 and specifying the fault site, the number of fault site candidates detectable in each test pattern is reduced. In addition, the man-hour and time for the failure analysis can be reduced.

【0031】本発明の第3の実施の形態は、図3に示さ
れるような構成を備える。回路の接続データ301と、
テストパターン自動生成用ライブラリ302とがテスト
パターン自動生成処理工程303に与えられる。工程3
03には、テストパターン圧縮処理工程304が含まれ
ており、工程303から圧縮されたテストパターン40
5と、圧縮される前の非圧縮テストパターン307とが
生成され、この圧縮テストパターン305に対応した故
障辞書306と、非圧縮故障辞書308とが生成されて
出力される。
The third embodiment of the present invention has a configuration as shown in FIG. Circuit connection data 301;
The test pattern automatic generation library 302 is provided to a test pattern automatic generation processing step 303. Step 3
03 includes a test pattern compression processing step 304, in which the compressed test pattern 40
5 and an uncompressed test pattern 307 before compression are generated, and a failure dictionary 306 and an uncompressed failure dictionary 308 corresponding to the compressed test pattern 305 are generated and output.

【0032】工程303から出力された情報のうち、非
圧縮テストパターン307と非圧縮故障辞書308のみ
が以降の工程において用いられる。非圧縮テストパター
ン307と、製造された半導体集積回路309とが製造
試験工程310に与えられ、試験が行われて製造試験結
果311が出力される。この製造試験結果311と非圧
縮故障辞書308とが故障部位候補抽出処理工程312
に入力され、故障部位候補リスト313が生成される。
故障解析工程314において、故障部位候補リスト31
3が用いられて故障解析が行われ、故障部位が特定され
る。
Of the information output from step 303, only the uncompressed test pattern 307 and the uncompressed failure dictionary 308 are used in the subsequent steps. The uncompressed test pattern 307 and the manufactured semiconductor integrated circuit 309 are provided to the manufacturing test step 310, where the test is performed and the manufacturing test result 311 is output. The manufacturing test result 311 and the non-compressed failure dictionary 308 are used as a failure part candidate extraction processing step 312.
And a failure site candidate list 313 is generated.
In the failure analysis step 314, the failure part candidate list 31
3 is used to perform a failure analysis, and a failure site is specified.

【0033】本実施の形態によれば、非圧縮テストパタ
ーン307と非圧縮故障辞書308とを用いて故障部位
を特定するので、各々のテストパターンで検出可能な故
障部位の候補数を減らすことで、故障解析の工数の減少
及び解析時間の短縮が可能である。
According to the present embodiment, a failure site is specified using the uncompressed test pattern 307 and the uncompressed failure dictionary 308, so that the number of failure site candidates detectable in each test pattern is reduced. In addition, the number of man-hours for failure analysis and the analysis time can be reduced.

【0034】上述した第1〜第3の実施の形態では、非
圧縮テストパターン及び非圧縮故障辞書を用いて試験及
び故障部位候補の抽出を行っている。これに対し、以下
に述べる第4、第5及び第6の実施の形態は、圧縮され
たテストパターン及び故障辞書を用いる。
In the above-described first to third embodiments, the test and the extraction of the failure site candidate are performed using the uncompressed test pattern and the uncompressed fault dictionary. On the other hand, the fourth, fifth, and sixth embodiments described below use a compressed test pattern and a fault dictionary.

【0035】本発明の第4の実施の形態は、図4に示さ
れるような構成を備えている。ここで、接続データ40
1、テストパターン自動生成用ライブラリ402、第一
次テストパターン自動生成処理工程403、第一次テス
トパターン404、第一次故障辞書405、半導体集積
回路406、第一次製造試験工程407、第一次製造試
験結果408、第一次故障部位候補抽出処理工程40
9、第一次故障部位候補リスト410に至る各処理工程
及び情報は、第13図に示された接続データ1101、
テストパターン自動生成用ライブラリ1102、工程1
103、テストパターン1104、故障辞書1105、
半導体集積回路1106、製造試験工程1107、製造
試験結果1108、故障部位候補抽出処理工程110
9、故障部位候補リスト1110と同様である。
The fourth embodiment of the present invention has a configuration as shown in FIG. Here, connection data 40
1. Automatic test pattern generation library 402, primary test pattern automatic generation processing step 403, primary test pattern 404, primary failure dictionary 405, semiconductor integrated circuit 406, primary manufacturing test step 407, first test pattern Next manufacturing test result 408, first failure site candidate extraction processing step 40
9. The respective processing steps and information leading to the primary failure site candidate list 410 are connection data 1101 shown in FIG.
Test pattern automatic generation library 1102, process 1
103, test pattern 1104, failure dictionary 1105,
Semiconductor integrated circuit 1106, manufacturing test step 1107, manufacturing test result 1108, failure part candidate extraction processing step 110
9, the same as the failure part candidate list 1110.

【0036】即ち、接続データ401とテストパターン
自動生成用ライブラリ402とが第一次テストパターン
自動生成処理工程403に与えられ、圧縮された第一次
テストパターン404と、このテストパターンに対応し
た圧縮後の第一次故障辞書405とが出力される。第一
次製造試験工程407に、第一次テストパターン404
が入力され、製造された半導体集積回路406に対して
試験が行われて第一次製造試験結果408が出力され
る。
That is, the connection data 401 and the test pattern automatic generation library 402 are provided to the primary test pattern automatic generation processing step 403, and the compressed primary test pattern 404 and the compression corresponding to this test pattern are compressed. The later primary failure dictionary 405 is output. In the first manufacturing test step 407, the first test pattern 404
Is input, a test is performed on the manufactured semiconductor integrated circuit 406, and a first manufacturing test result 408 is output.

【0037】第一次製造試験結果408と第一次故障辞
書405とが第一次故障部位候補抽出処理工程409に
入力され、第一次故障部位候補リスト410が出力され
る。図13に示された工程では、故障部位候補リスト1
110が生成された後、このリスト1110を用いて故
障解析工程1111で故障解析処理を行い、故障部位の
特定を行っている。このような処理では、上述したよう
に故障部位の候補数が多いので解析時間が長いという問
題があった。これに対し、本実施の形態では第一次故障
部位候補リスト410が生成された後に、さらに第二次
テストパターンを生成して試験及び故障解析を行う点に
特徴がある。この第二次処理工程は、特定の部位におけ
る特定の故障、例えば特定の箇所に「0縮体」等が存在
するか否かに着目して故障解析を行う。
The primary production test result 408 and the primary failure dictionary 405 are input to the primary failure site candidate extraction processing step 409, and the primary failure site candidate list 410 is output. In the process shown in FIG.
After the 110 is generated, a failure analysis process is performed in a failure analysis step 1111 using the list 1110 to specify a failure part. In such a process, there is a problem that the analysis time is long because the number of candidates for the failed part is large as described above. On the other hand, the present embodiment is characterized in that after the primary failure site candidate list 410 is generated, a secondary test pattern is further generated to perform the test and the failure analysis. In this secondary processing step, failure analysis is performed by focusing on whether or not a specific failure at a specific location, for example, “0 condensate” exists at a specific location.

【0038】第二次テストパターン自動生成処理工程4
11に、接続データ401、第一次故障部位候補抽出処
理工程409、テストパターン自動生成用ライブラリ4
02が入力され、第二次テストパターン412と、この
パターンで検出可能な故障部位候補を示した第二次故障
辞書413とが生成される。
Second test pattern automatic generation processing step 4
11, connection data 401, primary failure site candidate extraction processing step 409, test pattern automatic generation library 4
02 is input, and a secondary test pattern 412 and a secondary failure dictionary 413 indicating a failure part candidate detectable by this pattern are generated.

【0039】ここで、第二次テストパターン自動生成処
理工程411における処理の手順を図5に示す。工程4
11には、第一次故障部位候補リスト410が入力され
ている。故障仮定処理工程501において、このリスト
410に示された特定の部位に故障が存在すると仮定す
る処理を行う。
FIG. 5 shows the procedure of the processing in the secondary test pattern automatic generation processing step 411. Step 4
11, a primary failure site candidate list 410 is input. In the failure assumption processing step 501, processing is performed for assuming that a failure exists at a specific part shown in the list 410.

【0040】次に、故障伝播処理工程502において、
仮定した特定部位の故障を検出するために、この部位に
伝播させる信号経路を決定する処理を行う。テストパタ
ーン作成処理工程503では、工程502において決定
した経路に伝播させるべきテストパターンを作成する。
Next, in the fault propagation processing step 502,
In order to detect a failure of the assumed specific part, a process of determining a signal path to be propagated to this part is performed. In the test pattern creation processing step 503, a test pattern to be propagated to the route determined in the step 502 is created.

【0041】未決定信号割付処理工程504では、値が
未決定の信号が存在する場合に、一時的に値を割り付け
る処理を行う。具体的には、作成したテストパターンに
おいて、故障が存在すると仮定した特定部位に伝播させ
るべきテストパターンが与えられ、そしてこのテストパ
ターンが特定部位に与えられた結果が所望の端子から得
られるように、未決定の信号の値を一時的に割り付け
る。また、特定部位には影響を与えない無関係な信号で
あって値が決定されていないものに対しても、伝播処理
が可能なように一時的に値を割り付ける。
In the undetermined signal allocation processing step 504, when there is a signal whose value is undetermined, a process of temporarily allocating a value is performed. Specifically, in the created test pattern, a test pattern to be propagated to a specific portion where a failure is assumed to be provided is provided, and a result that the test pattern is provided to the specific portion is obtained from a desired terminal. , The value of the undecided signal is temporarily assigned. Also, a value is temporarily assigned to an irrelevant signal that does not affect the specific part and whose value has not been determined so that the propagation processing can be performed.

【0042】検出故障数集計処理工程505において、
値が全て決定したテストパターンを用いて伝播処理を行
った場合に、検出可能な故障部位の候補数を集計する。
ここで、工程504における未決定信号値の割り付けに
は、一般に複数の組み合わせが存在する場合が多い。そ
こで、工程506において、未決定信号に対する割り付
けに他の割り付けが可能か否かを判断する。他の割り付
けが可能である場合は、割付処理工程504に戻って他
の値を割り付けて、この場合の検出可能な故障部位の候
補数を工程505において集計する。このように工程5
04〜506の処理を繰り返して、未決定信号値の全て
の組み合わせを求め、それぞれの検出可能な故障部位の
候補数を集計する。
In the process 505 for counting the number of detected faults,
When the propagation process is performed using the test pattern whose values are all determined, the number of detectable failure site candidates is totaled.
Here, in general, there are many cases where a plurality of combinations exist in the assignment of the undecided signal values in the step 504. Thus, in step 506, it is determined whether another assignment is possible for the assignment to the undecided signal. If another assignment is possible, the process returns to the assignment processing step 504 to assign another value, and the number of candidates for the detectable failure site in this case is totaled in step 505. Thus, step 5
By repeating the processing of steps 04 to 506, all combinations of undetermined signal values are obtained, and the number of candidates for each detectable fault site is totaled.

【0043】さらに、工程507において、仮定した特
定部位に対して他の伝播経路が存在するか否かを判断
し、存在する場合は上記工程502〜507の処理を繰
り返し、存在しない場合は工程508に移行する。
Further, in step 507, it is determined whether or not another propagation path exists for the assumed specific part. If there is, the processing of steps 502 to 507 is repeated. Move to

【0044】そして最終のテストパターン選択処理工程
508において、仮定した特定部位の故障検出を行うた
めの全ての伝播経路における検出故障数を比較し、最も
検出可能な故障数が少ないテストパターンを選択する。
In the final test pattern selection processing step 508, the numbers of detected faults in all the propagation paths for detecting the fault of the assumed specific part are compared, and the test pattern with the smallest detectable number of faults is selected. .

【0045】ここで、工程505における検出可能な故
障数を集計する処理のより具体的な手順について説明す
る。図6に、論理回路の一例として、AND回路AN1
〜AN3とOR回路OR1及びOR2とを含む構成を示
す。いま、工程501においてAND回路AN1の出力
端子に接続された信号線Gに、電源線に短絡している
「1」縮退が存在すると仮定する。このような信号線G
の故障を検出するためには、AND回路AN1から正し
くは「0」が出力されるような信号を伝播させればよい
ので、AND回路AN1の入力端子に接続された信号線
(D、E)の値の組み合わせとして、(D、E)=
(0、0)、(0、1)、(1、0)の三通りの値をと
ることができる。さらに、信号線Gの故障を検出するた
めにこの信号線Gの値が信号線Jまで伝播されるように
するには、信号線Cの値を考慮する必要があり、(C、
D、E)=(1、0、0)、(1、1、0)の2通りの
組み合わせが考えられる。
Here, a more specific procedure of the process of counting the number of detectable faults in step 505 will be described. FIG. 6 shows an AND circuit AN1 as an example of a logic circuit.
1 shows a configuration including ANAN3 and OR circuits OR1 and OR2. Now, it is assumed that in the step 501, the signal line G connected to the output terminal of the AND circuit AN1 has "1" degeneration short-circuited to the power supply line. Such a signal line G
Can be detected by transmitting a signal that correctly outputs "0" from the AND circuit AN1. Therefore, the signal lines (D, E) connected to the input terminals of the AND circuit AN1 (D, E) =
It can take three values: (0, 0), (0, 1), (1, 0). Furthermore, in order for the value of the signal line G to be propagated to the signal line J in order to detect the failure of the signal line G, it is necessary to consider the value of the signal line C, and (C,
D, E) = (1, 0, 0) and (1, 1, 0).

【0046】以上のような手順で故障仮定処理工程50
1、故障伝播処理工程502、テストパターン作成処理
503、未決定信号割付処理504を経ることで、図7
に示されたようなテストパターン#1及び#2が得られ
る。テストパターン#1は信号(A、B、C、D、E)
=(1、1、1、0、0)の組み合わせであり、例えば
信号線Aの「0縮退」、信号線Bの「0縮退」を含む7
個の故障部位を検出することができる。テストパターン
#2は信号(A、B、C、D、E)=(1、1、1、
1、0)の組み合わせであり、8個の故障部位を検出す
ることができる。さらに、工程507において他の伝播
経路があるか否かを判断し、信号線Gの値を信号線Hか
ら信号線Iへ伝播させて取り出す経路を考慮した結果、
さらなるテストパターン#3、#4、#5が得られ、そ
れぞれ検出可能な故障部位の候補数が6、7、7とな
る。テストパターン選択処理工程508において、最も
検出可能な故障部位の候補数が少ないテストパターン#
3が選択される。
According to the above procedure, the failure assumption processing step 50
1, through the fault propagation processing step 502, the test pattern creation processing 503, and the undecided signal allocation processing 504,
Test patterns # 1 and # 2 are obtained as shown in FIG. Test pattern # 1 is a signal (A, B, C, D, E)
= (1, 1, 1, 0, 0), including, for example, “0 degenerate” of the signal line A and “0 degenerate” of the signal line B 7
The number of failed parts can be detected. Test pattern # 2 has signals (A, B, C, D, E) = (1, 1, 1,.
1, 0), and can detect eight faulty parts. Further, in step 507, it is determined whether or not there is another propagation path. As a result of considering the path for transmitting the value of the signal line G from the signal line H to the signal line I and taking out the value,
Further test patterns # 3, # 4, and # 5 are obtained, and the number of detectable failure site candidates becomes 6, 7, and 7, respectively. In the test pattern selection processing step 508, the test pattern # with the smallest number of candidates for the failure part that can be detected most
3 is selected.

【0047】このような手順で、図4における工程41
1においてテストパターンを作成し、第二次テストパタ
ーン412として出力する。さらに、この第二次テスト
パターン412と検出可能な故障部位の候補との対応関
係を示した第二次故障辞書413を生成して出力する。
According to such a procedure, step 41 in FIG.
In step 1, a test pattern is created and output as a secondary test pattern 412. Further, it generates and outputs a secondary failure dictionary 413 indicating the correspondence between the secondary test pattern 412 and the detectable failure site candidates.

【0048】第二次製造試験工程414に第二次テスト
パターン412が入力され、第一次製造試験工程407
において試験された半導体集積回路406に対して、再
び試験が行われて第二次製造試験結果415が出力され
る。第二次故障部位候補抽出処理工程416に、第二次
製造試験結果415と第二次故障辞書413とが入力さ
れて第二次故障部位候補を抽出する処理が行われ、第二
次故障部位候補リスト417が出力される。故障解析工
程418に第二次故障部位候補リスト417が与えられ
て故障解析が行われ、故障部位が特定される。
The second test pattern 412 is input to the second manufacturing test step 414, and the first manufacturing test step 407 is input.
The test is performed again on the semiconductor integrated circuit 406 tested in the above, and the second manufacturing test result 415 is output. In the secondary failure site candidate extraction processing step 416, a process of inputting the secondary manufacturing test result 415 and the secondary failure dictionary 413 and extracting a secondary failure site candidate is performed. The candidate list 417 is output. The secondary failure site candidate list 417 is given to the failure analysis step 418, and a failure analysis is performed to identify a failure site.

【0049】従来のように、通常の試験において用いら
れているテストパターンで試験を行い、得られた試験結
果から故障部位を特定しようとすると、故障部位の候補
数が多いため解析に長時間を必要としていた。これに対
し、本実施の形態によれば、通常の試験において用いら
れているテストパターンを第一次テストパターンとして
用いて試験を行い、さらにこの試験により得られた第一
次故障部位候補リストを用いて故障部位を絞り、この故
障の部位の伝播にのみ有効でかつ故障候補数の少ない第
二次テストパターンを生成して第二次試験を行い故障解
析を行うので、故障部位の候補数をより絞って解析を行
うことが可能で、解析時間が短縮される。
As in the prior art, when a test is performed using a test pattern used in a normal test and an attempt is made to specify a failed part from the obtained test results, it takes a long time to analyze the number of candidates for the failed part. Needed. On the other hand, according to the present embodiment, a test is performed using a test pattern used in a normal test as a primary test pattern, and a primary failure site candidate list obtained by this test is The fault location is narrowed down using this method, a secondary test pattern that is effective only for propagation of the fault location and has a small number of fault candidates is generated, and a secondary test is performed for failure analysis. The analysis can be performed more narrowly, and the analysis time is reduced.

【0050】本発明の第5の実施の形態について、図8
を用いて説明する。人手等を介して作成されたテストパ
ターン601と、特定故障情報602とがテストパター
ン編集処理工程603に与えられる。ここで、特定故障
情報602は、故障部位の候補を抽出する通常用いられ
ている故障部位候補抽出処理工程600を経て得られる
もので、特定された故障部位を示す情報である。より具
体的には、この情報602は、各々の集積回路毎に故障
部位の候補を予め特定の場所に絞ることが可能であり、
その回路に固有の絞られた部位を示すものである。テス
トパターン編集処理工程603において、この特定故障
情報602に基づいて、与えられたテストパターン60
1のうち検出可能な故障候補数が少ないパターンが選択
され、編集テストパターン604として出力される。
FIG. 8 shows a fifth embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. The test pattern 601 and the specific failure information 602 created manually are provided to the test pattern editing processing step 603. Here, the specific failure information 602 is obtained through a normally used failure part candidate extraction processing step 600 for extracting a failure part candidate, and is information indicating the identified failure part. More specifically, this information 602 makes it possible to narrow down the failure site candidates to specific locations in advance for each integrated circuit,
It shows a narrowed down part unique to the circuit. In a test pattern editing processing step 603, based on the specific failure information 602, a given test pattern 60
A pattern with a small number of detectable failure candidates is selected from among 1, and is output as an edit test pattern 604.

【0051】編集テストパターン604が製造試験工程
608に与えられ、製造された半導体集積回路607に
対して試験が行われて、製造試験結果609が出力され
る。さらに、編集テストパターン604が故障シミュレ
ーション工程605に入力され、編集テストパターン6
04と検出可能な故障部位の候補の関係を示した故障辞
書606が作成される。故障部位候補抽出処理工程61
0に入力され、故障部位候補リスト611が生成され
る。故障解析工程612において、故障部位候補リスト
611に基づいて故障解析が行われ、故障部位が特定さ
れる。
The edit test pattern 604 is given to the manufacturing test step 608, and a test is performed on the manufactured semiconductor integrated circuit 607, and a manufacturing test result 609 is output. Further, the edit test pattern 604 is input to the failure simulation step 605, and the edit test pattern 6
A failure dictionary 606 indicating the relationship between the 04 and the detectable failure site candidate is created. Failure site candidate extraction processing step 61
0, and a failure site candidate list 611 is generated. In the failure analysis step 612, failure analysis is performed based on the failure part candidate list 611, and a failure part is specified.

【0052】本実施の形態によれば、予め故障部位の候
補を回路に特有の場所に絞った特定故障情報602を用
いてテストパターンを編集することで、故障候補数の少
ないテストパターンを用いて試験を行い故障部位を特定
する。従って、各々のテストパターンで検出可能な故障
部位の候補数が減少し、故障解析の工数を減らして解析
時間を短縮することが可能である。
According to the present embodiment, the test pattern is edited by using the specific fault information 602 in which the candidates for the faulty part are previously narrowed down to a location specific to the circuit, so that the test pattern with a small number of fault candidates is used. Perform a test to identify the failure site. Therefore, the number of candidates for a failure part that can be detected in each test pattern is reduced, and the number of steps for failure analysis can be reduced, and the analysis time can be reduced.

【0053】本発明の第6の実施の形態は、図9に示さ
れるような構成を備えている。回路の接続データ701
と、故障部位候補抽出処理工程700を経て得られた特
定故障情報702とが故障解析用回路付加処理工程70
3に入力される。工程703では、従来から用いられて
いる手法を用いて、故障が存在すると仮定した部位にテ
ストパターンを伝播させ、その結果を観測し易いように
回路を付加する処理が行われる。
The sixth embodiment of the present invention has a configuration as shown in FIG. Circuit connection data 701
And the specific failure information 702 obtained through the failure part candidate extraction processing step 700 are combined with the failure analysis circuit addition processing step 70.
3 is input. In step 703, a test pattern is propagated to a portion where a fault is assumed to exist by using a conventionally used technique, and a circuit is added so that the result can be easily observed.

【0054】ここで、観測性を向上させるための回路を
付加させる処理について、図10を用いて説明する。例
えば、図10(a)に示されるようなAND回路AN1
1〜AN13を備えた論理回路において、AND回路A
N11の信号線Eに「0縮退」があると仮定した場合を
想定する。この場合は、AND回路AN12の出力値の
如何にかかわらず、信号線Eの値がAND回路AN13
の出力端子に接続された信号線Gから取り出すことがで
きると、観測性が向上する。そこで、AND回路AN1
2の出力端子とAND回路13の入力端子とに接続され
た信号線Fの間にOR回路OR11を付加し、OR回路
OR11の他の入力端子に信号線Hを接続する。この信
号線Hの値を「1」にすることで、信号線C及びDの値
にかかわらず、信号線Fの値は常時「1」に固定され
る。この結果、信号線Eの値をAND回路AN13の出
力より観測することが可能になる。
Here, processing for adding a circuit for improving observability will be described with reference to FIG. For example, an AND circuit AN1 as shown in FIG.
1 to AN13, an AND circuit A
It is assumed that the signal line E of N11 has "0 degeneration". In this case, regardless of the output value of the AND circuit AN12, the value of the signal line E is changed to the AND circuit AN13.
Can be taken out from the signal line G connected to the output terminal, the observability is improved. Therefore, the AND circuit AN1
An OR circuit OR11 is added between the signal line F connected to the output terminal of the AND circuit 13 and the input terminal of the AND circuit 13, and the signal line H is connected to another input terminal of the OR circuit OR11. By setting the value of the signal line H to “1”, the value of the signal line F is always fixed to “1” regardless of the values of the signal lines C and D. As a result, the value of the signal line E can be observed from the output of the AND circuit AN13.

【0055】このような手法を用いて回路を付加した後
の論理的接続データ704が、工程703から生成され
る。この接続データ704と、テストパターン自動生成
用ライブラリ705とがテストパターン自動生成処理工
程706に与えられ、テストパターン707と故障辞書
708とが生成される。テストパターン707と、製造
された半導体集積回路709とが製造試験工程710に
与えられ、試験が行われて製造試験結果711が出力さ
れる。この製造試験結果711と故障辞書708とが故
障部位候補抽出処理工程712に入力され、故障部位候
補リスト713が生成される。故障解析工程713にお
いて、故障部位候補リスト713が用いられて故障解析
が行われ、故障部位が特定される。
The logical connection data 704 after adding a circuit using such a method is generated from the step 703. The connection data 704 and the test pattern automatic generation library 705 are provided to an automatic test pattern generation processing step 706, and a test pattern 707 and a failure dictionary 708 are generated. The test pattern 707 and the manufactured semiconductor integrated circuit 709 are provided to a manufacturing test step 710, where a test is performed and a manufacturing test result 711 is output. The manufacturing test result 711 and the failure dictionary 708 are input to a failure part candidate extraction processing step 712, and a failure part candidate list 713 is generated. In the failure analysis step 713, a failure analysis is performed using the failure part candidate list 713, and a failure part is specified.

【0056】本実施の形態では、特定の部位の故障に信
号を伝播させたときの信号観測性が向上するテストパタ
ーン707を生成し、このテストパターン707とこれ
に対応した故障辞書708を用いて故障部位を特定する
ので、テストパターンで検出可能な故障部位の候補数を
減らして解析時間を短縮することができる。
In the present embodiment, a test pattern 707 for improving the signal observability when a signal is propagated to a fault at a specific portion is generated, and the test pattern 707 and a fault dictionary 708 corresponding to the test pattern 707 are used. Since the failure part is specified, the number of failure part candidates that can be detected by the test pattern can be reduced, and the analysis time can be reduced.

【0057】上述した実施の形態はいずれも一例であ
り、本発明を限定するものではない。例えば、上記第1
〜第3の実施の形態では、テストパターンを生成する工
程103、203及び303において、テストパターン
圧縮処理工程104、204及び303を含んでいる
が、このような工程は必ずしも含んでいる必要はなく、
非圧縮テストパターンを用いて試験を行う構成を備えた
ものであればよい。
The above embodiments are merely examples, and do not limit the present invention. For example, the first
In the third to third embodiments, the test pattern generation steps 103, 203 and 303 include the test pattern compression processing steps 104, 204 and 303, but such steps need not necessarily be included. ,
What is necessary is just to have the structure which performs a test using an uncompressed test pattern.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路の故障解析方法は、特定部位の故障を検出するた
めのテストパターンを用いて半導体集積回路に試験を行
うことで、各々のテストパターンにより検出可能な故障
部位の候補数を減少させ、解析工数の低減及び解析時間
を短縮することができる。
As described above, the method for analyzing a failure in a semiconductor integrated circuit according to the present invention performs a test on a semiconductor integrated circuit using a test pattern for detecting a failure in a specific portion. The number of failure site candidates that can be detected by the pattern can be reduced, and the number of analysis steps and the analysis time can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態による半導体集積回
路の故障解析方法における処理の手順を工程別に示した
フローチャート。
FIG. 1 is a flowchart showing a processing procedure in a failure analysis method of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention for each process.

【図2】本発明の第2の実施の形態による半導体集積回
路の故障解析方法における処理の手順を工程別に示した
フローチャート。
FIG. 2 is a flowchart showing a process procedure in a failure analysis method of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention for each process.

【図3】本発明の第3の実施の形態による半導体集積回
路の故障解析方法における処理の手順を工程別に示した
フローチャート。
FIG. 3 is a flowchart showing a processing procedure in a failure analysis method of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention for each process.

【図4】本発明の第4の実施の形態による半導体集積回
路の故障解析方法における処理の手順を工程別に示した
フローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing a processing procedure in a failure analysis method of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention for each process.

【図5】図4における第二次テストパターン自動生成処
理工程における処理の手順を工程別に示したフローチャ
ート。
FIG. 5 is a flowchart showing a processing procedure in a secondary test pattern automatic generation processing step in FIG. 4 for each step;

【図6】図5における工程501〜505の処理の内容
を説明するための論理回路の一例を示した回路図。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a logic circuit for explaining the contents of processing in steps 501 to 505 in FIG. 5;

【図7】図5における工程501〜505の処理を行っ
て得られた各テストパターンと検出可能な故障部位との
関係を示した説明図。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between each test pattern obtained by performing the processes of steps 501 to 505 in FIG. 5 and a detectable failure site.

【図8】本発明の第5の実施の形態による半導体集積回
路の故障解析方法における処理の手順を工程別に示した
フローチャート。
FIG. 8 is a flowchart showing a processing procedure in a failure analysis method of a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention for each process.

【図9】本発明の第6の実施の形態による半導体集積回
路の故障解析方法における処理の手順を工程別に示した
フローチャート。
FIG. 9 is a flowchart showing a processing procedure in a failure analysis method of a semiconductor integrated circuit according to a sixth embodiment of the present invention for each process.

【図10】図9における工程703における回路の付加
処理の内容を説明するための回路構成図。
FIG. 10 is a circuit configuration diagram for explaining the contents of a circuit addition process in step 703 in FIG. 9;

【図11】従来の半導体集積回路の故障解析方法におけ
る処理の手順を工程別に示したフローチャート。
FIG. 11 is a flowchart showing the steps of a process in a conventional failure analysis method for a semiconductor integrated circuit for each process.

【図12】従来の他の半導体集積回路の故障解析方法に
おける処理の手順を工程別に示したフローチャート。
FIG. 12 is a flowchart showing a procedure of a process in another conventional method for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit for each process.

【図13】従来のさらに他の半導体集積回路の故障解析
方法における処理の手順を工程別に示したフローチャー
ト。
FIG. 13 is a flowchart showing a processing procedure in another conventional method for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit for each process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

AN1〜AN3 AND回路 OR1〜OR2 OR回路 AN1 to AN3 AND circuit OR1 to OR2 OR circuit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体集積回路にテストパターンを与えて
試験を行い、故障部位を特定するための解析を行う半導
体集積回路の故障解析方法において、 半導体集積回路の接続データを用いて、圧縮されていな
いテストパターンと、このテストパターンに対応した故
障辞書とを生成する工程と、 生成された前記テストパターンを用いて半導体集積回路
の試験を行い、試験結果を生成する工程と、 前記試験結果と前記故障辞書とを用いて、故障部位の候
補を抽出する工程と、 抽出された前記故障部位の候補に基づいて故障解析を行
い、故障部位を特定する工程と、 を備えることを特徴とする半導体集積回路の故障解析方
法。
1. A failure analysis method for a semiconductor integrated circuit in which a test is given to a semiconductor integrated circuit to perform a test and an analysis for specifying a failure portion is performed, wherein the compression analysis is performed using connection data of the semiconductor integrated circuit. Generating a test pattern and a failure dictionary corresponding to the test pattern; performing a test of the semiconductor integrated circuit using the generated test pattern; and generating a test result; and Using a failure dictionary and extracting a candidate for a failure portion; and performing a failure analysis based on the extracted candidate for the failure portion to identify a failure portion. Circuit failure analysis method.
【請求項2】半導体集積回路にテストパターンを与えて
試験を行い、故障部位を特定するための解析を行う半導
体集積回路の故障解析方法において、 半導体集積回路の接続データを用いて第一次テストパタ
ーンと、この第一次テストパターンに対応した第一次故
障辞書とを生成する工程と、 生成された前記第一次テストパターンを用いて半導体集
積回路の試験を行い、第一次試験結果を生成する工程
と、 前記第一次試験結果と前記第一次故障辞書とを用いて、
故障部位の候補を抽出して第一次故障部位候補リストを
作成する工程と、 前記第一次故障部位候補リストを用いて、特定の部位に
故障が存在すると仮定する工程と、 仮定した前記特定の部位に伝播させるためのテストパタ
ーンを1組又は複数組作成し、前記テストパターンが1
組であるときはこのテストパターンを第二次テストパタ
ーンとし、前記テストパターンが複数組存在する場合
は、検出可能な故障部位の数が最も少ないものを第二次
テストパターンとして選択する工程と、 前記第二次テストパターンに対応した第二次故障辞書を
作成する工程と、 前記第二次テストパターンを用いて半導体集積回路の試
験を行い、第二次試験結果を生成する工程と、 前記第二次試験結果と前記第二次故障辞書とを用いて、
故障部位の候補を抽出して第二次故障部位候補リストを
作成する工程と、 前記第二次故障部位候補リストを用いて故障解析を行
い、故障部位を特定する工程と、 を備えることを特徴とする半導体集積回路の故障解析方
法。
2. A failure analysis method for a semiconductor integrated circuit, in which a test pattern is given to a semiconductor integrated circuit to perform a test and an analysis for specifying a failure portion is performed, wherein a primary test is performed using connection data of the semiconductor integrated circuit. Generating a pattern and a primary failure dictionary corresponding to the primary test pattern; performing a test of the semiconductor integrated circuit using the generated primary test pattern; Generating, using the primary test result and the primary failure dictionary,
Extracting a failure site candidate to create a primary failure site candidate list; and using the primary failure site candidate list to assume that a failure exists at a specific site; and One or more sets of test patterns to be propagated to the part
When the set is a set, the test pattern as a secondary test pattern, when there are a plurality of test patterns, the step of selecting the smallest number of detectable failure sites as the secondary test pattern, Creating a secondary failure dictionary corresponding to the secondary test pattern; performing a test of the semiconductor integrated circuit using the secondary test pattern to generate a secondary test result; Using the secondary test results and the secondary failure dictionary,
Extracting a candidate for a failure site to create a secondary failure site candidate list; and performing a failure analysis using the secondary failure site candidate list to identify a failure site. Failure analysis method for a semiconductor integrated circuit.
【請求項3】半導体集積回路にテストパターンを与えて
試験を行い、故障部位を特定するための解析を行う半導
体集積回路の故障解析方法において、 半導体集積回路に固有の特定の故障部位の候補を示す情
報と、前記テストパターンとを用いて、前記特定の故障
部位の候補に伝播させるために編集した編集テストパタ
ーンを作成し、さらにこの編集テストパターンに対応し
た故障辞書を作成する工程と、 作成した前記編集テストパターンを用いて半導体集積回
路の試験を行い、試験結果を生成する工程と、 前記試験結果と前記故障辞書とを用いて、故障部位の候
補を抽出する工程と、 抽出された前記故障部位の候補に基づいて故障解析を行
い、故障部位を特定する工程と、 を備えることを特徴とする半導体集積回路の故障解析方
法。
3. A failure analysis method for a semiconductor integrated circuit, in which a test pattern is applied to a semiconductor integrated circuit to perform a test, and an analysis for specifying a failure location is performed, wherein a specific failure location candidate specific to the semiconductor integrated circuit is identified. Using the information shown and the test pattern to create an edited test pattern edited to propagate to the specific failure site candidate, and further creating a failure dictionary corresponding to the edited test pattern; Performing a test of the semiconductor integrated circuit using the edited test pattern, and generating a test result; and extracting a candidate for a failure part using the test result and the failure dictionary. Performing a failure analysis based on a candidate for a failed part to specify the failed part.
【請求項4】半導体集積回路にテストパターンを与えて
試験を行い、故障部位を特定するための解析を行う半導
体集積回路の故障解析方法において、 半導体集積回路の接続データと、半導体集積回路に固有
の特定の故障部位の候補を示す情報とを用いて、前記特
定の故障部位の候補にテストパターンを伝播させるとき
の観測性が向上する回路を付加する処理を行う工程と、 前記回路を付加した後の半導体集積回路の接続データを
用いて、テストパターンと、このテストパターンに対応
した故障辞書とを作成する工程と、 作成した前記テストパターンを用いて半導体集積回路の
試験を行い、試験結果を生成する工程と、 前記試験結果と前記故障辞書とを用いて、故障部位の候
補を抽出する工程と、 抽出された前記故障部位の候補に基づいて故障解析を行
い、故障部位を特定する工程と、 を備えることを特徴とする半導体集積回路の故障解析方
法。
4. A failure analysis method for a semiconductor integrated circuit for performing a test by giving a test pattern to the semiconductor integrated circuit and performing an analysis for specifying a failure portion, comprising the steps of: connecting data of the semiconductor integrated circuit; Using the information indicating the specific failure site candidate, a process of adding a circuit that improves the observability when propagating a test pattern to the specific failure site candidate, and adding the circuit A step of creating a test pattern and a failure dictionary corresponding to the test pattern by using the connection data of the semiconductor integrated circuit later; performing a test of the semiconductor integrated circuit by using the created test pattern; Generating, using the test result and the failure dictionary, extracting a failure site candidate, based on the extracted failure site candidate Performed disabilities analysis, failure analysis method of a semiconductor integrated circuit, comprising the steps of: identifying a failure area, a.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20010111043A (en) * 2000-06-08 2001-12-15 오우라 히로시 Method and apparatus for generating test patterns used in testing semiconductor integrated circuit
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