JPH11337949A - Photosensitive film for forming colored resin spacer - Google Patents

Photosensitive film for forming colored resin spacer

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JPH11337949A
JPH11337949A JP14786098A JP14786098A JPH11337949A JP H11337949 A JPH11337949 A JP H11337949A JP 14786098 A JP14786098 A JP 14786098A JP 14786098 A JP14786098 A JP 14786098A JP H11337949 A JPH11337949 A JP H11337949A
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JP
Japan
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film
photosensitive
weight
group
colored resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP14786098A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiromi Furubayashi
寛巳 古林
Hiroshi Yamazaki
宏 山崎
Manabu Saito
学 斎藤
Tadahiro Tanigawa
直裕 谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP14786098A priority Critical patent/JPH11337949A/en
Publication of JPH11337949A publication Critical patent/JPH11337949A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive film forming colored resin spacers which can easily form spacers having uniform film thickness and being excellent in mechanical strength, has no display unevenness owing to film thickness dispersion and can improve panel action reliability. SOLUTION: In the photosensitive film for forming colored resin spacers which is constituted by successively laminating (a) a base film, (b) a photosensitive resin layer having 3 to 10 μm film thickness and (c) a protective film in this order and can be developed by an alkali aq. soln., (b) the photosensitive resin layer contains (A) a high polymer compound having ethylenic unsaturated groups, (B) a photopolymerizable compound having at least two ethylenic unsaturated groups, (C) a photopolymerization initiator, (D) a black pigment and (E) a thermosetting resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、着色樹脂スペーサ
形成用感光性フィルムに関する。
[0001] The present invention relates to a photosensitive film for forming a colored resin spacer.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶テレビ、液晶カラー表示のコンピュ
ータ−などが実用化されているが、これらの液晶表示装
置は、透明電極を設けたガラス等の透明な基板を3〜1
0μm程度の間隔をもうけて、その間に液晶物質を封入
し、電極間の印加した電圧により液晶物質を配向しその
濃淡により表示する仕組になっている。前記基板の間隔
は正確に保持しないと液晶層の厚さに差が発生し、色む
らやコントラスト異常になる。したがって、前記基板の
間隔を正確に保持するため、スペーサと称される3〜1
0μmのガラスまたは合成樹脂からなるビーズ粒子を散
布させている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal televisions, computers for liquid crystal color display, and the like have been put into practical use. These liquid crystal display devices use a transparent substrate such as glass having a transparent electrode for 3 to 1 times.
With a gap of about 0 μm, a liquid crystal substance is sealed between the gaps, the liquid crystal substance is oriented by a voltage applied between the electrodes, and the light and shade are displayed. If the distance between the substrates is not accurately maintained, a difference occurs in the thickness of the liquid crystal layer, resulting in uneven color and abnormal contrast. Therefore, in order to accurately maintain the distance between the substrates, 3 to 1 called spacers are used.
Bead particles of 0 μm glass or synthetic resin are dispersed.

【0003】このスペーサを均一に散布させることは、
かなり困難で、色むらのない表示装置を得る歩留まりの
低下をまねいている。そこで、特開平4−223443
号公報等に示されるように分散、投入にさまざまな工夫
がらされている。これらの根本的な解決法として、カラ
ーフィルタの着色パターンの間にブラックマトリックス
を厚くし、スペーサとする方法(特開昭63−2370
32号公報、特開平3−184022号公報、特開平4
−122914号公報等)が提案されているが、ブラッ
クマトリックスを塗布することにより形成するため、厚
さ制御が困難となっている。また、着色パターンを重ね
ることにより、厚さを確保しスペーサとすることも考え
られている(特開昭63−82405号公報)がやはり
塗布により行われるため、膜厚管理が困難である。
[0003] Spreading the spacers evenly,
It is quite difficult and leads to a decrease in yield to obtain a display device without color unevenness. Accordingly, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-223443
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-207, various devices are used for dispersion and introduction. As a fundamental solution to these problems, a method is known in which a black matrix is thickened between colored patterns of a color filter and used as a spacer (Japanese Patent Laid-Open No. 63-2370)
No. 32, JP-A-3-184022, JP-A-4
No. 122914) has been proposed, but it is difficult to control the thickness because it is formed by applying a black matrix. In addition, it has been considered that a spacer is formed by stacking colored patterns to secure the thickness (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-82405).

【0004】また、着色パターンを作製する際に、ブラ
ックマトリックス上にも着色パターンを塗布法により形
成しスペーサとすることも提案されている(特開昭63
−237032号公報)が、前述と同様に均一な膜厚を
得ることが困難である。さらに、前記の公報及び特開平
7−325298号公報に記載される内容の樹脂ではブ
ラックマトリックス及び着色パターン樹脂は機械的強度
が不足しているため、液晶封入後に十分な強度がないこ
とが問題になっている。一方、従来から考案されている
ビーズ分散及びフィルム法によるスペーサでは強度など
の特性は十分であるが、パネルの動作信頼性が不足して
いることが問題になっている。
It has also been proposed that, when a colored pattern is produced, a colored pattern is formed on a black matrix by a coating method to form a spacer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-163).
However, it is difficult to obtain a uniform film thickness as described above. Furthermore, in the resin described in the above-mentioned publication and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-325298, the black matrix and the colored pattern resin have insufficient mechanical strength. Has become. On the other hand, although the properties such as strength are sufficient in the conventionally-developed spacer by the bead dispersion and the film method, there is a problem that the operation reliability of the panel is insufficient.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】請求項1記載の発明
は、膜厚の均一な機械的強度の優れたスペーサを容易に
形成でき、膜厚ばらつきによる表示むらがなく、パネル
動作信頼性を向上することができる着色樹脂スペーサ形
成用感光性フィルムを提供するものである。
According to the first aspect of the present invention, a spacer having a uniform film thickness and excellent mechanical strength can be easily formed, there is no display unevenness due to a film thickness variation, and the panel operation reliability is improved. And a photosensitive film for forming a colored resin spacer.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、(a)支持体
フィルム(b)膜厚3〜10μmの感光性樹脂層及び
(c)保護フィルムの順に積層されてなる感光性フィル
ムにおいて、(b)感光性樹脂層が、(A)エチレン性
不飽和基を有する高分子化合物、(B)少なくとも2個
のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(C)
光重合開始剤、(D)黒色顔料並びに(E)熱硬化性樹
脂を含有しアルカリ水溶液で現像可能である着色樹脂ス
ペーサ形成用感光性フィルムに関する。
The present invention provides a photosensitive film comprising (a) a support film, (b) a photosensitive resin layer having a thickness of 3 to 10 μm, and (c) a protective film laminated in this order. b) the photosensitive resin layer is (A) a polymer compound having an ethylenically unsaturated group, (B) a photopolymerizable compound having at least two ethylenically unsaturated groups, (C)
The present invention relates to a photosensitive film for forming a colored resin spacer, which contains a photopolymerization initiator, (D) a black pigment, and (E) a thermosetting resin and can be developed with an alkaline aqueous solution.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明における着色樹脂スペーサ
形成用感光性フィルムに使用される支持体フィルム及び
保護フィルムには特に制限なく公知のフィルムを使用で
きるが、例えば、例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリエチレン等からなる厚さ5〜
100μmの重合体フィルムが用いられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The support film and the protective film used for the photosensitive film for forming a colored resin spacer in the present invention can be any known film without any particular limitation. Examples thereof include polyethylene terephthalate, polypropylene, Thickness 5 made of polyethylene etc.
A 100 μm polymer film is used.

【0008】本発明における着色樹脂スペーサ形成用感
光性フィルムの感光性樹脂層は、(A)カルボキシル基
及び不飽和二重結合を有する高分子化合物、(B)少な
くとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合
物、(C)光重合開始剤(D)黒色顔料及び(E)熱硬
化性樹脂を必須成分として含有する。
In the present invention, the photosensitive resin layer of the photosensitive film for forming a colored resin spacer comprises (A) a polymer compound having a carboxyl group and an unsaturated double bond, and (B) at least two ethylenically unsaturated groups. (C) a photopolymerization initiator, (D) a black pigment, and (E) a thermosetting resin as essential components.

【0009】上記(A)エチレン性不飽和基を有する高
分子化合物の有するエチレン性不飽和基としては、アク
リル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、シンナモ
イル基等の炭素、炭素二重結合を有する基が挙げられ
る。
The ethylenically unsaturated group contained in the polymer compound (A) having an ethylenically unsaturated group includes groups having a carbon or carbon double bond such as an acryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a cinnamoyl group. No.

【0010】(A)エチレン性不飽和基を有する高分子
化合物は、例えば、(i)スチレン系単量体と(ii)ア
クリル系単量体と(iii)グリシジル基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、イソシアナト基等の官能基を有す
る単量体とを共重合してなるスチレン/アクリル系プレ
ポリマーに、(iv)前記官能基と反応可能な官能基及び
光重合性不飽和基を有する単量体を反応させて側鎖に光
重合性不飽和基を導入したポリマーであり、このポリマ
ーの好ましい態様として、(i)スチレン系単量体5〜
40重量%、(ii)アクリル系単量体10〜70重量
%、(iii)官能基を有するアクリル系単量体25〜4
5重量%を共重合してなるスチレン/アクリル系プレポ
リマー100重量部に(iv)プレポリマーの官能基と
反応可能な官能基及び光重合性不飽和基を有する単量体
5〜45重量部を反応させて側鎖に光重合性不飽和基を
導入したポリマーが挙げられる。
(A) The polymer compound having an ethylenically unsaturated group includes, for example, (i) a styrene monomer, (ii) an acrylic monomer, and (iii) a glycidyl group, a carboxyl group, a hydroxyl group, A styrene / acrylic prepolymer obtained by copolymerizing a monomer having a functional group such as an isocyanato group, and (iv) a monomer having a functional group capable of reacting with the functional group and a photopolymerizable unsaturated group Are reacted to introduce a photopolymerizable unsaturated group into the side chain. In a preferred embodiment of the polymer, (i) a styrene monomer 5 to 5
40% by weight, (ii) 10 to 70% by weight of an acrylic monomer, (iii) 25 to 4 of an acrylic monomer having a functional group
5 to 45 parts by weight of a monomer having a functional group capable of reacting with a functional group of the prepolymer and a photopolymerizable unsaturated group in 100 parts by weight of a styrene / acrylic prepolymer obtained by copolymerizing 5% by weight. And a polymer having a photopolymerizable unsaturated group introduced into the side chain.

【0011】上記(i)スチレン系単量体としては、例
えば、α−メチルスチレン、スチレン、p−メチルスチ
レン、p−クロロスチレンなどがあるが、入手容易性の
点から、スチレン及びp−メチルスチレンが好ましい。
これらのスチレン系単量体は、単独又は2種以上を組み
合わせて用られる。
The (i) styrene monomer includes, for example, α-methylstyrene, styrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene and the like. From the viewpoint of availability, styrene and p-methylstyrene are preferred. Styrene is preferred.
These styrene monomers are used alone or in combination of two or more.

【0012】上記(ii)アクリル系単量体としては、例
えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−
プロピルアクリレート、iso−プロピルアクリレート、
n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、
t−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート等の炭素数1〜8のアルキル基を有するアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n
−プロピルメタクリレート、iso−プロピルメタクリレ
ート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタク
リレート、t−ブチルメタクリレート、2エチルヘキシ
ルメタクリレート等の炭素数1〜8のアルキル基を有す
るメタクリレートなどが挙げられ、これらのアクリル系
単量体は、単独又は2種以上を組み合わせて用られる。
入手容易性、廉価性の点からメチルメタクリレート、エ
チルアクリレートが好ましい。
The above (ii) acrylic monomers include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-
Propyl acrylate, iso-propyl acrylate,
n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate,
acrylates having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as t-butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n
Methacrylate having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as -propyl methacrylate, iso-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, and 2-ethylhexyl methacrylate. The monomers are used alone or in combination of two or more.
Methyl methacrylate and ethyl acrylate are preferred in terms of availability and low cost.

【0013】上記(iii)グリシジル基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、イソシアナト基等の官能基を有す
る単量体としては、例えば、グリシジルアクリレート、
グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル
酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−イソシアナトエチルアク
リレート、2−イソシアナトエチルメタクリレート等が
挙げられ、これらは、単独又は2種以上を組み合わせて
用られる。入手容易性、廉価性の点からアクリル酸、メ
タクリル酸が好ましい。
Examples of the monomer (iii) having a functional group such as a glycidyl group, a carboxyl group, a hydroxyl group and an isocyanato group include glycidyl acrylate,
Glycidyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Used. Acrylic acid and methacrylic acid are preferred in terms of availability and low cost.

【0014】上記(iv)プレポリマーの官能基と反応可
能な官能基及び光重合性不飽和基を有する単量体におい
て光重合性不飽和基としては、アリル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基等が挙げられる。この(iv)プ
レポリマーの官能基と反応可能な官能基及び光重合性不
飽和基を有する単量体の具体的な化合物としては、上記
(iii)グリシジル基、カルボキシル基、ヒドロキシル
基、イソシアナト基等の官能基を有するアクリル系単量
体で例示した化合物と同じものが挙げられる。入手容易
性、廉価性の点からグリシジルメタクリレートが好まし
い。
In the above (iv) monomer having a functional group capable of reacting with the functional group of the prepolymer and a photopolymerizable unsaturated group, the photopolymerizable unsaturated group includes an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group and the like. No. Specific examples of (iv) a monomer having a functional group capable of reacting with a functional group of the prepolymer and a photopolymerizable unsaturated group include the above-mentioned (iii) glycidyl group, carboxyl group, hydroxyl group, isocyanato group The same compounds as those exemplified for the acrylic monomer having a functional group such as Glycidyl methacrylate is preferred in terms of availability and low cost.

【0015】(A)成分の樹脂の重量平均分子量(ゲル
パーミエーションクロマトグラフで測定し標準ポリスチ
レン換算したもの)は、塗工性、耐熱性の点から20,
000〜300,000であることが好ましい。
The weight average molecular weight of the resin (A) (measured by gel permeation chromatography and converted to standard polystyrene) is 20, 20 in view of coatability and heat resistance.
It is preferably from 000 to 300,000.

【0016】本発明の感光性樹脂組成物にアルカリ現像
性を付与するためには(A)成分の樹脂の酸価(mgKOH/
g)を90〜140とすることが好ましい。また、耐熱
性の点から(A)成分のエチレン性不飽和基濃度は、
0.5〜3.0ミリモル/gとすることが好ましい。
In order to impart alkali developability to the photosensitive resin composition of the present invention, the acid value (mgKOH / mg KOH /
g) is preferably from 90 to 140. From the viewpoint of heat resistance, the concentration of the ethylenically unsaturated group of the component (A) is as follows:
It is preferable that the concentration be 0.5 to 3.0 mmol / g.

【0017】(A)成分の配合量は(A)成分と(B)
成分の総量100重量部に対して好ましくは40〜75
重量部である。この配合量が40重量部未満では塗膜性
が不十分となり、70重量部を越えると硬化物の膜特性
が低下する傾向がある。
The amount of component (A) is (A) and (B)
It is preferably from 40 to 75 based on 100 parts by weight of the total amount of the components.
Parts by weight. If the amount is less than 40 parts by weight, the coating properties will be insufficient, and if it exceeds 70 parts by weight, the film properties of the cured product will tend to deteriorate.

【0018】(B)少なくとも2個のエチレン性不飽和
基を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アル
コールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られ
る化合物(ポリエチレングリコールジアクリレート(エ
チレン基の数が2〜14のもの)、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、
テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジアクリレート(プロピレン基の数が
2〜14のもの)、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
等)、グリシジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボ
ン酸を付加して得られる化合物(トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールAジグリシジルエーテルジアクリレート等)、ビ
スフェノールAのアルキレンオキシド付加物のジアクリ
レート(2,2′−ビス〔4−(メタクリロキシジエト
キシ)フェニル〕プロパン、2,2′−ビス〔4−(メ
タクリロキシペンタエトキシ)フェニル〕プロパン
等)、ジイソシアナートとジアルコールとアクリル酸ヒ
ドロキシモノエステルとを反応させて得られるウレタン
ジアクリレート化合物などが挙げられる。これらのモノ
マーは、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いられ
る。
As the photopolymerizable compound (B) having at least two ethylenically unsaturated groups, for example, a compound obtained by reacting an α, β-unsaturated carboxylic acid with a polyhydric alcohol (polyethylene glycol diacrylate) (Those having 2 to 14 ethylene groups), trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane triacrylate,
Α, β-unsaturated carboxylic acid to glycidyl group-containing compounds such as tetramethylolmethane tetraacrylate, polypropylene glycol diacrylate (having 2 to 14 propylene groups), dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. (Trimethylolpropane triglycidyl ether triacrylate, bisphenol A diglycidyl ether diacrylate, etc.) and diacrylate of bisphenol A alkylene oxide adduct (2,2'-bis [4- (methacryloxy) Diethoxy) phenyl] propane, 2,2'-bis [4- (methacryloxypentaethoxy) phenyl] propane, etc.), diisocyanate, dialcohol and acrylic acid hydroxymonoester. And a urethane diacrylate compound obtained by reacting These monomers are used alone or in combination of two or more.

【0019】(B)成分の配合量は(A)成分と(B)
成分の総量100重量部に対して好ましくは15〜60
重量部である。この配合量が15重量部未満では光感度
が不十分で硬化物の膜特性が低下し、60重量部を越え
ると塗膜性が不十分となる傾向がある。
The amount of component (B) is as follows: component (A) and component (B)
Preferably from 15 to 60 parts per 100 parts by weight of the total amount of the components
Parts by weight. If the amount is less than 15 parts by weight, the photosensitivity is insufficient and the film properties of the cured product are reduced, and if it exceeds 60 parts by weight, the coating properties tend to be insufficient.

【0020】本発明に用いられる(C)光重合開始剤と
しては、例えば、芳香族ケトン(ベンゾフェノン、4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラ
ーケトン)、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾ
フェノン等)、アルキルアミノ安息香酸誘導体(ジメチ
ルアミノ安息香エチル、ジメチルアミノ安息香エチル
等)、アントラキノン誘導体(2−エチルアントラキノ
ン、フェナントラキノン等)、チオキサントン誘導体
(チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン
等)、ベンゾイン誘導体(ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフ
ェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン
等)、ベンジル誘導体(ベンジル、ベンジルジメチルケ
タール等)、2,4,5−トリアリールイミダゾール二
量体(2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)
−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−
メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール
二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フ
ェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシ
フェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、
2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフ
ェニルイミダゾール二量体等)、アクリジン誘導体(9
−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′−アク
リジニル)ヘプタン等)、モルフォリノ基含有化合物
(2−メチル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−
モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブ
タノン−1等)などが挙げられる。これらは単独で又は
2種類以上を組み合わせて使用される。
As the photopolymerization initiator (C) used in the present invention, for example, aromatic ketones (benzophenone, 4,
4'-bis (dimethylamino) benzophenone (Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, etc., alkylaminobenzoic acid derivatives (dimethylaminobenzoethyl, dimethylamino) Benzoyl ethyl, etc.), anthraquinone derivatives (2-ethylanthraquinone, phenanthraquinone, etc.), thioxanthone derivatives (thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, etc.), benzoin derivatives (benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl ether) , Methylbenzoin, ethylbenzoin, etc.), benzyl derivatives (benzyl, benzyldimethylketal, etc.), 2,4,5-triarylimidazole dimer (2- (o-chloro) Eniru) -4,5-diphenyl imidazole dimer, 2-(o-chlorophenyl) -
4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl)
-4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-
(Methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) -5-phenylimidazole dimer, 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenyl Imidazole dimer,
2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, etc.), acridine derivative (9
-Phenylacridine, 1,7-bis (9,9'-acridinyl) heptane, etc.), morpholino group-containing compounds (2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-
Morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【0021】(C)成分の使用量は、(A)及び(B)
成分の総量100重量部に対して、0.1〜10重量部
とすることが好ましい。この使用量が0.1重量部未満
では、光感度が低い傾向がある。また、10重量部を超
えると、耐熱性が低下する傾向がある。
The amount of component (C) used is (A) and (B)
The amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the components. If the amount is less than 0.1 parts by weight, the light sensitivity tends to be low. If it exceeds 10 parts by weight, heat resistance tends to decrease.

【0022】(D)成分の黒色顔料としては、例えば、
カーボンブラックが挙げられる。顔料粒径は、0.03
〜0.8μmであることが好ましく、0.03μm未満
では液晶封入後にスペーサから黒色顔料が流出する傾向
ががあり、また0.8μmを超えるとスペーサを形成時
にギザツキが発生する供に脆くなり、パネル作製時に微
小な欠けとなり、パネルの透明度が低下する問題が発生
する傾向がある。顔料粒径は0.05〜0.5μmであ
ることがより好ましい。本発明においてはこの(D)成
分の使用により形成されるスペーサーを黒色とすること
により、液晶表示装置において、その駆動回路への所望
しないフォトンの侵入をブロックでき、液晶表示装置の
誤動作(パネル誤動作)をほぼ完全に抑制することがで
きる。
As the black pigment of the component (D), for example,
Carbon black. The pigment particle size is 0.03
It is preferable that the thickness is less than 0.8 μm, and if it is less than 0.03 μm, the black pigment tends to flow out of the spacer after enclosing the liquid crystal. There is a tendency that minute chips are generated at the time of manufacturing the panel, and a problem that the transparency of the panel is reduced occurs. More preferably, the pigment particle size is 0.05 to 0.5 μm. In the present invention, by making the spacer formed by using the component (D) black, it is possible to block the intrusion of undesired photons into the driving circuit of the liquid crystal display device, and to prevent the liquid crystal display device from malfunctioning (panel malfunctioning). ) Can be almost completely suppressed.

【0023】(D)成分の配合量は(A)成分と(B)
成分の総量100重量部に対して10〜40重量部とす
ることが好ましい。この配合量が10重量部未満では着
色が不十分となる傾向がある。40重量部を越えると硬
化後のレジストが脆くなる傾向がある。
The amount of the component (D) is between (A) and (B).
The amount is preferably 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the components. If the amount is less than 10 parts by weight, coloring tends to be insufficient. If it exceeds 40 parts by weight, the cured resist tends to become brittle.

【0024】本発明における(E)熱重硬化性樹脂とし
ては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ヘキサ
メトキシメチルメラミン等のメラミン樹脂などが挙げら
れる。(E)成分の配合量は(A)成分と(B)成分の
総量100重量部に対して5〜20重量部とすることが
好ましい。この配合量が5重量部未満では耐熱性、密着
性当が不十分となる傾向がある。20重量部を越えると
保存安定性、現像性が低下する傾向がある。
Examples of the (E) thermosetting resin in the present invention include epoxy resins, phenol resins, and melamine resins such as hexamethoxymethylmelamine. The amount of the component (E) is preferably 5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). If the amount is less than 5 parts by weight, heat resistance and adhesiveness tend to be insufficient. If the amount exceeds 20 parts by weight, storage stability and developability tend to decrease.

【0025】感光性樹脂層には、染料、発色剤、可塑
剤、顔料、難燃剤、熱重合禁止剤、密着性付与剤等を必
要に応じ(A)及び(B)成分の総量100重量部に対
して、0.1〜15重量部程度含有させてもよい。
The photosensitive resin layer may contain a dye, a color former, a plasticizer, a pigment, a flame retardant, a thermal polymerization inhibitor, an adhesion promoter, and the like, if necessary, in a total amount of 100 parts by weight of the components (A) and (B). May be contained in an amount of about 0.1 to 15 parts by weight.

【0026】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、メチルア
ルコール、エチルアルコール等を含有してもよい。溶剤
を使用する場合、その使用量は、溶液の固形分が5〜9
5重量%となるような量とすることが塗布性、作業性の
点から好ましい。
The photosensitive resin composition of the present invention comprises a solvent which dissolves the above components, for example, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, chloroform, methylene chloride, methyl Alcohol, ethyl alcohol and the like may be contained. When a solvent is used, the amount used is such that the solid content of the solution is 5-9.
It is preferable to set the amount to be 5% by weight in view of applicability and workability.

【0027】本発明の着色樹脂スペーサ形成用感光性フ
ィルムは、支持体フィルム上に前記各成分を溶剤に溶解
した溶液をロールコータ、コンマコータ、グラビアコー
タ、マイクログラビアコータ、エアーナイフコータ、ダ
イコータ、スロットダイコータ、バーコータなどで塗布
し乾燥後、保護フィルムを積層し製造できる。
The photosensitive resin film for forming a colored resin spacer according to the present invention comprises a support film and a solution obtained by dissolving the above components in a solvent, a roll coater, a comma coater, a gravure coater, a microgravure coater, an air knife coater, a die coater, and a slot coater. After coating and drying with a die coater, a bar coater or the like, a protective film can be laminated and manufactured.

【0028】着色樹脂スペーサ形成用感光性フィルムの
(b)感光性樹脂層は3〜10μmとされる。膜厚が3
μm以下では塗膜性が不十分となり、抜けすじ及び膜厚
むらが発生する。10μmを越えると解像度が低下す
る。
The photosensitive resin layer (b) of the photosensitive film for forming a colored resin spacer has a thickness of 3 to 10 μm. Thickness 3
If it is less than μm, the coating properties will be insufficient, and streaks and uneven thickness will occur. If it exceeds 10 μm, the resolution will decrease.

【0029】本発明の着色樹脂スペーサ形成用感光性フ
ィルム感光性フィルムを用いたスペーサは次のようにし
て製造される。まず、ガラス板等の上に必要に応じてブ
ラックマトリクス、カラー画素等が形成されたの基板を
加熱(70〜150℃、3〜15分間)した後または加
熱なしで、その基板上に感光性フィルムの保護フィルム
を剥がしながら感光性樹脂層をラミネート(貼合わせ)
し、感光性樹脂層の表面の支持体フィルムを剥離せずま
たは剥離した後、感光性樹脂層上に所定パターンのネガ
マスクを乗せて露光される。この際、感光性樹脂層と上
記ネガマスクとは、接触、非接触いずれの状態でもよ
い。次いで未露光部分が現像液で現像除去され、さら
に、必要に応じて150〜200℃で15〜45分程度
アフターベークする。露光工程において支持体フィルム
を剥離しない方式と、剥離する方式のいずれの方法を用
いてもよいが、特にパターンのライン精度を向上させる
には後者の方法を用いることが好ましい。
The photosensitive film for forming the colored resin spacer of the present invention The spacer using the photosensitive film is manufactured as follows. First, a substrate on which a black matrix, color pixels, and the like are formed as necessary on a glass plate or the like is heated (at 70 to 150 ° C. for 3 to 15 minutes) or without heating. Laminating (laminating) the photosensitive resin layer while peeling off the protective film of the film
Then, after the support film on the surface of the photosensitive resin layer is not peeled off or peeled off, the photosensitive resin layer is exposed with a negative mask having a predetermined pattern placed thereon. At this time, the photosensitive resin layer and the negative mask may be in either contact or non-contact state. Next, the unexposed portion is removed by development with a developing solution, and further, after-baked at 150 to 200 ° C. for about 15 to 45 minutes as necessary. Either a method in which the support film is not peeled off in the exposure step or a method in which the support film is peeled may be used. In particular, the latter method is preferably used to improve the line accuracy of the pattern.

【0030】ラミネート工程は、ホットロールと呼ばれ
る加熱可能なロール又はヒートシューと呼ばれる加熱用
のジャケットとラミネートロールと呼ばれるロールによ
り、感光性樹脂層を加熱し軟化しながら行う。露光工程
は、接触又は非接触型のものを用いて行う。ランプとし
ては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ等が挙げられる。この際使用する露
光機は散乱光線露光機、平行光線露光機、プロキシミテ
ィ露光機、ステッパー、レーザー露光等が挙げられる。
さらに、アフターベークはバッチ式または連続式いずれ
の乾燥機等の熱源によりおこなわれ、また、IR炉等を
用いることができる。上記これらの工法においてラミネ
ート後、露光後、現像後に、薬液処理及び電気的処理の
工法が必要に応じて加わっても行ってもよい。
The laminating step is performed while heating and softening the photosensitive resin layer with a heatable roll called a hot roll or a heating jacket called a heat shoe and a roll called a laminating roll. The exposure step is performed using a contact or non-contact type. Examples of the lamp include a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a xenon lamp. The exposing machine used at this time includes a scattered light exposing machine, a parallel light exposing machine, a proximity exposing machine, a stepper, a laser exposure and the like.
Further, after-baking is performed by a heat source such as a batch-type or continuous-type dryer, and an IR furnace or the like can be used. In these methods, after the lamination, the exposure, and the development, a chemical solution treatment and an electric treatment may be added or performed as necessary.

【0031】現像方法は、ディップ法、スプレー法等が
あげられ、高解像度化には高圧スプレー法が最適であ
る。現像液は、例えば、0.05〜1.5重量%の炭酸
ナトリウム水溶液または0.05〜1.0%の水酸化カ
リウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化トリメ
チロールアンモニウム水溶液等を用いることができる。
特に、0.1〜0.5重量%の炭酸ナトリウムを用いる
と解像度、密着性が良好となる。
The developing method includes a dip method, a spray method and the like, and a high-pressure spray method is most suitable for high resolution. As the developer, for example, an aqueous solution of 0.05 to 1.5% by weight of sodium carbonate, an aqueous solution of potassium hydroxide of 0.05 to 1.0%, an aqueous solution of sodium hydroxide, an aqueous solution of trimethylol ammonium hydroxide, or the like is used. it can.
In particular, the use of 0.1 to 0.5% by weight of sodium carbonate improves the resolution and adhesion.

【0032】[0032]

【実施例】次に、本発明を実施例により説明する。 実施例 支持体フィルム(ポリエステルフィルム)上に下記表1
に示す感光性樹脂層用溶液をコンマコータで塗布し、8
0℃の熱風対流式乾燥機で5分間乾燥し、所定膜厚(6
μm)を得た。さらに保護フィルム(ポリエチレンフィ
ルム)を張り合わせ着色樹脂スペーサ形成用感光性フィ
ルムを得た。この感光性フィルムを、保護フィルムを剥
がしながら、ブラックマトリクス付きガラス板上に赤、
青及び緑の画素が形成されさらにその上全面に樹脂オー
バーコート層が形成された基板上に、感光性樹脂層側を
向けて、ラミネーターでロール温度110℃、ロール圧
6×105Pa、速度5.0m/分でラミネートした。次
いで、ポリエステルフィルムフィルムを除去し、所定の
パターンのネガマスクを通してプロキシミティ露光機
(日立電子エンジニアリング(株)製)で80mJ/cm2で露
光した後、0.15重量%の炭酸ナトリウム水溶液(2
3℃)で20秒スプレー現像して未露光部を現像除去
し、黒色パターンの形成された基板を得た。
Next, the present invention will be described with reference to examples. Examples Table 1 below on a support film (polyester film)
Apply the solution for photosensitive resin layer shown in
It was dried for 5 minutes in a hot air convection dryer at 0 ° C.
μm). Further, a protective film (polyethylene film) was laminated to obtain a photosensitive film for forming a colored resin spacer. While peeling off the protective film, this photosensitive film, red on a glass plate with a black matrix,
On the substrate on which the blue and green pixels were formed and on which a resin overcoat layer was formed over the entire surface, the photosensitive resin layer was turned, and a roll temperature of 110 ° C., a roll pressure of 6 × 10 5 Pa, and a speed were applied by a laminator. Lamination was performed at 5.0 m / min. Next, after removing the polyester film film and exposing at 80 mJ / cm 2 with a proximity exposure machine (manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd.) through a negative mask of a predetermined pattern, a 0.15 wt% sodium carbonate aqueous solution (2
(3 ° C.) for 20 seconds to develop and remove unexposed portions to obtain a substrate on which a black pattern was formed.

【0033】黒色パターンは、所定の形状、優れた機械
特性(硬度)を有して均一に形成されており、この黒色
パターンの形成された基板を使用して組み立てた液晶表
示装置は、誤動作することなく、また、色むらやコント
ラストの不均一がなく優れた表示特性を有していた。ま
た、液晶表示装置において前記黒色パターンは、封入さ
れた液晶に浸漬されたが、ひび割れ等の異常を生じない
ことが確認された。
The black pattern is uniformly formed with a predetermined shape and excellent mechanical properties (hardness). The liquid crystal display device assembled using the substrate on which the black pattern is formed malfunctions. And excellent display characteristics without color unevenness or uneven contrast. Further, in the liquid crystal display device, the black pattern was immersed in the enclosed liquid crystal, but it was confirmed that no abnormality such as cracking occurred.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表1中、(*1)及び(*2)は、下記に示す
ものである。 (*1)スチレン/アクリル酸/アクリル酸エチル/メタ
クリル酸メチル(重量比30/21/5/44)共重合
体100重量部にグリシジルメタクリレート11重量部
を付加し側鎖光重合性不飽和基としてメタクリロイル基
を導入したポリマ:重量平均分子量は40,000 (*2)トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート/シ
クロヘキサンジメタノール/2−ヒドロキシエチルアク
リレート(2/1/2モル比)反応物
In Table 1, (* 1) and (* 2) are shown below. (* 1) 100 parts by weight of a styrene / acrylic acid / ethyl acrylate / methyl methacrylate (weight ratio: 30/21/5/44) copolymer is added with 11 parts by weight of glycidyl methacrylate to form a side-chain photopolymerizable unsaturated group. Methacryloyl group-introduced polymer: weight average molecular weight of 40,000 (* 2) trimethylhexamethylene diisocyanate / cyclohexanedimethanol / 2-hydroxyethyl acrylate (2/1/2 molar ratio)

【0036】[0036]

【発明の効果】請求項1記載の着色樹脂スペーサ形成用
感光性フィルムは、膜厚の均一な機械的強度の優れたス
ペーサを容易に形成でき、膜厚ばらつきによる表示むら
がなく、パネル動作信頼性を向上することができるもの
である。
According to the photosensitive film for forming a colored resin spacer according to the present invention, a spacer having a uniform thickness and excellent mechanical strength can be easily formed, there is no display unevenness due to a variation in the film thickness, and panel operation reliability can be improved. It is possible to improve the performance.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/033 G03F 7/033 (72)発明者 谷川 直裕 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/033 G03F 7/033 (72) Inventor Naohiro Tanikawa 4-3-1, Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Yamazaki Factory

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)支持体フィルム(b)膜厚3〜1
0μmの感光性樹脂層及び(c)保護フィルムの順に積
層されてなる感光性フィルムにおいて、(b)感光性樹
脂層が、(A)エチレン性不飽和基を有する高分子化合
物、(B)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有す
る光重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)黒色顔
料並びに(E)熱硬化性樹脂を含有しアルカリ水溶液で
現像可能である着色樹脂スペーサ形成用感光性フィル
ム。
(1) a support film (b) a film thickness of 3 to 1
In a photosensitive film in which a photosensitive resin layer having a thickness of 0 μm and a protective film (c) are laminated in this order, (b) the photosensitive resin layer is (A) a polymer compound having an ethylenically unsaturated group, (B) at least Forming a colored resin spacer containing a photopolymerizable compound having two ethylenically unsaturated groups, (C) a photopolymerization initiator, (D) a black pigment, and (E) a thermosetting resin and developable with an alkaline aqueous solution Photosensitive film.
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