JPH11335379A - 有機ケイ素化合物およびその製造方法 - Google Patents

有機ケイ素化合物およびその製造方法

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JPH11335379A
JPH11335379A JP10159948A JP15994898A JPH11335379A JP H11335379 A JPH11335379 A JP H11335379A JP 10159948 A JP10159948 A JP 10159948A JP 15994898 A JP15994898 A JP 15994898A JP H11335379 A JPH11335379 A JP H11335379A
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same
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JP10159948A
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Sunao Okawa
直 大川
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カルボン酸アミド基およびシラノール基を有
する新規な有機ケイ素化合物、およびこの有機ケイ素化
合物を効率よく製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式: 【化1】 (式中、R1は同じか、または異なる置換もしくは非置
換の一価炭化水素基であり、R2は同じか、または異な
る水素原子もしくは一価炭化水素基であり、R3は二価
有機基であり、R4は同じか、または異なる一価炭化水
素基であり、nは0〜10の整数である。)で示される
カルボン酸アミド基とシラノール基を有する有機ケイ素
化合物、および、一般式: 【化2】 (式中、R1、R2、R3、R4、およびnは前記と同じで
ある。)で示されるカルボン酸アミド基とアシロキシ基
を有する有機ケイ素化合物を、アルカリ金属もしくはア
ルカリ土類金属の炭酸塩および/または有機アミン化合
物もしくはアンモニアの存在下で加水分解させることを
特徴とする、上記一般式で示されるカルボン酸アミド基
とシラノール基を有する有機ケイ素化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な有機ケイ素
化合物、およびその製造方法に関し、詳しくは、カルボ
ン酸アミド基およびシラノール基を有する有機ケイ素化
合物、およびこの有機ケイ素化合物を効率よく製造する
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カルボン酸アミド基およびシラノール基
を同一分子内に有する有機ケイ素化合物は、このカルボ
ン酸アミド基が親水性に富み、また、このシラノール基
がケイ素原子結合加水分解性と容易に反応することか
ら、ケイ素原子結合加水分解性基含有有機ケイ素化合物
と容易に反応して、親水性を付与するための改質剤とし
て有用であると考えられるが、このようなカルボン酸ア
ミド基およびシラノール基を同一分子内に有する有機ケ
イ素化合物は知られていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記課題
について鋭意研究した結果、本発明に到達した。すなわ
ち、本発明の目的は、カルボン酸アミド基およびシラノ
ール基を有する新規な有機ケイ素化合物、およびこの有
機ケイ素化合物を効率よく製造する方法を提供すること
にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の有機ケイ素化合
物は、一般式:
【化3】 (式中、R1は同じか、または異なる置換もしくは非置
換の一価炭化水素基であり、R2は同じか、または異な
る水素原子もしくは一価炭化水素基であり、R3は二価
有機基であり、R4は同じか、または異なる一価炭化水
素基であり、nは0〜10の整数である。)で示される
ことを特徴とする。
【0005】また、本発明の有機ケイ素化合物の製造方
法は、一般式:
【化4】 (式中、R1は同じか、または異なる置換もしくは非置
換の一価炭化水素基であり、R2は同じか、または異な
る水素原子もしくは一価炭化水素基であり、R3は二価
有機基であり、R4は同じか、または異なる一価炭化水
素基であり、nは0〜10の整数である。)で示される
有機ケイ素化合物を、アルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の炭酸塩および/または有機アミン化合物もしく
はアンモニアの存在下で加水分解させることを特徴とす
る。
【0006】
【発明の実施の形態】はじめに、本発明の有機ケイ素化
合物を詳細に説明する。本発明の有機ケイ素化合物は、
カルボン酸アミド基およびシラノール基を有する新規な
有機ケイ素化合物であり、一般式:
【化5】 で示される。上式中のR1は同じか、または異なる置換
もしくは非置換の一価炭化水素基であり、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等のアルキ
ル基;ビニル基、アリル基、メタアリル基、ブテニル
基、ペンテニル基等のアルケニル基;フェニル基、トリ
ル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネ
チル基等のアラルキル基;トリフルオロプロピル基、ノ
ナフルオロヘキシル基、クロロプロピル基、クロロメチ
ルフェネチル基等のハロゲン化一価炭化水素基が例示さ
れる。本発明の有機ケイ素化合物においては、その製造
の容易さ、および経済性の点から、R1はメチル基、ト
リフルオロプロピル基であることが好ましい。また、上
式中のR2は同じか、または異なる水素原子もしくは一
価炭化水素基であり、R2の一価炭化水素基としては、
前記R1と同様の一価炭化水素基が例示される。本発明
の有機ケイ素化合物においては、その製造の容易さ、お
よび経済性の点から、R2はメチル基、エチル基、ビニ
ル基、メタアリル基であることが好ましい。また、上式
中のR3は二価有機基であり、エチレン基、メチルエチ
レン基、プロピレン基、2−メチルプロピレン基、ヘキ
シレン基等のアルキレン基;エチレンオキシプロピレン
基、エチレンオキシエチレン基等のアルキレンオキシア
ルキレン基;フェニレン基、トリレン基、キシリレン基
等のアリーレン基;メチレンフェニレン基、メチレンフ
ェニレンメチレン基等のアルキレンアリーレン基もしく
はアルキレンアリーレンアルキレン基が例示され、その
製造の容易さ、および経済性の点から、R3はアルキレ
ン基であることが好ましく、特に、プロピレン基、2−
メチルプロピレン基であることが好ましい。また、上式
中のR4は同じか、または異なる一価炭化水素基であ
り、前記R1と同様の一価炭化水素基が例示される。ま
た、上式中のnは0〜10の範囲内の整数であり、その
製造の容易さから、nは0または3であることが好まし
い。
【0007】このようなカルボン酸アミド基およびシラ
ノール基を同一分子内に有する有機ケイ素化合物は、ケ
イ素原子結合加水分解性基と容易に反応し得るシラノー
ル基おが結合し、また、親水性に富むカルボン酸アミド
基が結合しており、ケイ素原子結合加水分解性基含有有
機ケイ素化合物ないしは有機ケイ素ポリマーと容易に反
応して、親水性を付与するための改質剤として有用であ
る。
【0008】次に、本発明の有機ケイ素化合物の製造方
法を詳細に説明する。本発明の製造方法は、一般式:
【化6】 (式中、R1は同じか、または異なる置換もしくは非置
換の一価炭化水素基であり、R2は同じか、または異な
る水素原子もしくは一価炭化水素基であり、R3は二価
有機基であり、R4は同じか、または異なる一価炭化水
素基であり、nは0〜10の整数である。)で示される
有機ケイ素化合物を、アルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の炭酸塩および/または有機アミン化合物もしく
はアンモニアの存在下で加水分解させることを特徴とす
る。
【0009】上記一般式で示されるカルボン酸アミド基
およびアシロキシ基を同一分子内に有する有機ケイ素化
合物において、式中のR1は同じか、または異なる置換
もしくは非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の
基が例示され、その合成の容易さ、および経済性の点か
ら、R1はメチル基、トリフルオロプロピル基であるこ
とが好ましい。また、上式中のR2は同じか、または異
なる水素原子もしくは一価炭化水素基であり、前記と同
様の基が例示され、その合成の容易さ、および経済性の
点から、R2はメチル基、エチル基、ビニル基、メタア
リル基であることが好ましい。また、上式中のR3は二
価有機基であり、前記と同様の基が例示され、その合成
の容易さ、および経済性の点から、R3はアルキレン基
であることが好ましく、特に、プロピレン基、2−メチ
ルプロピレン基であることが好ましい。また、上式中の
4は同じか、または異なる一価炭化水素基であり、前
記と同様の基が例示される。また、上式中のnは0〜1
0の範囲内の整数であり、その合成の容易さから、nは
0または3であることが好ましい。
【0010】これらのカルボン酸アミド基およびアシロ
キシ基を有する有機ケイ素化合物を調製する方法として
は、例えば、環状シリルアミンを無水酢酸と反応させる
ことによるアセトアミド基含有アセトキシシランを合成
する方法(JournalOrgano Chemis
try,36,21,3120−3126(1971)参
照)、環状シリルアミンを酸塩化物と反応させて調製し
た酸アミド基含有ハロゲノシランを酢酸ナトリウムと反
応させてカルボン酸アミド基含有アセトキシシランを合
成する方法(特開平6−25265号公報参照)が挙げら
れる。また、本発明者の研究による、酸性触媒の存在下
に、ヘキサオルガノシクロトリシロキサンを上記のカル
ボン酸アミド基含有アセトキシシランにより開環反応さ
せることによって、一方の分子鎖末端にカルボン酸アミ
ド基が結合し、他方の分子鎖末端にアシロキシ基が結合
しているオルガノテトラシロキサンを合成する方法も用
いることができる。
【0011】本発明の製造方法は、上記一般式で示され
るカルボン酸アミド基およびアシロキシ基を同一分子内
に有する有機ケイ素化合物をアルカリ金属もしくはアル
カリ土類金属の炭酸塩および/または有機アミン化合物
もしくはアンモニアの存在下で加水分解させることを特
徴とする。本発明の製造方法において使用されるアルカ
リ金属もしくはアルカリ土類金属の炭酸塩および/また
は有機アミン化合物もしくはアンモニアは、上記一般式
で示されるカルボン酸アミド基とアシロキシ基を有する
有機ケイ素化合物の加水分解により副生するカルボン酸
を捕捉して、反応系が酸性になることにより、生成した
シラノール基が縮合二量化するのを防ぐ働きをする。こ
のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の炭酸塩とし
ては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸バリウムが例示される。また、この有機アミン
化合物としては、トリエチルアミン、ジエチルアミン、
ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン、ピペリジンが例示される。
【0012】本発明の製造方法においては、このアルカ
リ金属もしくはアルカリ土類金属の炭酸塩および/また
は有機アミン化合物もしくはアンモニアの添加量は、そ
の合計モル数が上記一般式で示されるカルボン酸アミド
基およびケイ素結合アシロキシ基を同一分子内に有する
有機ケイ素化合物中のケイ素−アシロキシ基結合に対し
て当量以上となる量であることが好ましく、さらに、こ
れが1.0〜1.5倍当量の範囲内となる量であることが
好ましく、特に、これが1.01〜1.25倍当量の範囲
内となる量であることが好ましい。
【0013】また、本発明の製造方法において使用する
水の量は、上記一般式で示されるカルボン酸アミド基お
よびケイ素結合アシロキシ基を同一分子内に有する有機
ケイ素化合物中のケイ素−アシロキシ基に対して当量以
上となる量であればよく、実用的には大過剰であること
が好ましい。
【0014】また、本発明の製造方法においては、目的
のカルボン酸アミド基およびシラノール基を同一分子内
に有する有機ケイ素化合物を余剰の水と分離しやすくす
るために有機溶媒を添加することが好ましい。この有機
溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族系炭化水素;トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香
族系炭化水素;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエーテル類;四塩化炭素、トリクロロエチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素;アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン類が例示される。
【0015】また、本発明の製造方法における反応は、
室温以下でも進行するが、反応熱による温度上昇を抑制
するために0〜30℃の範囲内で行うことが好ましい。
この加水分解反応の進行は、反応溶液をガスクロマトグ
ラフィーや核磁気共鳴分析により分析し、原料のカルボ
ン酸アミド基およびケイ素結合アシロキシ基を同一分子
内に有する有機ケイ素化合物のピークの減少により確認
することができる。反応終了後、静置して相分離させて
から分液することにより副生したアルカリ金属のカルボ
ン酸塩もしくはアルカリ土類金属のカルボン酸塩および
/または有機アミン化合物のカルボン酸塩もしくはカル
ボン酸アンモニウムを除き、目的のカルボン酸アミド基
およびシラノール基を有する有機ケイ素化合物を含む有
機層を得ることができる。この有機層を水洗することに
より微量の酸性または塩基性不純物を除去することが好
ましい。この時、nが0であり、R2が水素原子または
メチル基のような低級一価有機基である場合には、目的
のカルボン酸アミド基およびシラノール基を有する有機
ケイ素化合物は水溶性となるので、水とは相溶せず目的
の有機ケイ素化合物と相溶する有機溶媒を添加して、水
との相分離を容易にすることが好ましい。このようにし
て分液して水を除いた後、溶媒等の低沸点物を加熱減圧
留去等の方法で除き、必要に応じて蒸留することにより
目的のカルボン酸アミド基およびシラノール基を有する
有機ケイ素化合物を精製することができる。
【0016】
【実施例】本発明の有機ケイ素化合物、およびその製造
方法を実施例により詳細に説明する。
【0017】[参考例1]撹拌装置付きのフラスコに無
水酢酸35.7g(350mmol)を投入し、窒素雰囲気
下、氷水冷しながら、1,2,2,4−テトラメチル−
1−アザ−2−シラシクロペンタン50g(350mmol)
を30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で
30分間攪拌し、減圧蒸留して、112〜135℃/1
mmHgの留分74.5g(収率84%)を得た。
【0018】この留分は、29Si−核磁気共鳴分析(以
下、NMR)、13C−NMR、および赤外吸光分析(以
下、IR)の分析の結果から、式:
【化7】 で示されるN−(3−アセトキシジメチルシリル)−2−
メチルプロピル−N−メチルアセトアミドであり、その
純度は98.3%であることが判明した。
【0019】[参考例2]撹拌装置付きのフラスコに参
考例1で調製したN−(3−アセトキシジメチルシリル)
−2−メチルプロピル−N−メチルアセトアミド70g
(285.7mmol)、式:
【化8】 で示されるヘキサメチルシクロトリシロキサン69.8
g(314.3mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸0.
56g(3.7mmol)、およびn−ヘキサン70mLを投入
し、窒素雰囲気下、55〜60℃で4.5時間加熱撹拌
した。途中、反応混合物をサンプリングして、これをガ
スクロマトグラフィー(以下、GLC)により分析するこ
とにより、原料のアセトキシシランのピークがほとんど
消失したときを反応終了とし、ヘキサメチルジシラザン
1.2g(7.5mmol)を投入して反応を停止させた。その
後、この反応混合物を加熱減圧留去して低沸点物を除
き、液状物129.4gを得た。
【0020】この液状物は、GLC、29Si−NMR、
13C−NMR、IRによる分析の結果、式:
【化9】 で示されるアセトアミド基含有1−アセトキシテトラシ
ロキサンを主成分とする混合物であり、その純度は81
%であることがわかった。
【0021】[参考例3]撹拌装置付きのフラスコに参
考例1で調製したN−(3−アセトキシジメチルシリル)
−2−メチルプロピル−N−メチルアセトアミド50g
(204mmol)、式:
【化10】 で示される1,3,5−トリス(トリフルオロプロピル)
−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン95g
(204mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸0.48
g(3.2mmol)を投入し、窒素雰囲気下、60〜90℃
で6時間加熱撹拌した。途中、反応混合物をサンプリン
グしてGLCにより分析することにより、原料アセトキ
シシランのピークがほとんど消失したときを反応終了と
し、ヘキサメチルジシラザン1.2g(7.5mmol)を投入
して反応を停止させた。その後、加熱減圧留去して低沸
点物を除き、液状物139.8gを得た。
【0022】この液状物は、GLC、29Si−NMR、
13C−NMR、およびIRによる分析の結果、式:
【化11】 で示されるアセトアミド基含有1−アセトキシテトラシ
ロキサンを主成分とする混合物であり、その純度は62
%であることがわかった。
【0023】[実施例1]撹拌装置付きのフラスコにト
ルエン60mL、炭酸水素ナトリウム23.7g(281.
6mmol)、および水120mLを投入し、窒素雰囲気下、
水冷および撹拌しながら、参考例1で調製したN−(3
−アセトキシジメチルシリル)−2−メチルプロピル−
N−メチルアセトアミド60g(244.9mmol)を45
分間かけてゆっくり滴下した。次いで、トリエチルアミ
ン1.2gを添加し、室温で30分間撹拌した。途中、
反応混合物から有機層をサンプリングし、GLCにより
分析して、原料のN−(3−アセトキシジメチルシリル)
−2−メチルプロピル−N−メチルアセトアミドのピー
クが消失したときを反応終了とし、静置して相分離さ
せ、下層の水層を廃棄した。次いで、上層であるトルエ
ン層を2回水洗し、下層である水層をトルエン60mLで
抽出した。トルエン層を合わせて低沸点物を加熱減圧留
去して、液状物25.2gを得た。
【0024】この液状物は、29Si−NMR、13C−N
MR、IRによる分析の結果、式:
【化12】 で示されるN−(3−ヒドロキシジメチルシリル)−2−
メチルプロピル−N−メチルアセトアミドであり、その
純度は98.2%であることが判明した。
【0025】[実施例2]撹拌装置付きのフラスコにト
ルエン60mL、炭酸水素ナトリウム29.7g(354mm
ol)、および水100mLを投入し、窒素雰囲気下、水冷
および撹拌しながら、参考例2で調製したアセトアミド
基含有1−アセトキシテトラシロキサンを主成分とする
混合物110gを45分間かけてゆっくり滴下した。次
いで、トリエチルアミン1.2gを添加し、30℃で1
時間撹拌した。途中、反応混合物から有機層をサンプリ
ングして、GLCにより分析することにより、原料の上
記アセトアミド基含有1−アセトキシテトラシロキサン
のピークが消失したときを反応終了とし、静置して相分
離させ、下層の水層を廃棄した。ついで上層であるトル
エン層にn−ヘキサン100mLを添加し、3回水洗し
た。静置して相分離させ、下層である水層を廃棄し、上
層であるトルエン層から低沸点物を加熱減圧留去して、
液状物93.5gを得た。
【0026】この液状物は、29Si−NMR、13C−N
MR、IRによる分析の結果、式:
【化13】 で示されるアセトアミド基含有1−ヒドロキシテトラシ
ロキサンを主成分とする混合物であり、その純度は7
8.9%であることが判明した。
【0027】[実施例3]撹拌装置付きのフラスコにト
ルエン60mL、炭酸水素ナトリウム21g(252mmo
l)、および水100mLを投入し、窒素雰囲気下、水冷お
よび撹拌しながら、参考例3で調製したアセトアミド基
含有1−アセトキシテトラシロキサンを主成分とする混
合物120gを45分間かけてゆっくり滴下した。次い
で、トリエチルアミン0.8gを添加し、30℃で2時
間撹拌した。途中、反応混合物から有機層をサンプリン
グし、GLCにより分析することにより、原料の上記ア
セトアミド基含有1−アセトキシテトラシロキサンのピ
ークが消失したときを反応終了とし、静置して相分離さ
せ、下層の水層を廃棄した。次いで、上層であるトルエ
ン層にn−ヘキサン150mLを添加し、3回水洗した。
静置して相分離させ、下層である水層を廃棄し、上層で
あるトルエン層から低沸点物を加熱減圧留去して、液状
物104.2gを得た。
【0028】この液状物は、29Si−NMR、13C−N
MR、IRによる分析の結果、式:
【化14】 で示されるアセトアミド基含有1−ヒドロキシテトラシ
ロキサンを主成分とする混合物であり、その純度は60
%であることが判明した。
【0029】
【発明の効果】本発明の有機ケイ素化合物は、カルボン
酸アミド基およびシラノール基を有する新規な化合物で
あり、また、本発明の製造方法は、このような新規な有
機ケイ素化合物を効率よく製造できるという特徴があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、実施例1で調製したN−(3−ヒド
ロキシジメチルシリル)−2−メチルプロピル−N−メ
チルアセトアミドのIRチャートである。
【図2】 図2は、実施例2で調製したアセトアミド基
含有1−ヒドロキシテトラシロキサンのIRチャートで
ある。
【図3】 図3は、実施例3で調製したアセトアミド基
含有1−ヒドロキシテトラシロキサンのIRチャートで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式: 【化1】 (式中、R1は同じか、または異なる置換もしくは非置
    換の一価炭化水素基であり、R2は同じか、または異な
    る水素原子もしくは一価炭化水素基であり、R3は二価
    有機基であり、R4は同じか、または異なる一価炭化水
    素基であり、nは0〜10の整数である。)で示される
    有機ケイ素化合物。
  2. 【請求項2】 一般式: 【化2】 (式中、R1は同じか、または異なる置換もしくは非置
    換の一価炭化水素基であり、R2は同じか、または異な
    る水素原子もしくは一価炭化水素基であり、R3は二価
    有機基であり、R4は同じか、または異なる一価炭化水
    素基であり、nは0〜10の整数である。)で示される
    有機ケイ素化合物を、アルカリ金属もしくはアルカリ土
    類金属の炭酸塩および/または有機アミン化合物もしく
    はアンモニアの存在下で加水分解させることを特徴とす
    る、請求項1記載の有機ケイ素化合物の製造方法。
JP10159948A 1998-05-25 1998-05-25 有機ケイ素化合物およびその製造方法 Pending JPH11335379A (ja)

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JP10159948A Pending JPH11335379A (ja) 1998-05-25 1998-05-25 有機ケイ素化合物およびその製造方法

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JP (1) JPH11335379A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6818721B2 (en) 2002-12-02 2004-11-16 Rpo Pty Ltd. Process for producing polysiloxanes and use of the same
JP2010008035A (ja) * 2008-05-30 2010-01-14 Daikin Ind Ltd 熱交換器

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JP2010008035A (ja) * 2008-05-30 2010-01-14 Daikin Ind Ltd 熱交換器

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