JPH11335334A - 光学活性アミンの製造法 - Google Patents
光学活性アミンの製造法Info
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- JPH11335334A JPH11335334A JP10175249A JP17524998A JPH11335334A JP H11335334 A JPH11335334 A JP H11335334A JP 10175249 A JP10175249 A JP 10175249A JP 17524998 A JP17524998 A JP 17524998A JP H11335334 A JPH11335334 A JP H11335334A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 イリジウム錯体を用い、添加剤を共存させる
ことなく、しかも光学純度が高いアミン化合物を得るこ
と。 【解決手段】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基
を示し、これらの基は置換基を有していてもよく、ま
た、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３の内の二つが結合して環を形成し
ていてもよい）で表されるイミン化合物を下記一般式
（２） （式中、Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基、ピバロイル
基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよいフェ
ニル基あるいはナフチル基を示し、Ｌは第三級ホスフィ
ンの二座配位子化合物を示す）で表されるイリジウム錯
体存在下に不斉水素化させて、下記一般式（３） 【化２】 （３）（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は前記と同じ、＊は不
斉炭素を意味する）で表される光学活性アミンを製造す
る。
ことなく、しかも光学純度が高いアミン化合物を得るこ
と。 【解決手段】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基
を示し、これらの基は置換基を有していてもよく、ま
た、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３の内の二つが結合して環を形成し
ていてもよい）で表されるイミン化合物を下記一般式
（２） （式中、Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基、ピバロイル
基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよいフェ
ニル基あるいはナフチル基を示し、Ｌは第三級ホスフィ
ンの二座配位子化合物を示す）で表されるイリジウム錯
体存在下に不斉水素化させて、下記一般式（３） 【化２】 （３）（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は前記と同じ、＊は不
斉炭素を意味する）で表される光学活性アミンを製造す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学活性アミン化合
物の新規製造方法に関するものである。さらには、不飽
和結合を有するイミン化合物をイリジウム錯体の存在下
不斉水素化させて光学活性アミン化合物の新規製造方法
に関するものである。さらに詳しくは、医薬品の合成中
間体として有用な、光学活性アミン化合物の実用性に優
れた新しい製造法に関するものである。
物の新規製造方法に関するものである。さらには、不飽
和結合を有するイミン化合物をイリジウム錯体の存在下
不斉水素化させて光学活性アミン化合物の新規製造方法
に関するものである。さらに詳しくは、医薬品の合成中
間体として有用な、光学活性アミン化合物の実用性に優
れた新しい製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学活性なアミン化合物を合成す
る場合、天然由来のアミン化合物を用いるか、あるいは
ラセミ体のアミン化合物を合成し、光学活性なカルボン
酸を用いて光学分割する方法などが常法であった。しか
しながら、前者の方法は原料物質を入手する困難性など
の点で、また、後者の場合はせっかく光学分割しても希
望する化合物は光学分割する前に存在している量を越え
ることが出来ないという不都合さが残っていた。それら
の点を解決するために、近年、触媒的不斉合成法が盛ん
に研究され、例えば、ロジウム錯体を用いる方法（例え
ば、Ｊ．Ｂａｋｏｓ，Ａ．Ｏｒｓｚ，Ｂ．Ｈｅｉｌ，
Ｍ．Ｌａｇｈｍａｒｉ，Ｐ．Ｌｈｏｓｔｅ，Ｄ．Ｓｉｎ
ｏｕ，”Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ
ｕｎ．”１６８４−（１９９１））や、ルテニウム錯体
を用いる方法（例えば、Ｄ．Ｅ．Ｆｏｇｇ，Ｂ．Ｒ．Ｊ
ａｍｅｓ，Ｍ．Ｋｉｌｎｅｒ，”Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．Ａｃｔａ”，２２２−，８５−（１９９４））など
が知られている。ところが、使用するロジウム金属の価
格が高いこと、またロジウム金属よりも比較的安価なル
テニウム金属を用いた場合、調製されるルテニウム錯体
がやや不安定であり、さらに生成されるアミンの光学純
度もさほど高くはない、などの指摘がなされている。価
格が比較的安いイリジウム金属を採用した錯体を用いる
研究報告もあるが、高活性な触媒を得るために添加剤を
必要とする（例えば、Ｆ．Ｓｐｉｎｄｌｅｒ，Ｂ．Ｐｕ
ｇｉｎ， Ｈ．Ｐ．Ｂｌａｓｔｅｒ，”Ａｎｇｅｗ．Ｃ
ｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ”３５，５５８−
（１９９０）やＫ．Ｔａｎｉ，Ｊ．−Ｉ．Ｏｎｏｕｃｈ
ｉ，Ｔ．Ｙａｍａｇａｔａ ａｎｄ Ｙ．Ｋａｔａｏｋ
ａ，”Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ”，９５５（１９９５））。
添加剤を用いないイリジウム錯体の研究報告として、
Ｙ．Ｎｇ Ｃｈｅｏｎｇ Ｃｈａｎ，Ｊ．Ａ．Ｏｓｂｏ
ｒｎ，”Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”１１２，９４
００（１９９０）があるが、生成されるアミンの光学純
度の点で改善すべき余地が残されている。
る場合、天然由来のアミン化合物を用いるか、あるいは
ラセミ体のアミン化合物を合成し、光学活性なカルボン
酸を用いて光学分割する方法などが常法であった。しか
しながら、前者の方法は原料物質を入手する困難性など
の点で、また、後者の場合はせっかく光学分割しても希
望する化合物は光学分割する前に存在している量を越え
ることが出来ないという不都合さが残っていた。それら
の点を解決するために、近年、触媒的不斉合成法が盛ん
に研究され、例えば、ロジウム錯体を用いる方法（例え
ば、Ｊ．Ｂａｋｏｓ，Ａ．Ｏｒｓｚ，Ｂ．Ｈｅｉｌ，
Ｍ．Ｌａｇｈｍａｒｉ，Ｐ．Ｌｈｏｓｔｅ，Ｄ．Ｓｉｎ
ｏｕ，”Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ
ｕｎ．”１６８４−（１９９１））や、ルテニウム錯体
を用いる方法（例えば、Ｄ．Ｅ．Ｆｏｇｇ，Ｂ．Ｒ．Ｊ
ａｍｅｓ，Ｍ．Ｋｉｌｎｅｒ，”Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．Ａｃｔａ”，２２２−，８５−（１９９４））など
が知られている。ところが、使用するロジウム金属の価
格が高いこと、またロジウム金属よりも比較的安価なル
テニウム金属を用いた場合、調製されるルテニウム錯体
がやや不安定であり、さらに生成されるアミンの光学純
度もさほど高くはない、などの指摘がなされている。価
格が比較的安いイリジウム金属を採用した錯体を用いる
研究報告もあるが、高活性な触媒を得るために添加剤を
必要とする（例えば、Ｆ．Ｓｐｉｎｄｌｅｒ，Ｂ．Ｐｕ
ｇｉｎ， Ｈ．Ｐ．Ｂｌａｓｔｅｒ，”Ａｎｇｅｗ．Ｃ
ｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ”３５，５５８−
（１９９０）やＫ．Ｔａｎｉ，Ｊ．−Ｉ．Ｏｎｏｕｃｈ
ｉ，Ｔ．Ｙａｍａｇａｔａ ａｎｄ Ｙ．Ｋａｔａｏｋ
ａ，”Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ”，９５５（１９９５））。
添加剤を用いないイリジウム錯体の研究報告として、
Ｙ．Ｎｇ Ｃｈｅｏｎｇ Ｃｈａｎ，Ｊ．Ａ．Ｏｓｂｏ
ｒｎ，”Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”１１２，９４
００（１９９０）があるが、生成されるアミンの光学純
度の点で改善すべき余地が残されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、イリジウ
ム錯体を用い、添加剤を共存させることなく、しかも光
学純度が高いアミン化合物の製法を得ることが本発明の
課題である。
ム錯体を用い、添加剤を共存させることなく、しかも光
学純度が高いアミン化合物の製法を得ることが本発明の
課題である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意研究を重ねた結果、下記式（２） （式中、Ｒは炭素数が１ないし３のアルキル基、ピバロ
イル基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい
フェニル基あるいはナフチル基を示し、Ｌは第三級ホス
フィンの二座配位子化合物を示す）で表されるイリジウ
ム錯体存在下に不飽和基を有するイミン化合物を不斉水
素化させると上記課題が解決されることを見いだした。
決するために鋭意研究を重ねた結果、下記式（２） （式中、Ｒは炭素数が１ないし３のアルキル基、ピバロ
イル基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい
フェニル基あるいはナフチル基を示し、Ｌは第三級ホス
フィンの二座配位子化合物を示す）で表されるイリジウ
ム錯体存在下に不飽和基を有するイミン化合物を不斉水
素化させると上記課題が解決されることを見いだした。
【０００５】
【発明の実施の態様】以下、本発明を詳細に説明する。
上記不飽和基を有するイミン化合物は下記一般式（１）
上記不飽和基を有するイミン化合物は下記一般式（１）
【化３】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基
を示し、これらの基は置換基を有していてもよく、ま
た、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３の内の二つが結合して環を形成し
ていてもよい）で表される化合物である。ここで、アル
キル基としては炭素数が１ないし８の直鎖あるいは分岐
されたアルキル基が、アルケニル基としては炭素数が１
ないし８の直鎖あるいは分岐されたアルケニル基が好ま
しい。シクロアルキル基としては炭素数が５ないし７の
シクロアルキル基が、シクロアルケニル基としては炭素
数が５ないし７のシクロアルケニル基が挙げられる。ア
リール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられ、
アラルキル基としては炭素数が１ないし３のアルキル基
にアリール基が置換されたものである。上記置換基とし
ては、炭素数が１ないし４のアルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール
基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基等が好ましい。
く、それぞれアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基
を示し、これらの基は置換基を有していてもよく、ま
た、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３の内の二つが結合して環を形成し
ていてもよい）で表される化合物である。ここで、アル
キル基としては炭素数が１ないし８の直鎖あるいは分岐
されたアルキル基が、アルケニル基としては炭素数が１
ないし８の直鎖あるいは分岐されたアルケニル基が好ま
しい。シクロアルキル基としては炭素数が５ないし７の
シクロアルキル基が、シクロアルケニル基としては炭素
数が５ないし７のシクロアルケニル基が挙げられる。ア
リール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられ、
アラルキル基としては炭素数が１ないし３のアルキル基
にアリール基が置換されたものである。上記置換基とし
ては、炭素数が１ないし４のアルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール
基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基等が好ましい。
【０００６】これらイミン化合物はカルボニル化合物と
アミン化合物との縮合反応により容易に生成される。上
記カルボニル化合物としては芳香環を有するカルボニル
化合物あるいは脂肪族炭化水素を有するカルボニル化合
物が挙げられる。芳香環を有するカルボニル化合物の具
体例としては、フェニルメチルケトン、フェニルエチル
ケトン、フェニルプロピルケトン、フェニルアセトン、
１−インダノン、２−インダノン、１−テトラロン、２
−テトラロン等が好ましく、それらカルボニル化合物と
くに芳香環上には、アルキル基、アルケニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラル
キル基が置換されていてもよい。脂肪族炭化水素を有す
るカルボニル化合物の具体例としては、クロロアセト
ン、α−メトキシアセトン、α−ヒドロキシアセトン、
メチルブチルケトン、イソプロピルメチルケトン等が好
適である。また、上記アミン化合物としてはベンジルア
ミン、３，４−メトキシベンジルアミン、ｏ−ニトロベ
ンジルアミン、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチルアミ
ン、トリフェニルメチルアミン、ｐ−メトキシフェニル
ジフェニルメチルアミン、５−ジベンゾスベリルアミン
等が好適である。
アミン化合物との縮合反応により容易に生成される。上
記カルボニル化合物としては芳香環を有するカルボニル
化合物あるいは脂肪族炭化水素を有するカルボニル化合
物が挙げられる。芳香環を有するカルボニル化合物の具
体例としては、フェニルメチルケトン、フェニルエチル
ケトン、フェニルプロピルケトン、フェニルアセトン、
１−インダノン、２−インダノン、１−テトラロン、２
−テトラロン等が好ましく、それらカルボニル化合物と
くに芳香環上には、アルキル基、アルケニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラル
キル基が置換されていてもよい。脂肪族炭化水素を有す
るカルボニル化合物の具体例としては、クロロアセト
ン、α−メトキシアセトン、α−ヒドロキシアセトン、
メチルブチルケトン、イソプロピルメチルケトン等が好
適である。また、上記アミン化合物としてはベンジルア
ミン、３，４−メトキシベンジルアミン、ｏ−ニトロベ
ンジルアミン、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチルアミ
ン、トリフェニルメチルアミン、ｐ−メトキシフェニル
ジフェニルメチルアミン、５−ジベンゾスベリルアミン
等が好適である。
【０００７】前記カルボニル化合物とアミン化合物との
縮合反応により得られるイミン化合物としては、Ｎ−
（α−メチルベンジリデン）ベンジルアミン、（α−メ
チル−３’−メトキシベンジリデン）ベンジルアミン、
３，４−ジヒドロ−５−メチル−２Ｈ−ピ３，４−ジヒ
ドロ−５−メチル−２Ｈ−ピロール、５−ｎ−ブチル−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール、３，４−ジヒドロ
−５−エチル−２Ｈ−ピロール、３，４−ジヒドロ−５
−フェニル−２Ｈ−ピロール、２−メチル−３，４，
５，６−テトラヒドロピリジン、２−フェニル−３，
４，５，６−テトラヒドロピリジン等がある。
縮合反応により得られるイミン化合物としては、Ｎ−
（α−メチルベンジリデン）ベンジルアミン、（α−メ
チル−３’−メトキシベンジリデン）ベンジルアミン、
３，４−ジヒドロ−５−メチル−２Ｈ−ピ３，４−ジヒ
ドロ−５−メチル−２Ｈ−ピロール、５−ｎ−ブチル−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール、３，４−ジヒドロ
−５−エチル−２Ｈ−ピロール、３，４−ジヒドロ−５
−フェニル−２Ｈ−ピロール、２−メチル−３，４，
５，６−テトラヒドロピリジン、２−フェニル−３，
４，５，６−テトラヒドロピリジン等がある。
【０００８】本発明で用いる触媒は下記一般式（２） （式中、Ｒ、Ｌは上記と同じである）で表され、二つの
イリジウム原子が一つの塩素原子と二つのカルボン酸分
子で架橋されたイリジウム二核のカチオン錯体である。
ここで、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基、ピバロ
イル基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい
フェニル基あるいはナフチル基が例示され、置換基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ハロゲン原子などが挙げら
れる。また、Ｌで表される第三級ホスフィンは本出願前
公知の光学活性ホスフィン化合物を意味するが、具体的
には一般式（４）
イリジウム原子が一つの塩素原子と二つのカルボン酸分
子で架橋されたイリジウム二核のカチオン錯体である。
ここで、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基、ピバロ
イル基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい
フェニル基あるいはナフチル基が例示され、置換基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ハロゲン原子などが挙げら
れる。また、Ｌで表される第三級ホスフィンは本出願前
公知の光学活性ホスフィン化合物を意味するが、具体的
には一般式（４）
【化４】 （式中、Ａｒはパラ位及びメタ位が低級アルキル基また
は低級アルコキシル基あるいはハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を示す）で表される化合物を例
示できる。具体的には２，２’−ビス−（ジフェニルホ
スフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰ
という）、２，２’−ビス−（ジ−ｐ−トリルホスフィ
ノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＴＯＬ−ＢＩＮＡ
Ｐという）、２，２’−ビス−（ジ−ｍ−トリルホスフ
ィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−
３，５−キシリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
（以下、ＤＭ−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス
（ジ−ｐ−ターシャリーブチルフェニルホスフィノ）−
１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メト
キシフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、
２，２’−ビス（ジ−ｐ−クロロフェニルホスフィノ）
−１，１’−ビナフチル等がある。
は低級アルコキシル基あるいはハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を示す）で表される化合物を例
示できる。具体的には２，２’−ビス−（ジフェニルホ
スフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰ
という）、２，２’−ビス−（ジ−ｐ−トリルホスフィ
ノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＴＯＬ−ＢＩＮＡ
Ｐという）、２，２’−ビス−（ジ−ｍ−トリルホスフ
ィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−
３，５−キシリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
（以下、ＤＭ−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス
（ジ−ｐ−ターシャリーブチルフェニルホスフィノ）−
１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メト
キシフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、
２，２’−ビス（ジ−ｐ−クロロフェニルホスフィノ）
−１，１’−ビナフチル等がある。
【０００９】また、一般式（４）以外の化合物として
は、一般式（５）
は、一般式（５）
【化５】 （式中、Ａｒはパラ位及びメタ位が低級アルキル基また
は低級アルコキシル基あるいはハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を示す）で表されるホスフィン
化合物を挙げることができる。一般式（５）で示される
ホスフィン類としては、具体的には、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，
７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル
（以下、Ｈ８−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス
（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，
７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフ
チル、２，２’−ビス（ジ−ｍ−トリルホスフィノ）−
５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒド
ロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−３，
５−キシリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，
７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチ
ル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−ターシャリーブチルフェ
ニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，
８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，
２’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−
５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒド
ロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−
クロロフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，
７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフ
チル）等がある。
は低級アルコキシル基あるいはハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を示す）で表されるホスフィン
化合物を挙げることができる。一般式（５）で示される
ホスフィン類としては、具体的には、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，
７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル
（以下、Ｈ８−ＢＩＮＡＰという）、２，２’−ビス
（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，
７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフ
チル、２，２’−ビス（ジ−ｍ−トリルホスフィノ）−
５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒド
ロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−３，
５−キシリルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，
７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチ
ル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−ターシャリーブチルフェ
ニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，
８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、２，
２’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−
５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒド
ロ−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−
クロロフェニルホスフィノ）−５，５’，６，６’，
７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフ
チル）等がある。
【０００９】さらには下記一般式（６）
【化６】 （式中、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は、同じかもしくは異なって
いてもよく、水素原子、または低級アルキル基あるいは
低級アルコキシル基を示し、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６の内の二
つが結合して環を形成していてもよい。Ａｒはパラ位及
びメタ位が低級アルキル基または低級アルコキシル基あ
るいはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基
を示す）で表されるホスフィン化合物も同様に用いるこ
とができる。一般式（６）で示されるホスフィン類とし
ては具体的には、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）−４，４’，６，６’−テトラメチル−５，５’−
ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス
（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−４，４’，
６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，
１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）−４，４’，６，６’−テトラトリフルオロメチ
ル−５，５’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，６−ジトリ
フルオロメチル−４’６’−ジメチル−５’−メトキシ
−１，１’−ビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフ
ィノ−２’−ジフェニルホスフィノ−４，４’６，６’
−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビ
フェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−
６，６’−ジメチル−１，１−ビフェニル、２，２’−
ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−
テトラメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−３，３’，６，６’−テト
ラメチル−１，１’−ビフェニル）、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ジフルオロ−
６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’
−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ビス（ジ
メチルアミノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフ
ェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）
−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）−６，６’−
ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ
−ｍ−フルオロフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメ
チル−１，１’−ビフェニル、１，１１−ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）−５，７−ジヒドロベンゾ［ｃ，ｅ］
オキセピン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）
−６，６’−ジメトキシ−１、１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，
６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−６，６’−
ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，５，５’，６，
６’−ヘキサメトキシ−１，１’−ビフェニルも用いる
ことができる。
いてもよく、水素原子、または低級アルキル基あるいは
低級アルコキシル基を示し、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６の内の二
つが結合して環を形成していてもよい。Ａｒはパラ位及
びメタ位が低級アルキル基または低級アルコキシル基あ
るいはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基
を示す）で表されるホスフィン化合物も同様に用いるこ
とができる。一般式（６）で示されるホスフィン類とし
ては具体的には、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）−４，４’，６，６’−テトラメチル−５，５’−
ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス
（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−４，４’，
６，６’−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，
１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）−４，４’，６，６’−テトラトリフルオロメチ
ル−５，５’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，６−ジトリ
フルオロメチル−４’６’−ジメチル−５’−メトキシ
−１，１’−ビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフ
ィノ−２’−ジフェニルホスフィノ−４，４’６，６’
−テトラメチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビ
フェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−
６，６’−ジメチル−１，１−ビフェニル、２，２’−
ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，６，６’−
テトラメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−３，３’，６，６’−テト
ラメチル−１，１’−ビフェニル）、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ジフルオロ−
６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’
−ビス（ジフェニルホスフィノ）−４，４’−ビス（ジ
メチルアミノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフ
ェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）
−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジ−ｏ−トリルホスフィノ）−６，６’−
ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ
−ｍ−フルオロフェニルホスフィノ）−６，６’−ジメ
チル−１，１’−ビフェニル、１，１１−ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）−５，７−ジヒドロベンゾ［ｃ，ｅ］
オキセピン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）
−６，６’−ジメトキシ−１、１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５，５’，６，
６’−テトラメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，
２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−６，６’−
ジメトキシ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス
（ジフェニルホスフィノ）−４，４’，５，５’，６，
６’−ヘキサメトキシ−１，１’−ビフェニルも用いる
ことができる。
【００１１】さらに用いることのできる他の光学活性ホ
スフィン化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−
［１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニ
ル］エチルアミン、２，３−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）エタン、１−置換−３，４−ビス
（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、２，３−Ｏ−イ
ソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス
（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス｛（ｏ
−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ｝エタン、
１，２−ビス（２，５−二置換ホスホラノ）ベンゼン、
５，６−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボル
ネン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、
１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン等が挙げら
れる。もちろんこの発明に用いることのできるホスフィ
ン配位子はこれらに何ら限定されるものではない。な
お、前記式中の置換とは、置換可能な基で置換されてい
ることを示すものである。
スフィン化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−
［１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニ
ル］エチルアミン、２，３−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）エタン、１−置換−３，４−ビス
（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、２，３−Ｏ−イ
ソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス
（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス｛（ｏ
−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ｝エタン、
１，２−ビス（２，５−二置換ホスホラノ）ベンゼン、
５，６−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボル
ネン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、
１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン等が挙げら
れる。もちろんこの発明に用いることのできるホスフィ
ン配位子はこれらに何ら限定されるものではない。な
お、前記式中の置換とは、置換可能な基で置換されてい
ることを示すものである。
【００１２】これらの光学活性ホスフィン化合物と錯体
を形成するためのイリジウム化合物には、Ｊ．Ｌ．Ｈｅ
ｒｄｅ，Ｊ．Ｃ．Ｌａｍｂｅｒｔ ａｎｄ Ｃ．Ｖ．Ｓ
ｅｎｏｆｆ，”Ｉｎｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，１５，１８
−（１９７４）に記載のジ−ｍ−クロロテトラキス（シ
クロオクテン）二イリジウムあるいはジ−ｍ−クロロビ
ス（１，５−シクロオクタジエン）二イリジウム、Ａ．
Ｌ．Ｏｎｄｅｒｌｉｎｄｅｎ ａｎｄ Ａ．ｖａｎ ｄ
ｅｒ Ｅｎｔ．，”Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ，
６，４２０−（１９７２）に記載のジ−ｍ−クロロテト
ラキス（エチレン）二イリジウムや特開平４−１３９１
９２号公報に記載の［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３Ｃ
Ｎ）２］Ｙ（式中、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエ
ンを示し、ＹはＢＦ４，ＰＦ６，ＣｌＯ４，ＢＰｈ４を
示す）がある。
を形成するためのイリジウム化合物には、Ｊ．Ｌ．Ｈｅ
ｒｄｅ，Ｊ．Ｃ．Ｌａｍｂｅｒｔ ａｎｄ Ｃ．Ｖ．Ｓ
ｅｎｏｆｆ，”Ｉｎｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，１５，１８
−（１９７４）に記載のジ−ｍ−クロロテトラキス（シ
クロオクテン）二イリジウムあるいはジ−ｍ−クロロビ
ス（１，５−シクロオクタジエン）二イリジウム、Ａ．
Ｌ．Ｏｎｄｅｒｌｉｎｄｅｎ ａｎｄ Ａ．ｖａｎ ｄ
ｅｒ Ｅｎｔ．，”Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ，
６，４２０−（１９７２）に記載のジ−ｍ−クロロテト
ラキス（エチレン）二イリジウムや特開平４−１３９１
９２号公報に記載の［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３Ｃ
Ｎ）２］Ｙ（式中、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエ
ンを示し、ＹはＢＦ４，ＰＦ６，ＣｌＯ４，ＢＰｈ４を
示す）がある。
【００１３】上記錯体はこれらのイリジウム化合物と上
記光学活性ホスフィン化合物を反応させ、ついで有機カ
ルボン酸と反応させることにより調製できる。光学活性
ホスフィン化合物の量はイリジウム化合物のイリジウム
に対してほぼ等モル量とすると好ましい結果を得ること
ができる。これらの反応は溶媒中で行うことが好まし
い。溶媒の具体例としてはトルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭
化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素
溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど
のアルコール系溶媒、エーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドなどの有機溶媒が挙げら
れ、これら溶媒単独あるいは二種以上の混合溶媒を用い
ることが好ましい。上記有機カルボン酸は、例えば酢
酸、ピバル酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸などが例示
できる。使用する量割合はイリジウムに対してほぼ１０
等量程度までの範囲内とすることが好ましい。このよう
にして得たヒドリド（カルボキシラート）錯体を不斉水
素化触媒として用いると、高い光学純度を有する化合物
を得ることができる。
記光学活性ホスフィン化合物を反応させ、ついで有機カ
ルボン酸と反応させることにより調製できる。光学活性
ホスフィン化合物の量はイリジウム化合物のイリジウム
に対してほぼ等モル量とすると好ましい結果を得ること
ができる。これらの反応は溶媒中で行うことが好まし
い。溶媒の具体例としてはトルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭
化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素
溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど
のアルコール系溶媒、エーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドなどの有機溶媒が挙げら
れ、これら溶媒単独あるいは二種以上の混合溶媒を用い
ることが好ましい。上記有機カルボン酸は、例えば酢
酸、ピバル酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸などが例示
できる。使用する量割合はイリジウムに対してほぼ１０
等量程度までの範囲内とすることが好ましい。このよう
にして得たヒドリド（カルボキシラート）錯体を不斉水
素化触媒として用いると、高い光学純度を有する化合物
を得ることができる。
【００１４】次に水素化方法について説明する。水素化
される基質である上記イミン化合物をメタノール、エタ
ノール、イソプロパノールなどのアルコール溶媒やテト
ヒドロフラン、塩化メチレン、ベンゼンまたはこれらの
混合溶媒に溶かし、基質に対して１／５０〜１／１００
０モルの触媒を加え、水素圧１０〜１００ｋｇ／ｃ
ｍ２、好ましくは３０〜７０ｋｇ／ｃｍ２、温度５〜１
００℃、好ましくは２０〜５０℃で５〜３０時間、好ま
しくは１０〜２０時間水素化を行うと光学活性なアミン
化合物が得られる。
される基質である上記イミン化合物をメタノール、エタ
ノール、イソプロパノールなどのアルコール溶媒やテト
ヒドロフラン、塩化メチレン、ベンゼンまたはこれらの
混合溶媒に溶かし、基質に対して１／５０〜１／１００
０モルの触媒を加え、水素圧１０〜１００ｋｇ／ｃ
ｍ２、好ましくは３０〜７０ｋｇ／ｃｍ２、温度５〜１
００℃、好ましくは２０〜５０℃で５〜３０時間、好ま
しくは１０〜２０時間水素化を行うと光学活性なアミン
化合物が得られる。
【００１５】以下、 本発明を
【参考例】および
【実施例】に基づいて説明するが本発明はこれらに限定
されるものではない。なお、本発明では下記の分析機器
を用いた。 ３１Ｐ−ＮＭＲ： ブルッカー社製 ＤＲＸ−５００ 光学純度： 高速液体クロマトグラフィー； ヒューレットパッカード社製 ＳＥＲＩＥＳ １１００ 転化率 ： ガスクロマトグラフィー； ヒューレットパッカード社製 ５８９０ カラム ；ジーエルサイエンス社製 ＮＥＵＴＲＡＢＯＮＤ−１ ２５ｍ
されるものではない。なお、本発明では下記の分析機器
を用いた。 ３１Ｐ−ＮＭＲ： ブルッカー社製 ＤＲＸ−５００ 光学純度： 高速液体クロマトグラフィー； ヒューレットパッカード社製 ＳＥＲＩＥＳ １１００ 転化率 ： ガスクロマトグラフィー； ヒューレットパッカード社製 ５８９０ カラム ；ジーエルサイエンス社製 ＮＥＵＴＲＡＢＯＮＤ−１ ２５ｍ
【００１６】［参考例１］アルゴン雰囲気下、２０ｍｌ
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ８Ｈ１４）２］２ ４
１．４ｍｇ（０．０４６ｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶液
にＢＩＮＡＰ ５９ｍｇ（０．０９５ｍｏｌ）を入れ室
温で１時間撹拌した。反応液に酢酸０．１ｍｌ（１．７
５ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留
去し淡黄色固体を得た。３１ Ｐ（Ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８） δ０．８０（ｄ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），−２．１（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ８Ｈ１４）２］２ ４
１．４ｍｇ（０．０４６ｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶液
にＢＩＮＡＰ ５９ｍｇ（０．０９５ｍｏｌ）を入れ室
温で１時間撹拌した。反応液に酢酸０．１ｍｌ（１．７
５ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩撹拌した。溶媒を減圧留
去し淡黄色固体を得た。３１ Ｐ（Ｔｏｌｕｅｎｅ−ｄ８） δ０．８０（ｄ，Ｊ
＝１８Ｈｚ），−２．１（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）
【００１７】［参考例２］アルゴン雰囲気下、２０ｍｌ
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ８Ｈ１４）２］２６
６．２ｍｇ（０．０７４ｍｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶
液に（Ｓ）−ＴｏｌＢＩＮＡＰ １００．２ｍｇ（０．
１４８ｍｍｏｌ）を入れ室温で１時間撹拌した。反応液
に酢酸０．１ｍｌ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で１
５時間撹拌した。溶媒を減圧留去し淡黄色固体を得た。３１ Ｐ（ＣＤＣｌ３）δ−０．４３（ｄ，Ｊ＝２０．２
Ｈｚ），−２．５０（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ８Ｈ１４）２］２６
６．２ｍｇ（０．０７４ｍｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶
液に（Ｓ）−ＴｏｌＢＩＮＡＰ １００．２ｍｇ（０．
１４８ｍｍｏｌ）を入れ室温で１時間撹拌した。反応液
に酢酸０．１ｍｌ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で１
５時間撹拌した。溶媒を減圧留去し淡黄色固体を得た。３１ Ｐ（ＣＤＣｌ３）δ−０．４３（ｄ，Ｊ＝２０．２
Ｈｚ），−２．５０（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）
【００１８】［参考例３］アルゴン雰囲気下、２０ｍｌ
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ３Ｈ１４）２］２６
１．０ｍｇ（０．０６８ｍｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶
液に（Ｓ）−ＤＭ−ＢＩＮＡＰ １００ｍｇ（０．１３
６ｍｏｌ）を入れ室温で１時間撹拌した。反応液に酢酸
０．１ｍｌ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間
撹拌した。溶媒を減圧留去し［｛Ｉｒ（（Ｓ）−ｄｍｂ
ｉｎａｐ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣＯＣＨ３）２（μ−Ｃ
ｌ］Ｃｌを得た。３１ Ｐ（ＣＤＣｌ３）δ １．１８（ｄ，Ｊ＝１７．６
Ｈｚ），−１．４２（ｄ，Ｊ＝２０．９Ｈｚ）
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ３Ｈ１４）２］２６
１．０ｍｇ（０．０６８ｍｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶
液に（Ｓ）−ＤＭ−ＢＩＮＡＰ １００ｍｇ（０．１３
６ｍｏｌ）を入れ室温で１時間撹拌した。反応液に酢酸
０．１ｍｌ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間
撹拌した。溶媒を減圧留去し［｛Ｉｒ（（Ｓ）−ｄｍｂ
ｉｎａｐ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣＯＣＨ３）２（μ−Ｃ
ｌ］Ｃｌを得た。３１ Ｐ（ＣＤＣｌ３）δ １．１８（ｄ，Ｊ＝１７．６
Ｈｚ），−１．４２（ｄ，Ｊ＝２０．９Ｈｚ）
【００１９】［参考例４］アルゴン雰囲気下、２０ｍｌ
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ８Ｈ１４）２］２７
０．３ｍｇ（０．０７９ｍｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶
液に（Ｓ）−Ｈ８−ＢＩＮＡＰ １００ｍｇ（０．１５
８ｍｏｌ）を入れ室温で１時間撹拌した。反応液に酢酸
０．１ｍｌ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間
撹拌した。溶媒を減圧留去し［｛Ｉｒ（（Ｓ）−Ｈ８−
ｂｉｎａｐ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣＯＣＨ３）２（μ−
Ｃｌ）］Ｃｌを得た。３１ Ｐ（ＣＤＣｌ３）δ １．０５（ｄ，Ｊ＝１８．２
Ｈｚ），−２．７０（ｄ，Ｊ＝１８．２Ｈｚ）
のシュレンク管に［ＩｒＣｌ（Ｃ８Ｈ１４）２］２７
０．３ｍｇ（０．０７９ｍｍｏｌ）のトルエン８ｍｌ溶
液に（Ｓ）−Ｈ８−ＢＩＮＡＰ １００ｍｇ（０．１５
８ｍｏｌ）を入れ室温で１時間撹拌した。反応液に酢酸
０．１ｍｌ（１．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間
撹拌した。溶媒を減圧留去し［｛Ｉｒ（（Ｓ）−Ｈ８−
ｂｉｎａｐ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣＯＣＨ３）２（μ−
Ｃｌ）］Ｃｌを得た。３１ Ｐ（ＣＤＣｌ３）δ １．０５（ｄ，Ｊ＝１８．２
Ｈｚ），−２．７０（ｄ，Ｊ＝１８．２Ｈｚ）
【００２０】［実施例１］１００ｍｌオートクレーブに
［｛Ｉｒ（（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣ
ＯＣＨ３）２（μ−Ｃｌ）］Ｃｌ ４４ｍｇ（０．０２
４ｍｍｏｌ）、２−フェニル−３，４，５，６−テトラ
ヒドロピリジン１８３ｍｇ（１．１５ｍｍｏｌ）、トル
エン（２．３ｍｌ）を仕込み、水素圧６０ｋｇ／ｃ
ｍ２、２０℃で１８時間撹拌した。反応液を濃縮後し、
クーゲル蒸留で（Ｒ）−（＋）−２フェニルピペリジン
１７７ｍｇを得た。得られたアミンの光学純度はダイセ
ル化学社製ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ ４．６ｍｍｘ２
５０ｍｍヘキサン／イソプロパノール＝９９．５／０．
５（容量比）流速０．４ｍｌ／ｍｉｎ．で測定した結
果、１００％ｅｅであった。
［｛Ｉｒ（（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣ
ＯＣＨ３）２（μ−Ｃｌ）］Ｃｌ ４４ｍｇ（０．０２
４ｍｍｏｌ）、２−フェニル−３，４，５，６−テトラ
ヒドロピリジン１８３ｍｇ（１．１５ｍｍｏｌ）、トル
エン（２．３ｍｌ）を仕込み、水素圧６０ｋｇ／ｃ
ｍ２、２０℃で１８時間撹拌した。反応液を濃縮後し、
クーゲル蒸留で（Ｒ）−（＋）−２フェニルピペリジン
１７７ｍｇを得た。得られたアミンの光学純度はダイセ
ル化学社製ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ ４．６ｍｍｘ２
５０ｍｍヘキサン／イソプロパノール＝９９．５／０．
５（容量比）流速０．４ｍｌ／ｍｉｎ．で測定した結
果、１００％ｅｅであった。
【００２１】［実施例２］１００ｍｌオートクレーブに
［｛Ｉｒ（（Ｓ）−ＤＭ−ＢＩＮＡＰ）（Ｈ）｝２（μ
−ＯＣＯＣＨ３）２（μ−Ｃｌ）］Ｃｌ １２．３ｍｇ
（０．０１２ｍｍｏｌ）、Ｎ−（α−メチルベンジリデ
ン）ベンジルアミン５００ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）、メ
タノール（５ｍｌ）を仕込み、水素圧３０ｋｇ／ｃ
ｍ２、３０℃で１４時間撹拌した。反応液のガスクロマ
トグラフィー分析により反応基質はすべて消費され、目
的とするＮ−（α−メチルベンジル）ベンジルアミンが
得られた。得られたアミンの光学純度はダイセル化学社
製ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ ４．６ｍｍｘ２５０ｍｍ
ヘキサン／イソプロパノール＝９９／１（容量比）流速
０．４ｍｌ／ｍｉｎ．で測定した結果、７８％ｅｅであ
った。
［｛Ｉｒ（（Ｓ）−ＤＭ−ＢＩＮＡＰ）（Ｈ）｝２（μ
−ＯＣＯＣＨ３）２（μ−Ｃｌ）］Ｃｌ １２．３ｍｇ
（０．０１２ｍｍｏｌ）、Ｎ−（α−メチルベンジリデ
ン）ベンジルアミン５００ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）、メ
タノール（５ｍｌ）を仕込み、水素圧３０ｋｇ／ｃ
ｍ２、３０℃で１４時間撹拌した。反応液のガスクロマ
トグラフィー分析により反応基質はすべて消費され、目
的とするＮ−（α−メチルベンジル）ベンジルアミンが
得られた。得られたアミンの光学純度はダイセル化学社
製ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ ４．６ｍｍｘ２５０ｍｍ
ヘキサン／イソプロパノール＝９９／１（容量比）流速
０．４ｍｌ／ｍｉｎ．で測定した結果、７８％ｅｅであ
った。
【００２２】
【発明の効果】本発明で規定するイリジウム錯体を触媒
とすることによって、特に添加剤を併用することなく、
高収率、高立体選択的に光学活性アミン化合物を得るこ
とができる。これらの光学活性アミン化合物はいろいろ
な化合物の合成中間体として有用であり、とくに医薬品
の合成中間体として有効である。
とすることによって、特に添加剤を併用することなく、
高収率、高立体選択的に光学活性アミン化合物を得るこ
とができる。これらの光学活性アミン化合物はいろいろ
な化合物の合成中間体として有用であり、とくに医薬品
の合成中間体として有効である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 211/10 Ｃ０７Ｄ 211/10 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 佐用 昇 神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（１） 【化１】 （１）（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同一でも異なってい
てもよく、それぞれアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラル
キル基を示し、これらの基は置換基を有していてもよ
く、また、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３の内の二つが結合して環を
形成していてもよい）で表されるイミン化合物を下記一
般式（２） ［｛Ｉｒ（Ｌ）（Ｈ）｝２（μ−ＯＣＯＲ）２（μＣｌ］Ｃ ｌ （２） （式中、Ｒは炭素数が１ないし３のアルキル基、ピバロ
イル基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい
フェニル基あるいはナフチル基を示し、Ｌは第三級ホス
フィンの二座配位子化合物を示す）で表されるイリジウ
ム錯体存在下に不斉水素化させることを特徴とする一般
式（３） 【化２】 （３）（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は前記と同じ、＊は不
斉炭素を意味する）で表される光学活性アミンの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17524998A JP3517591B2 (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | 光学活性アミンの製造法 |
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-
1998
- 1998-05-20 JP JP17524998A patent/JP3517591B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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