JPH11327140A - Negative image recording material - Google Patents

Negative image recording material

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JPH11327140A
JPH11327140A JP10129093A JP12909398A JPH11327140A JP H11327140 A JPH11327140 A JP H11327140A JP 10129093 A JP10129093 A JP 10129093A JP 12909398 A JP12909398 A JP 12909398A JP H11327140 A JPH11327140 A JP H11327140A
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JP
Japan
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group
acid
compound
image recording
recording material
Prior art date
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Pending
Application number
JP10129093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10129093A priority Critical patent/JPH11327140A/en
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative image recording material for a direct printing plate capable of stably performing development without causing image dropouts even when there is a scratch such as a fingerprint thereon. SOLUTION: The material comprises a compound which decomposes by light or heat to generate an acid; a cross-linking agent which forms cross-links by the acid; at least one type of an alkaline soluble resin; an infrared absorbent, and a compound represented by the formula (R<1> -X)n -Ar-(OH)m where R<1> is a C6 -C32 alkyl or alkenyl group; X is a single bond, O, S, COO, or COONH; Ar is an aromatic hydrocarbon, alicyclic hydrocarbon, or heterocyclic group; n is 1 to 3; and m is 1 to 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷用版材と
して使用できる画像記録材料に関するものであり、特
に、コンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを
用い直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平
版印刷用版材用のネガ型画像記録材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material which can be used as a lithographic printing plate material, and more particularly to a so-called direct lithographic printing plate capable of direct plate making using an infrared laser from a digital signal of a computer or the like. The present invention relates to a negative image recording material for printing plates.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータ等のデジタルデータ
から直接製版するシステムが注目されている。また、レ
ーザの発展は目ざましく、特に波長760〜1200n
mの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザは、
高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになって
おり、上記システムの記録光源としてこれらのレーザは
非常に有用である。しかし、実用上有用な多くの感光性
記録材料は、感光波長が760nm以下の可視光域であ
るため、これらの赤外線レーザでは画像記録できない。
このため、赤外線レーザで記録可能な材料が望まれてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, a system for directly making a plate from digital data of a computer or the like has attracted attention. In addition, the development of laser is remarkable, especially the wavelength of 760 to 1200n.
m solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared rays are
High power and small size are easily available, and these lasers are very useful as a recording light source for the above system. However, many photosensitive recording materials that are practically useful cannot be image-recorded with these infrared lasers because the photosensitive wavelength is in the visible light region of 760 nm or less.
Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0003】このような赤外線レーザにより記録可能な
画像記録材料としては、特開平7−20629号に記載
されている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料がある。また、
特開平7−271029号には、ハロアルキル置換され
たs−トリアジン、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及
び赤外線吸収剤よりなる記録材料が記載されている。し
かしながら、これらの画像記録材料を用いた版材では、
取扱い時に素手で触って表面に指紋がついた場合のよう
に、表面に傷がつくと、その部分おいて、レーザ露光、
加熱、及び現像の各処理を行った場合、傷のついた部分
だけ画像が抜けてしまうという問題があった。このよう
な問題は、版材に触れた部分から外気等に含まれる水分
が進入し、その結果、光又は熱により分解して酸を発生
する化合物(A)(例えば、ジアゾニウム塩)が分解さ
れて、硬化が起こらず、現像時に版材に触れた部分が溶
解してしまうためであると推察される。
As an image recording material which can be recorded by such an infrared laser, there is a recording material composed of an onium salt, a resole resin, a novolac resin, and an infrared absorbent, which is described in JP-A-7-20629. Also,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-271029 describes a recording material comprising a haloalkyl-substituted s-triazine, a resole resin, a novolac resin, and an infrared absorber. However, in the plate material using these image recording materials,
If the surface is scratched, such as when you touch it with your bare hands when handling it and the surface is scratched, laser exposure,
When each of the heating and developing processes is performed, there is a problem that an image is lost only in a scratched portion. Such a problem is that moisture contained in the outside air or the like enters from a portion in contact with the plate material, and as a result, the compound (A) (for example, diazonium salt) that decomposes by light or heat to generate an acid is decomposed. It is presumed that this is because curing does not occur and the portion that has come into contact with the plate material during development is dissolved.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能であり、更に、指紋等の傷がつ
いても、画像抜けを起こすことなく安定して現像するこ
とができる、即ち、耐スクラッチ性に優れたネガ型画像
記録材料を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to enable plate making directly from digital data of a computer or the like by recording with a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays, and further to obtain fingerprints or the like. It is an object of the present invention to provide a negative image recording material which can be stably developed without causing image loss even when scratched, i.e., which is excellent in scratch resistance.

【0005】[0005]

〔式中、Xは単結合,O,S,COOまたはCONHを表し、R1 は炭素数6〜32のアルキル基またはアルケニル基、Arは芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基または複素環基を表す。また、n及びmはそれぞれ独立に1〜3の整数を表す。〕[In the formula, X represents a single bond, O, S, COO or CONH, R 1 is an alkyl group or an alkenyl group having 6 to 32 carbon atoms, Ar is an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group or a heterocyclic group. Represents a ring group. In addition, n and m each independently represent an integer of 1 to 3. ]

【0006】本発明のネガ型画像記録材料においては、
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより付
与されたエネルギーが、赤外線吸収剤(D)によって熱
エネルギーに変換され、その熱によって、光又は熱によ
り分解して酸を発生する化合物(A)が分解して酸を発
生し、この酸が、酸により架橋する架橋剤(B)とアル
カリ可溶性樹脂(C)との架橋反応を促進することによ
り画像記録、即ち記録材料の製版が行われるものである
が、この系中に一般式(a)で表される化合物(E)を
存在させると、レーザ露光する前のネガ型平版印刷用版
材を素手で触る等しても、該版材に対してレーザ露光、
加熱、及び現像という一連の処理を行ったときに、触っ
た部分において画像が抜けることを防止することができ
る。そのメカニズムは不明であるが、前記一般式(a)
で表される化合物(E)が、画像記録層の表面に偏在し
て、表面に保護被膜が形成されたのと同様のバリア状の
構造をとり、表面に多少の傷がついても、水分の進入が
抑えられ、硬化作用が阻害されないためと考えられる。
In the negative type image recording material of the present invention,
Energy given by a solid-state laser and a semiconductor laser that emits infrared rays is converted into heat energy by the infrared absorbent (D), and the heat decomposes the compound (A) that decomposes by light or heat to generate an acid. Then, an acid is generated, and the acid accelerates the crosslinking reaction between the crosslinking agent (B) that crosslinks with the acid and the alkali-soluble resin (C), whereby image recording, that is, plate making of the recording material is performed. However, when the compound (E) represented by the general formula (a) is present in this system, even if the negative type planographic printing plate material before laser exposure is touched with bare hands, Laser exposure,
It is possible to prevent the image from coming off at the touched portion when a series of processing including heating and development is performed. Although the mechanism is unknown, the above general formula (a)
The compound (E) represented by is unevenly distributed on the surface of the image recording layer to form a barrier-like structure similar to the case where a protective coating is formed on the surface, and even if the surface is slightly scratched, moisture It is considered that this is because the invasion is suppressed and the curing action is not hindered.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下に本発明であるネガ型記録材
料の各構成成分等について順次、詳細に説明するが、ま
ず、本発明の特徴的な成分である前記(E)の一般式
(a)で表される化合物について述べる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Each constituent component and the like of the negative type recording material of the present invention will be sequentially described in detail below. First, the general formula (E) (which is a characteristic component of the present invention) The compound represented by a) will be described.

【0008】〔(E)一般式(a)(R1 −X)n −A
r−(OH)m で表される化合物〕本発明の前記一般式
(a)で表される化合物は、画像記録層表面に偏在して
バリア状に分子配向する炭素数の大きな置換基を有する
1価または多価のフェノール類化合物または環式アルコ
ール類化合物である。
[(E) General formula (a) (R 1 -X) n -A
Compound Represented by r-(OH) m ] The compound represented by the general formula (a) of the present invention has a substituent having a large number of carbon atoms that is unevenly distributed on the surface of the image recording layer and molecularly aligns in a barrier state. A monohydric or polyhydric phenol compound or a cyclic alcohol compound.

【0009】式中、R1 は、炭素数6〜32のアルキル
基又はアルケニル基を表す。アルキル基又はアルケニル
基は、分岐を有していてもよく、アルキル基としては、
例えば、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ
ル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基
等の直鎖アルキル基、14−メチルペンタデシル基、1
6−メチルヘプタデシル基等の分岐を有するアルキル基
が挙げられ、アルケニル基としては、1−ヘキセニル
基、1−ヘプテニル基、1−オクテニル基、2−メチル
−1−ヘプテニル基等が挙げられる。前記R1 は、炭素
数が6より小さいと、耐指紋性が劣ることがあるため好
ましくなく、一方、炭素数が32を超えると、画像記録
材料の現像性が低下し、非画像部が現像不良となること
があるため好ましくない。前記R1 は、塗布溶剤に対す
る溶解性の点で、炭素数25以下のアルキル基、アルケ
ニル基が好ましい。
In the formula, R 1 represents an alkyl group or an alkenyl group having 6 to 32 carbon atoms. The alkyl group or alkenyl group may have a branch, and as the alkyl group,
For example, linear alkyl groups such as n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, and n-undecyl group, 14-methylpentadecyl group, 1
Examples thereof include branched alkyl groups such as 6-methylheptadecyl group, and examples of the alkenyl group include 1-hexenyl group, 1-heptenyl group, 1-octenyl group, 2-methyl-1-heptenyl group and the like. When R 1 has a carbon number of less than 6, the fingerprint resistance is inferior, which is not preferable. On the other hand, when the carbon number exceeds 32, the developability of the image recording material is deteriorated and the non-image area is developed. It is not preferable because it may be defective. From the viewpoint of solubility in the coating solvent, R 1 is preferably an alkyl group or an alkenyl group having 25 or less carbon atoms.

【0010】式中、Arは芳香族炭化水素基、脂環式炭
化水素基、または複素環基を表す。Arで表される環状
基は飽和環でも不飽和環でもよく、具体的には、フェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロ
ペンチル基、ノルボルニル基、フリル基、チエニル基、
ピリジル基、インドリル基、ピロリジル基、ピラニル基
等が挙げられる。
In the formula, Ar represents an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, or a heterocyclic group. The cyclic group represented by Ar may be a saturated ring or an unsaturated ring, specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthrenyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, a cyclopentyl group, a norbornyl group, a furyl group, A thienyl group,
Examples thereof include a pyridyl group, an indolyl group, a pyrrolidyl group and a pyranyl group.

【0011】一般式(a)中において、Xは単結合,
O,S,COOまたはCONH基を表し、単結合でない
場合、分子内にはエーテル結合、チオエーテル結合、エ
ステル結合またはアミド結合のいずれかを有する。
In the general formula (a), X is a single bond,
It represents an O, S, COO or CONH group, and if it is not a single bond, it has either an ether bond, a thioether bond, an ester bond or an amide bond in the molecule.

【0012】また、式中のn及びmはそれぞれ独立に1
〜3の整数を表す。従って、前記一般式(a)で表され
る化合物(E)は、環状基の任意の位置に、整数n及び
mの範囲内で炭素数の大きな置換基と水酸基をそれぞれ
単基又は複数基、或いは単基および複数基の任意の組合
せで有する1価または多価のフェノール類化合物または
環式アルコール類化合物である。
Further, n and m in the formula are independently 1
Represents an integer of 3; Therefore, the compound (E) represented by the general formula (a) is a single group or a plurality of groups each having a substituent having a large carbon number within a range of integers n and m and a hydroxyl group at any position of the cyclic group, Alternatively, it is a monovalent or polyvalent phenol compound or cyclic alcohol compound having an arbitrary combination of a single group and a plurality of groups.

【0013】以下に、前記一般式(a)で表される化合
物(E)の具体例を挙げるが、本発明はこれによって限
定されるものではない。一般式(a)において、先ずA
rが芳香族炭化水素基である化合物(E)の具体例を以
下に挙げる。Xが単結合を表すものとしては、例えば、
1価フェノールにR1 としてヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、ドデシル基、1−ヘキセニル基、または2−
メチル−1−ヘプテニル基を有するヘキシルフェノー
ル、オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシル
フェノール、1−ヘキセニルフェノール、(2−メチル
−1−ヘプテニル)フェノール等、2価フェノールにR
1 としてヘキシル基を有する4−ヘキシルレソルシノー
ル等、又はこれらR1 等と水酸基を環状基の任意の位置
に、整数n及びmの範囲内でそれぞれ単基又は複数基、
或いは単基および複数基の任意の組合せで有する多価フ
ェノール類化合物等が挙げられる。
Specific examples of the compound (E) represented by the general formula (a) are shown below, but the invention is not limited thereto. In the general formula (a), first, A
Specific examples of the compound (E) in which r is an aromatic hydrocarbon group are given below. X represents a single bond, for example,
Monohydric phenol hexyl group as R 1, octyl group,
Nonyl group, dodecyl group, 1-hexenyl group, or 2-
R is a divalent phenol such as hexylphenol, octylphenol, nonylphenol, dodecylphenol, 1-hexenylphenol, (2-methyl-1-heptenyl)phenol having a methyl-1-heptenyl group.
4-hexyl resorcinol or the like having a hexyl group as 1 , or a hydroxyl group and R 1 or the like at any position of the cyclic group within a range of integers n and m, respectively, a single group or a plurality of groups,
Alternatively, polyhydric phenol compounds having an arbitrary combination of a single group and a plurality of groups may be mentioned.

【0014】また、XがO(エーテル結合)を表すもの
としては、例えば、1価フェノールにR1 −O基として
(2−エチルヘキシル)オキシ基、またはドデシルオキ
シ基を有する(2−エチルヘキシル)オキシフェノー
ル、ドデシルオキシフェノール等、3価フェノールにR
1 −O基としてヘキシルオキシ基を有するピロガロール
の2置換体等、又はこれらR1 −O基等と水酸基を環状
基の任意の位置に、整数n及びmの範囲内でそれぞれ単
基又は複数基、或いは単基および複数基の任意の組合せ
で有する多価フェノール類化合物等が挙げられる。
Further, when X represents O (ether bond), for example, monohydric phenol has (2-ethylhexyl)oxy group as R 1 -O group or (2-ethylhexyl)oxy group having dodecyloxy group. R for trivalent phenol such as phenol and dodecyloxyphenol
A disubstituted product of pyrogallol having a hexyloxy group as a 1- O group or the like, or a R 1 -O group or the like and a hydroxyl group at any position of the cyclic group within a range of integers n and m, each being a single group or a plurality of groups. Alternatively, polyhydric phenol compounds having an arbitrary combination of a single group and a plurality of groups may be mentioned.

【0015】XがS(チオエーテル結合)を表すものと
しては、例えば、1価フェノールにR1 −S基としてド
デシルチオ基を有するドデシルチオフェノール等、これ
らR 1 −S基等と水酸基を環状基の任意の位置に、整数
n及びmの範囲内でそれぞれ単基又は複数基、或いは単
基および複数基の任意の組合せで有する多価フェノール
類化合物等が挙げられる。
X represents S (thioether bond)
For example, monohydric phenol to R1 As the -S group
Dodecylthiophenol having decylthio group, etc.
R 1 -S group, etc. and a hydroxyl group at an arbitrary position of the cyclic group, an integer
Within the range of n and m, a single group or multiple groups, or a single group
Group and polyhydric phenols with any combination of groups
Compounds and the like can be mentioned.

【0016】XがCOO(エステル結合)を表すものと
しては、例えば、1価フェノールにR1 −COO基とし
てドデシルオキシカルボニル基、またはドデカノイルオ
キシ基を有するドデシルオキシカルボニルフェノール、
ドデカノイルオキシフェノール等、これらR1 −COO
基等と水酸基を環状基の任意の位置に、整数n及びmの
範囲内でそれぞれ単基又は複数基、或いは単基および複
数基の任意の組合せで有する多価フェノール類化合物等
が挙げられる。
Examples of those in which X represents COO (ester bond) include, for example, dodecyloxycarbonylphenol having a dodecyloxycarbonyl group or a dodecanoyloxy group as R 1 -COO group in monohydric phenol,
Dodecanoyloxyphenol, etc., such as R 1 -COO
Examples thereof include a polyhydric phenol compound having a group or the like and a hydroxyl group at arbitrary positions in the cyclic group within a range of integers n and m, respectively, in a single group or a plurality of groups, or in an arbitrary combination of a single group and a plurality of groups.

【0017】XがCONH(アミド結合)を表すものと
しては、例えば、1価フェノールにR1 −CONH基と
してドデシルアミノカルボニル基、ドデカノイルアミノ
基、またはオレオイルアミノ基を有するドデシルアミノ
カルボニルフェノール、ドデカノイルアミノフェノー
ル、オレオイルアミノフェノール等、これらR1 −CO
NH基等と水酸基を環状基の任意の位置に、整数n及び
mの範囲内でそれぞれ単基又は複数基、或いは単基およ
び複数基の任意の組合せで有する多価フェノール類化合
物、又は一価ナフトールにR1 としてドデカノイルアミ
ノ基を有する(4−又は5−)ドデカノイルアミノ−1
−ナフトール等、該R1 −CONH基等と水酸基を環状
基の任意の位置に、整数n及びmの範囲内でそれぞれ単
基又は複数基、或いは単基および複数基の任意の組合せ
で有する多価ナフトール類等が挙げられる。
Examples of those in which X represents CONH (amide bond) include, for example, dodecylaminocarbonylphenol having dodecylaminocarbonyl group, dodecanoylamino group or oleoylamino group as R 1 -CONH group in monohydric phenol, Dodecanoylaminophenol, oleoylaminophenol, etc., such as R 1 -CO
A polyhydric phenol compound having an NH group or the like and a hydroxyl group at any position of the cyclic group within the range of integers n and m, respectively, in a single group or a plurality of groups, or in an arbitrary combination of a single group and a plurality of groups, or a monovalent (4- or 5-) dodecanoylamino-1 having a dodecanoylamino group as R 1 in naphthol
-Naphthol and the like, the R 1 -CONH group and the like and a hydroxyl group at any position of the cyclic group, within the range of integers n and m, respectively, in a single group or a plurality of groups, or in any combination of a single group and a plurality of groups. Examples include valence naphthols.

【0018】また、一般式(a)のArが脂環式炭化水
素基である化合物(E)としては、例えば、2−ヘキシ
ルシクロヘキサノール、2−ドデシルオキシシクロヘキ
サノール、4−ドデカノイルアミノシクロヘキサノール
等の脂環式アルコール類化合物が挙げられ、さらに、A
rが複素環基である化合物(E)としては、例えば、N
−オクチル−2−ヒドロキシニコチン酸アミド、1−S
−オクチル−β−D−チオグルコピラノシド、ソルビタ
ンモノラウレート、N−ドデカノイル−3−ピロリジノ
ール等の複素環式アルコール類化合物等が挙げられる。
The compound (E) in which Ar in the general formula (a) is an alicyclic hydrocarbon group is, for example, 2-hexylcyclohexanol, 2-dodecyloxycyclohexanol, 4-dodecanoylaminocyclohexanol. Alicyclic alcohol compounds such as
Examples of the compound (E) in which r is a heterocyclic group include, for example, N
-Octyl-2-hydroxynicotinic acid amide, 1-S
Heterocyclic alcohol compounds such as -octyl-β-D-thioglucopyranoside, sorbitan monolaurate, and N-dodecanoyl-3-pyrrolidinol.

【0019】上記のうち、一般式(a)においてArで
表される環状基としては、入手の容易の点で芳香族炭化
水素基であることが好ましく、更には、フェニル基また
はナフチル基であることが特に好ましい。また、式中の
n及びmも入手の容易の観点から、それぞれ独立に1ま
たは2であることが特に好ましい。
Of the above, the cyclic group represented by Ar in the general formula (a) is preferably an aromatic hydrocarbon group from the viewpoint of easy availability, and is further a phenyl group or a naphthyl group. Is particularly preferable. In addition, it is particularly preferable that n and m in the formula are independently 1 or 2 from the viewpoint of easy availability.

【0020】前記一般式(a)で表される化合物の添加
量としては、画像記録材料の全固形分に対して0.5〜
10重量%の範囲が好ましく、更に好ましくは1〜6重
量%の範囲である。前記一般式(a)で表される化合物
の添加量が0.5重量%未満であると前記画像記録材料
の表面に形成されたワックスの被膜が薄くなり、耐指紋
性が劣るため好ましくなく、一方、10重量%で効果が
飽和するためこれ以上加える必要がない。
The addition amount of the compound represented by the general formula (a) is 0.5 to the total solid content of the image recording material.
The range is preferably 10% by weight, more preferably 1 to 6% by weight. If the addition amount of the compound represented by the general formula (a) is less than 0.5% by weight, the wax film formed on the surface of the image recording material becomes thin and the fingerprint resistance is deteriorated, which is not preferable. On the other hand, the effect is saturated at 10% by weight, so that it is not necessary to add more.

【0021】本発明のネガ型画像記録材料の(E)成分
以外の構成成分について、以下に説明する。 〔(A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物〕
本発明において光又は熱により分解して酸を発生する化
合物(以下、適宜、「酸発生剤」と称する)とは、20
0〜500nmの波長の光照射又は100℃以上の加熱
により酸を発生する化合物を指す。本発明において好適
に用いられる酸発生剤としては、光カチオン重合の光開
始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、
光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されてい
る公知の酸発生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化
合物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用するこ
とができる。
The constituent components other than the component (E) of the negative image recording material of the present invention will be described below. [(A) Compound that decomposes to generate acid when exposed to light or heat]
In the present invention, the compound that decomposes by light or heat to generate an acid (hereinafter, appropriately referred to as “acid generator”) is 20
It refers to a compound that generates an acid by irradiation with light having a wavelength of 0 to 500 nm or heating at 100° C. or higher. As the acid generator preferably used in the present invention, a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for photoradical polymerization, a photobleaching agent for dyes,
A known compound that thermally decomposes to generate an acid, such as a photochromic agent or a known acid generator used for a micro resist, and a mixture thereof can be appropriately selected and used.

【0022】例えば、S.I.Schlesinge
r,Photogr.Sci.Eng.,18,387
(1974)、T.S.Bal et al,Poly
mer,21,423(1980)に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第4,069,055号、同4,06
9,056号、同Re27,992号、特開平4−36
5049号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.
Necker et al,Macromolecul
es,17,2468(1984)、C.S.Wen
et al,Teh,Proc.Conf.Rad,C
uring ASIA,p478 Tokyo,Oct
(1988)、米国特許第4,069,055号、同
4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.
V.Crivello et al,Macromol
ecules,10(6),1307(1977)、C
hem.& Eng.News,Nov.28,p31
(1988)、欧州特許第104、143号、米国特許
第339,049号、同第410,201号、特開平2
−150848号、特開平2−296514号に記載の
ヨードニウム塩、J.V.Crivello et a
l,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello et al.J.Org.
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【0023】Bull.,14,279(1985)、
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0,693号、同390,214号、同233,567
号、同297,443号、同297,442号、米国特
許第4,933,377号、同161,811号、同4
10,201号、同339,049号、同4,760,
013号、同4,734,444号、同2,833,8
27号、独国特許第2,904,626号、同3,60
4,580号、同3,604,581号に記載のスルホ
ニウム塩、
Bull. , 14, 279 (1985),
J. V. Crivello et al, Macrom
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1), J. V. Crivello et al. P
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Ed. , 17, 2877 (1979), European Patent No. 37.
0,693, 390,214, 233,567
No. 297,443, No. 297,442, and U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811 and 4
10,201, 339,049, 4,760,
013, 4,734,444, 2,833,8
27, German Patents 2,904,626 and 3,60
Sulfonium salts described in 4,580, and 3,604,581,

【0024】J.V.Crivello et al,
Macromolecules,10(6),1307
(1977)、J.V.Crivello et a
l,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Te
h,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,9
05,815号、特公昭46−4605号、特開昭48
−36281号、特開昭55−32070号、特開昭6
0−239736号、特開昭61−169835号、特
開昭61−169837号、特開昭62−58241
号、特開昭62−212401号、特開昭63−702
43号、特開昭63−298339号に記載の有機ハロ
ゲン化合物、K.Meier et al,J.Ra
d.Curing,13(4),26(1986),
T.P.Gill et al,Inorg.Che
m.,19,3007(1980)、D.Astru
c,Acc.Chem.Res.,19(12),37
7(1896)、特開平2−161445号に記載の有
機金属/有機ハロゲン化物、S.Hayase et
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(1987)、E.Reichmanis et a
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hu et al,J Photochem.,36,
85,39,317(1987)、B.Amitet
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-36281, JP-A-55-32070, JP-A-6-
0-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837, JP-A-62-58241.
JP-A-62-212401, JP-A-63-702
43, organic halogen compounds described in JP-A-63-298339, K.K. Meier et al. Ra
d. Curing, 13(4), 26(1986),
T. P. Gill et al, Inorg. Che
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hu et al, J Photochem. , 36,
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2205 (1973),

【0025】D.H.R.Barton et al,
J.Chem.Soc.3571(1965)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Perkin I,1695(1975)、M.
Rudinstein et al,Tetrahed
ron Lett.,(17),1445(197
5)、J.W.Walker et al,J.Am.
Chem.Soc.,110,7170(1988)、
S.C.Busman et al,J.Imagin
g Technol.,11(4),191(198
5)、H.M.Houlihan et al,Mac
romolecules,21,2001(198
8)、P.M.Collins et al,J.Ch
em.Soc.,Chem.Commun.,532
(1972)、S.Hayase et al,Mac
romolecules,18,1799(198
5)、E.Reichmanis et al,J.E
lectrochem.Soc.,SolidStat
e Sci.Technol.,130(6)、F.
M.Houlihan et al,Macromol
ecules,21,2001(1988)、欧州特許
第0290,750号、同046,083号、同15
6,535号、同271,851号、同0,388,3
43号、米国特許第3,901,710号、同4,18
1,531号、特開昭60−198538号、特開昭5
3−133022号に記載のo−ニトロベンジル型保護
基を有する光酸発生剤、M.Tunooka et a
l,Polymer Preprints Japa
n,38(8)、G.Berner et al,J.
Rad.Curing,13(4)、W.J.Mijs
et al,Coating Technol.,5
5(697),45(1983)、Akzo,H.Ad
achi et al,Polymer Prepri
nts,Japan,37(3)、欧州特許第019
9,672号、同84515号、同199,672号、
同044,115号、同0101,122号、米国特許
第4,618,564号、同4,371,605号、同
4,431,774号、特開昭64−18143号、特
開平2−245756号、特願平3−140109号に
記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解し
てスルホン酸を発生する化合物、特開昭61−1665
44号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。
D. H. R. Barton et al,
J. Chem. Soc. 3571 (1965), P.
M. Collins et al. Chem. So
c. , Perkin I, 1695 (1975), M.;
Rudinstein et al, Tetrahed
ron Lett. , (17), 1445 (197)
5), J. W. Walker et al. Am.
Chem. Soc. , 110, 7170 (1988),
S. C. Busman et al. Imagin
g Technol. , 11(4), 191 (198
5), H. M. Houlihan et al, Mac
romolecules, 21, 2001 (198
8), P. M. Collins et al. Ch
em. Soc. Chem. Commun. 532
(1972), S.H. Hayase et al, Mac
romolecules, 18, 1799 (198
5), E. Reichmanis et al. E
retrochem. Soc. , SolidStat
e Sci. Technol. 130(6), F.I.
M. Houlihan et al, Macromol
ecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083 and 15
No. 6,535, No. 271,851, No. 0,388,3
43, US Pat. Nos. 3,901,710 and 4,18.
1,531, JP-A-60-198538, JP-A-5
No. 3-133022, a photo-acid generator having an o-nitrobenzyl type protecting group, M.K. Tsunoka et a
1, Polymer Preprints Japan
n, 38(8), G.I. Berner et al.
Rad. Curing, 13(4), W.W. J. Mijs
et al, Coating Technology. , 5
5 (697), 45 (1983), Akzo, H.; Ad
achi et al, Polymer Prepri
nts, Japan, 37(3), European Patent No. 019.
No. 9,672, No. 84515, No. 199,672,
044,115, 0101,122, U.S. Pat. Nos. 4,618,564, 4,371,605, 4,431,774, JP-A-64-18143 and JP-A-2- No. 245756, Japanese Patent Application No. 3-140109, and other compounds which generate sulfonic acid upon photolysis, represented by iminosulfonates, and JP-A-61-1665.
The disulfone compound described in No. 44 can be mentioned.

【0026】また、これらの酸を発生する基、あるいは
化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例
えば、M.E.Woodhouse et al,J.
Am.Chem.Soc.,104,5586(198
2)、S.P.Pappaset al,J.Imag
ing Sci.,30(5),218(1986)、
S.Kondo et al. Makromol.C
hem.,Rapid Commun.,9,625
(1988)、Y.Yamada et al,Mak
romol.Chem.,152,153,163(1
972)、J.V.Crivello et al.
J.Polymer Sci.,Polymer Ch
em.Ed.,17,3845(1979)、米国特許
第3,849,137号、独国特許第3,914,40
7、特開昭63−26653号、特開昭55−1648
24号、特開昭62−69263号、特開昭63−14
6037、特開昭63−163452号、特開昭62−
153853号、特開昭63−146029号に記載の
化合物を用いることができる。
Further, a group in which these acid-generating groups or compounds are introduced into the main chain or side chain of the polymer, such as M.I. E. Woodhouse et al.
Am. Chem. Soc. , 104, 5586 (198
2), S. P. Pappase et al. Imag
ing Sci. , 30(5), 218(1986),
S. Kondo et al. Makromol. C
hem. , Rapid Commun. , 9,625
(1988), Y. Yamada et al, Mak
romol. Chem. , 152, 153, 163(1
972), J. et al. V. Crivello et al.
J. Polymer Sci. , Polymer Ch
em. Ed. , 17,3845 (1979), U.S. Pat. No. 3,849,137, German Patent No. 3,914,40.
7, JP-A-63-26653, JP-A-55-1648
24, JP-A-62-69263, JP-A-63-14.
6037, JP-A-63-163452, JP-A-62-
The compounds described in JP-A-153853 and JP-A-63-146029 can be used.

【0027】更に、V.N.R.Pillai,Syn
thesis,(1),1(1980)、A.Abad
et al,Tetrahedron Lett.,
(47)4555(1971)、D.H.R.Bart
on et al,J.Chem,Soc,.(C),
329(1970)、米国特許第3,779,778
号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸
を発生する化合物も使用することができる。これらのう
ち本発明で特に好ましく用いられる酸発生剤としては、
下記一般式(I)〜(V)で表される化合物が挙げられ
る。
Further, V. N. R. Pillai, Syn
these, (1), 1 (1980), A.S. Abad
et al, Tetrahedron Lett. ,
(47) 4555 (1971), D.I. H. R. Bart
on et al, J. et al. Chem, Soc,. (C),
329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778.
The compounds which generate an acid by light described in JP-A No. 126,712 and the like can also be used. Among these, as the acid generator particularly preferably used in the present invention,
The compound represented by the following general formula (I)-(V) is mentioned.

【0028】[0028]

【化1】 [Chemical 1]

【0029】〔式中、R1 、R2 、R4 及びR5 は、同
じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい
炭素数20個以下の炭化水素基を示す。R3 は、ハロゲ
ン原子、置換基を有していてもよい炭素数10個以下の
炭化水素基または炭素数10個以下のアルコキシ基を示
す。Ar1 、Ar2 は、同じでも異なっていてもよく、
置換基を有していてもよい炭素数20個以下のアリール
基を示す。R6 は、置換基を有していてもよい炭素数2
0個以下の2価の炭化水素基を示す。nは、0〜4の整
数を示す。〕
[In the formula, R 1 , R 2 , R 4 and R 5 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. R 3 represents a halogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. Ar 1 and Ar 2 may be the same or different,
The aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent is shown. R 6 has 2 carbon atoms which may have a substituent.
It represents 0 or less divalent hydrocarbon groups. n shows the integer of 0-4. ]

【0030】上記一般式(I)〜(V)において、R
1 、R2 、R4 及びR5 は、それぞれ独立に、置換基を
有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示
し、好ましくは炭素数1〜14の炭化水素基を示す。炭
化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−
ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ウンデシル
基、ドデシル基等のアルキル基、アリル基、ビニル基、
1−メチルビニル基、2−フェニルビニル基等のアルケ
ニル基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基、ト
リル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシ
ルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アン
トラセニル基等のアリール基が挙げられる。これらの炭
化水素基は、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有してい
てもよい。置換基を有する炭化水素基の具体例として
は、トリフルオロメチル基、クロロエチル基、2−メト
キシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフ
ェニル基、フェノキシフェニル基、メトキシフェニルビ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボ
キシフェニル基、9,10−ジメトキシアントラセニル
基等が挙げられる。
In the above general formulas (I) to (V), R
1 , R 2 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent, and preferably a hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms. .. Specific examples of the hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-
Propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-
Butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, undecyl group, dodecyl group and other alkyl groups, allyl group, vinyl group,
Alkenyl groups such as 1-methylvinyl group and 2-phenylvinyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group. And aryl groups such as groups. These hydrocarbon groups may have a substituent such as a halogen atom, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group and a carboxy group. Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include trifluoromethyl group, chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, Examples thereof include a methoxyphenylvinyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, and a 9,10-dimethoxyanthracenyl group.

【0031】R3 は、ハロゲン原子、置換基を有してい
てもよい炭素数10個以下の炭化水素基(例えば、アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基)ま
たは炭素数10個以下のアルコキシ基を示す。具体的に
は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、ア
リル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ニル基、トリル基等の炭化水素基、2−メトキシエチル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基等置
換基を有する炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基が挙げられる。また、nが2以上の場合、
隣接する2個のR3 で互いに結合し縮環していてもよ
い。
R 3 is a halogen atom, a hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms which may have a substituent (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group) or a C 10 or less carbon atom. Indicates an alkoxy group. Specifically, halogen atoms of fluorine, chlorine, bromine, iodine, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, allyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, Hydrocarbon groups such as hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, 2-methoxyethyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group and other substituents An alkoxy group such as a hydrogen group, a methoxy group or an ethoxy group can be used. When n is 2 or more,
Two adjacent R 3 's may combine with each other to form a condensed ring.

【0032】Ar1 、Ar2 は、同じであっても異なっ
ていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20個
以下のアリール基、好ましくは炭素数6〜14のアリー
ル基を示す。具体的には、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル
基、フェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、クロロナフチル基、メトキシフェニル基、フ
ェノキシフェニル基、エトキシナフチル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、ニ
トロナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
Ar 1 and Ar 2, which may be the same or different, each represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent, preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Show. Specifically, phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, chloronaphthyl group, Examples thereof include a methoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group, an ethoxynaphthyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, a nitronaphthyl group and an anthracenyl group.

【0033】R6 は、置換基を有していてもよい炭素数
20個以下の2価の炭化水素基(例えば、アルキレン
基、アルケニレン基、アラルキレン基、アリーレン基)
を示す。具体的には、エチニレン基、1,2−シクロヘ
キセニレン基、1,2−フェニレン基、4−クロロ−
1,2−フェニレン基、4−ニトロ−1,2−フェニレ
ン基、4−メチル−1,2−フェニレン基、4ーメトキ
シ−1,2−フェニレン基、4−カルボキシ−1,2−
フェニレン基、1,8−ナフタレニレン基等が挙げられ
る。nは、0〜4の整数を示す。ここで、nが0の場合
は、R3 がないこと、すなわち、水素原子であることを
示す。
R 6 is a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (eg, alkylene group, alkenylene group, aralkylene group, arylene group).
Indicates. Specifically, ethynylene group, 1,2-cyclohexenylene group, 1,2-phenylene group, 4-chloro-
1,2-phenylene group, 4-nitro-1,2-phenylene group, 4-methyl-1,2-phenylene group, 4-methoxy-1,2-phenylene group, 4-carboxy-1,2-
Examples thereof include a phenylene group and a 1,8-naphthalenylene group. n shows the integer of 0-4. Here, when n is 0, it means that there is no R 3 , that is, it is a hydrogen atom.

【0034】一般式(I)〜(V)で表される化合物の
内、好ましいものを以下に挙げる。尚、これらの化合物
は、例えば特開平2−100054号及び特開平2−1
00055号に記載の方法により合成することができ
る。
Among the compounds represented by the general formulas (I) to (V), preferred ones are listed below. Incidentally, these compounds are disclosed in, for example, JP-A Nos. 2-100054 and 2-1
It can be synthesized by the method described in No. 00005.

【0035】[0035]

【化2】 [Chemical 2]

【0036】[0036]

【化3】 [Chemical 3]

【0037】[0037]

【化4】 [Chemical 4]

【0038】[0038]

【化5】 [Chemical 5]

【0039】[0039]

【化6】 [Chemical 6]

【0040】[0040]

【化7】 [Chemical 7]

【0041】[0041]

【化8】 [Chemical 8]

【0042】[0042]

【化9】 [Chemical 9]

【0043】[0043]

【化10】 [Chemical 10]

【0044】[0044]

【化11】 [Chemical 11]

【0045】[0045]

【化12】 [Chemical formula 12]

【0046】また、(A)酸発生剤として、ハロゲン化
物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩、好まし
くは下記一般式(VI)〜(VIII)で示されるヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構
造を有するものも、好適に挙げることができる。
As the acid generator (A), an onium salt having a counter ion such as halide or sulfonic acid, preferably an iodonium salt, a sulfonium salt or a diazonium salt represented by the following general formulas (VI) to (VIII) is used. Those having any of the structures can be preferably mentioned.

【0047】[0047]

【化13】 [Chemical 13]

【0048】〔式中、X- は、ハロゲン化物イオン、C
lO4 - 、PF6 - 、SbF6 - 、BF4 - またはR7
−SO3 - が挙げられ、ここで、R7 は、置換基を有し
ていてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。Ar
3 、Ar4 はそれぞれ、置換基を有していてもよい炭素
数20以下のアリール基を示す。R8 、R9 、及びR 10
は置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水素
基を示す。〕
[Wherein X-Is a halide ion, C
10Four -, PF6 -, SbF6 -, BFFour -Or R7
-SO3 -, Where R7 Has a substituent
Optionally represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. Ar
3 , ArFour Is an optionally substituted carbon
An aryl group of 20 or less is shown. R8 , R9 , And R Ten
Is a hydrocarbon having 18 or less carbon atoms which may have a substituent
Indicates a group. ]

【0049】上記一般式(VI)〜(VIII)において、X
- としては、R7 −SO3 - が特に好ましく用いられ、
ここで、R7 としては、置換基を有していてもよい炭素
数20以下の炭化水素基を示す。R7 で表される炭化水
素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、s
ec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘ
キシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシ
ル基等のアルキル基、ビニル基、1−メチルビニル基、
2−フェニルビニル基等のアルケニル基、ベンジル基、
フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル
基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフ
ェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラ
セニル基等のアリール基が挙げられる。
In the above general formulas (VI) to (VIII), X
As - , R 7 -SO 3 - is particularly preferably used,
Here, R 7 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Specific examples of the hydrocarbon group represented by R 7 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, allyl group, n-butyl group and s.
ec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, alkyl groups such as dodecyl group, vinyl group, 1-methylvinyl group,
Alkenyl group such as 2-phenylvinyl group, benzyl group,
Examples thereof include an aralkyl group such as a phenethyl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a dodecylphenyl group, a phenylphenyl group, an aryl group such as a naphthyl group and an anthracenyl group.

【0050】これらの炭化水素基は、例えば、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、
ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基
等の置換基を有していてもよい。置換基を有する炭化水
素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、2−メ
トキシエチル基、10−カンファーニル基、フルオロフ
ェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨー
ドフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチ
ル基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアント
ラセニル基、アントラキノニル基等が挙げられる。
These hydrocarbon groups are, for example, halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, allyloxy group,
Nitro group, cyano group, carbonyl group, carboxyl group,
It may have a substituent such as an alkoxycarbonyl group, anilino group, and acetamide group. Specific examples of the hydrocarbon group having a substituent include trifluoromethyl group, 2-methoxyethyl group, 10-camphanyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group and hydroxy. Examples thereof include a phenyl group, a phenoxyphenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a carboxyphenyl group, a methoxynaphthyl group, a dimethoxyanthracenyl group, a diethoxyanthracenyl group and an anthraquinonyl group.

【0051】Ar3 、Ar4 はそれぞれ、置換基を有し
ていてもよい炭素数20以下のアリール基を示し、具体
的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル
基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニル
基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェニ
ル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル基、
ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラキ
ノニル基等が挙げられる。
Ar 3 and Ar 4 each represent an aryl group having a carbon number of 20 or less, which may have a substituent. Specifically, phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, Dodecylphenyl group, phenylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, hydroxyphenyl group, phenoxyphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, carboxy Phenyl group, anilinophenyl group, anilinocarbonylphenyl group, morpholinophenyl group, phenylazophenyl group, methoxynaphthyl group,
Examples thereof include a hydroxynaphthyl group, a nitronaphthyl group and an anthraquinonyl group.

【0052】R8 、R9 、及びR10は、それぞれ独立
に、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水
素基を示し、具体的には、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、i−プロピル基、アリル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、t−
ブチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等
の炭化水素基、2−メトキシエチル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、
メトキシナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイル
メチル基、等置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
また、R8 とR9 とが互いに結合し環を形成していても
よい。
R 8 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms which may have a substituent, and more specifically, a methyl group, an ethyl group, n -Propyl group, i-propyl group, allyl group, n-butyl group,
sec-butyl group, t-butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, t-
Hydrocarbon groups such as butylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, 2-methoxyethyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, iodophenyl group, methoxyphenyl group, hydroxyphenyl group, phenylthiophenyl group, Hydroxynaphthyl group,
Examples thereof include a hydrocarbon group having a substituent such as a methoxynaphthyl group, a benzoylmethyl group and a naphthoylmethyl group.
Further, R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring.

【0053】一般式(VI)〜(VIII)で表されるオニウ
ム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げられる。こ
れらのオニウム塩のカチオン部について、以下に具体的
な構造を示すが、これらに限定されるものではない。
Examples of the cation moiety of the onium salt represented by the general formulas (VI) to (VIII) include iodonium ion, sulfonium ion and diazonium ion. Specific structures of the cation moieties of these onium salts are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0054】[0054]

【化14】 [Chemical 14]

【0055】[0055]

【化15】 [Chemical 15]

【0056】[0056]

【化16】 [Chemical 16]

【0057】[0057]

【化17】 [Chemical 17]

【0058】[0058]

【化18】 [Chemical 18]

【0059】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンのうち、特に良好に用いられるスルホネートイオ
ンの例としては、 1)メタンスルホネート、 2)エタンスルホネート、 3)1−プロパンスルホネート、 4)2−プロパンスルホネート、 5)n−ブタンスルホネート、 6)アリルスルホネート、 7)10−カンファースルホネート、 8)トリフルオロメタンスルホネート、 9)ペンタフルオロエタンスルホネート、 10)ベンゼンスルホネート、 11)p−トルエンスルホネート、 12)3−メトキシベンゼンスルホネート、 13)4−メトキシベンゼンスルホネート、 14)4−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 15)4−クロロベンゼンスルホネート、 16)3−ニトロベンゼンスルホネート、 17)4−ニトロベンゼンスルホネート、 18)4−アセチルベンゼンスルホネート、 19)ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 20)4−ドデシルベンゼンスルホネート、 21)メシチレンスルホネート、 22)2、4、6−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 23)2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホネート、 24)イソフタル酸ジメチル−5−スルホネート、 25)ジフェニルアミン−4−スルホネート、 26)1−ナフタレンスルホネート、 27)2−ナフタレンスルホネート、 28)2−ナフトール−6−スルホネート、 29)2−ナフトール−7−スルホネート、 30)アントラキノン−1−スルホネート、 31)アントラキノン−2−スルホネート、 32)9、10−ジメトキシアントラセン−2−スルホ
ネート、 33)9、10−ジエトキシアントラセン−2−スルホ
ネート、 34)キノリン−8−スルホネート、 35)8−ヒドロキシキノリン−5−スルホネート、 36)8−アニリノ−ナフタレン−1−スルホネート 等が挙げられる。
On the other hand, among the counter anions of these onium salts, examples of sulfonate ions which are particularly preferably used are: 1) methane sulfonate, 2) ethane sulfonate, 3) 1-propane sulfonate, 4) 2-propane sulfonate. , 5) n-butane sulfonate, 6) allyl sulfonate, 7) 10-camphor sulfonate, 8) trifluoromethane sulfonate, 9) pentafluoroethane sulfonate, 10) benzene sulfonate, 11) p-toluene sulfonate, 12) 3-methoxy. Benzene sulfonate, 13) 4-methoxybenzene sulfonate, 14) 4-hydroxybenzene sulfonate, 15) 4-chlorobenzene sulfonate, 16) 3-nitrobenzene sulfonate, 17) 4-nitrobenzene sulfonate, 18) 4-acetylbenzene sulfonate, 19) Pentafluorobenzene sulfonate, 20) 4-dodecylbenzene sulfonate, 21) mesitylene sulfonate, 22) 2,4,6-triisopropylbenzene sulfonate, 23) 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-
5-sulfonate, 24) dimethyl-5-sulfonate isophthalate, 25) diphenylamine-4-sulfonate, 26) 1-naphthalene sulfonate, 27) 2-naphthalene sulfonate, 28) 2-naphthol-6-sulfonate, 29) 2- Naphthol-7-sulfonate, 30) Anthraquinone-1-sulfonate, 31) Anthraquinone-2-sulfonate, 32) 9,10-Dimethoxyanthracene-2-sulfonate, 33) 9,10-Diethoxyanthracene-2-sulfonate, 34 ) Quinoline-8-sulfonate, 35) 8-hydroxyquinoline-5-sulfonate, 36) 8-anilino-naphthalene-1-sulfonate and the like.

【0060】また、 41)m−ベンゼンジスルホネート、 42)ベンズアルデヒド−2、4−ジスルホネート、 43)1、5−ナフタレンジスルホネート、 44)2、6−ナフタレンジスルホネート、 45)2、7−ナフタレンジスルホネート、 46)アントラキノン−1、5−ジスルホネート、 47)アントラキノン−1、8−ジスルホネート、 48)アントラキノン−2、6−ジスルホネート、 49)9、10−ジメトキシアントラセン−2、6−ジ
スルホネート、 50)9、10−ジエトキシアントラセン−2、6−ジ
スルホネート、 等のジスルホネート類とオニウム塩カチオン2当量との
塩も用いることができる。
Further, 41) m-benzenedisulfonate, 42) benzaldehyde-2,4-disulfonate, 43) 1,5-naphthalenedisulfonate, 44) 2,6-naphthalenedisulfonate, 45) 2,7- Naphthalene disulfonate, 46) anthraquinone-1,5-disulfonate, 47) anthraquinone-1,8-disulfonate, 48) anthraquinone-2,6-disulfonate, 49) 9,10-dimethoxyanthracene-2,6- Salts of disulfonates such as disulfonate, 50)9,10-diethoxyanthracene-2,6-disulfonate, and 2 equivalents of the onium salt cation can also be used.

【0061】本発明で良好に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するCl- 塩等を、スルホン酸又はス
ルホン酸ナトリウム又はカリウム塩と水中、あるいはア
ルコール等の親水性溶媒と水との混合溶媒中で混ぜ合わ
せて塩交換を行うことにより得ることができる。オニウ
ム化合物の合成は既知の方法で行うことができ、たとえ
ば丸善・新実験化学講座14−I巻の2・3章(p.4
48)、14−III 巻の8・16章(p.1838)、
同7・14章(p.1564)、J.W.Knapcz
yk他、ジャーナル オブ アメリカン ケミカルソサ
エティ(J.Am.Chem.Soc.)91巻、14
5(1969)、A.L.Maycok他、ジャーナル
オブ オーガニック ケミストリィ(J.Org.Ch
em.)35巻、2532(1970)、J.V.Cr
ivello他、ポリマー ケミストリィ エディショ
ン(Polym.Chem.Ed.)18巻、2677
(1980)、米国特許第2,807,648号、同
4,247,473号、特開昭53−101331号、
特公平5−53166号公報等に記載の方法で合成する
ことができる。本発明で酸発生剤として良好に使用され
るオニウム塩スルホネートの好ましい具体例を以下に示
す。
The onium salt sulfonates that are preferably used in the present invention are prepared by adding the corresponding Cl - salt or the like to a sulfonic acid or sodium or potassium sulfonate salt in water, or in a mixed solvent of a hydrophilic solvent such as alcohol and water. It can be obtained by mixing and salt exchange. The onium compound can be synthesized by a known method, for example, Maruzen and Shin Jikken Kagaku Koza 14-I, Chapters 2 and 3 (p. 4).
48), Chapters 8-16 of Volume 14-III (p. 1838),
Chapter 7-14 (p. 1564), J. W. Knapcz
Yk et al., Journal of American Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.) 91, 14
5 (1969), A.A. L. Maycok et al., Journal of Organic Chemistry (J. Org. Ch.
em. ) 35, 2532 (1970), J. V. Cr
ivello et al., Polymer Chemistry Edition (Polym. Chem. Ed.) Vol. 18, 2677
(1980), U.S. Pat. Nos. 2,807,648 and 4,247,473, JP-A-53-101331,
It can be synthesized by the method described in JP-B-5-53166. Preferred specific examples of onium salt sulfonates that are favorably used as an acid generator in the present invention are shown below.

【0062】[0062]

【化19】 [Chemical 19]

【0063】[0063]

【化20】 [Chemical 20]

【0064】[0064]

【化21】 [Chemical 21]

【0065】[0065]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0066】[0066]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0067】[0067]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0068】[0068]

【化25】 [Chemical 25]

【0069】[0069]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0070】[0070]

【化27】 [Chemical 27]

【0071】[0071]

【化28】 [Chemical 28]

【0072】[0072]

【化29】 [Chemical 29]

【0073】[0073]

【化30】 [Chemical 30]

【0074】これらの酸発生剤は、画像記録材料全固形
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜2
5重量%、より好ましくは0. 5〜20重量%の割合で
画像記録材料中に添加される。添加量が0.01重量%
未満の場合は、画像が得られず、また添加量が50重量
%を超える場合は、印刷時に非画像部に汚れが発生する
ためいずれも好ましくない。これらの化合物は単独で使
用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用しても
よい。
These acid generators are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 2% by weight based on the total solid content of the image recording material.
It is added to the image recording material in a proportion of 5% by weight, more preferably 0.5 to 20% by weight. 0.01% by weight
If the amount is less than the above range, an image cannot be obtained, and if the amount added exceeds 50% by weight, stains are generated on the non-image area during printing, which is not preferable. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0075】〔(B)酸により架橋する架橋剤〕本発明
に用いることのできる、酸により架橋する架橋剤(以
下、適宜、「酸架橋剤」又は単に「架橋剤」と称する)
について説明する。本発明に用いられる架橋剤として
は、好ましいものとして以下のものが挙げられる。 (i)アルコキシメチル基、若しくはヒドロキシメチル
基で置換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基、若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii) エポキシ化合物
[(B) Acid-Crosslinking Crosslinking Agent] An acid-crosslinking crosslinking agent that can be used in the present invention (hereinafter appropriately referred to as “acid crosslinking agent” or simply “crosslinking agent”)
Will be described. The following are preferable examples of the crosslinking agent used in the present invention. (I) An aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) A compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) Epoxy compound

【0076】これら架橋剤について以下に詳細に説明す
る。 (i)アルコキシメチル基、若しくはヒドロキシメチル
基で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロ
キシメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキ
シメチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素
環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知ら
れるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で重
縮合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾール樹脂は
架橋性に優れるものの、熱安定性が充分でなく、特に感
光性の材料に含有させて高温下に長期間保存した場合、
均一な現像が困難となり好ましくない。
These cross-linking agents will be described in detail below. (I) Examples of the aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group include aromatic compounds and heterocyclic compounds polysubstituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. Be done. However, it does not include a resinous compound known as a resole resin, which is obtained by polycondensing phenols and aldehydes under basic conditions. Although the resole resin has excellent crosslinkability, it does not have sufficient thermal stability. Especially when it is contained in a photosensitive material and stored at high temperature for a long time,
It is not preferable because uniform development becomes difficult.

【0077】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物の中
では、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチル
基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい例
として挙げることができる。アルコキシメチル基の場合
は、アルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記一般式
(1)〜(4)で表される化合物を挙げることができ
る。
Among aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group, a compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxy group may be mentioned as a preferred example. it can. In the case of an alkoxymethyl group, the alkoxymethyl group is preferably a compound having 18 or less carbon atoms. Particularly preferred examples include compounds represented by the following general formulas (1) to (4).

【0078】[0078]

【化31】 [Chemical 31]

【0079】[0079]

【化32】 [Chemical 32]

【0080】前記各式中、L1 〜L8 は、それぞれ独立
にメトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数1
8以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基
又はアルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高
く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上
記に例示された架橋性化合物は、単独で使用してもよ
く、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
In each of the above formulas, L 1 to L 8 each independently have 1 carbon atom such as methoxymethyl and ethoxymethyl.
A hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted with 8 or less alkoxy groups is shown. These are preferred because they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability. The above-exemplified crosslinkable compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0081】(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基、若しくはN−アシルオキシメチル基を
有する化合物としては、欧州特許公開(以下、「EP−
A」と記載する)第0,133,216号、西独特許第
3,634,671号、同第3,711,264号に開
示された単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアル
デヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、E
P−A第0,212,482号に開示されたアルコキシ
置換化合物等が挙げられる。更に好ましい例としては、
例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル
基、N−アルコキシメチル基、若しくはN−アシルオキ
シメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体
が挙げられ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に
好ましい。
(Ii) Compounds having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group are described in European Patent Publication (hereinafter referred to as "EP-
A)) No. 0,133,216, West German Patent Nos. 3,634,671 and 3,711,264, wherein the monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea- Formaldehyde condensate, E
Examples thereof include alkoxy-substituted compounds disclosed in PA No. 0,212,482. As a more preferable example,
Examples thereof include melamine-formaldehyde derivatives having at least two free N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups, or N-acyloxymethyl groups, and among them, N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferable.

【0082】(iii) エポキシ化合物としては、一つ以上
のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号公報、英
国特許第1,539,192号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。
(Iii) Examples of epoxy compounds include monomer, dimer, oligomer and polymer epoxy compounds containing one or more epoxy groups. Examples thereof include a reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, a reaction product of low molecular weight phenol-formaldehyde resin and epichlorohydrin, and the like. Other examples include the epoxy resins described and used in US Pat. No. 4,026,705 and British Patent No. 1,539,192.

【0083】以上の(i)〜(iii) の本発明に用いるこ
とのできる架橋剤は、画像記録材料全固形分に対し、5
〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、特に好ま
しくは20〜70重量%の範囲である。架橋剤の添加量
が5重量%未満であると、得られる画像記録材料の感光
層の耐久性が悪化し、また、80重量%を超えると保存
時の安定性の観点から好ましくない。
The cross-linking agents (i) to (iii) that can be used in the present invention are 5 parts by weight based on the total solid content of the image recording material.
The range is from -80% by weight, preferably from 10-75% by weight, particularly preferably from 20-70% by weight. If the amount of the crosslinking agent added is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the resulting image recording material is deteriorated, and if it exceeds 80% by weight, it is not preferable from the viewpoint of stability during storage.

【0084】(iv)本発明では、架橋剤として、下記一
般式(5)で表されるフェノール誘導体を使用すること
も好ましい。
(Iv) In the present invention, it is also preferable to use a phenol derivative represented by the following general formula (5) as a crosslinking agent.

【0085】[0085]

【化33】 [Chemical 33]

【0086】上記一般式(5)中、Ar1 は、置換基を
有していてもよい芳香族炭化水素環を示す。原料の入手
性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環又はアントラセン環が好ましい。また、好まし
い置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12個以下の
炭化水素基、炭素数12個以下のアルコキシ基、炭素数
12個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いという
理由で、Ar1 としては、置換基を有していないベンゼ
ン環及びナフタレン環、又は、ハロゲン原子、炭素数6
個以下の炭化水素基、炭素数6個以下のアルコキシ基、
炭素数6個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を置換基
として有するベンゼン環及びナフタレン環が特に好まし
い。R1 及びR2 は、それぞれ同じでも異なっていても
よく、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示
す。合成が容易であるという理由から、R1 及びR 2
は、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
3 は、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を
示す。感度が高いという理由で、R3 は、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基等の炭素数7個以下の炭化水素基であることが特に
好ましい。mは、2〜4の整数を示す。nは、1〜3の
整数を示す。
In the above general formula (5), Ar1 Is a substituent
The aromatic hydrocarbon ring which may have is shown. Obtaining raw materials
Therefore, benzene ring, naphtho ring
A tarene ring or an anthracene ring is preferable. Also preferred
Examples of the substituent include a halogen atom and a C 12 or less
Hydrocarbon group, alkoxy group having 12 or less carbon atoms, carbon number
Up to 12 alkylthio groups, cyano groups, nitro groups,
Examples thereof include a Rifluoromethyl group. High sensitivity
Because of Ar1 As a benze without a substituent
Ring and naphthalene ring, or halogen atom, carbon number 6
Hydrocarbon groups of not more than 6 or alkoxy groups of 6 or less carbon atoms,
Substituents such as alkylthio groups and nitro groups with 6 or less carbon atoms
Especially preferred are benzene ring and naphthalene ring
Yes. R1 And R2 Are the same or different
Well, a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms is shown.
You R is because it is easy to synthesize.1 And R 2
Is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R3 Is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms
Show. R because of its high sensitivity3 Is, for example, methyl
Group, ethyl group, propyl group, cyclohexyl group, benzyl
In particular, it is a hydrocarbon group having 7 or less carbon atoms such as
preferable. m represents an integer of 2 to 4. n is 1 to 3
Indicates an integer.

【0087】本発明において好適に用いられる上記一般
式(5)で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に
示す(架橋剤[KZ−1]〜[KZ−8])が、本発明
はこれに制限されるものではない。
Specific examples of the phenol derivative represented by the above general formula (5) which is preferably used in the present invention are shown below (crosslinking agents [KZ-1] to [KZ-8]). Is not limited to.

【0088】[0088]

【化34】 [Chemical 34]

【0089】[0089]

【化35】 [Chemical 35]

【0090】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば[KZ−1]は、フェノ
ール、ホルムアルデヒド及び、ジメチルアミンやモルホ
リン等の2級アミンを反応させ、トリ(ジアルキルアミ
ノメチル)フェノールとし、次に無水酢酸と反応させ、
更に炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノールと
反応させることにより、下記反応式[1]に表す如き経
路で合成することができる。
These phenol derivatives can be synthesized by a conventionally known method. For example, [KZ-1] is reacted with phenol, formaldehyde, and a secondary amine such as dimethylamine or morpholine to give tri(dialkylaminomethyl)phenol, and then with acetic anhydride.
Further, by reacting with ethanol in the presence of a weak alkali such as potassium carbonate, the compound can be synthesized by the route represented by the following reaction formula [1].

【0091】[0091]

【化36】 [Chemical 36]

【0092】更に、別の方法によっても合成できる。例
えば[KZ−1]は、フェノールとホルムアルデヒド又
はパラホルムアルデヒドを、KOH等のアルカリ存在下
反応させ、2,4,6−トリヒドロキシメチルフェノー
ルとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと反応
させることにより、下記反応式[2]に表す如き経路で
も合成することができる。
Further, it can be synthesized by another method. For example, [KZ-1] is prepared by reacting phenol with formaldehyde or paraformaldehyde in the presence of an alkali such as KOH to give 2,4,6-trihydroxymethylphenol, and subsequently reacting with ethanol in the presence of an acid such as sulfuric acid. Thus, the compound can be synthesized by the route represented by the following reaction formula [2].

【0093】[0093]

【化37】 [Chemical 37]

【0094】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して2量体や3量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いてもよい。なお、この場合でも、不純物は3
0%以下であることが好ましく、20%以下であること
が更に好ましい。
These phenol derivatives may be used alone or in combination of two or more kinds. Further, when these phenol derivatives are synthesized, the phenol derivatives may be condensed with each other to produce by-products such as dimers and trimers, but these impurities may be used as they are. Even in this case, the impurities are 3
It is preferably 0% or less, and more preferably 20% or less.

【0095】本発明において、フェノール誘導体は全画
像記録材料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10
〜50重量%の添加量で用いられる。ここで、架橋剤と
してのフェノール誘導体の添加量が5重量%未満である
と画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、7
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
In the present invention, the phenol derivative is 5 to 70% by weight, preferably 10% by weight based on the total solid content of the image recording material.
Used in an amount of up to 50% by weight. Here, if the addition amount of the phenol derivative as the crosslinking agent is less than 5% by weight, the film strength of the image portion at the time of image recording is deteriorated.
If it exceeds 0% by weight, it is not preferable in terms of stability during storage.

【0096】〔(C)アルカリ可溶性樹脂〕本発明にお
いて使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラッ
ク樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー
等が挙げられる。本発明においてアルカリ可溶性樹脂と
して使用し得るノボラック樹脂は、フェノール類とアル
デヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。好まし
いノボラック樹脂としては、例えば、フェノールとホル
ムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、m−クレ
ゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹
脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドとから得られる
ノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドと
から得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホ
ルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、m−/
p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとから得られる
ノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p
−,o−又はm−/p−,m−/o−,o−/p−混合
のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドとから
得られるノボラック樹脂等が挙げられる。これらのノボ
ラック樹脂は、重量平均分子量が800〜200,00
0で、数平均分子量が400〜60,000のものが好
ましい。
[(C) Alkali-Soluble Resin] Examples of the alkali-soluble resin used in the present invention include novolac resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain. The novolak resin that can be used as the alkali-soluble resin in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolac resins include, for example, novolac resins obtained from phenol and formaldehyde, novolac resins obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from p-cresol and formaldehyde, and novolac resins obtained from o-cresol and formaldehyde. Novolak resin, novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, m-/
Novolac resin obtained from p-mixed cresol and formaldehyde, phenol/cresol (m-,p
-, o- or m-/p-, m-/o-, o-/p- mixture) and a novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins have a weight average molecular weight of 800 to 200,00.
It is preferably 0 and has a number average molecular weight of 400 to 60,000.

【0097】また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂
としては、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマ
ーも好ましく挙げることができる。このポリマーにおい
て、ヒドロキシアリール基とは−OH基が1個以上結合
したアリール基を示す。アリール基としては例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び
物性の観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好ま
しい。従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロ
キシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロ
キシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロ
キシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好まし
い。これらのヒドロキシアリール基は、更に、ハロゲン
原子、炭素数20個以下の炭化水素基、炭素数20個以
下のアルコキシ基及び炭素数20個以下のアリールオキ
シ基等の置換基を有していてもよい。これらのヒドロキ
シアリール基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状に
ポリマー主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基を
有していてもよい。
Further, as the alkali-soluble resin in the present invention, a polymer having a hydroxyaryl group in its side chain can be preferably mentioned. In this polymer, the hydroxyaryl group means an aryl group in which one or more —OH groups are bonded. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthrenyl group, and the like, and a phenyl group or a naphthyl group is preferable from the viewpoint of easy availability and physical properties. Therefore, the hydroxyaryl group is preferably a hydroxyphenyl group, a dihydroxyphenyl group, a trihydroxyphenyl group, a tetrahydroxyphenyl group, a hydroxynaphthyl group, a dihydroxynaphthyl group and the like. These hydroxyaryl groups may further have a substituent such as a halogen atom, a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group having 20 or less carbon atoms and an aryloxy group having 20 or less carbon atoms. Good. These hydroxyaryl groups are pendantly bonded to the polymer main chain as side chains of the polymer, but may have a linking group between them and the main chain.

【0098】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
(IX)〜(XII) で表される構成単位の内いずれか1種を
含有するポリマーである。
The polymer having a hydroxyaryl group in its side chain, which is preferably used in the present invention, is a polymer containing any one of the structural units represented by the following general formulas (IX) to (XII). ..

【0099】[0099]

【化38】 [Chemical 38]

【0100】〔式中、R11は、水素原子又はメチル基を
示す。R12及びR13は、同じでも異なっていてもよく、
水素原子、ハロゲン原子、炭素数10個以下の炭化水素
基、炭素数10個以下のアルコキシ基又は、炭素数10
個以下のアリールオキシ基を示す。また、R12とR13
結合して、縮環したベンゼン環やシクロヘキサン環を形
成していてもよい。R14は、単結合又は、炭素数20個
以下の2価の炭化水素基を示す。R15は、単結合又は、
炭素数20個以下の2価の炭化水素基を示す。R16は、
単結合又は、炭素数10個以下の2価の炭化水素基を示
す。X1 は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結
合、エステル結合、又はアミド結合を示す。pは1〜4
の整数を示す。q及びrは、それぞれ0〜3の整数を示
す。〕
[In the formula, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 12 and R 13 may be the same or different,
Hydrogen atom, halogen atom, hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms, alkoxy group having 10 or less carbon atoms, or 10 carbon atoms
The number of or less aryloxy groups is shown. In addition, R 12 and R 13 may combine to form a condensed benzene ring or cyclohexane ring. R 14 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. R 15 is a single bond or
A divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms is shown. R 16 is
A single bond or a divalent hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms is shown. X 1 represents a single bond, an ether bond, a thioether bond, an ester bond, or an amide bond. p is 1 to 4
Indicates an integer. q and r each represent an integer of 0 to 3. ]

【0101】一般式(IX)〜(XII) で表される構成単位
のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構成
単位の例を以下に挙げる。
Among the structural units represented by the general formulas (IX) to (XII), examples of specific structural units preferably used in the present invention are shown below.

【0102】[0102]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0103】[0103]

【化40】 [Chemical 40]

【0104】[0104]

【化41】 [Chemical 41]

【0105】[0105]

【化42】 [Chemical 42]

【0106】[0106]

【化43】 [Chemical 43]

【0107】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式(IX)で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸
エステルあるいはt−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合若しくはア
ニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより
得られる。また、一般式(X)で表される構成単位を有
するポリマーは、特開昭64−32256号及び同64
−35436号等に記載されている方法により合成する
ことができる。更に、一般式(XI)で表される構成単位
を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミン化合
物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマーを得
た後、ラジカル重合によりポリマーとすることにより得
られる。また、一般式(XII) で表される構成単位を有す
るポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボキシスチ
レン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を原料と
して一般式(XII) に対応するモノマーへ誘導し、更にラ
ジカル重合によりポリマーとすることにより得られる。
These polymers can be synthesized by a conventionally known method. For example, a polymer having a constitutional unit represented by the general formula (IX) has a hydroxy group protected as an acetic acid ester or t-butyl ether. It is obtained by doing. Further, polymers having a constitutional unit represented by the general formula (X) are disclosed in JP-A-64-32256 and JP-A-64-25625.
It can be synthesized by the method described in No. 35436 or the like. Further, a polymer having a constitutional unit represented by the general formula (XI) can be obtained by reacting a hydroxyl group-containing amine compound with maleic anhydride to obtain a corresponding monomer, and then radical polymerizing the polymer. .. Further, a polymer having a structural unit represented by the general formula (XII) is derived from a styrene having a functional group useful for synthesis such as chloromethylstyrene or carboxystyrene as a raw material to obtain a monomer corresponding to the general formula (XII). It is also obtained by radical polymerization to obtain a polymer.

【0108】本発明では、一般式(IX)〜(XII) で表さ
れる構成単位のみからなるホモポリマーであってもよい
が、他の構成単位をも含む共重合体であってもよい。好
適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチ
レン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。
In the present invention, it may be a homopolymer consisting only of the constitutional units represented by the general formulas (IX) to (XII), but it may also be a copolymer containing other constitutional units. Other structural units that are preferably used include, for example, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, and maleic acid. A structural unit introduced from a known monomer such as acid imide may be mentioned.

【0109】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、(n−又はi−)プロピルアクリレート、(n
−、i−、sec−又はt−)ブチルアクリレート、ア
ミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、
ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタ
エリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレ
ート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリ
レート、クロロベンジルアクリレート、2−(p−ヒド
ロキシフェニル)エチルアクリレート、フルフリルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェ
ニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スル
ファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of acrylic acid esters that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-)propyl acrylate, and (n
-, i-, sec- or t-)butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate,
Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2
-Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, 2- (P-Hydroxyphenyl)ethyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate and the like can be mentioned.

【0110】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリ
レート、クロロベンジルメタクリレート、2−(p−ヒ
ドロキシフェニル)エチルメタクリレート、フルフリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリ
レート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙
げられる。
Specific examples of the methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-)propyl methacrylate, (n-, i
-, sec- or t-)butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate,
Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate,
Examples thereof include glycidyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, 2-(p-hydroxyphenyl)ethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate and sulfamoylphenyl methacrylate.

【0111】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(p−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイ
ルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニ
ル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリ
ルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチ
ル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-.
Hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-tolyl acrylamide, N-(p-hydroxyphenyl) acrylamide, N-(sulfamoylphenyl) acrylamide, N-(phenylsulfonyl) acrylamide, N-(tolyl sulfonyl) acrylamide, Examples thereof include N,N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like.

【0112】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, and N-hydroxyethylmethacrylamide. Amide,
N-phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N-(p-hydroxyphenyl)methacrylamide, N-(sulfamoylphenyl)methacrylamide, N-(phenylsulfonyl)methacrylamide, N
Examples include -(tolylsulfonyl)methacrylamide, N,N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0113】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
Specific examples of the vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene. , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0114】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。
Among these monomers, acrylic acid esters having 20 or less carbon atoms, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes and acrylic acid are particularly preferably used. Methacrylic acid and acrylonitrile.

【0115】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(IX)〜(XII) で表される構成単位の割合は、5〜1
00重量%であることが好ましく、更に好ましくは10
〜100重量%である。また、本発明で使用されるポリ
マーの分子量は、好ましくは重量平均分子量で4000
以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲であ
り、数平均分子量で好ましくは1000以上であり、更
に好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度
(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。
The proportion of the constitutional units represented by the general formulas (IX) to (XII) contained in the copolymer using them is 5 to 1
It is preferably 00% by weight, more preferably 10%.
~100% by weight. The molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 4000 in terms of weight average molecular weight.
Or more, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, preferably in the number average molecular weight of 1,000 or more, and more preferably in the range of 2,000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight/number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10. These polymers are random polymers, block polymers,
Any graft polymer or the like may be used, but a random polymer is preferable.

【0116】本発明で使用されるアルカリ可溶性樹脂
は、1種類のみで使用してもよいし、あるいは2種類以
上を組み合わせて使用してもよい。アルカリ可溶性樹脂
の添加量は全画像記録材料固形分中、5〜95重量%、
好ましくは10〜95重量%、特に好ましくは20〜9
0重量%で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が
5重量%未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、
添加量が95重量%を超える場合は、画像形成されな
い。
The alkali-soluble resin used in the present invention may be used alone or in combination of two or more kinds. The amount of alkali-soluble resin added is 5 to 95% by weight based on the total solid content of the image recording material.
Preferably 10 to 95% by weight, particularly preferably 20 to 9
Used at 0% by weight. If the amount of the alkali-soluble resin added is less than 5% by weight, the durability of the recording layer deteriorates.
If the addition amount exceeds 95% by weight, no image is formed.

【0117】〔(D)赤外線吸収剤〕本発明において使
用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmの
赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好ましく
は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料
又は顔料である。染料としては、市販の染料及び文献
(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体
的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ
染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロ
シアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、
メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリ
リウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては例えば特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号等に記載されてい
るナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,
875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
[(D) Infrared Absorber] The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm. A dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm is preferable. As the dye, commercially available dyes and literatures (for example, "Handbook of Dyes" edited by the Society of Organic Synthetic Chemistry, Showa 45)
The well-known thing described in the annual publication can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes,
Examples include dyes such as methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes.
Preferred dyes are, for example, JP-A-58-125246.
No. 59-84356 and 59-2028.
29, JP-A-60-78787, and other cyanine dyes, JP-A-58-173696, and JP-A-5-173696.
8-181690, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793.
JP-A-58-224793, JP-A-59-481
87, JP-A-59-73996, JP-A-60-52.
940, naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, UK Patent 434, etc.
Examples thereof include cyanine dyes described in No. 875.

【0118】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として、米国特許第4,756,99
3号明細書中に式(I)、(II)として記載されている
近赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料の
うち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワ
リリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体
が挙げられる。
Further, the near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo(thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
Trimethine thiapyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,327,169, JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
-84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fair 5-13
Pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Nos. 514 and 5-19702 are also preferably used. Further, as another preferable example of the dye, US Pat. No. 4,756,99
The near-infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in the specification No. 3 can be mentioned. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0119】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes:
Commercial pigment and color index (CI) handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), "Latest pigment application technology" (published by CMC, published in 1986), "printing ink technology" published by CMC, published in 1984)
The pigments described in 1. can be used. The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Examples include metal powder pigments and polymer-bonded dyes.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments. Further, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Preferred among these pigments is carbon black.

【0120】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)、及
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above surface treatment method is "property and application of metallic soap" (Koushobo),
"Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.

【0121】顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲に
あることが好ましく、0.05〜1μmの範囲にあるこ
とが更に好ましく、0.1〜1μmの範囲にあることが
特に好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のとき
は、分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好ましく
なく、また、10μmを超えると画像記録層の均一性の
点で好ましくない。顔料を分散する方法としては、イン
ク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使
用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミ
ル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボール
ミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイド
ミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等
が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)に記載がある。
The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. When the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, the stability of the dispersion in the coating solution for the photosensitive layer is not preferable, and when it exceeds 10 μm, the uniformity of the image recording layer is not preferable. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. For details, see "Latest Pigment Application Technology" (CMC
Publication, published in 1986).

【0122】これらの染料若しくは顔料は、画像記録材
料全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは
0.1〜10重量%、染料の場合、特に好ましくは0.
5〜10重量%、顔料の場合、特に好ましくは1.0〜
10重量%の割合で画像記録材料中に添加することがで
きる。顔料若しくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を超えると印
刷時非画像部に汚れが発生する。これらの染料若しくは
顔料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層
を設けそこへ添加してもよい。
These dyes or pigments are contained in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
5 to 10% by weight, in the case of a pigment, particularly preferably 1.0 to
It can be added to the image recording material in a proportion of 10% by weight. If the amount of the pigment or dye added is less than 0.01% by weight, the sensitivity will be low, and if it exceeds 50% by weight, stains will be generated on the non-image area during printing. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components or may be added to another layer provided separately.

【0123】〔その他の成分〕本発明では、前記5つの
成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々の
化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸
収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができ
る。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエ
ロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーン
BG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オ
イルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラッ
クT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI
42555)、メチルバイオレット(CI4253
5)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145
170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、
メチレンブルー(CI52015)等、あるいは特開昭
62−293247号公報に記載されている染料を挙げ
ることができる。これらの染料は、画像形成後、画像部
と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ま
しい。尚、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
[Other Components] In the present invention, the above five components are essential, but various compounds other than these may be added if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (above Orient Chem. Industrial Co., Ltd., Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI
42555), methyl violet (CI4253
5), ethyl violet, rhodamine B (CI145
170B), malachite green (CI42000),
Examples thereof include methylene blue (CI52015) and the like, or dyes described in JP-A-62-293247. It is preferable to add these dyes because the image area and the non-image area can be easily distinguished after the image formation. The addition amount is based on the total solid content of the image recording material.
The ratio is 0.01 to 10% by weight.

【0124】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボ
キシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例え
ば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げ
られる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の
画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Further, in the image recording material of the present invention, in order to broaden the stability of the process against the developing conditions, JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used.
Nonionic surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149.
Amphoteric surfactants such as those described in the publication can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, and polyoxyethylene nonylphenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include:
Alkyldi(aminoethyl)glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N,N-betaine type (for example, brand name Amogen K, Daiichi Kogyo Co., Ltd. etc. are mentioned. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is 0.05 to 15% by weight.
Is preferable, and more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0125】更に、本発明の画像記録材料中には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル
酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。これら以
外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添加し
てもよい。
Further, if necessary, a plasticizer is added to the image recording material of the present invention to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid. And polymers are used. In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers and the like may be added.

【0126】本発明の画像記録材料は、通常上記各成分
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用さ
れる。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃
度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾
燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途に
よって異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的
に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法と
しては、種々の方法を用いることができるが、例えば、
バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少な
くなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録
膜の皮膜特性は低下する。
The image recording material of the present invention can be usually prepared by dissolving each of the above components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy. Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene,
Examples thereof include water, but are not limited to these. These solvents may be used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g/m 2 for the planographic printing plate material. As a method of applying, various methods can be used, for example,
Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0127】本発明における画像記録層中には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−17
0950号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像記録材料固形分中0.01〜1重量%、更に好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
In the image-recording layer according to the invention, a surfactant for improving the coatability, such as JP-A-62-17 is used.
A fluorinated surfactant as described in 0950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, and more preferably 0.05 to 0.5% by weight based on the total solid content of the image recording material.

【0128】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、
ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、
その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミ
ニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の
異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネ
ート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含
有量は高々10重量%以下である。本発明において特に
好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全
に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるの
で、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように
本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定
されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミ
ニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用い
られるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1〜0.6m
m程度、好ましくは0.15〜0.4mm、特に好まし
くは0.2〜0.3mmである。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, paper laminated with plastic (eg polyethylene, polypropylene, polystyrene etc.), metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc., plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with the above-mentioned metals, or vapor-deposited, or a plastic film. As the support of the present invention,
Polyester film or aluminum plate is preferable,
Among them, an aluminum plate, which has good dimensional stability and is relatively inexpensive, is particularly preferable. The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy are silicon,
Examples include iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and thus may contain a slight amount of a foreign element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly known aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 to 0.6 m.
It is about m, preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

【0129】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理
が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法、及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることが
できる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は
硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号に開示されているように
両者を組み合わせた方法も利用することができる。この
様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアル
カリエッチング処理及び中和処理された後、所望により
表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が
施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる
電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解
質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電
解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface is carried out, for example, with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically melting and roughening the surface, and a method of chemically selecting the surface. It is carried out by a method of dissolving. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. As an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can be used. The thus roughened aluminum plate is optionally subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is generally used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

【0130】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電
流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時
間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮
膜の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、ア
ルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本
発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,
714,066号、同第3,181,461号、第3,
280,734号、及び第3,902,734号に開示
されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ
酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、
支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又
は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特
許第3,276,868号、同第4,153,461
号、同第4,689,272号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
[0130] The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because it varies depending on the electrolyte used, but generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70°C, and the current density is 5 to 5. A range of 60 A/dm 2 , a voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes is suitable. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g/m 2 , printing durability is insufficient, or the non-image area of the planographic printing plate is easily scratched, and ink adheres to the scratched portion during printing. So-called "scratch stains" tend to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is optionally subjected to a hydrophilic treatment. Examples of the hydrophilic treatment used in the present invention include US Pat.
No. 714,066, No. 3,181,461, No. 3,
280,734 and 3,902,734, which are alkali metal silicate (eg, aqueous sodium silicate) processes. In this way,
The support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolyzed. Besides, potassium fluorozirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868 and 4,153,461.
No. 4,689,272, a method of treating with polyvinylphosphonic acid and the like are used.

【0131】本発明の画像記録材料は、必要に応じて支
持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分とし
ては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシ
メチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−
アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン
酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフ
チルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホ
ン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸
等の有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリ
ン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリ
ン酸等の有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホ
スフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィ
ン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、
グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類、及びトリエタ
ノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシ基を有するアミン
の塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いても
よい。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2
適当である。
In the image recording material of the present invention, an undercoat layer may be provided on the support, if desired. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, 2-
Amino group-containing phosphonic acids such as aminoethylphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid Acid, organic phosphoric acid such as optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycero An organic phosphinic acid such as phosphinic acid,
It is selected from amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as triethanolamine hydrochloride, but two or more kinds may be mixed and used. The coating amount of the organic undercoat layer is appropriately 2 to 200 mg/m 2 .

【0132】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、波長760〜1200nmの赤外線
を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光
される。本発明においては、レーザ照射後すぐに現像処
理を行ってもよいが、レーザ照射工程と現像工程の間に
加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件は、8
0〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ま
しい。この加熱処理により、レーザ照射時、記録に必要
なレーザエネルギーを減少させることができる。
As described above, a lithographic printing plate material using the image recording material of the present invention can be prepared. This lithographic printing plate material is imagewise exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm. In the present invention, the development treatment may be carried out immediately after the laser irradiation, but it is preferable to carry out the heat treatment between the laser irradiation step and the development step. The condition of heat treatment is 8
It is preferable to perform the heating in the range of 0 to 150° C. for 10 seconds to 5 minutes. This heat treatment can reduce the laser energy required for recording during laser irradiation.

【0133】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料はアルカリ性水溶液にて現像される。本
発明の画像記録材料の現像液及び補充液としては従来よ
り知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、
ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙
げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独若しくは2種以上を組み
合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特に好
ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等
のケイ酸塩水溶液である。その理由は、ケイ酸塩の成分
である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物M2 Oと
の比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためで
あり、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭
57−7427号に記載されているようなアルカリ金属
ケイ酸塩が有効に用いられる。
After the heat treatment, if necessary, the image recording material of the present invention is developed with an alkaline aqueous solution. As the developing solution and the replenishing solution for the image recording material of the present invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example,
Sodium silicate, potassium, sodium triphosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium hydrogen carbonate, potassium, ammonium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium hydroxide, ammonium borate, potassium borate, and lithium borate. Also, monomethylamine, dimethylamine,
Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, etc. Organic alkaline agents are also used. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more. Among these alkaline agents, a particularly preferable developer is an aqueous silicate solution such as sodium silicate or potassium silicate. The reason is that the developability can be controlled by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O. For example, JP-A-54-62004. Alkali metal silicates such as those described in JP-B No. 57-7427 are effectively used.

【0134】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換することなく、多量の平版印刷用版材を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には、
現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面
活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤と
しては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性
界面活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必
要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜
硫酸水素酸等の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の
還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。上記現像液及び補充液を用いて現像
処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリ
ンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で
後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材とし
て使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々
組み合わせて用いることができる。
Further, in the case of developing using an automatic processor, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkaline strength than the developing solution is used.
It is known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed by replacing the developing solution in the developing tank for a long period of time without adding the developing solution to the developing solution. Also in the present invention, this replenishment method is preferably applied. For developer and replenisher,
Various surfactants and organic solvents can be added, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developability, dispersing the development residue, and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, in the developing solution and the replenishing solution, if necessary, a reducing agent such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, an organic carboxylic acid, a defoaming agent, and a water softener. It can also be added. The printing plate developed using the above-mentioned developing solution and replenishing solution is post-treated with washing water, a rinse solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-treatment when the image recording material of the present invention is used as a printing plate material, various combinations of these treatments can be used.

【0135】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、実質的に未使用の
処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用でき
る。
In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making/printing industry in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate material, each processing liquid tank, and a spray device.The exposed printing plate is conveyed horizontally while being pumped up by a pump. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate material is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid for processing. In such automatic processing,
It is possible to perform the treatment while supplementing the replenisher with each treatment solution according to the treatment amount, operating time, and the like. Further, a so-called disposable treatment method in which treatment is performed with a substantially unused treatment liquid can be applied.

【0136】以上のようにして得られた平版印刷版は、
所望により不感脂化ガムを塗布した後、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布等が適用される。また、塗布した後でス
キージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を
均一にすることは、より好ましい結果を与える。整面液
の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2 (乾燥重
量)が適当である。
The lithographic printing plate obtained as described above,
After applying the desensitizing gum, if desired, it can be subjected to a printing step, but if it is desired to obtain a lithographic printing plate having a higher printing durability, a burning treatment is applied. When burning a lithographic printing plate, before the burning
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-adjusting solution as described in each of the publications of 1859 and 61-159655. As the method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution, it is applied on the lithographic printing plate, or by immersing the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting solution, Application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results. In general, a suitable amount of the surface-adjusting solution is 0.03 to 0.8 g/m 2 (dry weight).

【0137】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、100〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来
より行なわれている処理を施こすことができるが、水溶
性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合に
は、ガム引き等のいわゆる不感脂化処理を省略すること
ができる。この様な処理によって得られた平版印刷版は
オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いら
れる。
The planographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then burned with a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature with a burning processor: BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and time in this case depend on the kinds of the components forming the image, but are 1 to 100° C. to 300° C.
The range of up to 20 minutes is preferred. The lithographic printing plate that has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface-adjusting solution containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In that case, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0138】[0138]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 <架橋剤[KZ−9]の合成>1−[α−メチル−α−
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]―4―[α、α−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンを、
水酸化カリウム水溶液中で、ホルマリンと反応させた。
反応溶液を硫酸で酸性とし晶析させ、更にメタノールか
ら再結晶することにより、下記構造の架橋剤[KZ−
9]を得た。逆相HPLCにより純度を測定したとこ
ろ、92%であった。
The present invention is described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. <Synthesis of Crosslinking Agent [KZ-9]> 1-[α-methyl-α-
(4-Hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α,α-
Bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]benzene,
It was reacted with formalin in an aqueous solution of potassium hydroxide.
The reaction solution was acidified with sulfuric acid, crystallized, and recrystallized from methanol to give a crosslinking agent [KZ-
9] was obtained. The purity was 92% as measured by reverse phase HPLC.

【0139】[0139]

【化44】 [Chemical 44]

【0140】<バインダーポリマー[BP−1]の入手
>丸善石油化学(株)製のポリ(p−ヒドロキシスチレ
ン)、マルカ リンカーM S−4P(商品名)を入手
し、[BP−1]とした。
<Obtaining Binder Polymer [BP-1]> Poly(p-hydroxystyrene), Maruka Linker MS-4P (trade name) manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd. was obtained and named as [BP-1]. did.

【0141】(実施例1〜4)厚さ0.30mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用い、その表面を砂目立てし、よ
く水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリ
ウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、
更に2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次に、この板を7%H2 SO4 を電解液として電流
密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を
設けた後、水洗乾燥した。次に、このアルミニウム板に
下記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾
燥後の被覆量は10mg/m2 であった。
Examples 1 to 4 Al having a thickness of 0.30 mm
Cleaning the minium plate (material 1050) with trichlorethylene
And degrease it, then use a nylon brush and a 400 mesh pad.
Using a mistone-water suspension, grain the surface and
It was washed with water. This plate is put in 25% sodium hydroxide at 45°C.
After immersing in an aqueous solution of um for 9 seconds to perform etching and washing with water,
2% HNO 3 It was soaked in water for 20 seconds and washed with water. At this time
The etching amount of the grained surface is about 3g/m2 And
It was Next, this plate is 7% H2 SOFour Current as electrolyte
Density 15A/dm2 At 3 g/m2 DC anodized film of
After providing, it was washed with water and dried. Next, on this aluminum plate
The undercoat liquid described below was applied and dried at 80° C. for 30 seconds. Dry
The coating amount after drying is 10 mg/m2 Met.

【0142】 <下塗り液> β−アラニン ・・・ 0.1 g フェニルホスホン酸 ・・・ 0.05g メタノール ・・・40 g 純水 ・・・60 g<Undercoating liquid> β-alanine ・・・0.1 g Phenylphosphonic acid ・・・0.05 g Methanol ・・・40 g Pure water ・・・60 g

【0143】次に、下記溶液[P]を調製し、この溶液
を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、10
0℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材[P−1]
〜[P−4]を得た。乾燥後の被覆量は1.5g/m2
であった。
Next, the following solution [P] was prepared, and this solution was applied to the above-mentioned undercoated aluminum plate and 10
Negative lithographic printing plate material [P-1] after drying at 0°C for 1 minute
~ [P-4] were obtained. The coating amount after drying is 1.5 g/m 2
Met.

【0144】 <溶液[P]> 一般式(a)の化合物 ・・・ 0.05g 酸発生剤[SH−1] ・・・ 0.3 g 架橋剤[KZ−9] ・・・ 0.5 g バインダーポリマー[BP−1] ・・・ 1.5 g 赤外線吸収剤[IK−1] ・・・ 0.07g AIZEN SPILON BLUE C−RH・・・ 0.035g (保土ヶ谷化学(株)製) メガファックF−177 ・・・ 0.01g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン ・・・12 g メチルアルコール ・・・10 g 1−メトキシ−2−プロパノール ・・・ 8 g<Solution [P]> Compound of General Formula (a): 0.05 g Acid Generator [SH-1]: 0.3 g Crosslinking Agent [KZ-9]: 0.5 g Binder polymer [BP-1]... 1.5 g Infrared absorber [IK-1]... 0.07 g AIZEN SPILON BLUE C-RH... 0.035 g (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) Mega Fuck F-177: 0.01 g (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) Methyl ethyl ketone: 12 g Methyl alcohol: 10 g 1-Methoxy-2-propanol: 8 g

【0145】溶液[P−1]〜[P−4]に用いた一般
式(a)で表される化合物(E)を表1に示す。また、
酸発生剤[SH−1](一般式(VIII)の例示化合物)
及び赤外線吸収剤[IK−1]の構造を以下に示す。
Table 1 shows the compound (E) represented by the general formula (a) used in the solutions [P-1] to [P-4]. Also,
Acid generator [SH-1] (exemplified compound of general formula (VIII))
And the structures of the infrared absorbent [IK-1] are shown below.

【0146】[0146]

【化45】 [Chemical 45]

【0147】(外傷に対する現像安定性)得られたネガ
型平版印刷用版材[P−1]〜[P−4]を、連続荷重
式引掻強度試験器「SB62型」(新東科学(株)製)
を用い、引掻治具の版上に当たる1cm角の正方形平面
部分に、アドバンテック東洋社製の「No.5C」濾紙
を張り付けて、100gの荷重を載せて、6cm/秒の
速度で引っ掻き、出力500mW,波長830nm、ビ
ーム径17μm(1/e2 )の半導体レーザを用いて主
走査速度5m/秒にて露光した後、パネルヒーターによ
り、110℃で30秒間加熱処理し、富士写真フイルム
(株)製現像液、DP−4(1:8の水希釈液)で30
秒間現像した。評価は下記基準に基づいて行い、その結
果を表1に示す。 ○;引掻いた部分の感光膜が全く溶解していない △;引掻いた部分の感光膜が部分的に溶解している ×;引掻いた部分の感光膜が完全に溶解している
(Development stability against external damage) The obtained negative type planographic printing plate materials [P-1] to [P-4] were continuously loaded with a scratch strength tester "SB62 type" (Shinto Kagaku (Shinto Kagaku) Co., Ltd.)
Adhesive "No. 5C" filter paper made by Advantech Toyo Co., Ltd. is attached to the square flat surface of 1 cm square that hits the plate of the scratching jig, a load of 100 g is placed, and scratching is performed at a speed of 6 cm/sec. After exposure with a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm (1/e 2 ) at 500 mW at a main scanning speed of 5 m/sec, a panel heater was used to perform heat treatment at 110° C. for 30 seconds, and then Fuji Photo Film Co., Ltd. ) Developer, DP-4 (1:8 water dilution) 30
Developed for seconds. The evaluation was performed based on the following criteria, and the results are shown in Table 1. ◯: The photosensitive film in the scratched part is not completely dissolved Δ: The photosensitive film in the scratched part is partially dissolved ×: The photosensitive film in the scratched part is completely dissolved

【0148】(比較例1)実施例1で用いた溶液[P−
1]において、ノニルフェノールを使用しないこと以外
は、実施例1と同様にして、溶液[Q−1]を調製し
た。この溶液を、実施例1で用いた下塗り済みのアルミ
ニウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平
版印刷用版材[Q−1]を得た。乾燥後の重量は1.5
g/m2 であった。得られた平版印刷用版材[Q−1]
を、実施例1と同様に外傷に対する現像安定性を評価
し、その結果を表1に示す。
(Comparative Example 1) The solution used in Example 1 [P-
[1] was prepared in the same manner as in Example 1 except that nonylphenol was not used. This solution was applied to the undercoated aluminum plate used in Example 1 and dried at 100° C. for 1 minute to obtain a negative lithographic printing plate material [Q-1]. Weight after drying is 1.5
It was g/m 2 . The obtained planographic printing plate material [Q-1]
The development stability against external damage was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0149】(比較例2)実施例1で用いた溶液[P−
1]において、ノニルフェノールの代わりにp−クレゾ
ールを使用したこと以外は、実施例1と同様にして、溶
液[R−1]を調製した。この溶液を、実施例1で用い
た下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1
分間乾燥してネガ型平版印刷用版材[R−1]を得た。
乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。得られた平版
印刷用版材[R−1]を、実施例1と同様に外傷に対す
る現像安定性を評価し、その結果を表1に示す。
(Comparative Example 2) The solution used in Example 1 [P-
1] except that p-cresol was used instead of nonylphenol to prepare a solution [R-1] in the same manner as in Example 1. This solution was applied to the undercoated aluminum plate used in Example 1, and the solution was applied at 100° C. for 1 hour.
After drying for a minute, a negative lithographic printing plate material [R-1] was obtained.
The weight after drying was 1.5 g/m 2 . The obtained lithographic printing plate material [R-1] was evaluated for development stability against external damage in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0150】(比較例3)実施例1で用いた溶液[P−
1]において、ノニルフェノールの代わりに5−ペンチ
ルレソルシノール(Aldrich社製)を使用したこ
と以外は、実施例1と同様にして、溶液[S−1]を調
製した。この溶液を、実施例1で用いた下塗り済みのア
ルミニウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ
型平版印刷用版材[S−1]を得た。乾燥後の重量は
1.5g/m2 であった。得られた平版印刷用版材[S
−1]を、実施例1と同様に外傷に対する現像安定性を
評価し、その結果を表1に示す。
(Comparative Example 3) The solution used in Example 1 [P-
1] except that 5-pentyl resorcinol (manufactured by Aldrich) was used instead of nonylphenol in the same manner as in Example 1 to prepare a solution [S-1]. This solution was applied to the undercoated aluminum plate used in Example 1 and dried at 100° C. for 1 minute to obtain a negative lithographic printing plate material [S-1]. The weight after drying was 1.5 g/m 2 . The obtained planographic printing plate material [S
-1] was evaluated for development stability against external damage in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0151】[0151]

【表1】 [Table 1]

【0152】表1の結果より、本発明であるネガ型平版
印刷用版材は、前記一般式(a)で表される化合物の添
加により、外傷に対する安定性が顕著に向上し、版材表
面に傷がついてもその部分の硬化が阻害されることな
く、安定して現像することができることが分かる。一
方、比較例1の前記一般式(a)で表される化合物を添
加しない場合には、表面に傷がついた部分の感光膜が硬
化せずに現像剤に溶解してしまい、いわゆる画像抜けを
生じることが分かる。また、比較例2及び3のように、
前記一般式(a)で表される化合物を添加した場合で
も、一般式(a)におけるR1 の炭素数が小さい場合
は、一般式(a)で表される化合物を添加しない場合と
同様に版材表面の外傷に対する耐性が得られず溶解して
しまい、更に、R1 の炭素数が5である化合物を用いた
場合でも外傷に対する耐性は十分でなく、傷がついた部
分の感光膜が現像剤に溶解してしまい、画像抜けを生じ
ることが分かる。
From the results shown in Table 1, the negative type lithographic printing plate material of the present invention has significantly improved stability against external scratches due to the addition of the compound represented by the general formula (a), and the plate surface It can be seen that even if scratches are formed, the development can be stably carried out without inhibiting the hardening of the part. On the other hand, when the compound represented by the general formula (a) of Comparative Example 1 was not added, the photosensitive film in the scratched portion was not cured and was dissolved in the developer, so-called image loss. It turns out that In addition, as in Comparative Examples 2 and 3,
Even when the compound represented by the general formula (a) is added, when R 1 in the general formula (a) has a small carbon number, it is the same as when the compound represented by the general formula (a) is not added. The surface of the plate material cannot be obtained with resistance to external damage and is dissolved. Further, even when a compound of R 1 having 5 carbon atoms is used, the resistance against external damage is not sufficient, and the photosensitive film in the damaged part is It can be seen that the toner is dissolved in the developer and an image dropout occurs.

【0153】[0153]

【発明の効果】本発明のネガ型平版印刷用版材は、赤外
線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて記録
することにより、コンピューター等のデジタルデータか
ら直接製版可能であり、更に、指紋等の傷がついても、
画像抜けを起こすことなく安定して現像することができ
る、即ち、耐スクラッチ性に優れるという効果を奏す
る。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The negative lithographic printing plate material of the present invention can be directly plate-formed from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser emitting infrared rays and a semiconductor laser, and further fingerprints and the like. Even if it’s scratched
There is an effect that stable development is possible without causing image dropout, that is, excellent scratch resistance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(A)〜(E)を含有することを特
徴とするネガ型画像記録材料。 (A)光又は熱により分解して酸を発生する化合物、 (B)酸により架橋する架橋剤、 (C)アルカリ可溶性樹脂の少なくとも1種、 (D)赤外線吸収剤、 (E)下記一般式(a)で表される化合物。 (R1 −X)n −Ar−(OH)m 一般式(a) 〔式中、Xは単結合,O,S,COOまたはCONHを
表し、R1 は炭素数6〜32のアルキル基またはアルケ
ニル基、Arは芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基ま
たは複素環基を表す。また、n及びmはそれぞれ独立に
1〜3の整数を表す。〕
1. A negative image recording material containing the following (A) to (E): (A) a compound that decomposes to generate an acid when exposed to light or heat, (B) a crosslinking agent that crosslinks with an acid, (C) at least one alkali-soluble resin, (D) an infrared absorbing agent, (E) the following general formula A compound represented by (a). (R 1 -X) n -Ar- ( OH) m Formula (a) wherein, X represents single bond, O, S, and COO or CONH, R 1 is an alkyl group having from 6 to 32 carbon atoms The alkenyl group and Ar represent an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group or a heterocyclic group. In addition, n and m each independently represent an integer of 1 to 3. ]
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