JPH11320358A - Polishing device - Google Patents

Polishing device

Info

Publication number
JPH11320358A
JPH11320358A JP13387698A JP13387698A JPH11320358A JP H11320358 A JPH11320358 A JP H11320358A JP 13387698 A JP13387698 A JP 13387698A JP 13387698 A JP13387698 A JP 13387698A JP H11320358 A JPH11320358 A JP H11320358A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
grindstone
grinding wheel
polishing
works
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13387698A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Niigata
順治 新潟
Michio Kondo
道雄 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daido Steel Co Ltd
Riken Seiko Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
Riken Seiko Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daido Steel Co Ltd, Riken Seiko Co Ltd filed Critical Daido Steel Co Ltd
Priority to JP13387698A priority Critical patent/JPH11320358A/en
Publication of JPH11320358A publication Critical patent/JPH11320358A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polishing device to improve the efficiency of grinding working for a work and improve precision of parallelism between two surfaces. SOLUTION: A plurality of work rotation mechanisms 11 and 12 are arranged at equal intervals in a peripheral direction on the grinding wheel surface 32a of a grinding wheel 32 and the grinding wheel surface 32a are brought into approximate equal contact with the surfaces 70A and 70A to be ground of a plurality of works 70 and 70. This constitution approximately equally applies machining resistance of the works 70 and 70 in the peripheral direction of the grinding wheel surface 32, prevents inclination of the grinding wheel surface 32a and the rotary axis of the grinding wheel 32 and improves parallelism of the surfaces 70A and 70A to be ground of the works 70 and 70.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、円板状のワークを
回転させると共に砥石を回転させて前記ワークの被加工
面を研磨する研磨装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus for rotating a disk-shaped work and a grindstone to grind a work surface of the work.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、OA機器の記憶媒体としてのC
D−ROM等のハードディスクや、光ディスクは、デー
タが記録される記録面がデータ読み出し用のヘッドと極
めて微小な間隔を存して離隔対向するために、両面の平
行度を極めて高精度に、研磨加工することが必要であ
る。従って、従来、これらハードディスクや光ディスク
等のディスクの両面は、ポリシングにより研磨加工して
いる。
2. Description of the Related Art For example, C as a storage medium of OA equipment
Hard disks such as D-ROMs and optical disks have a recording surface on which data is recorded, facing the data reading head with a very small interval, so that the parallelism of both surfaces can be polished with extremely high precision. It is necessary to process. Therefore, conventionally, both surfaces of a disk such as a hard disk and an optical disk are polished by polishing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ハード
ディスクや光ディスク等の基板は、ガラス、セラミック
ス等の極めて硬い部材で形成されているためにポリシン
グ加工では非常に時間を要し、加工能率が悪い。更に、
加工抵抗により研磨部材や研磨部材の回転軸が傾くため
に基板の両面の平行度を高めることが困難であると共
に、うねりも発生し、更に、被研磨面の周縁部が研磨過
剰となり所謂端ダレが発生し、両面の平行度の精度の向
上を図ることが困難である等の問題がある。
However, since a substrate such as a hard disk or an optical disk is formed of an extremely hard member such as glass or ceramics, polishing requires a great deal of time and is inefficient. Furthermore,
It is difficult to increase the degree of parallelism on both surfaces of the substrate because the polishing member and the rotation axis of the polishing member are tilted due to the processing resistance, waviness occurs, and the peripheral edge of the polished surface becomes excessively polished, so-called edge dripping. And it is difficult to improve the accuracy of the parallelism of both surfaces.

【0004】本発明は、上述の点に鑑みてなされたもの
で、ワークの研磨加工の能率の向上を図ると共に、両面
の平行度の精度の向上を図るようにした研磨装置を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a polishing apparatus capable of improving the efficiency of polishing of a work and improving the accuracy of parallelism of both surfaces. Aim.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、請求項1では、円板状のワークを回
転させるワーク回転機構と、砥石を回転させて砥石面を
前記ワークの被加工面に当接させて研磨する砥石駆動機
構とを備えた研磨装置において、前記砥石の砥石面に対
して周方向に前記ワーク回転機構を複数等分配置し、前
記砥石面を前記複数のワークの各被加工面に均等に当接
させることを特徴とする。
According to the present invention, in order to achieve the above object, according to the present invention, a work rotating mechanism for rotating a disk-shaped work, and a grindstone are rotated so that the surface of the grindstone is adjusted. A grinding wheel drive mechanism that abuts against and grinds the work surface of the grinding wheel, wherein a plurality of the work rotation mechanisms are equally arranged in a circumferential direction with respect to a grinding wheel surface of the grinding wheel, and the plurality of grinding wheel surfaces are provided. The workpiece is evenly brought into contact with each surface to be processed.

【0006】砥石の砥石面に対して周方向に等間隔で複
数のワーク回転機構を配置することで、砥石面が複数の
ワークの被加工面に略均等に当接する。従って、ワーク
の加工抵抗が砥石面の周方向に略均等に加わることとな
り、砥石の砥石面や回転軸の傾きが防止され、これに伴
い、ワークの被加工面の平面度が向上する。
[0006] By arranging a plurality of work rotating mechanisms at equal intervals in the circumferential direction with respect to the grindstone surface of the grindstone, the grindstone surface abuts the work surfaces of the plurality of works substantially evenly. Therefore, the work resistance of the work is applied substantially uniformly in the circumferential direction of the grindstone surface, and the inclination of the grindstone surface and the rotation axis of the grindstone is prevented, and accordingly, the flatness of the work surface of the work is improved.

【0007】請求項2の発明では、前記複数のワーク回
転機構は、各回転中心が前記砥石の砥石面の半径よりも
内側に位置して配置されることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, the plurality of workpiece rotating mechanisms are arranged such that each rotation center is located inside a radius of a grindstone surface of the grindstone.

【0008】各ワーク回転機構に保持されたワークは、
回転中心が砥石の研磨面の半径よりも内側に位置するこ
とで、被加工面の全面が確実に研磨される。
The work held by each work rotating mechanism is
Since the rotation center is located inside the radius of the polished surface of the grindstone, the entire surface of the surface to be processed is reliably polished.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
より詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0010】図1は、本発明に係る研磨装置の実施の形
態を示す一部省略正面図、図2は図1の平面図、図3
は、図1の側面図である。
FIG. 1 is a partially omitted front view showing an embodiment of a polishing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of FIG.
FIG. 2 is a side view of FIG.

【0011】図1乃至図3において研磨装置1は、横型
の加工機とされ、基盤2の略中央に設けられたフレーム
3にワーク加工台4、5が水平に左右に並んで配設され
ており、基盤2にはワーク加工台4、5の略下側半分と
対向して砥石回転機構6、7が配設されている。ワーク
加工台4は、フレーム3に回転可能に支持された円盤状
のインデックステーブル10と、このインデックステー
ブル10の前面に配設された複数のワークホルダ11〜
14と、フレーム3に水平に支持されインデックステー
ブル10を位置決め回転させると共にワークホルダ11
〜14の中の所定のワークホルダを回転駆動する駆動用
モータ15等により構成されている。インデックステー
ブル10は、モータ15によりクラッチ機構、減速機構
等を介して矢印A方向に半回転(180°)づつ回転さ
れ、且つ位置決め停止される。
1 to 3, a polishing apparatus 1 is a horizontal processing machine, and work processing tables 4, 5 are horizontally arranged side by side on a frame 3 provided substantially at the center of a base 2. In addition, grinding wheel rotating mechanisms 6 and 7 are disposed on the base 2 so as to face substantially lower halves of the work processing tables 4 and 5. The work processing table 4 includes a disk-shaped index table 10 rotatably supported by the frame 3, and a plurality of work holders 11 to 11 disposed on the front surface of the index table 10.
14, the index table 10 supported horizontally by the frame 3 for positioning and rotation, and the work holder 11
To 14, a driving motor 15 for rotating and driving a predetermined work holder. The index table 10 is rotated by half a rotation (180 °) in the direction of arrow A by a motor 15 via a clutch mechanism, a speed reduction mechanism, and the like, and the positioning is stopped.

【0012】図5に示すようにワークホルダ11〜14
は、インデックステーブル10の前面に当該インデック
ステーブル10と同心円をなす同一円周上に周方向に沿
って等間隔で配置され、且つ回転可能に支持されてい
る。そして、図1及び図5に示すような回転位置に停止
された状態において、インデックステーブル10の上側
半分、下側半分に夫々2つづつワークホルダが水平に左
右に並んで位置するようになっている。モータ15は、
図1及び図5に示す位置にインデックステーブル10が
停止したときに下側に位置する2つのワークホルダ例え
ば、図中ワークホルダ11と12を矢印B、Cのように
同時に反対方向に回転させるようになっている。従っ
て、インデックステーブルが半回転してワークホルダ1
3、14が下側に位置したときには、これらのワークホ
ルダ13、14が回転駆動される。そして、ワークホル
ダ11〜14及びモータ15によりワーク回転機構が構
成されている。
As shown in FIG. 5, the work holders 11 to 14
Are arranged on the front surface of the index table 10 at equal intervals along the circumferential direction on the same circumference that forms a concentric circle with the index table 10, and are rotatably supported. 1 and 5, two work holders are positioned horizontally in the upper half and the lower half of the index table 10 in a horizontal position. I have. The motor 15 is
When the index table 10 is stopped at the positions shown in FIGS. 1 and 5, two work holders located below, for example, the work holders 11 and 12 in the drawings are simultaneously rotated in opposite directions as shown by arrows B and C. It has become. Therefore, the index table rotates half a turn and the work holder 1
When the work holders 3 and 14 are located on the lower side, the work holders 13 and 14 are driven to rotate. The work holder 11 to 14 and the motor 15 constitute a work rotating mechanism.

【0013】図5に示すようにワークホルダ11〜14
は、端面周縁部にフランジ11a〜14aが形成されて
おり、ワーク(被加工物)としての環状のガラス基板7
0を嵌合させて同心的に、且つ位置ずれしないように支
持すると共に、バキューム機構(図示せず)により逸脱
不能且つ相対回転不能に吸着保持する。勿論、フランジ
11a〜14aは、ワークの板厚よりも低く形成されて
おり、後述する研磨時に砥石33との干渉が防止され
る。
As shown in FIG. 5, the work holders 11 to 14
Has flanges 11a to 14a formed at the peripheral edge of an end face, and has an annular glass substrate 7 as a work (workpiece).
0 is fitted and supported concentrically so as not to be displaced, and is sucked and held by a vacuum mechanism (not shown) so that it cannot deviate and cannot rotate relatively. Of course, the flanges 11a to 14a are formed to be smaller than the thickness of the work, so that interference with the grindstone 33 during polishing described later is prevented.

【0014】ワーク加工台5もワーク加工台4と全く同
様に構成されている。尚、ワーク加工台5においてワー
ク加工台4の各部材と相応する部材には、20番台の相
応する符号を付して説明を省略する。ワーク加工台4
は、例えば、ワーク70の一側面(以下「A面」とい
う)70Aを研磨加工するための加工台とされ、ワーク
加工台5は、当該ワーク70の他側面(以下「B面」と
いう)70B(図4)を研磨加工するための加工台とさ
れる。そして、ワークは、ワーク加工台4によりA面で
ある70Aが研磨加工された後ワーク加工台5によりB
面である70Bが研磨加工される。
The work processing table 5 has the same construction as the work processing table 4. In the work processing table 5, members corresponding to the respective members of the work processing table 4 are denoted by the corresponding reference numerals in the 20's, and description thereof is omitted. Work table 4
Is, for example, a processing table for polishing one side surface (hereinafter, referred to as “side A”) 70A of the work 70, and the work processing table 5 includes another side surface (hereinafter, referred to as “side B”) 70B of the work 70. A processing table for polishing (FIG. 4). Then, after the workpiece A is polished on the A surface 70A by the workpiece processing table 4, the workpiece is
The surface 70B is polished.

【0015】砥石回転機構6は、砥石軸台30、砥石軸
31、砥石32、基台34、駆動用モータ35等により
構成されている。砥石軸31は、中央部が砥石軸台30
に水平に回転自在に軸支されており、インデックステー
ブル10の下側半分に位置する2つのワークホルダと対
向する一端にカップ型の砥石32が装着固定され、他端
にプーリ36が固定されている。この砥石軸台30は、
基台34上に配設されており、当該基台34は、基盤2
上にLMガイドを介してワーク加工台4に対して水平に
進退可能に配設されている。
The grindstone rotating mechanism 6 includes a grindstone headstock 30, a grindstone shaft 31, a grindstone 32, a base 34, a driving motor 35, and the like. The center of the grinding wheel shaft 31 is the grinding wheel head 30
The cup-shaped grindstone 32 is mounted and fixed at one end facing the two work holders located in the lower half of the index table 10 while being rotatably supported horizontally, and the pulley 36 is fixed at the other end. I have. This whetstone headstock 30
The base 34 is disposed on a base 34, and the base 34 is
Above, it is disposed so as to be able to advance and retreat horizontally with respect to the work processing table 4 via an LM guide.

【0016】モータ35は、基台34に設けられてお
り、当該モータ35の回転は、プーリ37、ベルト38
を介してプーリ36に伝達され、砥石軸31即ち、砥石
32が回転駆動される。また、基台34は、基盤2に配
設された駆動用のモータ39により送り機構(図示せ
ず)を介してインデックステーブル10に対して水平に
進退駆動される。これにより、砥石32がインデックス
テーブル10の下側半分に位置する2つのワークホルダ
例えば、図中のワークホルダ11、12と対向して水平
に進退駆動される。
The motor 35 is provided on a base 34, and the rotation of the motor 35 is controlled by a pulley 37, a belt 38
Is transmitted to the pulley 36, and the grindstone shaft 31, that is, the grindstone 32 is rotationally driven. Further, the base 34 is driven horizontally forward and backward with respect to the index table 10 via a feed mechanism (not shown) by a drive motor 39 provided on the base 2. As a result, the grindstone 32 is driven horizontally forward and backward so as to face two work holders, for example, the work holders 11 and 12 in the figure, which are located in the lower half of the index table 10.

【0017】砥石32は、例えば、メタルボンド砥石
で、図4に示すように開口端面32aが砥石面(以下
「砥石面32a」という)とされている。そして、砥石
面32aと僅かな間隙を存して離隔対向して電極33が
設けられており、砥石32は、直流電源(図示せず)の
プラス側に、電極33は、マイナス側に接続され、且つ
砥石面32aと電極33との間に電解液がノズル(図示
せず)から供給されるようになっている。これによりE
LID(電解インプロセスドレッシング)研削機構が構
成される。このELID研削機構は、電解液により砥石
面をドレッシング(電解ドレッシング)して目詰まりを
防止することで、超微粒砥石を使用することができ、鏡
面研削が可能とされ、近年研磨加工に採用されてきてい
る。
The grindstone 32 is, for example, a metal bond grindstone, and has an open end surface 32a as a grindstone surface (hereinafter referred to as a "grindstone surface 32a") as shown in FIG. An electrode 33 is provided so as to be spaced apart from the grinding wheel surface 32a with a slight gap therebetween. The grinding wheel 32 is connected to a positive side of a DC power supply (not shown), and the electrode 33 is connected to a negative side. An electrolytic solution is supplied between the grindstone surface 32a and the electrode 33 from a nozzle (not shown). This gives E
An LID (electrolytic in-process dressing) grinding mechanism is configured. This ELID grinding mechanism can use an ultrafine grinding wheel by dressing the grinding wheel surface (electrolytic dressing) with an electrolytic solution to prevent clogging, enabling mirror grinding, and has recently been adopted for polishing. Is coming.

【0018】図1及び図5に示すように砥石32は、イ
ンデックステーブル10が停止したときにその下側半分
に位置する前記ワークホルダ11、12と対向し、且つ
その回転中心Oa(砥石軸33の回転中心)が、ワーク
ホルダ11、12の各回転中心Ob、Ocを結ぶ直線の中
央に位置している。即ち、ワークホルダ11と12は、
砥石32の砥石面32aと対向する円周上に周方向に沿
って等間隔で左右両側に配置されている。そして、左右
両側のワークホルダ11、12の各回転中心Ob、Oc
は、砥石32の砥石面32aの内径よりも僅かに内側に
位置している。即ち、ワークホルダ11、12の回転中
心Ob、Ocは、砥石面33aの内径よりも小径の同心円
上に周方向に等間隔で配置されている。これにより、ワ
ークホルダ11、12に装着保持されたワーク70、7
0の各A面70a、70aを全面に亘り加工することが
可能となる。
As shown in FIGS. 1 and 5, the grindstone 32 faces the work holders 11 and 12 located on the lower half when the index table 10 is stopped, and has a rotation center Oa (grindstone shaft 33). Are located at the center of a straight line connecting the rotation centers Ob and Oc of the work holders 11 and 12. That is, the work holders 11 and 12
On the circumference of the grindstone 32 facing the grindstone surface 32a, the grindstones are arranged on the left and right sides at equal intervals along the circumferential direction. The rotation centers Ob and Oc of the work holders 11 and 12 on the left and right sides, respectively.
Is located slightly inside the inner diameter of the grindstone surface 32a of the grindstone 32. That is, the rotation centers Ob and Oc of the work holders 11 and 12 are arranged at equal intervals in the circumferential direction on concentric circles having a smaller diameter than the inner diameter of the grindstone surface 33a. Thereby, the workpieces 70, 7 mounted and held on the workpiece holders 11, 12
Thus, it becomes possible to process each of the A surfaces 70a, 70a over the entire surface.

【0019】尚、実施例のようにワーク70が環状をな
す形状場合には、ワーク70内周が砥石面32aの内径
よりも僅かに内側に位置していればよい。しかしなが
ら、実施例のように左右両側のワークホルダ11、12
の回転中心Ob、Ocが砥石面32aの内径よりも内側に
位置する砥石33を使用することで、円板状のワークに
も適用することができて好ましい。
In the case where the work 70 has an annular shape as in the embodiment, it is sufficient that the inner periphery of the work 70 is located slightly inside the inner diameter of the grindstone surface 32a. However, as in the embodiment, the left and right work holders 11, 12
The use of the grindstone 33 whose rotation center Ob, Oc is located inside the inner diameter of the grindstone surface 32a is preferable because it can be applied to a disk-shaped work.

【0020】砥石回転機構7も砥石回転機構6と同様に
構成されている。尚、砥石回転機構7において砥石回転
機構6の各部材と相応する部材には40番台の相応する
符号を付して説明を省略する。図3に示すようにフレー
ム3の上部前側には、ワーク搬送機構50が設けられて
おり、ワーク加工台4、5の各ワークホルダへのワーク
の搬入、搬出を行うようになっている。また、フレーム
3の上部には、制御盤55(図1)が設けられている。
The grindstone rotating mechanism 7 is configured similarly to the grindstone rotating mechanism 6. In the grindstone rotating mechanism 7, members corresponding to the respective members of the grindstone rotating mechanism 6 are denoted by the corresponding reference numerals in the forties and will not be described. As shown in FIG. 3, a work transfer mechanism 50 is provided on the upper front side of the frame 3 to carry in and carry out the work to and from each work holder of the work processing tables 4 and 5. In addition, a control panel 55 (FIG. 1) is provided above the frame 3.

【0021】尚、ワーク加工台4、5及び砥石回転機構
6、7は、必ずしも2台並設する必要はないが、実施例
のようにワークのA面加工用とB面加工用とを並設して
同時に稼働させることで作業性の向上が図られる。
It is not always necessary to arrange the work processing tables 4 and 5 and the grindstone rotating mechanisms 6 and 7 in parallel. However, the work processing tables A and B are arranged side by side as in the embodiment. It is possible to improve workability by installing and operating at the same time.

【0022】以下に作用を説明する。The operation will be described below.

【0023】図5に示すようにワーク加工台4のワーク
ホルダ11〜14にワーク70が装着されて吸着保持さ
れ、モータ15によりインデックステーブル10の下側
半分に位置している左右のワークホルダ11と12が夫
々矢印B、C方向に同一に回転される。また、砥石32
がモータ35により矢印方向Dに回転駆動される。次い
で、基台34がモータ39により前記送り機構を介して
前進駆動され、砥石軸台30が図3の矢印Eで示すよう
にインデックステーブル10に向かって前進移動し、砥
石32の砥石面32aが回転する2つのワーク70、7
0の各A面70A、70Aに当接して研磨が開始され
る。砥石32は、砥石面32aの左右両側が同時に左右
のワーク70、70の各A面70A、70Aに均等に当
接する。この結果、砥石面32aの左右両側に加わる加
工抵抗が釣り合うこととなり、砥石軸31や砥石面32
aの傾きが防止され、更に、ワーク70の外周縁部の過
剰な研磨が防止されて所謂端ダレの発生が防止され、各
ワーク70は、各A面70Aが極めて良好な平面に研磨
される。これにより、ワーク70の研磨面としてのA面
70Aの平行度の精度が大幅に向上すると共に、うねり
も大幅に低減される。このようにして、ワーク70のA
面70Aが研磨される。
As shown in FIG. 5, the work 70 is mounted on the work holders 11 to 14 of the work processing table 4 and held by suction, and the left and right work holders 11 positioned at the lower half of the index table 10 by the motor 15 are arranged. And 12 are rotated identically in the directions of arrows B and C, respectively. In addition, whetstone 32
Is driven to rotate in the direction of the arrow D by the motor 35. Next, the base 34 is driven forward by the motor 39 via the feed mechanism, and the grindstone head 30 moves forward toward the index table 10 as shown by an arrow E in FIG. 3, and the grindstone surface 32 a of the grindstone 32 is moved. Two rotating workpieces 70 and 7
Polishing is started by abutting each of the A surfaces 70A, 70A. The left and right sides of the grindstone surface 32a of the grindstone 32 simultaneously abut equally on the respective A surfaces 70A, 70A of the left and right works 70, 70. As a result, the processing resistances applied to the left and right sides of the grinding wheel surface 32a are balanced, and the grinding wheel shaft 31 and the grinding wheel surface 32
a is prevented, and excessive polishing of the outer peripheral edge of the work 70 is prevented, so that so-called edge sagging is prevented, and each work 70 is polished to a very good flat surface on each A surface 70A. . Thereby, the accuracy of the parallelism of the A surface 70A as the polishing surface of the work 70 is greatly improved, and the undulation is also greatly reduced. Thus, A of the work 70
Surface 70A is polished.

【0024】ワークホルダ11、12に保持された各ワ
ーク70、70の研磨加工が終了すると、砥石軸台30
が図3の矢印F方向に後退してインデックステーブル1
0から離隔する。そして、ワークホルダ11、12の回
転が停止し、インデックステーブル10が矢印A方向
(図1)に半回転する。これにより、研磨を終了したワ
ーク70、70が上側に移動し、新たに研磨すべきワー
ク70、70が装着されているワークホルダ13、14
が下側に移動する。そして、砥石軸台30が再び前進移
動してこれらのワークホルダ13、14に保持されたワ
ーク70、70の研磨が開始される。
When the polishing of each of the works 70, 70 held by the work holders 11, 12 is completed, the grinding wheel head 30
Moves back in the direction of arrow F in FIG.
Separated from 0. Then, the rotation of the work holders 11 and 12 stops, and the index table 10 makes a half turn in the direction of arrow A (FIG. 1). Thus, the polished workpieces 70, 70 move upward, and the workpiece holders 13, 14, on which the newly polished workpieces 70, 70 are mounted.
Moves down. Then, the grindstone headstock 30 moves forward again, and the polishing of the works 70, 70 held by these work holders 13, 14 is started.

【0025】また、研磨された前記2枚のワーク70、
70は、図示しないワーク反転装置によりワークホルダ
11、12から取り出され、表裏を反転され即ち、研磨
されたA面70Aが裏側に、未研磨面70Bが表側にさ
れてワーク加工台5の例えば、ワークホルダ21、22
に装着される。そして、このワーク加工台5において砥
石42により各B面70Bが研磨される。このようにし
て、ワーク70の両面が研磨される。尚、ワーク加工台
4、5は、同時に駆動されて能率の向上が図られるよう
になっている。これにより、ワーク70は、両面70
A、70Bの平面度向上し、且つうねりも低減され、更
に、外周縁部の過剰な研磨(端ダレ)が防止される。B
面70Bが研磨されたワーク70は、ワーク搬送機構5
0によりワーク加工台5から取り外されて、加工済みワ
ークストッカ(図示せず)に搬入される。このようにし
て加工されたワークは、ポリシング、或いはバフ等によ
り仕上げ加工される。
The two polished works 70,
70 is taken out of the work holders 11 and 12 by a work reversing device (not shown) and is turned upside down, that is, the polished A surface 70A is set to the back side, and the unpolished surface 70B is set to the front side. Work holders 21, 22
Attached to. Then, each B surface 70B is polished by the grindstone 42 on the work processing table 5. Thus, both surfaces of the work 70 are polished. The work processing tables 4 and 5 are simultaneously driven to improve the efficiency. As a result, the work 70 is
The flatness of A and 70B is improved, waviness is reduced, and excessive polishing (edge dripping) of the outer peripheral edge is prevented. B
The work 70 whose surface 70B has been polished is transferred to the work transfer mechanism 5
At 0, it is removed from the work processing table 5 and carried into a processed work stocker (not shown). The work thus processed is finished by polishing or buffing.

【0026】尚、上記実施例では、砥石32の砥石面3
2aの周方向に等間隔でワークを2箇所配置したが、こ
れに限るものではなく、図6に示すように砥石面32a
の周方向に等間隔で3箇所配置しても良く、或いは4箇
所配置するようにしても良い。このように、砥石面32
aに対して周方向に等間隔でワークを配置(等配)する
ことで、砥石面を周方向の複数の箇所においてワークの
被加工面に同時に当接させることができ、砥石面に作用
する加工抵抗を均等にすることができ、砥石面や、砥石
の回転軸の傾きを防止することができ、被加工面(研磨
面)の平行度の向上が図られる。
In the above embodiment, the grinding wheel surface 3 of the grinding wheel 32 is used.
Although two works are arranged at equal intervals in the circumferential direction of 2a, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG.
May be arranged at three places at equal intervals in the circumferential direction, or may be arranged at four places. Thus, the grinding wheel surface 32
By arranging (equally arranging) the workpieces at equal intervals in the circumferential direction with respect to a, the grindstone surface can simultaneously contact the work surface of the work at a plurality of locations in the circumferential direction, and acts on the grindstone surface. The processing resistance can be made uniform, the inclination of the grinding wheel surface and the rotation axis of the grinding stone can be prevented, and the parallelism of the processed surface (polished surface) can be improved.

【0027】尚、上記実施例では、被加工部材であるワ
ークとしてガラス基板を使用した場合について記述した
が、これに限るものではなく、他の部材例えば、セラミ
ックス、シリコンウエハー、アルミニウム等の部材によ
り形成された基板にも適用できることは勿論である。
In the above embodiment, the case where a glass substrate is used as a workpiece to be processed has been described. However, the present invention is not limited to this, and other members, for example, members such as ceramics, silicon wafers, and aluminum may be used. Of course, the present invention can be applied to the formed substrate.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
円板状のワークを回転させるワーク回転機構と、砥石を
回転させて砥石面を前記ワークの被加工面に当接させて
研磨する砥石駆動機構とを備えた研磨装置において、前
記砥石の砥石面に対して周方向に前記ワーク回転機構を
複数等分配置し、前記砥石面を前記複数のワークの各被
加工面に均等に当接させることにより、ワークの加工抵
抗が砥石面の周方向に略均等に加わることとなり、砥石
の砥石面や回転軸の傾きが防止され、更に外周縁部の過
剰な研磨が防止され、ワークの被加工面の平面度が向上
すると共に、うねりを低減することができる。また、砥
石により研磨すると共に、同時に複数枚のワークを研磨
することができるために加工能率の向上が図られる。
As described above, according to the present invention,
In a polishing apparatus comprising: a work rotating mechanism for rotating a disk-shaped work; and a grindstone driving mechanism for rotating a grindstone to grind the grindstone surface by contacting the grindstone surface with the work surface of the work. A plurality of the work rotating mechanisms are circumferentially arranged in the circumferential direction, and the grinding surface is evenly brought into contact with each of the workpiece surfaces of the plurality of workpieces, so that the processing resistance of the workpiece is increased in the circumferential direction of the grinding wheel surface. It is added almost evenly, preventing the inclination of the grinding wheel surface and the rotation axis of the grinding wheel, preventing excessive polishing of the outer peripheral edge, improving the flatness of the work surface of the work, and reducing the undulation. Can be. In addition, since a plurality of works can be simultaneously polished while being polished with a grindstone, processing efficiency is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る研磨装置の実施の形態を示す正面
図である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a polishing apparatus according to the present invention.

【図2】図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG.

【図3】図1の側面図である。FIG. 3 is a side view of FIG. 1;

【図4】図3の砥石とワークの要部断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of the grindstone and the work in FIG. 3;

【図5】図2の砥石とワークとの関係を示す説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a relationship between a grindstone and a work in FIG. 2;

【図6】砥石面に対してワークを周方向に3箇所等配し
た場合の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view in a case where three works are equally arranged in a circumferential direction with respect to a grindstone surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 研磨装置 2 基盤 3 フレーム 4、5 ワーク加工台 6、7 砥石回転機構 10、20 インデックステーブル 11〜14、21〜24 ワークホルダ 15、25、35、39、45、49 モータ 30、40 砥石軸台 31、41 砥石軸 32、42 カップ型砥石 32a 砥石面 33 電極 34、44基台 50 ワーク搬送機構 70 ワーク 70A、70B 被加工面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polishing apparatus 2 Base 3 Frame 4 and 5 Work table 6 and 7 Grinding wheel rotation mechanism 10, 20 Index table 11 to 14, 21 to 24 Work holder 15, 25, 35, 39, 45, 49 Motor 30, 40 Grinding wheel shaft Table 31, 41 Grinding wheel shaft 32, 42 Cup-type grindstone 32a Grinding stone surface 33 Electrode 34, 44 Base 50 Work transfer mechanism 70 Work 70A, 70B Work surface

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円板状のワークを回転させるワーク回転
機構と、砥石を回転させて砥石面を前記ワークの被加工
面に当接させて研磨する砥石駆動機構とを備えた研磨装
置において、 前記砥石の砥石面に対して周方向に前記ワーク回転機構
を複数等分配置し、前記砥石面を前記複数のワークの各
被加工面に均等に当接させることを特徴とする研磨装
置。
1. A polishing apparatus comprising: a work rotating mechanism for rotating a disk-shaped work; and a grindstone drive mechanism for rotating a grindstone to bring a grindstone surface into contact with a work surface of the work and perform polishing. A polishing apparatus, wherein a plurality of the work rotating mechanisms are equally arranged in a circumferential direction with respect to a grindstone surface of the grindstone, and the grindstone surfaces are evenly brought into contact with respective surfaces to be processed of the plurality of works.
【請求項2】 前記複数のワーク回転機構は、各回転中
心が前記砥石の砥石面の半径よりも内側に位置して配置
されることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
2. The polishing apparatus according to claim 1, wherein each of the plurality of workpiece rotating mechanisms is arranged such that each rotation center is located inside a radius of a grindstone surface of the grindstone.
JP13387698A 1998-05-15 1998-05-15 Polishing device Pending JPH11320358A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13387698A JPH11320358A (en) 1998-05-15 1998-05-15 Polishing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13387698A JPH11320358A (en) 1998-05-15 1998-05-15 Polishing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11320358A true JPH11320358A (en) 1999-11-24

Family

ID=15115150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13387698A Pending JPH11320358A (en) 1998-05-15 1998-05-15 Polishing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11320358A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009166150A (en) * 2008-01-11 2009-07-30 Denso Corp Wafer manufacturing method
JP2015088547A (en) * 2013-10-29 2015-05-07 株式会社ディスコ Grinding device
CN107052960A (en) * 2017-04-21 2017-08-18 漳州庆峰机械设备有限公司 Aluminium workpiece surface polishes process units and its production technology
JP2018083252A (en) * 2016-11-24 2018-05-31 株式会社ディスコ Grinding device
CN109732152A (en) * 2019-02-28 2019-05-10 横店集团英洛华电气有限公司 Gear teeth axial face burnishing device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009166150A (en) * 2008-01-11 2009-07-30 Denso Corp Wafer manufacturing method
JP2015088547A (en) * 2013-10-29 2015-05-07 株式会社ディスコ Grinding device
JP2018083252A (en) * 2016-11-24 2018-05-31 株式会社ディスコ Grinding device
CN107052960A (en) * 2017-04-21 2017-08-18 漳州庆峰机械设备有限公司 Aluminium workpiece surface polishes process units and its production technology
CN107052960B (en) * 2017-04-21 2023-07-07 漳州庆峰机械设备有限公司 Aluminum part surface polishing production device and production process thereof
CN109732152A (en) * 2019-02-28 2019-05-10 横店集团英洛华电气有限公司 Gear teeth axial face burnishing device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100780588B1 (en) Planarization apparatus and method for semiconductor wafer
JP4455750B2 (en) Grinding equipment
US8016645B2 (en) Chamfering apparatus for chamfering glass substrates
JP2011194561A (en) Chamfering device for disk-like workpiece
US20060228997A1 (en) Apparatus for polishing edge surface of glass substrate for magnetic recording media, and process for producing glass substrate
TWI730192B (en) Grinding device
JPH1190803A (en) Mirror polishing device for work edge
JP2012051098A (en) Apparatus for machining outer periphery of discoidal work piece
JP3909619B2 (en) Apparatus and method for mirror processing of magnetic disk substrate
JP2002144201A (en) Outer periphery polishing device and method for disc- shaped work
JP2009285738A (en) Flattening device and flattening method for semiconductor substrate
JP2001129750A (en) Method and device for grinding work edge
JPH11245151A (en) Work periphery polishing device
JPH1133886A (en) Method and device for polishing inside surface of glass disc
JPH09168953A (en) Semiconductor wafer edge polishing method and device
JPH11320358A (en) Polishing device
JP2000218482A (en) Paper sheet type end face polsher
WO2008059930A1 (en) Method of manufacturing disk substrate
JP2585869B2 (en) Finishing device for applying a circular pattern to disk-shaped workpieces
JP6847484B1 (en) Work groove polishing method and polishing equipment
JP2005014176A (en) Inner-outer peripheral surface grinding work system of glass disc
JP2001138230A (en) Method for grinding face side and reverse side of substrate, and grinding apparatus used therefor
JP3007678B2 (en) Polishing apparatus and polishing method
JP2001062686A (en) Index type edge polisher
JPH0684855A (en) Cutting-off of substrate as well as method and apparatus for chamfering