JPH11314339A - 残屑由来の性能劣化が低減されたリソグラフイメ―ジング方法及び関連構造 - Google Patents

残屑由来の性能劣化が低減されたリソグラフイメ―ジング方法及び関連構造

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JPH11314339A
JPH11314339A JP11066187A JP6618799A JPH11314339A JP H11314339 A JPH11314339 A JP H11314339A JP 11066187 A JP11066187 A JP 11066187A JP 6618799 A JP6618799 A JP 6618799A JP H11314339 A JPH11314339 A JP H11314339A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク受容性表面102を印刷部材の表面層106
由来の残屑の影響にほぼ不感とし、又は有害な残屑の形
成を全体的に阻止し、融除タイプのリソグラフ印刷プレ
ートの熱分解による性能制約的な効果を相殺する。 【解決手段】 インク受容性表面102は高度に架橋され
たポリマーであり、イメージングプロセスによる溶融、
軟化、化学的劣化に抗するに十分な度合いの三次元結合
を示す。代替的にはイメージング層と表面層の間に配置
される介在層が、イメージング放射線又は下側のイメー
ジング層の融除に応じて、表面層の熱分解を防止する。
介在層は残屑を殆ど生成しないか、インク及び／又は湿
し水に対し、基体の親和性に類似した、例えば下側のイ
ンク受容性表面の親油性を低減させることのない親和性
を有する残屑を生成するように配合される。イメージン
グに続き、プレートがイメージング放射線を受け取った
個所において、絶縁層の残部は表面層と共に除去され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はデジタル印刷装置及
び方法に関し、より詳しくは、デジタル制御されたレー
ザ出力を用いて、リソグラフ印刷プレート構造を機上又
は機外でイメージングするためのシステムに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】オフセットリソグラフ印刷においては、
印刷可能なイメージは印刷部材上に、インク受容性（親
油性）及びインク拒絶性（疎油性）の表面領域のパター
ンとして存在する。一旦これらの領域に適用されたな
ら、インクは記録媒体へとかなりの忠実性をもって、イ
メージに関連したパターンで効率的に転写可能である。
乾式印刷システムは、インク反撥部分がインクに対して
十分に疎であって、インクを直接に適用することが許容
されるような印刷部材を用いる。こうした印刷部材に一
様に適用されたインクは、イメージに関連したパターン
においてのみ、記録媒体に転写される。典型的には、印
刷部材は最初にブランケットシリンダと呼ばれる従順な
中間表面と接触し、このブランケットシリンダが次い
で、紙その他の記録媒体に対してイメージを適用する。
典型的な給紙式の印刷システムにおいては、記録媒体は
圧胴即ちインプレッションシリンダにピン留めされ、そ
れによって記録媒体とブランケットシリンダとの接触が
持ち来たらされる。
【０００３】湿式リソグラフ印刷システムにおいては、
非イメージ領域は親水性であり、所要のインク反撥性
は、インク付けに先立ってプレート、即ち印刷部材に対
し、湿し水（又は「ファウンテン」溶液）を最初に適用
することによってもたらされる。インク忌避性の湿し水
は、インクが非イメージ領域に付着することを妨げる
が、イメージ領域の親油性の特性には影響しない。
【０００４】伝統的な印刷技術において典型的なもので
ある、面倒な写真術的現像、プレート装着及びプレート
整合操作を回避するために、印刷業者達は電子的な代替
手段を開発した。これはイメージに関連するパターンを
デジタル形態で格納し、そのパターンをプレート上へと
直接に印像するものである。コンピュータ制御に馴染み
やすいプレートイメージングデバイスには、種々の形態
のレーザが含まれる。例えば米国特許第5,351,617号及
び第5,385,092号（これらの開示の全内容は、ここでの
番号の参照によって本明細書に取り入れるものとする）
は、融除記録システムを開示している。これは未使用の
印刷部材、即ちリソグラフ印刷ブランクの１又はより多
くの層をイメージに関連するパターンで除去するため
に、低出力のレーザ放電を用いるものであり、それによ
って写真術的現像の必要性なしに、インク付けの準備が
整った、即ち即時インク付け可能な印刷部材を生成する
ものである。これらのシステムによれば、レーザ出力は
ダイオードから印刷表面へと案内され、その表面に対し
て（或いは望ましくは、一般には表面層の下側にありレ
ーザによる融除を最も受けやすい層に対して）集束され
る。
【０００５】米国特許第5,339,737号及び再発行特許第3
5,512号、並びに同時係属中の米国特許出願第08/700,28
7号及び08/756,267号は、ここで番号を参照することに
よってそれらの全内容を本明細書に取り込むものとする
が、上記のようなイメージング装置と共に用いるため
の、種々のリソグラフプレート構成を記載している。一
般的に言って、この種のプレート構成は、インク又はイ
ンク忌避液体に対する親和性（又は反撥性）について選
択された第１の、最上層を含みうる。第１の層の下側に
は、イメージング（例えば赤外、即ち「IR」）放射線に
応答して融除されるイメージ層がある。強固で耐久性の
ある基体がこのイメージ層の下側にあり、インク又はイ
ンク忌避液体に対して第１の層のそれとは逆の親和性
（又は反撥性）により特徴付けられる。イメージングパ
ルスによる吸収性の第２の層、即ちイメージ層の融除
は、通常は最上層をも弱化する。下側にある層に対する
係留を破壊されることにより、最上層はイメージング後
の洗浄工程において容易に除去可能なものとなる。この
ことは、インク又はインク忌避液体に対し、暴露されて
いない第１の層のそれとは異なる親和性を有するイメー
ジスポットを生成することになり、こうしたスポットの
パターンによってリソグラフ印刷プレートのイメージが
形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】特定の印刷部材やイメ
ージング条件に依存して、性能に対するある種の制約が
観察される場合がある。例えばシリコーン表面を有する
乾式プレートは、暴露されたインク受容（一般にはポリ
エステル）層により示されるインク保持性が不十分な場
合がある。しかしながら、この挙動の原因は複雑であ
る。これは単に、頑固に付着しているシリコーンフラグ
メントのみに由来するものではない。例えばシリコーン
層を単純に機械的に擦っただけでも、イメージングされ
ていないシリコーン領域に対して損傷が生ずるよりもか
なり前に、インク受容層から全ての残屑、即ち破片や残
骸を、拡大して見た場合であっても確実に除去すること
ができる。それでもなお、こうしたプレートの印刷品質
は依然として、インクに対する不適切な親和性に関連し
て、劣ったものとなる場合がある。また溶剤での洗浄を
通じて、インク受容性を実質的に改善することはできる
が、このような処理はシリコーンを軟化させ得ると同時
に、プレートの非イメージング部分に対するシリコーン
層の係留を劣化させる。溶剤はまた、環境面、健康面、
及び安全面における懸念を惹起させる。
【０００７】イメージングプロセス、及びある種のプレ
ート構造、特にシリコーン最上コーティングの下側に薄
い金属の融除層を含むプレート構造に対するイメージン
グプロセスの影響について検討したところ、これまで観
察された印刷上の不具合が、イメージングプロセスによ
り誘起された僅かな化学的及び形態学的変化に由来する
ものであることが示唆された。薄い金属のイメージング
層をベースとするプレートは、融除を受けるためには、
例えば自己酸化性（例えばニトロセルロース）の融除層
を有するレーザイメージング可能な印刷プレートの場合
よりも、実質的により高い温度まで加熱されることを必
要とする。特に、低出力のイメージング源が用いられる
場合は、破壊的な熱蓄積に必要な、即ち十分な加熱が行
われるまでに必要な露光時間はかなりのものであり得る
ため、望ましくない熱的反応が生ずる機会がもたらされ
る。例えば、ダイオードレーザの低出力イメージングパ
ルスは、チタンのような金属をその1680℃の融点以上に
加熱するために、最小期間（通常は５〜15μ秒）にわた
って持続されねばならない。チタン層は化学的に複雑な
シリコーン層と接触しているため、こうした高温は、シ
リコーン由来の熱分解生成物を生ずる反応を誘発しう
る。これらの分解生成物は化学的及び形態学的の双方で
組み合わさって、また揮発されたチタン層と共に、下側
のインク受容性フィルム又は層の表面と自由に相互作用
する。この表面はさらにまた、フィルム表面を溶融及び
熱劣化してシリコーン分解生成物を容易に受け入れるよ
うにしてしまう可能性のある高温に暴露される結果とし
て、シリコーン分解生成物との相互作用に対してより一
層脆弱なものとされる。フィルムに対するこうした分解
生成物の付着、注入、機械的混合、及び化学反応は、フ
ィルムがインクを保持する能力を妨害する。
【０００８】こうした影響は、イメージングプロセスを
より詳細に解析することによって、より良く理解するこ
とができる。必要な融除温度に達するのに要求される、
金属層に対する強く長期的な局部加熱は、その周囲のプ
レート内部構造に対して種々の物理的影響を及ぼす。金
属層が何らかの変化を受けるよりも前に、気泡が形成さ
れ、シリコーン層を持ち上げる。この気泡は、急速に加
熱される金属層と接する内部界面において、シリコーン
層がガス状にホモリチック分解することにより生じてい
る可能性が高い。
【０００９】次いで、金属層に孔が、孔を囲む溶融金属
のビードとして、最初は露光スポットの中央に始まり、
露光領域の縁に至るまで外側へと拡がるように形成され
る。イメージングパルスが終了すると、先に持ち上げら
れたシリコーンは元に収まる。この遅れは、高分子材料
に特徴的な比較的低い熱伝達率に基づき、シリコーン層
及び露光されたインク受容層に熱が残存することに起因
する。これらより下側にある層又はフィルムもまた、熱
的に誘起されたかなりの物理的変化を受ける。強い加熱
の影響は典型的には、イメージングにより露出されたイ
ンク受容性フィルムの表面に対し、多孔質の三次元テク
スチャを与えることである。
【００１０】露出されたフィルムの表面エネルギーは、
未変性の材料のそれよりもかなり低い。例えばポリエス
テルの場合、乾式洗浄の後に観察される表面エネルギー
は約25 dyn/cmであるのに対し、未変性の材料では約40
dyn/cmである。表面エネルギーについて観察されるこの
変化は恐らく、熱的に変化されたフィルム表面と混合さ
れたシリコーン副生物の存在により導かれるものであ
る。こうした副生物は熱的にテクスチャ化されたポリエ
ステルフィルム表面の全体にわたって堆積され、実際上
その表面をマスクする。そしてこの組み合わせは機械的
結合は勿論、化学結合をも包含するものであるから、単
なる擦り作用による洗浄は、表面エネルギーの低いシリ
コーンを取り除くには不十分なものとなる。これらの影
響により、結果的に得られるプレートのインク受容性が
妨げられる。低い表面エネルギーは、シリコーンのよう
な化合物をインク忌避性にする。従って、親油性材料の
表面エネルギーを低減させれば、そのインク親和性は減
じられることになる。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は第１の側面にお
いて、インク受容性表面を印刷部材の表面層に由来する
残屑の影響に対してほぼ不感なものとすることによっ
て、熱分解による性能制約的な効果を相殺する。ここで
用いる用語「残屑」は、ホモリシスのような化学的メカ
ニズムや剪断又は引き裂きのような機械的プロセスから
生じうる熱的に生成された分解生成物であって、分子レ
ベルから嵩高（微視的にではあるが）なフラグメント又
は断片に至るまでの範囲にあり得る大きさのものを内包
することを意図している。
【００１２】本発明のこの側面によれば、インク受容性
表面は、高度に架橋されたポリマーであり得る。「高度
に架橋された」という用語は、共有結合の三次元網目構
造（ネットワーク）を有し、非常に高い凝集エネルギー
密度を示すポリマーを内包するために用いられている。
こうした材料は典型的には、多官能性モノマー、即ちそ
の各々の分子が反応混合物中に存在している同種の又は
異種の化学種と多くの共有結合を確立することのできる
ものを、硬化させる（例えば化学放射線又は電子ビーム
源に暴露する）ことにより得られる。しかしながらま
た、得られる硬化マトリクスが、イメージングプロセス
の結果としての溶融、軟化、又は化学的劣化に抗するに
十分な度合いの三次元結合を示すのであれば、単官能性
及び多官能性のポリマー前駆体の組み合わせを用いるこ
とも可能である。
【００１３】これと対照的に、高度に架橋されていない
ポリマー（リソグラフ印刷プレートにおいてインク受容
性表面として頻繁に使用されるポリエステルフィルムの
如き）は、一般的に熱可塑性の特性を有し、測定可能な
ガラス転移温度Tgを示し、その温度において軟化を開始
し、さらに温度が上昇すると溶融する。熱可塑性材料
は、印刷用表面としては本発明により高度に架橋された
層で置換されるものであるが、この高度に架橋された層
の下側に位置して有用な機械的特性を与え（例えば高度
に架橋された層の所要厚みを限定するために）、或いは
高度に架橋された層が合成及び／又は硬化されるプラッ
トホームとして作用することができる。
【００１４】高度に架橋された層として有用な、適切な
ポリマーに含まれるものには、ポリアクリル酸エステル
即ちポリアクリレート及びポリウレタンがある。適切な
ポリアクリレートには、多官能性アクリレート（即ち各
々が１より多いアクリレート基を含んでいるモノマーを
ベースとする）及び単官能性アクリレートと多官能性ア
クリレートの混合物が含まれる。
【００１５】高度に架橋されたポリマーの代替物も考え
られる。インク受容性表面は、必要な親油性と熱分解耐
性、及び低い熱伝達率（上側のイメージング層からのエ
ネルギーの消散を回避するための）を示す、どのような
材料であってもよい。例えばセラミック材料は、これら
の規準を充足しうる。
【００１６】第２の側面において本発明は、残屑が劣化
させうる表面ではなく、残屑それ自体の特性を変化させ
る。即ち有害な残屑の形成を全体的に阻止するものであ
る。イメージング層と表面層の間に配置される介在層又
は絶縁層は、イメージング放射線又は下側のイメージン
グ層の融除に応じて、表面層がかなりの熱分解を受ける
ことを防止する。またこれは、残屑を殆ど生成しない
か、或いはインク及び／又は湿し水に対し、基体の親和
性に類似した、例えば下側のインク受容性表面の親油性
を低減させることのない親和性を有する残屑を生成する
ように配合される。イメージングに続き、プレートがイ
メージング放射線を受け取った個所において、絶縁層の
残部は表面層と共に除去される。
【００１７】１つの好ましい手法では、絶縁層はポリシ
ラン、即ちケイ素をベースとする材料であって、置換さ
れた又は未置換のケイ素原子が相互に直接結合されて長
鎖をなしているものである。こうした材料は親油性を示
すであろう残屑を生成するだけでなく、イメージング層
として用いることのできるポリマー、金属又は無機材料
に対して極めて良好に接着する。従ってこれらはイメー
ジング層に対し、最も好ましくは真空下での堆積及びそ
れに続く硬化などの、種々の方法の何れによっても適用
することができる。
【００１８】別の手法では、絶縁層はそれが生ずる残屑
の特性や残屑の生成に対する耐性によってではなく、イ
メージングに続いて上側の層を除去するのを補助する観
点から選択される。このタイプの層は望ましくは、イメ
ージングに続いての除去を助ける官能基を取り込んだも
のである。例えば、絶縁層は親水性官能基を有するアク
リル酸エステル即ちアクリレートの層であることがで
き、これらの官能基は絶縁層の露出部分が水性の洗浄液
と相互作用するようにする。代替的に、絶縁層は親水性
のもの、例えばヒドロキシエチルセルロースやポリビニ
ルアルコールといった化学種であることができ、金属層
及びシリコーン層に対して良好な接着性を示す。
【００１９】
【発明の実施の形態】以上の議論は、添付図面との関連
において以下の詳細な説明を参照することにより、より
容易に理解されるであろう。
【００２０】本発明の印刷部材に関連して用いるのに適
したイメージング装置には、プレートの応答性が最大の
領域で発光する、即ちそのλmaxがプレートが最も強い
吸収を行う波長領域にほぼ近似している、少なくとも１
つのレーザ装置が含まれる。近赤外領域で発光するレー
ザの仕様は、前述の米国特許第5,339,737号及び再発行
特許第35,512号（これらの開示の全内容は、ここでの番
号の参照によって本明細書に取り入れるものとする）に
完全に記述されている。電磁スペクトルの他の領域で発
光する他のレーザも、当業者には周知である。
【００２１】適切なイメージング構成もまた、前述の米
国特許第5,339,737号及び再発行特許第35,512号に詳細
に記載されている。簡略に言えば、レーザ出力はレンズ
その他のビーム案内部材を介してプレート表面に対して
直接にもたらされるか、或いはブランク印刷プレートの
表面に対して光ファイバケーブルを用いて遠隔部位のレ
ーザから伝送される。コントローラ及び関連する位置決
めハードウェアがビーム出力をプレート表面に対して正
確な向きに維持し、この出力で表面全体を走査し、そし
てプレートの選択個所又は領域に隣接した位置において
レーザを活性化する。コントローラは、プレート上に複
製される原本ドキュメント又は画像に対応する入力イメ
ージ信号に応答して、原本の正確な陰画又は陽画イメー
ジを生成する。イメージ信号は、コンピュータにビット
マップデータファイルとして格納されている。こうした
ファイルは、ラスタイメージプロセッサ（RIP）その他
の適切な手段によって発生することができる。例えば、
RIPは入力データを、印刷プレート上に転写されること
が必要な全ての特徴を規定するページ記述言語で受け取
ることができ、或いはページ記述言語と一つ又はより多
くのイメージデータファイルの組み合わせとして受け取
る。ビットマップは、色相並びにスクリーン周波数及び
角度を規定するよう構成されている。
【００２２】イメージング装置は、プレート作成機とし
てのみ機能するようそれ自体で動作することができ、或
いはリソグラフ印刷機に直接に組み込むことができる。
後者の場合には、イメージをブランクプレートに適用し
た後、直ちに印刷を開始することができ、それによって
印刷機のセットアップ時間を大きく短縮させる。イメー
ジング装置は、フラットベッドレコーダとして、或いは
リソグラフプレートブランクをドラムの内側又は外側の
円筒形表面に装着してドラムレコーダとして構成するこ
とができる。明らかに、ドラムの外側表面に装着する設
計は、現場でリソグラフ印刷機上で使用するのにより適
しており、その場合には印刷シリンダそれ自体がレコー
ダ又はプロッタのドラム部材を構成する。
【００２３】このドラム構成において、レーザビームと
プレートの間に必要とされる相対的な動作は、ドラム
（及びその上に設けられたプレート）をその軸の周囲で
回転させ、ビームをその回転軸と平行に移動させて、そ
れによってプレートを周方向に走査して、イメージが軸
方向に「成長」するようにして達成される。或いはま
た、ビームをドラムの軸と平行に移動させ、プレートを
横断する各パスの後に角度をインクリメントさせて、プ
レート上のイメージが周方向に「成長」するようにさせ
ることができる。両方の場合について、ビームによる走
査が完了した後に、原本のドキュメント又は画像に対応
する（陽画的又は陰画的に）イメージが、プレートの表
面に適用されていることになる。
【００２４】フラットベッド構成においては、ビームは
プレートの何れかの軸に沿って掃引され、各々のパスの
後に他方の軸に沿って位置合わせされる。勿論、ビーム
とプレートの間における所要の相対運動は、ビームの移
動ではなく（或いはそれに加えて）プレートの移動によ
って生成することもできる。
【００２５】ビームが走査される仕方とは関係なしに、
複数のレーザを用いてそれらの出力を単一の書き込みア
レイへと案内することが一般に好ましい（機上の用途に
ついて）。この書き込みアレイは次いで、プレートを横
切る又はプレートに沿っての各々のパスの完了の後に、
アレイから発せられるビームの数と、所望の解像度（即
ち単位長当たりのイメージポイントの数）によって定ま
る距離だけインデクシンシグ又はスライドされる。機外
の用途の場合には、非常に迅速なプレートの動きに対処
するように設計を行うことができ（例えば高速モータの
使用を通じて）、従って高いレーザパルスレートをが用
いられるものであり、多くの場合にイメージング源とし
て単一のレーザを使用可能である。
【００２６】本発明による代表的な印刷部材が図１及び
図２に示されている。本明細書において使用される「プ
レート」又は「部材」という用語は、インク及び／又は
ファウンテン溶液に対して差別的な親和性を示す領域に
よって画定されたイメージを記録することのできる、あ
らゆる型式の印刷媒体又は表面を指している。適切な構
成に含まれるものとしては、印刷機のプレートシリンダ
上に設けられる伝統的な平坦なリソグラフ印刷プレート
があるが、シリンダ（例えばプレートシリンダのロール
状表面）、エンドレスベルト、或いはその他の構成配置
もまた含まれ得る。
【００２７】図１を参照すると、第１の印刷部材は、基
体100と、絶縁層102と、放射線吸収イメージング層104
と、表面層106とを含んでいる。
【００２８】表面層106は通常、インクをはじくシリコ
ーンポリマー又はフルオロポリマーであるが、絶縁層10
2は親油性でありインクを受容する。イメージング層104
は通常、非常に薄い金属の層である。この層はイメージ
ング放射線に応答して融除される。
【００２９】基体100の特性は、用途に依存する。剛性
と寸法安定性が重要な場合には、基体100は金属、例え
ば５ミル厚のアルミニウムシートであることができる。
理想的にはアルミニウムは研磨され、上側の層を貫通し
てきた何らかの放射線をイメージング層104へと反射し
て戻すようにされる。代替的には、基体の層100は例示
したようにポリエステルフィルムの如きポリマーである
ことができる。この場合にも、フィルムの厚みは大体に
おいて、用途によって定まる。反射性能の利点は、ポリ
マーの基体100に関しても、イメージング（例えばIR）
放射線を反射する顔料を含有する材料を用いることによ
って保持することができる。IR反射性の基体100として
用いるに適した材料は、米国デラウェア州ウィルミント
ンのICI Filmsにより市販されているWhite 329フィルム
であり、これはIR反射性の硫酸バリウムを白色顔料とし
て用いている。好ましい厚みは0.007インチ（0.18ミ
リ）である。最後に、ポリマーの基体100は所望なら
ば、金属支持体（図示せず）にラミネートすることがで
き、その場合には0.002インチ（0.05ミリ）の厚みが好
ましい。ここで番号を参照することによってその全内容
を本明細書に取り込む米国特許第5,570,636号に開示さ
れているように、金属支持体又はラミネート用の接着剤
が、イメージング放射線を反射することもできる。
【００３０】絶縁層102は、イメージング放射線の影響
や上側のイメージング層104の融除の影響に対して無関
係に、化学的及び物理的な一体性を維持する。好ましく
は、絶縁層102は高度に架橋されたポリマーであって、
熱に対して実質的な耐性を湿す。しかしながら、他の耐
火性、耐熱性の親油性材料、例えばセラミックスの如き
も、これに代えて絶縁層102として作用することができ
る。材料の選択は通常、適用技術、経済性、及び所望と
される最大厚みに関する考慮によって決定される。
【００３１】例えば、後述するように、イメージング層
104は望ましくは、真空条件下での堆積によって適用さ
れる。従って、恐らく真空蒸着に馴染みやすい材料が絶
縁層102には好ましく、これにより同一のチャンバ又は
同じ真空下にあるリンクされた一連のチャンバ内で、引
き続いての層を多重堆積でもって構築することが可能に
なる。１つの好ましい手法が、ここで番号を参照するこ
とによってそれらの全内容を本明細書に取り込むものと
する米国特許第5,440,446号、第4,954,371号、第4,696,
719号、第4,490,774号、第4,647,818号、第4,824,893
号、及び第5,032,461号に詳述されている。これらの特
許によれば、アクリレートモノマーが、真空下に蒸気と
して適用される。例えばこのモノマーは、フラッシュ蒸
発され真空チャンバ内へと注入され、そこで表面上に凝
結するようにできる。ついでこのモノマーは、化学（一
般には紫外、即ちUV）放射線又は電子ビーム（EB）源に
暴露することによって架橋される。
【００３２】関連する手法が、やはりここで番号を参照
することによってその全内容を本明細書に取り込む米国
特許第5,260,095号に記載されている。この特許によれ
ば、アクリレートモノマーは真空から凝結されるのでは
なく、真空下においてある表面上に広げられ、又はコー
ティングされうる。ここでも適用に続いて、モノマーは
UV又はEBに暴露することで架橋される。
【００３３】これらの手法の何れのものも、基体100上
に絶縁層102を適用するために使用することができる。
さらにまた、これらの手法の適用能力は、モノマーに限
定されるものではない。オリゴマーやより大きなポリマ
ーフラグメント、又は前駆体も、何れの技法によっても
適用することができ、その後架橋可能である。有用なア
クリレート材料には、米国特許第5,440,446号の８−10
欄に記載された如き、在来のモノマー及びオリゴマー
（モノアクリレート、ジアクリレート、メタクリル酸エ
ステルその他）が含まれ、さらに特定の用途のために化
学的に仕立てられたアクリレートも含まれる。代表的な
モノアクリレートには、イソデシルアクリレート、ラウ
リルアクリレート、トリデシルアクリレート、カプロラ
クトンアクリレート、エトキシル化されたノニルフェニ
ルアクリレート、イソボルニルアクリレート、トリプロ
ピレングリコールメチルエーテルモノアクリレート、及
びネオペンチルグリコールプロポキシレートメチルエー
テルモノアクリレートが含まれる。有用なジアクリレー
トには、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリプ
ロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コール（200）ジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコール（400）
ジアクリレート、ポリエチレングリコール（600）ジア
クリレート、プロポキシル化されたネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、UCB Radcure社により市販されて
いるIRR-214製品（脂肪族ジアクリレートモノマー）、
プロポキシル化された1,6-ヘキサンジオールジアクリレ
ート、及びエトキシル化された1,6-ヘキサンジオールジ
アクリレートが含まれる。そして有用なトリアクリレー
トには、トリメチロールプロパントリアクリレート（TM
PTA）及びエトキシル化されたTMPTAが含まれる。
【００３４】最後に、アクリレート官能性又は他の適切
な樹脂コーティングは常法により（大気圧条件下で）、
技術的に周知の手法に従って基体100上に適用し、続い
て硬化可能である。こうした手法の１つでは、１又はよ
り多くのアクリレートが基体100上に直接にコーティン
グされ、硬化される。別の手法では、１又はより多くの
アクリレートが溶剤（単数又は複数）と組み合わせら
れ、基体100上に流延され、その後に溶剤が蒸発され、
堆積されたアクリレートが硬化される。揮発性溶剤は、
低いコーティング重量でもって非常に一様な塗布を促進
するものであり、好ましい。アクリレートコーティング
はまた、アクリレートに溶解又は分散可能な非アクリレ
ート官能性化合物を含むことができる。
【００３５】アクリレートの代替物には、熱硬化性材
料、イソシアネートベースの材料、アジリジン材料、及
びエポキシ材料が含まれる。熱硬化性材料の反応は例え
ば、一次コーティング樹脂のヒドロキシル部位とのアミ
ノプラスト樹脂の反応を含みうる。これらの反応は、酸
雰囲気の生成と熱の使用によって大幅に促進される。
【００３６】イソシアネートベースのポリマーは、ポリ
ウレタンを含む。１つの典型的な手法は２液系ウレタン
を含み、そこではイソシアネート成分が、１又はより多
くの「骨格」樹脂（多くの場合「ポリオール」成分と呼
ばれる）のヒドロキシル部位と反応する。典型的なポリ
オールには、２又はより多くのヒドロキシル官能部位を
有する、ポリエーテル、ポリエステル、及びアクリル酸
系化合物がある。重要な変性樹脂には、ヒドロキシル官
能性ビニル樹脂及びセルロースエステル樹脂が含まれ
る。イソシアネート成分は２又はより多くのイソシアネ
ート基を有し、モノマー又はオリゴマーの何れかであ
る。反応は普通は周囲温度で進行するが、熱、及びスズ
化合物や第３級アミンなどの選択された触媒を用いて促
進させることができる。通常の技法は、イソシアネート
官能性成分（単数又は複数）をポリオール成分（単数又
は複数）と、使用の直前に混合することである。反応が
開始されるが、周囲温度では「可使時間」を許容するに
十分な程度に遅く、その間にコーティングを塗布するこ
とができる。
【００３７】別の手法では、イソシアネートは「ブロッ
ク化」形態で用いられ、そこではイソシアネート成分が
フェノールやケトオキシムのような別の成分と反応した
不活性な、準安定化合物が生成される。この化合物は高
温下で分解して活性なイソシアネート成分を遊離するこ
とを意図したものであり、遊離されたイソシアネートは
次いで反応してコーティングを硬化させる。この反応
は、コーティング配合物中に適切な触媒を取り入れるこ
とによって促進される。
【００３８】アジリジンは、カルボキシル官能性樹脂を
ベースとする水性コーティングを架橋するために頻繁に
使用されている。カルボキシル基は樹脂内に取り込まれ
て水溶性アミンと塩を形成する部位をもたらすが、この
塩形成反応は樹脂を水中に溶解又は分散するのと一体の
ものである。この反応は、コーティングの堆積に際して
水と溶解したアミンが蒸発した後に、周囲温度において
進行する。アジリジンは使用時にコーティングに添加さ
れるものであり、不活性な副生物を生成する水中加水分
解の速度によって支配される可使時間を有する。
【００３９】エポキシ化反応物は、例えば特に脂環式エ
ポキシ官能基をベースとする樹脂については三フッ化ホ
ウ素錯体を用いて、高温で硬化することができる。別の
反応は、UV暴露により生成するカチオン性触媒をベース
とするものである。
【００４０】イメージング層104は、一般には真空でコ
ーティングされた薄いフィルムとして適用されるもので
あり、金属又は金属の混合物であることができる。チタ
ンは、純粋な形態又は合金や金属間化合物の何れにおい
ても好ましいものであるが、アルミニウムの如き他の金
属もまた有利に使用することができる。シリコーン層10
6を用いる乾式プレート構造については、チタンは特に
好ましい。特にシリコーンが付加硬化によって架橋され
る場合には、下側のチタン層は他の金属に優る、実質的
な利点をもたらす。即ちチタン層上に付加硬化シリコー
ンをコーティングすると、硬化の間に触媒作用が増強さ
れ、実質的に完全な架橋が促進される。またこれは、架
橋が完了した後でさえも、さらなる結合反応を促進しう
る。これらの現象はシリコーンとチタン層に対するその
結合を強化し、それによってプレートの寿命を向上させ
（より完全に硬化したシリコーンは優れた耐久性を示す
ため）、またシリコーン層を通ってインク坦持溶媒が移
行、即ちマイグレートすること（その場合には下側の層
が劣化される）に対する抵抗をもたらす。高速コーティ
ングが望ましいために（又はインク受容性支持体に対す
る熱損傷を回避するためにより低い温度で実施すること
が必要なために）、コーティング装置で完全な硬化を行
うことが実用的でない場合には、触媒作用の増強は特に
有用である。チタンの存在は、温度を下げたとしても、
継続的な架橋を促進する。
【００４１】表面層106に有用な材料、及びそのコーテ
ィング技術については、上述した米国特許第5,339,737
号及び再発行特許第35,512号に開示されている。基本的
には、適切なシリコーン材料が巻線ロッドを用いて塗布
され、次いで乾燥され熱硬化されて、例えば２g/m2で堆
積された均一なコーティングが生成される。
【００４２】さて図２を参照すると、基体100と、イメ
ージング層104と、表面層106とを上述した如く含み、ま
た絶縁層108をも含む、印刷部材の第２の実施例が示さ
れている。この実施例の１つの態様では、絶縁層108は
ポリシランである。前述したように、この種の材料は親
油性を示すであろう残屑を生成するだけでなく、イメー
ジング層104に対して極めて良好に接着する。ポリシラ
ンはイメージング層104に対し、プラズマ重合によって
適用することができるが、それによればポリマー前駆体
が真空下のプラズマ中に導入されるものである。この後
者の手法は大抵の場合、高度に架橋された分岐構造を生
成し、そこには幾らかのシロキサン成分が含まれる（従
って得られる生成物は、ポリシランとポリシロキサンの
ランダムコポリマーとして記述されるのが最も適切であ
る）。ポリシロキサン含有量が十分に低ければ、得られ
る層はインクを受容する。
【００４３】プラズマ重合されたポリシランは、作用ガ
スであるアルゴン中に生成されたプラズマ中へと、シラ
ン前駆体を導入することによって得られる。適切なシラ
ン前駆体には例えば、トリメチルシラン、テトラメチル
シラン、及びトリメチルジシランなどが含まれる。使用
される条件に応じて、得られるポリマーは大幅に架橋さ
れ、酸素を余り含まない（上部及び下部の界面を除い
て）。堆積は通常はゆっくりと生じ、非常に薄い（オン
グストローム／ナノメートルレベルの）フィルムを適用
することが容易である。プラズマ重合の作用圧力は典型
的には、0.1〜0.01 torrの範囲にある。
【００４４】ポリシランはまた、コーティングとして適
用でき、或いは溶剤から流延することも可能である。適
切な溶剤ベースのポリシランには、米国ペンシルバニア
州ブリストルのHuls Americaから市販されている製品名
で、PS101（ポリ（シクロヘキシルメチル）シラン）、P
S101.5（ポリジヘキシルシラン）、PS106（ポリ（フェ
ニルメチルシラン））、PS109（シクロヘキシルメチル
シランとジメチルシランのコポリマー）、及びPS110
（ジメチルシランとフェニルメチルシランのコポリマ
ー）などがある。他の適切なポリシラン及びそれらの合
成については、米国特許第4,992,520号、第5,039,593
号、第4,987,202号、第4,588,801号、及び第4,587,205
号、並びにZeiglerら「Self-developing polysilane de
ep-UV resists -- photochemistry, photophysics, and
submicron lithography」、SPIE Advances in Resist
Technology and Processing II 539:166-174（1985）に
記載されている。一般に、適切に適用されたポリシラン
は1000ダルトンを越える分子量を有する。
【００４５】幾つかの用途においては、官能基をポリシ
ラン中に取り入れて、上側の層との接着性を向上させる
ことが望ましい。例えば絶縁層108中にビニル官能基が
あると、これらはその上に適用されて硬化される付加硬
化シリコーン層106にある相補的な基と結合する。従っ
て、置換されたポリシロキサン基を有するポリシラン／
ポリシロキサンコポリマーを、インクの反撥を回避する
に十分な低いレベル（例えば２％又はそれ未満）で用い
ることが可能である。
【００４６】この実施例の別の形態では、絶縁層108は
残屑の生成に対する抵抗性の故に選ばれるが、しかしイ
メージングに続いての除去性能を補助する官能基を有す
る。即ちイメージングパルスを適用するとイメージング
された領域内ではイメージング層104が除去されるが、
絶縁層108（後述の如き）や表面層106には軽い損傷しか
生じないであろう。しかしながらこれらの層は、基体10
0に対する係留を解かれることにより、除去可能なもの
とされる。この除去は、洗浄液の存在下に機械的作用に
よって達成可能であり、その洗浄液と絶縁層108のポリ
マーの官能基との間での化学的相溶性は、イメージング
された領域におけるその除去を助ける。適切な相間接着
性を示すように材料が選ばれる限りにおいて、この相溶
性は洗浄時に、非イメージ領域に対して損傷を及ぼすも
のではない。
【００４７】洗浄液の性質が水性である場合には、絶縁
層108はポリビニルアルコールからなることができる。
こうした材料はシリコーン層106及びチタンベースのイ
メージング層104の両者に対し、優れた接着性を示す。
さらにまた、水から流延されたポリビニルアルコールの
層は、殆どの印刷用溶剤の影響を受けず、結果として使
用時に優れた耐久性を有する。適切なポリビニルアルコ
ール材料には、AIRVOLポリマー製品（例えば米国ペンシ
ルバニア州アレンタウンのAir Productsにより市販され
ているAIRVOL 125又はAIRVOL 165といった、高度に加水
分解されたポリビニルアルコールが含まれる。ポリビニ
ルアルコールは、これを大過剰の水（例えば重量比で水
98に対して２）と組み合わせ、この混合物を巻線ロッド
で適用し、続いて実験室の熱対流炉中で１分間華氏300
度（150℃）でコーティングを乾燥することによって、
基体100上へとコーティング可能である。典型的な塗布
重量は、0.2〜0.5 g/m2である。
【００４８】ポリビニルアルコールの代替物は、ヒドロ
キシセルロース、例えば米国テキサス州ヒューストンの
Aqualon Co.により市販されているNATROSOLという非イ
オン性の水溶性ポリマーである。この材料は、セルロー
スのヒドロキシエチルエーテルである。NATROSOL 250JR
という製品の２％水溶液をチタンでコーティングされた
ポリエステル基体に0.2 g/m2で適用し、実験室の熱対流
炉中で１分間華氏300度（150℃）で乾燥する。これにシ
リコーンを2.0 g/m2でコーティングすると、水洗浄性の
乾式プレートが得られる。
【００４９】別の手法では、絶縁層108はアクリレート
材料であり、親水性官能基を取り込んでいて、水性洗浄
液と相溶性がある（そしてそれにより除去可能である）
ようにされる。アクリレートモノマー又はオリゴマーに
対し、又はその内部に結合しうる親水基には、ペンダン
ト（側基）のリン酸及びエチレンオキシド置換などがあ
る。好ましい材料には、β-カルボキシエチルアクリレ
ート、前述した幾つかのポリエチレングリコールジアク
リレート、米国ジョージア州アトランタのUCBRadcure,
Inc.から市販されているEB-170製品即ちリン酸官能性ア
クリレート、及びヘンケルにより市販されているPHOTOM
ER 4152（ヒドロキシペンダント）、4155及び4158（高
エポキシ含有量）、及び6173（カルボキシペンダント）
が含まれる。
【００５０】代替的に、親水性化合物をコーティング混
合物中に非反応性成分として含めることができ、これは
得られる硬化マトリクス中に坦持され、コーティングに
対して水に対する濡れ性を与える親水性部位を示すよう
になる。こうした化合物に含まれるものには、ポリエチ
レングリコールやトリメチロールプロパンがある。特
に、コーティング（真空蒸着ではなく）によって適用さ
れる場合には、アクリレート混合物に添加可能な非アク
リレートの親水性有機材料の範囲は相当なものになる。
というのは、分子量が重要な考慮事項ではないからであ
る。本質的に、アクリレートのベースコーティングに対
する溶解性又は混和性しか必要ではない。アクリル酸含
有量の高いアクリル酸コポリマー（ポリアクリル酸ポリ
マーを含む）もまた可能なものである。非真空での適用
はまた、固形の充填剤、特に無機物質（シリカの如き）
を使用して、水ベースの洗浄液との相互作用を助長する
ことを容易にする。こうした充填剤は親水性であり、及
び／又は多孔性（テクスチャ）を導入することができ
る。これは導電性カーボンブラック（例えば米国マサチ
ューセッツ州ウォルサムのCabot Corp.のSpecial Black
s Divisionにより市販されているVulcan XC-72顔料）で
得られるごときものである。
【００５１】Ｔレジン及びはしご形ポリマーは、第２の
実施例における絶縁層108又は第１の実施例における絶
縁層102の何れかとして役立つことのできる、さらに別
のクラスの材料を表すものである。これらの材料は溶媒
からコーティング可能であり、特にフェニル置換されて
いる場合には、極めて高い耐熱性を示す。Ｔレジンは高
度に架橋された材料であり、RSiO1.5という実験式を有
する。はしご形ポリマーは、
【００５２】
【化１】
【００５３】という構造を示しうる。
【００５４】これらのタイプの材料は両方ともインクを
受容し、また親水性にすることが可能であり（例えばシ
ラノール置換を用いてRを-OHとして）、或いは上側の相
と反応性にすることができる（例えばビニル置換を用い
てRを-CH=CH2として）。さらにまた、これらの材料は劣
化して低分子量のシロキサンではなく、SiO2-xガラスと
なる傾向を有する。
【００５５】適切な材料には例えば、ポリメチルシルセ
スキオキサン、ポリフェニル-プロピルシルセスキオキ
サン（ヒドロキシル置換されていてもよい）及びポリフ
ェニル-ビニルシルセスキオキサンなどがある。
【００５６】図２によるプレートをイメージングするこ
との効果が、図３Ａに示されている。イメージングパル
スは暴露領域においてイメージング層104を融除し、基
体100と絶縁層108の間に係留の解かれた空所112を残
し、これによって上側の表面層106及び絶縁層108は、洗
浄による除去に馴染みやすいものとなる。図３Ｂに示さ
れているこのプロセスは、絶縁層108の親水性によって
増強される。水性洗浄液を適用すると、表面層106と絶
縁層108の係留の解かれた領域は一連のフラグメント115
に分解され、洗浄液中に取り込まれて除去され、イメー
ジングパルスが当たった個所に基体100を残す。
【００５７】親水性の絶縁層108を有する印刷部材につ
いて用いるための、例示的な水性洗浄液は、水道水（1
1.4リットル）と、米国カリフォルニア州ハンチントン
ビーチのSunshine Makers, Inc.により市販されているS
imple Greenという濃縮クリーナー（150 ml）と、米国
ニュージャージー州オークランドのVarn Products Comp
anyから市販されているSuper Defoamer 225をキャップ
１杯分組み合わせることにより調製される。ここで番号
を参照することによりその全内容を本明細書に取り入れ
る米国特許第5,148,746号に記載されているように、こ
の洗浄液はイメージング後に、表面層106と接触してい
る回転ブラシに対して適用することができる。
【００５８】最後に図４は、基体100と、イメージング
層104と、表面層106とを前述したようにして含み、さら
に無機層110を有するプレートの実施例を示している。
無機層110の役割は基本的には、表面層106のために有効
な熱的保護をもたらすというよりも、親水性残屑を発生
するというところにある。無機層110は熱的に安定であ
り、イメージングプロセスの間は持続し、絶縁層108
（図３参照）のようにして表面層106に接着する。この
ようにして、無機層110は水性洗浄液と相溶性のある親
水性表面をもたらし、それによってイメージングされた
プレート領域にわたっての、表面層106の除去を補助す
るものである。無機層110は例えば、イメージング放射
線に対して透過性であることができる。イメージングビ
ームと相互作用しないことにより、透過層たる無機層11
0はそれ自体の構造的一体性を維持すると同時に、ビー
ムの全エネルギーがイメージング層104に到達すること
を許容する。
【００５９】好ましい態様では、無機層110は50〜1000
Åの範囲、理想的には300Åの厚みで適用された二酸化
ケイ素（SiO2）である。層110はケイ素の反応性スパッ
タリングによって生成可能であり、この場合に作用ガス
（典型的にはアルゴン）に対して酸素が添加される。堆
積されるSiO2材料にシラノール官能性を導入するため
に、作用ガスに水分を添加することも可能であり、これ
によって親水性は増大される。他の酸化物もまた、有利
に使用することができる。しかしながら、無機層110が
イメージング放射線に対して透過性でない限りにおいて
は、イメージング層104の厚みを低減させて、結果とし
て生ずるエネルギー消散に対処することが必要となろ
う。
【００６０】このプレート構造は、未吸収のイメージン
グ放射線がイメージング層104に反射されて戻ることに
よる利点を享受することができる。例えば、IR反射性の
基体100として用いるに適した材料は、米国デラウェア
州ウィルミントンのＩＣＩ Ｆｉｌｍｓにより市販され
ているＷｈｉｔｅ ３２９フィルムであり、これはIR反
射性の硫酸バリウムを白色顔料として用いている。ポリ
エステルの基体は、インクに対する親油的親和性を維持
する。
【００６１】
【発明の効果】かくして本発明者らが、上述した技法及
び構成により、優れた印刷特性及び性能を有するリソグ
ラフ印刷部材を開発したことが看取されよう。本明細書
において用いられた用語及び表現は説明のために用いた
ものであって、限定を行うためのものではなく、こうし
た用語及び表現を用いることについては、本明細書及び
図面に説明し図示した特徴又はその一部に対するどのよ
うな均等物をも排除する意図はない。むしろ特許請求の
範囲の枠内において、種々の設計変更が可能であること
が認識されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】シリコーンの最上層と、金属の又は金属を含有
するイメージング層と、インク受容性の絶縁層と、基体
とを有するリソグラフ印刷プレートの拡大断面図であ
る。
【図２】シリコーンの最上層と、絶縁層と、金属の又は
金属を含有するイメージング層と、基体とを有するリソ
グラフ印刷プレートの拡大断面図である。
【図３】Ａは図２に示すプレートのイメージングの影響
を示す図であり、Ｂはイメージングされたプレートを水
性の液体で洗浄する影響を示す図である。
【図４】シリコーンの最上層と、二酸化ケイ素の層と、
金属の又は金属を含有するイメージング層と、基体とを
有するリソグラフ印刷プレートの拡大断面図である。
【符号の説明】
100 基体 102,108 絶縁層 104 イメージング層 106 表面層 110 無機層 112 空所 115 フラグメント

Claims (47)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 リソグラフ印刷部材のイメージング方法
    であって、 ａ．印刷表面を有し、第１の固体層と、第１の層の下側
    にある第２の固体層と、第２の層の下側にある耐熱層と
    を含み、第１の層と耐熱層がインクに対して異なる親和
    性を有し、第２の層がイメージング放射線の吸収による
    融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそう
    ではない印刷部材を準備するステップと、 ｂ．印刷表面をイメージング放射線に対して、イメージ
    を表すパターンでもって選択的に暴露し、耐熱層に物理
    的変形を受けさせることなしに第２の層を融除し、上側
    の層からの残屑が捕捉されるのを回避するステップと、
    及び ｃ．印刷部材が放射線を受容した個所で第１の層と第２
    の層の残部を除去するステップとからなる方法。
  2. 【請求項２】 耐熱層が高度に架橋したポリマーであ
    る、請求項１の方法。
  3. 【請求項３】 印刷部材の第２の層が金属である、請求
    項１の方法。
  4. 【請求項４】 金属がチタンを含む、請求項３の方法。
  5. 【請求項５】 印刷部材がさらに、耐熱層の下側の基体
    を含む、請求項１の方法。
  6. 【請求項６】 耐熱層がポリアクリレートである、請求
    項２の方法。
  7. 【請求項７】 ポリアクリレートが多官能性アクリレー
    トである、請求項６の方法。
  8. 【請求項８】 ポリアクリレートが、真空蒸着により適
    用され次いで硬化される、単官能性アクリレートと多官
    能性アクリレートの混合物である、請求項６の方法。
  9. 【請求項９】 耐熱層がＴレジンである、請求項１の方
    法。
  10. 【請求項１０】 耐熱層がはしご形ポリマーである、請
    求項１の方法。
  11. 【請求項１１】 リソグラフ印刷部材であって、 ａ．第１の固体層と、 ｂ．第１の層の下側にある第２の固体層と、及び ｃ．第２の層の下側にある耐熱層とを含み、 ｄ．第１の層と耐熱層がインクに対して異なる親和性を
    有し、 ｅ．第２の層がイメージング放射線の吸収による融除を
    受ける材料から形成されているが第１の層はそうではな
    く、及び ｆ．耐熱層がイメージング放射線に応答して物理的変形
    を受けないことからなる印刷部材。
  12. 【請求項１２】 耐熱層が高度に架橋したポリマーであ
    る、請求項１１の部材。
  13. 【請求項１３】 印刷部材の第２の層が金属である、請
    求項１１の部材。
  14. 【請求項１４】 金属がチタンを含む、請求項１３の部
    材。
  15. 【請求項１５】 耐熱層がポリアクリレートである、請
    求項１１の部材。
  16. 【請求項１６】 ポリアクリレートが多官能性アクリレ
    ートである、請求項１５の部材。
  17. 【請求項１７】 耐熱層がＴレジンである、請求項１１
    の部材。
  18. 【請求項１８】 耐熱層がはしご形ポリマーである、請
    求項１１の部材。
  19. 【請求項１９】 リソグラフ印刷部材のイメージング方
    法であって、 ａ．印刷表面を有し、第１の固体層と、第１の層の下側
    にある絶縁層と、イメージング層と、イメージング層の
    下側にある基体とを含み、第１の層と基体がインク及び
    インク忌避液体からなる群より選択される少なくとも１
    つの印刷液体に対して異なる親和性を有し、イメージン
    グ層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材
    料から形成されているが第１の層はそうではない印刷部
    材を準備するステップと、 ｂ．印刷表面をイメージング放射線に対して、イメージ
    を表すパターンでもって選択的に暴露してイメージング
    層を融除し、絶縁層がイメージング放射線に応じての第
    １の層のかなりの熱劣化を防止し、絶縁層の熱劣化が前
    記少なくとも１つの印刷液体に対し、基体の親和性に類
    似した親和性を有する残屑を生成するステップと、及び ｃ．印刷部材が放射線を受容した個所で第１の層と、絶
    縁層と、イメージング層の残部を除去するステップとか
    らなる方法。
  20. 【請求項２０】 印刷部材の絶縁層がポリシランであ
    る、請求項１９の方法。
  21. 【請求項２１】 印刷部材の絶縁層がアクリレートであ
    る、請求項１９の方法。
  22. 【請求項２２】 絶縁層が親水性であり、前記除去する
    ステップが印刷部材に水性液体を適用することを含む、
    請求項１９の方法。
  23. 【請求項２３】 絶縁層がヒドロキシエチルセルロース
    及びポリビニルアルコールの化学種からなる群より選択
    される、請求項２２の方法。
  24. 【請求項２４】 印刷部材のイメージング層が金属であ
    る、請求項１９の方法。
  25. 【請求項２５】 金属がチタンを含む、請求項２４の方
    法。
  26. 【請求項２６】 絶縁層がＴレジンである、請求項１９
    の方法。
  27. 【請求項２７】 絶縁層がはしご形ポリマーである、請
    求項１９の方法。
  28. 【請求項２８】 リソグラフ印刷部材であって、 ａ．第１の固体層と、 ｂ．第１の層の下側にある絶縁固体層と、 ｃ．第１の層の下側にあるイメージング固体層と、及び ｄ．イメージング層の下側にある基体とを含み、 ｅ．第１の層と基体がインク及びインク忌避液体からな
    る群より選択される少なくとも１つの印刷液体に対して
    異なる親和性を有し、 ｆ．イメージング層がイメージング放射線の吸収による
    融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそう
    ではなく、及び ｇ．絶縁層がイメージング放射線に応じての第１の層の
    かなりの熱劣化を防止し、絶縁層の熱劣化が前記少なく
    とも１つの印刷液体に対し、基体の親和性に類似した親
    和性を有する残屑を生成することからなる部材。
  29. 【請求項２９】 印刷部材の絶縁層がポリシランであ
    る、請求項２８の部材。
  30. 【請求項３０】 印刷部材の絶縁層がアクリレートであ
    る、請求項２８の部材。
  31. 【請求項３１】 印刷部材の絶縁層が水溶性である、請
    求項２８の部材。
  32. 【請求項３２】 絶縁層が親水性である、請求項２８の
    部材。
  33. 【請求項３３】 絶縁層がヒドロキシエチルセルロース
    及びポリビニルアルコールの化学種からなる群より選択
    される、請求項３２の部材。
  34. 【請求項３４】 印刷部材のイメージング層が金属であ
    る、請求項２８の部材。
  35. 【請求項３５】 金属がチタンを含む、請求項３４の部
    材。
  36. 【請求項３６】 絶縁層がＴレジンである、請求項２８
    の部材。
  37. 【請求項３７】 絶縁層がはしご形ポリマーである、請
    求項２８の部材。
  38. 【請求項３８】 リソグラフ印刷部材のイメージング方
    法であって、 ａ．印刷表面を有し、第１の固体層と、第１の層の下側
    にある中間層と、金属イメージング層と、イメージング
    層の下側にある基体とを含み、第１の層と基体がインク
    及びインク忌避液体からなる群より選択される少なくと
    も１つの印刷液体に対して異なる親和性を有し、イメー
    ジング層がイメージング放射線の吸収による融除を受け
    る材料から形成されているが第１の層はそうではない印
    刷部材を準備するステップと、 ｂ．印刷表面をイメージング放射線に対して、イメージ
    を表すパターンでもって選択的に暴露してイメージング
    層を融除し、中間層の熱劣化が第１の層を溶解すること
    のない洗浄液に対して親和性を有する残屑を生成するス
    テップと、及び ｃ．印刷部材が放射線を受容した個所で第１の層と、中
    間層と、イメージング層の残部を除去するステップとか
    らなる方法。
  39. 【請求項３９】 中間層が二酸化ケイ素材料である、請
    求項３８の方法。
  40. 【請求項４０】 中間層がイメージング放射線に対して
    透過性である、請求項３８の方法。
  41. 【請求項４１】 中間層がイメージング放射線に応答し
    て劣化されない、請求項３８の方法。
  42. 【請求項４２】 基体が未吸収のイメージング放射線を
    反射する、請求項３８の方法。
  43. 【請求項４３】 リソグラフ印刷部材であって、 ａ．第１の固体層と、 ｂ．第１の層の下側にある中間固体層と、 ｃ．第１の層の下側にあるイメージング固体層と、及び ｄ．イメージング層の下側にある基体とを含み、 ｅ．第１の層と基体がインク及びインク忌避液体からな
    る群より選択される少なくとも１つの印刷液体に対して
    異なる親和性を有し、 ｆ．イメージング層がイメージング放射線の吸収による
    融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそう
    ではなく、及び ｇ．中間層の熱劣化が第１の層を溶解することのない洗
    浄液に対して親和性を有する残屑を生成することからな
    る部材。
  44. 【請求項４４】 中間層が二酸化ケイ素材料である、請
    求項４３の部材。
  45. 【請求項４５】 中間層がイメージング放射線に対して
    透過性である、請求項４３の部材。
  46. 【請求項４６】 中間層がイメージング放射線に応答し
    て劣化されない、請求項４３の部材。
  47. 【請求項４７】 基体が未吸収のイメージング放射線を
    反射する、請求項４３の部材。
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