JPH11307574A - 半導体素子用金合金線 - Google Patents

半導体素子用金合金線

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JPH11307574A
JPH11307574A JP10131339A JP13133998A JPH11307574A JP H11307574 A JPH11307574 A JP H11307574A JP 10131339 A JP10131339 A JP 10131339A JP 13133998 A JP13133998 A JP 13133998A JP H11307574 A JPH11307574 A JP H11307574A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 一層の小ボール化、金線の細径化のために、
十分な耐熱性と、常温並びに高温状態での十分な抗張力
とを有することで、ワイヤボンディング時のループ垂れ
や、ループの変形が生じにくく、多ピン用デバイスのボ
ンディング線としても、これに十分対応できるようにす
る。 【解決手段】 高純度金にカルシウム5〜50重量pp
m、イットリウム5〜50重量ppm、サマリウム3〜
70重量ppm、ベリリウム2〜10重量ppm、ゲル
マニウム5〜50重量ppmがそれぞれ添加され、これ
ら添加元素の総量が20〜200重量ppm の範囲とさ
れ、且つ、残部が不可避不純物からなるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子用金合
金線、更に詳しくは、主として、例えば半導体素子上の
電極と外部リードとを接合するためのボンディングワイ
ヤーとして用いられ、特に、長スパンボンディングを行
うのに用いられる半導体素子用金合金線に関する。
【0002】
【従来の技術】近年急速に普及しつつあるデバイスの多
ピン化の傾向に伴って、長スパンのワイヤーボンディン
グ、つまり長距離にボンディングを行うことが要求され
る。しかし、この長スパンのワイヤーボンディングにお
いても、近年はコストの低減はいうまでもなく、この多
ピン用デバイスに対応するためには、数多くのワイヤー
ボンディングを行うことから、一層の小ボール化、金線
の細径化が求められている。
【0003】ところで、従来から例えば、ケイ素半導体
素子上の電極と外部リードとの間を接続するボンディン
グ線としては、金細線が使用されてきた。しかし、この
金細線は、自動ボンダーにかけて先端を溶融して金ボー
ルを形成させて接合を行うと、再結晶温度が低く、耐熱
性を欠くために、金ボール形成時、その直上部において
引張強度が不足し断線を起こす。また、断線を免れて接
合されても、接合後の金細線は樹脂封止によって断線す
る。更に、半導体素子を封止樹脂で保護した場合、ワイ
ヤーフローを呈し短絡を起こす問題がある。これらの問
題点を解決するために、周知のとおり、従来より、接続
時に形成される金ボールの形状及び硬さを損なわない程
度に、高純度金中に微量の添加元素を加え、これによっ
て破断強度と耐熱性を向上させた種々のボンディング用
金合金細線が公表されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者等
は、前記従来から提案された種々の金合金細線につい
て、これらが多ピン用デバイスのワイヤーボンディング
に適するか否か、すなわち現実に実用性を備えているか
否かについて検討してみた。その結果、多ピン用デバイ
スに対応するためのボンディングでは、デバイスの製造
工程で、数多くのワイヤが長ループでボンディングされ
るため、これら従来の種々の提案はいずれもが不適合で
あった。すなわち、ボンディングされたワイヤーのルー
プが変形し、隣接するワイヤー同士が不用意に接触し易
いことも分かった。
【0005】この検討の結果を基にして、本発明者等は
鋭意研究を重ねた結果、次のような手段を見出した。す
なわち、高純度金にカルシウム、イットリウム、サマリ
ウム、ベリリウムそしてゲルマニウムの各元素を含有さ
せることによって、金合金細線が、高い耐熱性と、常温
・高温状態での高い抗張力、つまり常温及び高温の高い
引張り強さとを備えるようになることが分かった。そし
て、このような手段を採用することによって、従来の問
題点をうまく解決できることを見いだして本発明をする
に至った。
【0006】したがって、本発明は、一層の小ボール
化、金線の細径化のために、十分な耐熱性と、常温並び
に高温状態での十分な抗張力とを有することで、ワイヤ
ボンディング時のループ垂れや、ループの変形が生じに
くく、多ピン用デバイスのボンディング線としても、こ
れに十分対応できるようにすることを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
高純度金にカルシウム5〜50重量ppm、イットリウ
ム5〜50重量ppm、サマリウム3〜70重量pp
m、ベリリウム2〜10重量ppm、ゲルマニウム5〜
50重量ppmがそれぞれ添加されていて、これら添加
元素の総量が20〜200重量ppmの範囲、残部が不
可避不純物からなるものである。
【0008】また、請求項2記載の発明は、高純度金に
カルシウム10〜30重量ppm、イットリウム10〜
40重量ppm、サマリウム10〜50重量ppm、ベ
リリウム3〜8重量ppm、ゲルマニウム10〜40重
量ppmがそれぞれ添加され、これら添加元素の総量が
40〜150重量ppmの範囲、残部が不可避不純物か
らなるものである。
【0009】本発明は、高純度金に長スパン化に必要な
常温・高温状態での抗張力を十分に向上させる作用を備
えるカルシウムと、カルシウムとの共存において線の軟
化温度を高める作用を備える、つまり耐熱性を高める、
イットリウムと、カルシウムとイットリウムとの共存に
おいて、常温・高温状態での抗張力並び耐熱性をともに
一段と向上せしめるサマリウムと、更にカルシウム、イ
ットリウム、サマリウムとの共存においてループの変形
を生じ難くする、つまり常温での抗張力を向上させるベ
リリウムとゲルマニウムを添加することにより、これら
五元素の相乗作用によって、耐熱性と常温・高温状態で
の抗張力を共に十分に向上させ、また、ワイヤボンディ
ング時のループ垂れやループの変形を生じることがな
く、特に長スパンのボンディングにうまく適合させるも
のである。
【0010】次に、この発明の金合金細線の成分組成を
上記のとおりに限定した理由を説明する。
【0011】まず、カルシウムには、長スパン化に必要
な常温・高温状態での抗張力、つまり、常温及び高温引
張り強さ、を高める作用がある。しかし、添加量が5重
量ppm未満では、この長スパン化に必要な常温・高温
状態での抗張力が十分に得られない。加えて、他の元素
との相乗作用に欠け、十分な耐熱性が得られない。更に
ループ高さ(電気トーチによるボール形成の際のネック
部分の再結晶領域)にバラツキが生じたり、ワイヤーフ
ローも生じ易くなる。逆に、添加量が50重量ppmを
超えると、ボール表面に酸化皮膜が形成され、ボール形
状に歪みを生じる。しかも、カルシウムが金の結晶粒界
に析出して脆性を生じ、伸線加工性を阻害するようにな
る。以上の理由から、その添加量を5〜50重量ppm
と定めた。なお、その好ましい添加量は10〜30重量
ppmである。
【0012】イットリウムには、カルシウムとの共存に
おいて、十分な耐熱性、つまり、線の軟化温度を高め、
更に長スパン化に必要な常温・高温状態での抗張力、つ
まり、常温及び高温引張り強さ、を一段と向上させる作
用がある。しかし、添加量が5重量ppm未満では、カ
ルシウムとの相乗作用に欠け、十分な耐熱性が得られな
い。また、長スパン化に必要な常温・高温状態での抗張
力も得られず、更に、ループ高さにバラツキが生じた
り、ワイヤーフローも生じ易くなる。逆に、50重量p
pmを超えて添加しても、特性の向上が見られず、かえ
ってボール表面に酸化皮膜が形成され、ボール形状に歪
みを生じる。しかも、イットリウムが金の結晶粒界に析
出して脆性を生じ、伸線加工性を阻害するようになる。
以上の理由から、その添加量を5〜50重量ppmと定
めた。なお、好ましい添加量は10〜40重量ppmで
ある。
【0013】サマリウムは、長スパン化に必要な常温・
高温状態での抗張力を更に一段と向上させる作用ととも
に、カルシウムおよびイットリウムとの共存において、
耐熱性、つまり線の軟化温度、を一段と高めるほか、ル
ープ高さ(電気トーチによるボール形成の際のネック部
分の再結晶領域)のバラツキを一層効果的に抑制する作
用がある。しかし、その添加量が3重量ppm未満で
は、この長スパン化に必要な常温・高温状態での抗張力
が十分に得られない。加えて、カルシウムおよびイット
リウムとの相乗作用に欠け、十分な耐熱性が得られな
い。更に、ループ高さ(電気トーチによるボール形成の
際のネック部の再結晶領域を抑制する)のバラツキを抑
える効果が不十分となる。逆に、70重量ppmを超え
ると、ボール表面に酸化皮膜が形成され、ボール形状に
歪みを生じる。しかも、サマリウムが金の結晶粒界に析
出して脆性を生じ、伸線加工性を阻害するようになる。
以上の理由から、その添加量を3〜70重量ppmと定
めた。なお、好ましい添加量は10〜50重量ppmで
ある。
【0014】ベリリウムは、カルシウム、イットリウム
そしてサマリウムとの共存において、常温での抗張力を
高める、つまりループの変形を生じ難くする、作用があ
る。しかし、その添加量が2重量ppm未満では、この
常温での抗張力が十分に得られない。逆に10重量pp
mを越えると、ボール表面に酸化皮膜が形成され、ボー
ル形状に歪みを生じ、ボンディング時の再結晶による結
晶粒界破断を起こして、ネック切れが生じ易くなる。以
上の理由から、その添加量を2〜10重量ppmと定め
た。なお、好ましい添加量は、3〜8重量ppmであ
る。
【0015】ゲルマニウムは、ベリリウムと同様に、カ
ルシウム、イットリウムそしてサマリウムとの共存にお
いて、常温での抗張力を高める、つまりループの変形を
生じ難くする、作用がある。しかし、その添加量が5重
量ppm未満では、この常温での抗張力が十分に得られ
ない。逆に50重量ppmを越えると、ボール表面に酸
化皮膜が形成され、ボール形状に歪みを生じ、ボンディ
ング時の再結晶による結晶粒界破断を起こして、ネック
切れが生じ易くなる。以上の理由から、その添加量を5
〜50重量ppmと定めた。なお、好ましい添加量は、
10〜40重量ppmである。
【0016】更に、上記のカルシウム、イットリウム、
サマリウム、ベリリウムそしてゲルマニウムの五元素は
無駄なく、且つ、効率的に所期の目的を達成すること
が、つまり最小の添加量で最大の効果を発揮すること
が、肝要である。しかし、その添加総量が、20重量p
pm未満では、常温・高温状態での抗張力を十分に向上
できず、長スパン化が達成できないばかりか、耐熱性も
十分に向上できず、ワイヤーフローを生じ、更にループ
高さのバラツキも抑制できない。逆に200重量ppm
を超えると、ボール形状に歪みを生じ、微小電極との接
合の信頼性を低下させることから、その添加総量を20
〜200重量ppmと定めた。なお、好ましくい添加総
量は40〜150重量ppmである。
【0017】
【発明の実施の形態】発明の実施の形態を説明する。金
純度が99.99重量%以上の電解金を用いて、表1に
示す化学成分の金合金を高周波真空溶解炉で溶解鋳造
し、その鋳塊を圧延機で圧延した後、常温で伸線加工を
行い最終線径を25μmφの金合金細線とし、焼鈍して
伸び値が4%になるように調質する。
【0018】
【表1】
【0019】得られた金合金細線について、常温引張強
度並びに線がボンディング時に晒される条件に相当する
条件、つまり250°に20秒間保持した条件での高温
引張強度の試験を夫々行い、破断荷重と伸びを測定し、
常温並びに高温引張強度を評価した。
【0020】また、これらの金合金細線をボンディング
ワイヤーとして用い、高速自動ボンダーで、特に多ピン
用デバイスに適応できるように、配線距離平均4.2mm
の長スパンのボンディングを行い、ループ変形及びボー
ル形状、接合のループ高さ、ループ高さのバラツキ更に
はモールド時のワイヤフローを調べた結果を表2に示
す。
【0021】
【表2】
【0022】接合のループ高さは、高速自動ボンダーを
使用して半導体素子上の電極と外部リードとの間を接合
した後、形成されるループ頂高とチップの電極面とを光
学顕微鏡で観察してその高さを測定し、50個の測定値
の平均値をもって表した。
【0023】また、ループ高さのバラツキは、前記50
個のループ高さの測定値より標準偏差を求めた。
【0024】ボール形状は、高速自動ボンダーを使用
し、電気トーチ放電によって得られる金合金ボールを走
査電子顕微鏡で観察し、その外観、引巣の2つの観点か
ら評価した。
【0025】まず、外観については、ボール表面に酸化
物が生じる状態によって良否の判断を行った。 ○印:ボール表面が滑らか △印:ボール表面に微かに酸化物が認められる ×印:ボール表面に明らかに酸化物が認められる
【0026】引巣については、ボール底部に収縮孔、所
謂引け巣と言われる現象、の発生状況によって良否の判
断を行った。 ○印:全く認められない △印:僅かに認められる ×印:ハッキリと認められる
【0027】ワイヤーフローは、高速自動ボンダーで半
導体素子上の電極と外部リードとを接合し、薄形モール
ドの金型内にセットして封止用樹脂を注入した後、得ら
れたパッケージをX線で観察し、封止用樹脂によるボン
ディング線の歪み、即ち、直線接合からの最大湾曲距離
hと接合スパン距離kとを測定し、歪値(h/k×10
0)からワイヤーフローの良否を評価した。 ○印:歪値2%未満(薄形パッケージに適合する) △印:歪値2〜4% ×印:歪値5%以上
【0028】ループ変形は、ボンディング後の結線の最
偏位点と、半導体素子上の電極と外部リードとの接合点
との間を結ぶ仮想直線に対する前記最偏位点からの垂直
な仮想直線とが交わる点との間の距離、つまり直線接合
からの最大偏位距離、を精密投影機で(サンプルを投影
し、投影されたものから)測定し、50個の測定値の平
均値を求めた。この場合、実用的には直線接合からの最
大偏位距離が60μm以内であることが要求されること
から、60μm以内のものを可とし、それ以上のものを
不可とした。
【0029】結果から理解されるように、本発明に係る
実施例1〜7は、イットリウム、カルシウム、サマリウ
ム、ベリリウム、そしてゲルマニウムの各元素の配合比
率並びに各元素の総量、更には不可避不純物の添加量が
理想的であるため、最終線径が25μmφといった格段
に細い金合金細線であるにかかわらず、長スパン化に必
要な常温及び高温強度が高く、且つ、耐熱性も良好で、
ワイヤーループの変形が生じにくく、隣接するワイヤー
同士が不用意に接触する恐れがなく、また封止樹脂によ
るワイヤーフローの影響も無視することができ、且つボ
ール形状も良好であるため信頼性のある接合が可能とな
り、多ピン用デバイスのワイヤーボンディング線として
採用する場合、これに十分に対応できる。このように、
実施例1〜7に記載の範囲内であれば、実用上特段の不
都合は生じないと判断される。
【0030】ただ、好ましくは、カルシウム10〜30
重量ppm、イットリウム10〜40重量ppm、サマ
リウム10〜50重量ppm、ベリリウム3〜8重量p
pm、ゲルマニウム10〜40重量ppm、そしてこれ
ら添加元素の総量が40〜150重量ppmの範囲、残
部が不可避不純物である場合には、本発明の所期の目的
が理想的に達成される。
【0031】以上の本発明に対して、比較例1はカルシ
ウム、イットリウム、サマリウム、ベリリウム、ゲルマ
ニウムの総ての元素の配合量とそれらの総量が、また比
較例2ないし6は、それぞれ添加元素の一つの配合量が
許容限度よりも少ないため、常温、高温状態での抗張力
が十分に得られなかったり、また、他の元素との相乗作
用に欠け、耐熱性が劣り、ループ高さにバラツキが生じ
たり、ワイヤーフローが生じ、実用に供しえなかった。
【0032】そして比較例7ないし11は、それぞれ添
加元素の一つの配合量が許容限度を越えているために、
ボール表面に酸化被膜が形成されて、ボール形状に歪み
を生じたり、カルシウムやイットリウム、更にはサマリ
ウムが金の結晶粒界に析出して脆性を生じ、伸線加工性
を阻害したり、ボンディング時の再結晶による結晶粒界
破断をお越してネック切れを生じやすくなったりして、
実用に供しえなかった。また、比較例12は添加元素の
配合量は全て許容限度内にあるが、総量が許容限度を超
えているために、ボール形状に歪みを生じ、極小電極と
の接合の信頼性が低下して、実用に供しえなかった。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明は、以下の効果を奏する。格段に小さなボールで、ま
た、細い径(実施の形態レベルで25μmφ)の金合金
細線であっても、以上のように、常温及び高温引張強度
が共に優れ、且つ、耐熱性並びに常温での抗張力に優
れ、ループ垂れやループの変形を生じることがないか
ら、特に多ピン用デバイスのボンディング線として採用
する場合は、隣接するワイヤー同士が不用意に接触して
短絡を起こす心配がない。併せてループ高さのバラツキ
も極めて小さいから、製品の信頼性が高く、製品歩留り
を格段に高めることができる。さらに加えて、高い軟化
温度を有しているので、ボンディング時の結晶粗大化に
起因する脆化や、ボール形状の歪みも生じにくく、製品
の信頼性が一段と高く、且つ、高速自動ボンダーに十分
対応でき、実用に十分に供し得る。また、小ホール化並
びに細径化が果たされる結果、必然的にコストの低減が
可能になる。このように本発明による半導体素子用金合
金線は、産業利用上有用な特性を備える。
【0034】また、請求項2記載の発明は、以下の効果
を奏する。格段に小さなボールで、また、細い径(実施
の形態レベルで25μmφ)の金合金細線であっても、
以上のように、常温及び高温引張強度、耐熱性並びに常
温での抗張力、共に夫々が著しく優れ、ループ垂れやル
ープの変形を生じず、特に多ピン用デバイスのボンディ
ング線として採用する場合は、隣接するワイヤー同士が
不用意に接触して短絡を起こす心配が殆どなく、併せて
ループ高さのバラツキも極めて小さいから、製品の信頼
性が高く、製品歩留りを格段に高めることができるほ
か、高い軟化温度を有しているので、ボンディング時の
結晶粗大化に起因する脆化や、ボール形状の歪みも生じ
ず、製品の信頼性が格段に高く、且つ、高速自動ボンダ
ーに十二分対応でき、実用に十二分に供し得、併せてコ
スト低減が図れ、産業利用上の価値は多大である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高純度金にカルシウム5〜50重量pp
    m、イットリウム5〜50重量ppm、サマリウム3〜
    70重量ppm、ベリリウム2〜10重量ppm、ゲル
    マニウム5〜50重量ppmがそれぞれ添加され、これ
    ら添加元素の総量が20〜200重量ppmの範囲、残
    部が不可避不純物からなることを特徴とする半導体素子
    用金合金線。
  2. 【請求項2】 高純度金にカルシウム10〜30重量p
    pm 、イットリウム10〜40重量ppm 、サマリ
    ウム10〜50重量ppm 、ベリリウム3〜8重量p
    pm 、ゲルマニウム10〜40重量ppmがそれぞれ
    添加され、これら添加元素の総量が40〜150重量p
    pmの範囲、残部が不可避不純物からなることを特徴と
    する半導体素子用金合金線。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105803245A (zh) * 2016-04-15 2016-07-27 浙江佳博科技股份有限公司 一种高性能键合合金丝及其制备方法与应用

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