JPH11295875A - 図形データ発生装置 - Google Patents
図形データ発生装置Info
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- JPH11295875A JPH11295875A JP11586798A JP11586798A JPH11295875A JP H11295875 A JPH11295875 A JP H11295875A JP 11586798 A JP11586798 A JP 11586798A JP 11586798 A JP11586798 A JP 11586798A JP H11295875 A JPH11295875 A JP H11295875A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フオトマスクのパターン形成用の元図形デー
タから、ウエハへの転写形状を補正するための、光近接
効果補正用の補正図形データを発生させる装置で、処理
の際、扱うデータ量が膨大とならず、且つ、処理時間が
実用的となる処理装置を提供する。 【解決手段】 フォトマスクのパターンを形成するため
の設計データで、種々の図形情報から構成された、Ｘ−
Ｙ座標表現の図形データである元図形データ（設計デー
タとも言う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面
に表現される各図形の突出した角部に、光近接効果補正
用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正
方形からなる補正図形を発生させる図形データ発生装置
で、処理する入力図形データの座標をＸ方向、Ｙ方向に
所定の量だけ移動して配置する図形データ配置部と、図
形データ同志に論理演算を施す論理演算部を備えてい
る。
タから、ウエハへの転写形状を補正するための、光近接
効果補正用の補正図形データを発生させる装置で、処理
の際、扱うデータ量が膨大とならず、且つ、処理時間が
実用的となる処理装置を提供する。 【解決手段】 フォトマスクのパターンを形成するため
の設計データで、種々の図形情報から構成された、Ｘ−
Ｙ座標表現の図形データである元図形データ（設計デー
タとも言う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面
に表現される各図形の突出した角部に、光近接効果補正
用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正
方形からなる補正図形を発生させる図形データ発生装置
で、処理する入力図形データの座標をＸ方向、Ｙ方向に
所定の量だけ移動して配置する図形データ配置部と、図
形データ同志に論理演算を施す論理演算部を備えてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体設計データ
の処理分野に属し、半導体上の図形形状の微細化に伴う
設計データ補正処理技術分野に属する。更に、具体的に
は、ＬＳＩ等の半導体の回路製造に用いられるフオトマ
スクのパターンを作成するための露光描画装置に用いら
れる元図形データから、ウエハへの転写形状を補正する
ための、補正図形データを発生させる装置に関する。
の処理分野に属し、半導体上の図形形状の微細化に伴う
設計データ補正処理技術分野に属する。更に、具体的に
は、ＬＳＩ等の半導体の回路製造に用いられるフオトマ
スクのパターンを作成するための露光描画装置に用いら
れる元図形データから、ウエハへの転写形状を補正する
ための、補正図形データを発生させる装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子機器の高性能化と軽薄短小の
傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳＩには、ま
すます高集積化、高機能化が求められるようになってき
た。即ち、できるだけチップサイズを小さくして、高機
能を実現することがＡＳＩＣ等のＬＳＩには求められて
いる。上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回
路設計、レイアウト設計等を経て、フオトマスクパター
ン作製用のパターンを作製し、これを用いてフオトマス
クを作製した後、フオトマスクのパターンをウエハ上に
縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロ
セスを行うという長い工程を経て作製されるものであ
る。尚、フォトマスクのパターンをウエハ上に縮小投影
露光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクを
レチクルマスクとも言う。
傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳＩには、ま
すます高集積化、高機能化が求められるようになってき
た。即ち、できるだけチップサイズを小さくして、高機
能を実現することがＡＳＩＣ等のＬＳＩには求められて
いる。上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回
路設計、レイアウト設計等を経て、フオトマスクパター
ン作製用のパターンを作製し、これを用いてフオトマス
クを作製した後、フオトマスクのパターンをウエハ上に
縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロ
セスを行うという長い工程を経て作製されるものであ
る。尚、フォトマスクのパターンをウエハ上に縮小投影
露光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクを
レチクルマスクとも言う。
【０００３】フォトマスクのパターンをウエハ上に縮小
投影露光等により転写する際、光近接効果とよばれる露
光形状の歪みが発生する。これは、露光形状のサイズ
（ウエハ上の露光サイズ）が、露光光の波長に近づく、
あるいは光の波長よりも小さくなったときに、光の回折
現象により、フォトマスクのパターンの形状を忠実に露
光することができなく、ウエハ上に露光される露光形状
に歪みが発生するものである。フォトマスクのパターン
（光を透過させる部分の形状）が図１０（ａ）（イ）に
示すような形状をしている場合には、ウエハ上に形成さ
れるパターン形状は図１０（ａ）（ロ）のようになる。
このため、図１０（ａ）（イ）に示すような形状をウエ
ハ上に形成されるパターン形状として得たい場合には、
フォトマスクのパターン（光を透過させる部分の形状）
を図１０（ｂ）（イ）のように補正して、ウエハ上に形
成されるパターン形状を図１０（ｂ）（ロ）のようにす
る。このような補正を光近接効果補正と言う。
投影露光等により転写する際、光近接効果とよばれる露
光形状の歪みが発生する。これは、露光形状のサイズ
（ウエハ上の露光サイズ）が、露光光の波長に近づく、
あるいは光の波長よりも小さくなったときに、光の回折
現象により、フォトマスクのパターンの形状を忠実に露
光することができなく、ウエハ上に露光される露光形状
に歪みが発生するものである。フォトマスクのパターン
（光を透過させる部分の形状）が図１０（ａ）（イ）に
示すような形状をしている場合には、ウエハ上に形成さ
れるパターン形状は図１０（ａ）（ロ）のようになる。
このため、図１０（ａ）（イ）に示すような形状をウエ
ハ上に形成されるパターン形状として得たい場合には、
フォトマスクのパターン（光を透過させる部分の形状）
を図１０（ｂ）（イ）のように補正して、ウエハ上に形
成されるパターン形状を図１０（ｂ）（ロ）のようにす
る。このような補正を光近接効果補正と言う。
【０００４】以下、フォトマスクのパターンを形成する
ための図形データを、ここでは、元図形データあるいは
設計データと呼ばれ、種々の図形情報から構成されてい
る。従来の補正図形データ発生の方法の例を２つ、図
７、図８を用いて説明する。図７は第１の方法の処理装
置、および第２の方法の処理装置を示した概略構成図で
ある。いずれの方法の処理装置も元図形データ７１０か
ら図形の角を抽出し、補正図形を配置した補正図形デー
タ７７０を得るものである。第１の方法の処理装置は、
図７（ａ）に示すように、図形の外枠をベクタ表示する
図形外枠ベクタ化部７１１、突出した角部（以下凸角と
も言う）を抽出する図形角抽出部７１２、抽出された角
部に補正図形を配置する補正図形配置部７１３とを有す
る。第１の方法の処理を、図８（ａ）に示す（後述する
図５（ａ）に示す図形を示した）元図形データにより表
される図形１１５、１１６、１１７からなる図形に対
し、その突出した角部に補正図形を設ける場合を挙げて
簡単に説明する。先ず、図形外枠ベクタ化部７１１に
て、図８（ｂ）のように図形データの外枠をベクタ化す
る。次いで、図形角抽出部７１２により、ベクタの外積
を算出し、図８（ｃ）のように、凸角を検出する。次い
で、補正図形配置部７１３により、検出された凸角位置
に、図８（ｄ）のように、補正図形を配置して、補正図
形データ７７０を得る。
ための図形データを、ここでは、元図形データあるいは
設計データと呼ばれ、種々の図形情報から構成されてい
る。従来の補正図形データ発生の方法の例を２つ、図
７、図８を用いて説明する。図７は第１の方法の処理装
置、および第２の方法の処理装置を示した概略構成図で
ある。いずれの方法の処理装置も元図形データ７１０か
ら図形の角を抽出し、補正図形を配置した補正図形デー
タ７７０を得るものである。第１の方法の処理装置は、
図７（ａ）に示すように、図形の外枠をベクタ表示する
図形外枠ベクタ化部７１１、突出した角部（以下凸角と
も言う）を抽出する図形角抽出部７１２、抽出された角
部に補正図形を配置する補正図形配置部７１３とを有す
る。第１の方法の処理を、図８（ａ）に示す（後述する
図５（ａ）に示す図形を示した）元図形データにより表
される図形１１５、１１６、１１７からなる図形に対
し、その突出した角部に補正図形を設ける場合を挙げて
簡単に説明する。先ず、図形外枠ベクタ化部７１１に
て、図８（ｂ）のように図形データの外枠をベクタ化す
る。次いで、図形角抽出部７１２により、ベクタの外積
を算出し、図８（ｃ）のように、凸角を検出する。次い
で、補正図形配置部７１３により、検出された凸角位置
に、図８（ｄ）のように、補正図形を配置して、補正図
形データ７７０を得る。
【０００５】第２の方法の処理装置は、図７（ｂ）に示
すように、図形頂点座標登録部７２１、図形抽出部７２
２、補正図形配置部７２３から構成される。第２の方法
の処理を、図８（ａ）に示す（後述する図５（ａ）に示
す図形を示した）元図形データにより表される図形１１
３、１１４、１１５からなる図形に対し、その突出した
角部に補正図形を設ける場合を挙げて簡単に説明する。
先ず、図８（ｅ）に示すように、図形頂点座標登録部７
２１により元図形データにより表される図形の各頂点座
標を登録し、頂点座標で区切られる領域については、図
形の有無をｏｎ、ｏｆｆとして登録する。次いで、図形
抽出部７２２では、図８（ｆ）に示すように、各頂点の
うち、頂点が接する４領域の１つがｏｎであり、残りの
３領域がｏｆｆであれば、その頂点を元図形の凸角とし
て、凸角の位置を抽出し、補正図形配置部７２３によ
り、凸角位置に補正図形を配置して、補正図形データ７
７０を得る。
すように、図形頂点座標登録部７２１、図形抽出部７２
２、補正図形配置部７２３から構成される。第２の方法
の処理を、図８（ａ）に示す（後述する図５（ａ）に示
す図形を示した）元図形データにより表される図形１１
３、１１４、１１５からなる図形に対し、その突出した
角部に補正図形を設ける場合を挙げて簡単に説明する。
先ず、図８（ｅ）に示すように、図形頂点座標登録部７
２１により元図形データにより表される図形の各頂点座
標を登録し、頂点座標で区切られる領域については、図
形の有無をｏｎ、ｏｆｆとして登録する。次いで、図形
抽出部７２２では、図８（ｆ）に示すように、各頂点の
うち、頂点が接する４領域の１つがｏｎであり、残りの
３領域がｏｆｆであれば、その頂点を元図形の凸角とし
て、凸角の位置を抽出し、補正図形配置部７２３によ
り、凸角位置に補正図形を配置して、補正図形データ７
７０を得る。
【０００６】尚、例えば、図形が、図９（ａ）のよう
に、四角形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４であり、図形Ｆ１、
Ｆ２、Ｆ３はともに同じ大きさの四角形で、且つ、図９
（ｂ）に示すようにその間隔（送りピッチ）がＰ１で一
定であり、四角形Ｆ４のみが、他の四角形Ｆ１、Ｆ２、
Ｆ３とその大きさを異とする場合、元図形データとして
は、四角形Ｆ１とその配列情報（ピッチ情報、座標情
報、ピッチおくり回数情報等）、および四角形Ｆ４とそ
の配列情報を持たせ、図形Ｆ２、Ｆ３の情報は持たない
状態で、Ｆ１〜Ｆ４の４個の図形を表現しているのが一
般的である。即ち、図９（ｂ）のように、斜線部は、四
角形Ｆ１とその配列情報をもたせた図形データにより表
現される。しかしながら、上記、従来の第１の方法で
は、元図形の外枠を取り出す必要があるため、処理する
際の図形データとしては、図９（ａ）に示す図形Ｆ１、
Ｆ２、Ｆ３に対し、それぞれ図形情報と配列情報をもた
せた図形データとしておく必要があり、扱うデータ量が
多くなる。また、上記、従来の第２の方法では、全ての
頂点座標を取り出す必要があるため、図９（ａ）に示す
図形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３に対し、それぞれ図形情報と配列
情報をもたせた図形データとしておく必要があり、更
に、ｏｎ、ｏｆｆを設定する必要があり、扱うデータ量
が多くなる。従来の第１の方法、第２の方法とも、フォ
トマスク作製用の元図形データ全体について、この方法
にて補正図形を発生させる場合には、扱うデータ量が膨
大となり容量的に対応できない、あるいは処理時間がか
かり実用的でない等の問題があった。
に、四角形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４であり、図形Ｆ１、
Ｆ２、Ｆ３はともに同じ大きさの四角形で、且つ、図９
（ｂ）に示すようにその間隔（送りピッチ）がＰ１で一
定であり、四角形Ｆ４のみが、他の四角形Ｆ１、Ｆ２、
Ｆ３とその大きさを異とする場合、元図形データとして
は、四角形Ｆ１とその配列情報（ピッチ情報、座標情
報、ピッチおくり回数情報等）、および四角形Ｆ４とそ
の配列情報を持たせ、図形Ｆ２、Ｆ３の情報は持たない
状態で、Ｆ１〜Ｆ４の４個の図形を表現しているのが一
般的である。即ち、図９（ｂ）のように、斜線部は、四
角形Ｆ１とその配列情報をもたせた図形データにより表
現される。しかしながら、上記、従来の第１の方法で
は、元図形の外枠を取り出す必要があるため、処理する
際の図形データとしては、図９（ａ）に示す図形Ｆ１、
Ｆ２、Ｆ３に対し、それぞれ図形情報と配列情報をもた
せた図形データとしておく必要があり、扱うデータ量が
多くなる。また、上記、従来の第２の方法では、全ての
頂点座標を取り出す必要があるため、図９（ａ）に示す
図形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３に対し、それぞれ図形情報と配列
情報をもたせた図形データとしておく必要があり、更
に、ｏｎ、ｏｆｆを設定する必要があり、扱うデータ量
が多くなる。従来の第１の方法、第２の方法とも、フォ
トマスク作製用の元図形データ全体について、この方法
にて補正図形を発生させる場合には、扱うデータ量が膨
大となり容量的に対応できない、あるいは処理時間がか
かり実用的でない等の問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の、
フォトマスクのパターン形成用の元図形データから光近
接効果補正用の補正図形データを発生させる方法におい
ては、処理の際、扱うデータ量が膨大となり容量的に対
応できない、あるいは処理時間がかかり実用的でない等
の問題があり、その対応が求められていた。本発明は、
これに対応するもので、フオトマスクのパターンの形成
用の元図形データに対し、ウエハへの転写形状を補正す
るために、補正図形データを発生させる方法（これを光
近接効果補正と言う）で、処理の際、扱うデータ量が膨
大とならず、且つ、処理時間が実用的となる処理方法を
提供しようとするものである。
フォトマスクのパターン形成用の元図形データから光近
接効果補正用の補正図形データを発生させる方法におい
ては、処理の際、扱うデータ量が膨大となり容量的に対
応できない、あるいは処理時間がかかり実用的でない等
の問題があり、その対応が求められていた。本発明は、
これに対応するもので、フオトマスクのパターンの形成
用の元図形データに対し、ウエハへの転写形状を補正す
るために、補正図形データを発生させる方法（これを光
近接効果補正と言う）で、処理の際、扱うデータ量が膨
大とならず、且つ、処理時間が実用的となる処理方法を
提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の図形データ発生
装置は、フォトマスクのパターンを形成するための設計
データで、種々の図形情報から構成された、Ｘ−Ｙ座標
表現の図形データである元図形データ（設計データとも
言う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面に表現
される各図形の突出した角部に、光近接効果補正用のＸ
方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形か
らなる補正図形を発生させる図形データ発生装置であっ
て、元図形データを、あるいはこれを処理した処理デー
タを、入力図形データとして用い、入力図形データの座
標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした
第１の図形データを作成し、入力図形データの座標を−
Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第２の
図形データを作成し、入力図形データの座標を＋Ｘ方
向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第３の図形
データを作成し、入力図形データの座標を−Ｘ方向、＋
Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第４の図形データ
を作成する第１の図形データ配置部と、第１の図形デー
タ配置部により得られる第１の図形データと第２の図形
データの図形論理演算の論理和処理を施して第５の図形
データを作成し、第１の図形データ配置部により得られ
る第３の図形データと第４の図形データの図形論理演算
の論理和処理を施して第６の図形データを作成し、更
に、第５の図形データと第６の図形データの図形論理演
算の排他的論理和処理を施して、Ｘ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅
Ｌの１辺の長さをＬとする正方形からなる、光近接効果
補正用の補正図形を発生させる第１の論理演算部とを備
えたものであることを特徴とするものである。そして、
上記において、元図形データにより表される各図形に対
しての、補正図形の発生位置を調整するために、元図形
データにより表される各図形を拡大処理ないし、縮小処
理した処理データを得るための演算処理を行う前処理部
を備えていることを特徴とするものである。そして、上
記前処理部が、元図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方
向に、所定の距離Ｌ１移動した配置とした第７の図形デ
ータを作成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方
向に、距離Ｌ１移動した配置とした第８の図形データを
作成し、元図形データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、
距離Ｌ１移動した配置とした第９の図形データを作成
し、元図形データの座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離
Ｌ１移動した配置とした第１０の図形データを作成する
第２の図形データ配置部と、第２の図形データ配置部に
より得られる第７の図形データ、第８の図形データ、第
９の図形データ、第１０の図形データの図形論理演算の
論理和処理を施す第２の論理演算部とを備えたものであ
ることを特徴とするものである。そしてまた、上記前処
理部が、元図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、
所定の距離Ｌ２移動した配置とした第１１の図形データ
を作成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向
に、距離Ｌ２移動した配置とした第１２の図形データを
作成し、元図形データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、
距離Ｌ２移動した配置とした第１３の図形データを作成
し、元図形データの座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離
Ｌ２移動した配置とした第１４の図形データを作成する
第３の図形データ配置部と、第３の図形データ配置部に
より得られる第１１の図形データ、第１２の図形デー
タ、第１３の図形データ、第１４の図形データの図形論
理演算の論理積処理を施す第３の論理演算部とを備えた
ものであることを特徴とするものである。
装置は、フォトマスクのパターンを形成するための設計
データで、種々の図形情報から構成された、Ｘ−Ｙ座標
表現の図形データである元図形データ（設計データとも
言う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面に表現
される各図形の突出した角部に、光近接効果補正用のＸ
方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形か
らなる補正図形を発生させる図形データ発生装置であっ
て、元図形データを、あるいはこれを処理した処理デー
タを、入力図形データとして用い、入力図形データの座
標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした
第１の図形データを作成し、入力図形データの座標を−
Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第２の
図形データを作成し、入力図形データの座標を＋Ｘ方
向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第３の図形
データを作成し、入力図形データの座標を−Ｘ方向、＋
Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第４の図形データ
を作成する第１の図形データ配置部と、第１の図形デー
タ配置部により得られる第１の図形データと第２の図形
データの図形論理演算の論理和処理を施して第５の図形
データを作成し、第１の図形データ配置部により得られ
る第３の図形データと第４の図形データの図形論理演算
の論理和処理を施して第６の図形データを作成し、更
に、第５の図形データと第６の図形データの図形論理演
算の排他的論理和処理を施して、Ｘ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅
Ｌの１辺の長さをＬとする正方形からなる、光近接効果
補正用の補正図形を発生させる第１の論理演算部とを備
えたものであることを特徴とするものである。そして、
上記において、元図形データにより表される各図形に対
しての、補正図形の発生位置を調整するために、元図形
データにより表される各図形を拡大処理ないし、縮小処
理した処理データを得るための演算処理を行う前処理部
を備えていることを特徴とするものである。そして、上
記前処理部が、元図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方
向に、所定の距離Ｌ１移動した配置とした第７の図形デ
ータを作成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方
向に、距離Ｌ１移動した配置とした第８の図形データを
作成し、元図形データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、
距離Ｌ１移動した配置とした第９の図形データを作成
し、元図形データの座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離
Ｌ１移動した配置とした第１０の図形データを作成する
第２の図形データ配置部と、第２の図形データ配置部に
より得られる第７の図形データ、第８の図形データ、第
９の図形データ、第１０の図形データの図形論理演算の
論理和処理を施す第２の論理演算部とを備えたものであ
ることを特徴とするものである。そしてまた、上記前処
理部が、元図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、
所定の距離Ｌ２移動した配置とした第１１の図形データ
を作成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向
に、距離Ｌ２移動した配置とした第１２の図形データを
作成し、元図形データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、
距離Ｌ２移動した配置とした第１３の図形データを作成
し、元図形データの座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離
Ｌ２移動した配置とした第１４の図形データを作成する
第３の図形データ配置部と、第３の図形データ配置部に
より得られる第１１の図形データ、第１２の図形デー
タ、第１３の図形データ、第１４の図形データの図形論
理演算の論理積処理を施す第３の論理演算部とを備えた
ものであることを特徴とするものである。
【０００９】
【作用】本発明の図形データ発生装置は、このような構
成にすることにより、フオトマスクのパターンの形成の
ための元図形データから、ウエハへの転写形状を補正す
るための、光近接効果補正用の補正図形データを発生さ
せる処理において、扱うデータ量が膨大とならず、且
つ、処理時間が実用的となる処理の提供を可能としてい
る。詳しくは、フォトマスクのパターンを形成するため
の設計データである元図形データ（設計データとも言
う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面に表現さ
れる各図形の突出した角部に、光近接効果補正用のＸ方
向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形から
なる補正図形を発生させることを実用レベルで可能とし
ている。具体的には、フォトマスクのパターンを形成す
るための設計データで、種々の図形情報から構成され
た、Ｘ−Ｙ直交座標交表現の図形データである元図形デ
ータ（設計データとも言う）を用い、元図形データによ
りＸ−Ｙ座標面に表現される各図形の突出した角部に、
光近接効果補正用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長
さをＬとする正方形からなる補正図形を発生させる図形
データ発生装置であって、元図形データを、あるいはこ
れを処理した処理データを、入力図形データとして用
い、入力図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ
／２移動した配置とした第１の図形データを作成し、入
力図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移
動した配置とした第２の図形データを作成し、入力図形
データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した
配置とした第３の図形データを作成し、入力図形データ
の座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置と
した第４の図形データを作成する第１の図形データ配置
部と、第１の図形データ配置部により得られる第１の図
形データと第２の図形データの図形論理演算の論理和処
理を施して第５の図形データを作成し、第１の図形デー
タ配置部により得られる第３の図形データと第４の図形
データの図形論理演算の論理和処理を施して第６の図形
データを作成し、更に、第５の図形データと第６の図形
データの図形論理演算の排他的論理和処理を施して、Ｘ
方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形か
らなる、光近接効果補正用の補正図形を発生させる第１
の論理演算部とを備えたものであることにより、これを
達成している。そして、これに加え、元図形データによ
り表される各図形を拡大処理ないし、縮小処理した処理
データを得るための演算処理を行う前処理部を備えてい
ることにより、元図形データにより表される各図形に対
しての、補正図形の発生位置を調整できるものとしてい
る。
成にすることにより、フオトマスクのパターンの形成の
ための元図形データから、ウエハへの転写形状を補正す
るための、光近接効果補正用の補正図形データを発生さ
せる処理において、扱うデータ量が膨大とならず、且
つ、処理時間が実用的となる処理の提供を可能としてい
る。詳しくは、フォトマスクのパターンを形成するため
の設計データである元図形データ（設計データとも言
う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面に表現さ
れる各図形の突出した角部に、光近接効果補正用のＸ方
向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形から
なる補正図形を発生させることを実用レベルで可能とし
ている。具体的には、フォトマスクのパターンを形成す
るための設計データで、種々の図形情報から構成され
た、Ｘ−Ｙ直交座標交表現の図形データである元図形デ
ータ（設計データとも言う）を用い、元図形データによ
りＸ−Ｙ座標面に表現される各図形の突出した角部に、
光近接効果補正用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長
さをＬとする正方形からなる補正図形を発生させる図形
データ発生装置であって、元図形データを、あるいはこ
れを処理した処理データを、入力図形データとして用
い、入力図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ
／２移動した配置とした第１の図形データを作成し、入
力図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移
動した配置とした第２の図形データを作成し、入力図形
データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した
配置とした第３の図形データを作成し、入力図形データ
の座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置と
した第４の図形データを作成する第１の図形データ配置
部と、第１の図形データ配置部により得られる第１の図
形データと第２の図形データの図形論理演算の論理和処
理を施して第５の図形データを作成し、第１の図形デー
タ配置部により得られる第３の図形データと第４の図形
データの図形論理演算の論理和処理を施して第６の図形
データを作成し、更に、第５の図形データと第６の図形
データの図形論理演算の排他的論理和処理を施して、Ｘ
方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形か
らなる、光近接効果補正用の補正図形を発生させる第１
の論理演算部とを備えたものであることにより、これを
達成している。そして、これに加え、元図形データによ
り表される各図形を拡大処理ないし、縮小処理した処理
データを得るための演算処理を行う前処理部を備えてい
ることにより、元図形データにより表される各図形に対
しての、補正図形の発生位置を調整できるものとしてい
る。
【００１０】更に具体的には、前処理部が、元図形デー
タの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、所定の距離Ｌ１移動
した配置とした第７の図形データを作成し、元図形デー
タの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配
置とした第８の図形データを作成し、元図形データの座
標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配置とし
た第９の図形データを作成し、元図形データの座標を−
Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配置とした第１
０の図形データを作成する第２の図形データ配置部と、
第２の図形データ配置部により得られる第７の図形デー
タ、第８の図形データ、第９の図形データ、第１０の図
形データの図形論理演算の論理和処理を施す第２の論理
演算部とを備えたものである。あるいは、元図形データ
の座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離２移動した配置と
した第１１の図形データを作成し、元図形データの座標
を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離２移動した配置とした第
１２の図形データを作成し、元図形データの座標を−Ｘ
方向、＋Ｙ方向に、距離２移動した配置とした第１３の
図形データを作成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、
−Ｙ方向に、距離１移動した配置とした第１４の図形デ
ータを作成する第３の図形データ配置部と、第３の図形
データ配置部により得られる第１１の図形データ、第１
２の図形データ、第１３の図形データ、第１４の図形デ
ータの図形論理演算の論理積処理を施す第３の論理演算
部を備えたものである。
タの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、所定の距離Ｌ１移動
した配置とした第７の図形データを作成し、元図形デー
タの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配
置とした第８の図形データを作成し、元図形データの座
標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配置とし
た第９の図形データを作成し、元図形データの座標を−
Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配置とした第１
０の図形データを作成する第２の図形データ配置部と、
第２の図形データ配置部により得られる第７の図形デー
タ、第８の図形データ、第９の図形データ、第１０の図
形データの図形論理演算の論理和処理を施す第２の論理
演算部とを備えたものである。あるいは、元図形データ
の座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離２移動した配置と
した第１１の図形データを作成し、元図形データの座標
を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離２移動した配置とした第
１２の図形データを作成し、元図形データの座標を−Ｘ
方向、＋Ｙ方向に、距離２移動した配置とした第１３の
図形データを作成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、
−Ｙ方向に、距離１移動した配置とした第１４の図形デ
ータを作成する第３の図形データ配置部と、第３の図形
データ配置部により得られる第１１の図形データ、第１
２の図形データ、第１３の図形データ、第１４の図形デ
ータの図形論理演算の論理積処理を施す第３の論理演算
部を備えたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を挙げて図に
基づいて説明する。図１は本発明の図形データ発生装置
の実施の形態の１例の概略構成図で、図２は図形データ
により表される図形のＸ方向、Ｙ方向移動配置を説明す
るための図で、図３は図形データにより表される図形の
図形論理演算を説明するための図で、図４は前処理部の
構成を説明するための図で、図５は図形論理演算による
補正図形の発生を説明するための図で、図６は前処理部
による補正図形の発生位置変化を説明するための図であ
る。図１〜図６中、１００は図形データ発生装置、１１
０は元図形データ、１１１、１１１Ａ、１１２、１１２
Ａ、１１５、１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃ、１１５
Ｄ、１１６、１１６Ａ、１１６Ｂ、１１６Ｃ、１１６
Ｄ、１１７、１１７Ａ、１１７Ｂ、１１７Ｃ、１１７Ｄ
は図形、１２０は入力データ、１３０は第１の図形デー
タ配置部、１３１は＋Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置処理、
１３２は−Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置処理、１３３は＋
Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置処理、１３４は−Ｘ方向、＋
Ｙ方向移動配置処理、１４１、１４２、１４３、１４４
は図形データ、１５０は第１の論理演算部、１５１、１
５２は論理和処理部、１５５、１５６は図形データ、１
６０は排他的論理処理、１６５は図形データ、１７０は
補助図形データ、１７１、１７２、１７３は補助図形、
２００は前処理部、３００は後処理部である。図１に示
す図形データ発生装置１００は、フォトマスクのパター
ンを形成するための設計データで、種々の図形情報から
構成された、Ｘ−Ｙ直交座標表現の図形データである元
図形データ（設計データとも言う）を用い、元図形デー
タによりＸ−Ｙ座標面に表現される各図形の突出した角
部に、光近接効果補正用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１
辺を所望の長さをＬとする正方形からなる補正図形を発
生させる図形データ発生装置で、元図形データにより表
される各図形に対しての、補正図形の発生位置を調整す
るために、元図形データにより表される各図形を拡大処
理ないし、縮小処理した処理データを得るための演算処
理を行う前処理部を備えているものである。
基づいて説明する。図１は本発明の図形データ発生装置
の実施の形態の１例の概略構成図で、図２は図形データ
により表される図形のＸ方向、Ｙ方向移動配置を説明す
るための図で、図３は図形データにより表される図形の
図形論理演算を説明するための図で、図４は前処理部の
構成を説明するための図で、図５は図形論理演算による
補正図形の発生を説明するための図で、図６は前処理部
による補正図形の発生位置変化を説明するための図であ
る。図１〜図６中、１００は図形データ発生装置、１１
０は元図形データ、１１１、１１１Ａ、１１２、１１２
Ａ、１１５、１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃ、１１５
Ｄ、１１６、１１６Ａ、１１６Ｂ、１１６Ｃ、１１６
Ｄ、１１７、１１７Ａ、１１７Ｂ、１１７Ｃ、１１７Ｄ
は図形、１２０は入力データ、１３０は第１の図形デー
タ配置部、１３１は＋Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置処理、
１３２は−Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置処理、１３３は＋
Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置処理、１３４は−Ｘ方向、＋
Ｙ方向移動配置処理、１４１、１４２、１４３、１４４
は図形データ、１５０は第１の論理演算部、１５１、１
５２は論理和処理部、１５５、１５６は図形データ、１
６０は排他的論理処理、１６５は図形データ、１７０は
補助図形データ、１７１、１７２、１７３は補助図形、
２００は前処理部、３００は後処理部である。図１に示
す図形データ発生装置１００は、フォトマスクのパター
ンを形成するための設計データで、種々の図形情報から
構成された、Ｘ−Ｙ直交座標表現の図形データである元
図形データ（設計データとも言う）を用い、元図形デー
タによりＸ−Ｙ座標面に表現される各図形の突出した角
部に、光近接効果補正用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１
辺を所望の長さをＬとする正方形からなる補正図形を発
生させる図形データ発生装置で、元図形データにより表
される各図形に対しての、補正図形の発生位置を調整す
るために、元図形データにより表される各図形を拡大処
理ないし、縮小処理した処理データを得るための演算処
理を行う前処理部を備えているものである。
【００１２】そして、入力図形データ１２０に対し、図
形移動して配置させて得られる、図形データを用い、演
算処理を施すことにより、補正図形データを発生させる
もので、図形移動して配置された図形データを得るため
の第１の図形データ移動配置部１３０と、第１の図形デ
ータ移動配置部１３０により得られた図形データ（１４
１〜１４４）に対して演算処理を施すための第１の演算
処理部１５０とを備えたものである。
形移動して配置させて得られる、図形データを用い、演
算処理を施すことにより、補正図形データを発生させる
もので、図形移動して配置された図形データを得るため
の第１の図形データ移動配置部１３０と、第１の図形デ
ータ移動配置部１３０により得られた図形データ（１４
１〜１４４）に対して演算処理を施すための第１の演算
処理部１５０とを備えたものである。
【００１３】第１の図形データ配置部１３０では、入力
される入力図形データ１２０に対し、発生させる所望一
辺サイズＬの正方形からなる補正図形に対応した、Ｌ／
２の長さ分だけ、それぞれ、Ｘ、Ｙの各方向（＋または
−方向）に図形を移動して配置させた、図形データ（１
４１〜１４４）を得る。図形データ１４１は、入力図形
データ１２０に対し、＋Ｘ方向、＋Ｙ方向にそれぞれ、
Ｌ／２だけ、移動させた図形データである。図形データ
１４２は、入力図形データ１２０に対し、−Ｘ方向、−
Ｙ方向にそれぞれ、Ｌ／２だけ、移動させた図形データ
である。図形データ１４３は、入力図形データ１２０に
対し、＋Ｘ方向、−Ｙ方向にそれぞれ、Ｌ／２だけ、移
動させた図形データである。図形データ１４４は、入力
図形データ１２０に対し、−Ｘ方向、＋Ｙ方向にそれぞ
れ、Ｌ／２だけ、移動させた図形データである。具体的
に、図２に基づいて、第１の図形データ配置部１３０の
処理を説明する。尚、図２（ａ）は移動前の図形１１
１、１１２を表したもので、ｘ１、ｙ１だけ、＋Ｘ方
向、＋Ｙ方向へ移動させた図形は、それぞれ、図２
（ｂ）に示す、図形１１１Ａ、１１２Ａのようになる。
される入力図形データ１２０に対し、発生させる所望一
辺サイズＬの正方形からなる補正図形に対応した、Ｌ／
２の長さ分だけ、それぞれ、Ｘ、Ｙの各方向（＋または
−方向）に図形を移動して配置させた、図形データ（１
４１〜１４４）を得る。図形データ１４１は、入力図形
データ１２０に対し、＋Ｘ方向、＋Ｙ方向にそれぞれ、
Ｌ／２だけ、移動させた図形データである。図形データ
１４２は、入力図形データ１２０に対し、−Ｘ方向、−
Ｙ方向にそれぞれ、Ｌ／２だけ、移動させた図形データ
である。図形データ１４３は、入力図形データ１２０に
対し、＋Ｘ方向、−Ｙ方向にそれぞれ、Ｌ／２だけ、移
動させた図形データである。図形データ１４４は、入力
図形データ１２０に対し、−Ｘ方向、＋Ｙ方向にそれぞ
れ、Ｌ／２だけ、移動させた図形データである。具体的
に、図２に基づいて、第１の図形データ配置部１３０の
処理を説明する。尚、図２（ａ）は移動前の図形１１
１、１１２を表したもので、ｘ１、ｙ１だけ、＋Ｘ方
向、＋Ｙ方向へ移動させた図形は、それぞれ、図２
（ｂ）に示す、図形１１１Ａ、１１２Ａのようになる。
【００１４】第１の論理演算部１５０では、図形データ
１４１と図形データ１４２とを論理和処理１５１して、
図形データ１５５を得る。また、図形データ１４３と図
形データ１４４とを論理和処理１５２して、図形データ
１５６を得る。そして、得られた図形データ１５５と図
形データ１５６とを排他的論理和処理１６０して、図形
データ１６５を得る。ここで、簡単に、図形データによ
り表される図形の論理演算処理を、図３に基づいて簡単
に説明しておく。図３（ａ）に示すように、四角形の図
形Ａ、図形Ｂが表される場合、これに対応する、図形Ａ
と図形Ｂの論理積、図形Ａと図形Ｂの論理和、図形Ａと
図形Ｂの排他的論理和、図形Ｂの反転（Ｉｎｖｅｒｓ
ｅ）は、それぞれ、図３（ｂ）、図３（ｃ）、図３
（ｄ）の黒部として表される。実際の処理内容について
は、既に広く知られており、ここでは省略する。
１４１と図形データ１４２とを論理和処理１５１して、
図形データ１５５を得る。また、図形データ１４３と図
形データ１４４とを論理和処理１５２して、図形データ
１５６を得る。そして、得られた図形データ１５５と図
形データ１５６とを排他的論理和処理１６０して、図形
データ１６５を得る。ここで、簡単に、図形データによ
り表される図形の論理演算処理を、図３に基づいて簡単
に説明しておく。図３（ａ）に示すように、四角形の図
形Ａ、図形Ｂが表される場合、これに対応する、図形Ａ
と図形Ｂの論理積、図形Ａと図形Ｂの論理和、図形Ａと
図形Ｂの排他的論理和、図形Ｂの反転（Ｉｎｖｅｒｓ
ｅ）は、それぞれ、図３（ｂ）、図３（ｃ）、図３
（ｄ）の黒部として表される。実際の処理内容について
は、既に広く知られており、ここでは省略する。
【００１５】このような論理演算を用いて、図１に示す
図形データ発生装置１００にて、元図形データにより表
される図形の突出した角部に、一辺の長さをＬとする正
方形の補正図形が発生できることを、図５に具体例を挙
げて説明しておく。簡単のため、入力図形データ１２０
が表す図形が、四角形からなる図形１１３、１１４、１
１５のみである場合について、図１、図５に基づいて説
明する。入力図形データ１２０を、＋Ｘ方向、＋Ｙ方向
にそれぞれＬ／２だけずらして、配置する（１３１の処
理に相当）と、得られる図形データ１４１の、図形１１
３、１１４、１１５に対応する図形は図２（ｂ）の、１
１３Ａ、１１４Ａ、１１５Ａのようになり、入力図形デ
ータ１２０を、−Ｘ方向、−Ｙ方向にそれぞれＬ／２だ
けずらして、配置する（１３２の処理に相当）と、得ら
れる図形データ１４２の、図形１１３、１１４、１１５
に対応する図形は図５（ｂ）の、１１３Ｂ、１１４Ｂ、
１１５Ｂのようになり、図形データ１４１と図形データ
１４２との論理和処理１５１を行って得られた図形デー
タ１５５が表す図形は図５（ｂ）の斜線部となる。同様
に、入力図形データ１２０を、＋Ｘ方向、−Ｙ方向にそ
れぞれＬ／２だけずらして、配置する（１３３の処理に
相当）と、得られる図形データ１４３の、図形１１３、
１１４、１１５に対応する図形は図５（ｃ）の、１１３
Ｄ、１１４Ｄ、１１５Ｄのようになり、入力図形データ
１２０を、−Ｘ方向、＋Ｙ方向にそれぞれＬ／２だけず
らして、配置する（１３４の処理に相当）と、得られる
図形データ１４４の図形１１３、１１４、１１５に対応
する図形は図５（Ｃ）の、１１３Ｃ、１１４Ｃ、１１５
Ｃのようになり、図形データ１４３と図形データ１４４
との論理和処理１５２を行って得られた図形データ１５
６が表す図形は図５（ｃ）の斜線部となる。これより、
図５（ｂ）に示す斜線領部と、図５（ｃ）に示す斜線部
との排他的論理和処理１６０を行い、図５（ｄ）のよう
になり、結局、角部に１辺の長さをＬとする正方形の補
助図形１７１を発生させることができる。
図形データ発生装置１００にて、元図形データにより表
される図形の突出した角部に、一辺の長さをＬとする正
方形の補正図形が発生できることを、図５に具体例を挙
げて説明しておく。簡単のため、入力図形データ１２０
が表す図形が、四角形からなる図形１１３、１１４、１
１５のみである場合について、図１、図５に基づいて説
明する。入力図形データ１２０を、＋Ｘ方向、＋Ｙ方向
にそれぞれＬ／２だけずらして、配置する（１３１の処
理に相当）と、得られる図形データ１４１の、図形１１
３、１１４、１１５に対応する図形は図２（ｂ）の、１
１３Ａ、１１４Ａ、１１５Ａのようになり、入力図形デ
ータ１２０を、−Ｘ方向、−Ｙ方向にそれぞれＬ／２だ
けずらして、配置する（１３２の処理に相当）と、得ら
れる図形データ１４２の、図形１１３、１１４、１１５
に対応する図形は図５（ｂ）の、１１３Ｂ、１１４Ｂ、
１１５Ｂのようになり、図形データ１４１と図形データ
１４２との論理和処理１５１を行って得られた図形デー
タ１５５が表す図形は図５（ｂ）の斜線部となる。同様
に、入力図形データ１２０を、＋Ｘ方向、−Ｙ方向にそ
れぞれＬ／２だけずらして、配置する（１３３の処理に
相当）と、得られる図形データ１４３の、図形１１３、
１１４、１１５に対応する図形は図５（ｃ）の、１１３
Ｄ、１１４Ｄ、１１５Ｄのようになり、入力図形データ
１２０を、−Ｘ方向、＋Ｙ方向にそれぞれＬ／２だけず
らして、配置する（１３４の処理に相当）と、得られる
図形データ１４４の図形１１３、１１４、１１５に対応
する図形は図５（Ｃ）の、１１３Ｃ、１１４Ｃ、１１５
Ｃのようになり、図形データ１４３と図形データ１４４
との論理和処理１５２を行って得られた図形データ１５
６が表す図形は図５（ｃ）の斜線部となる。これより、
図５（ｂ）に示す斜線領部と、図５（ｃ）に示す斜線部
との排他的論理和処理１６０を行い、図５（ｄ）のよう
になり、結局、角部に１辺の長さをＬとする正方形の補
助図形１７１を発生させることができる。
【００１６】前処理部は、前述のとおり、補正図形の発
生位置を調整するために、元図形データにより表される
各図形を拡大処理ないし、縮小処理するものであるが、
図４に基づいて、更に説明する。前処理部にも、元図形
データを、＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に所望の距離Ｌ１だけ、
−Ｘ方向、−Ｙ方向に所定の距離Ｌ１だけ、＋Ｘ方向、
−Ｙ方向に所定の距離Ｌ１だけ、−Ｘ方向、＋Ｙ方向に
所定の距離Ｌ１だけ、それぞれ移動させて配置する移動
配置処理２１１、２１２、２１３、２１４を行う、第２
の図形データ配置部２１０と、これらの処理により、そ
れぞれ、得られた図形データ２２１、２２２、２２３、
２２４に対して、論理和処理を行う第２の論理演算部２
３０と、これらの処理により、それぞれ、得られた図形
データ２２１、２２２、２２３、２２４に対して、論理
積処理を行う第３の論理演算部２３５とを有するもので
ある。第２の論理演算部２３０による論理和処理２３１
により、元図形データを片側Ｌ１だけ、拡大した図形デ
ータ２４１を得ることができ、第２の論理演算部２３５
による論理積処理２３６により、元図形データを片側Ｌ
１だけ、縮小した図形データ２４２を得ることができ
る。これらの図形データ２４１ないし図形データ２４２
を、図１に示す入力図形データとして用い、補助図形デ
ータ１７０を発生させるのである。勿論、拡大した図形
データ２４１を得るための拡大量と、縮小した図形２４
２を得るための縮小量を同じくする必要はない。図４に
示す前処理部では、拡大量、縮小量をそれぞれ独立に指
定できる。ここでは、論理和処理２３１を行うための、
図形データを得る第２の図形データ配置部２１０を、論
理和処理２３６を行うための、図形データを得る図形デ
ータ配置部として用いているが、第２の図形データ配置
部２１０とは別に、第３の図形データ配置部を設け、そ
れぞれの論理演算に対して、別の図形データ配置部を用
いても良い。
生位置を調整するために、元図形データにより表される
各図形を拡大処理ないし、縮小処理するものであるが、
図４に基づいて、更に説明する。前処理部にも、元図形
データを、＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に所望の距離Ｌ１だけ、
−Ｘ方向、−Ｙ方向に所定の距離Ｌ１だけ、＋Ｘ方向、
−Ｙ方向に所定の距離Ｌ１だけ、−Ｘ方向、＋Ｙ方向に
所定の距離Ｌ１だけ、それぞれ移動させて配置する移動
配置処理２１１、２１２、２１３、２１４を行う、第２
の図形データ配置部２１０と、これらの処理により、そ
れぞれ、得られた図形データ２２１、２２２、２２３、
２２４に対して、論理和処理を行う第２の論理演算部２
３０と、これらの処理により、それぞれ、得られた図形
データ２２１、２２２、２２３、２２４に対して、論理
積処理を行う第３の論理演算部２３５とを有するもので
ある。第２の論理演算部２３０による論理和処理２３１
により、元図形データを片側Ｌ１だけ、拡大した図形デ
ータ２４１を得ることができ、第２の論理演算部２３５
による論理積処理２３６により、元図形データを片側Ｌ
１だけ、縮小した図形データ２４２を得ることができ
る。これらの図形データ２４１ないし図形データ２４２
を、図１に示す入力図形データとして用い、補助図形デ
ータ１７０を発生させるのである。勿論、拡大した図形
データ２４１を得るための拡大量と、縮小した図形２４
２を得るための縮小量を同じくする必要はない。図４に
示す前処理部では、拡大量、縮小量をそれぞれ独立に指
定できる。ここでは、論理和処理２３１を行うための、
図形データを得る第２の図形データ配置部２１０を、論
理和処理２３６を行うための、図形データを得る図形デ
ータ配置部として用いているが、第２の図形データ配置
部２１０とは別に、第３の図形データ配置部を設け、そ
れぞれの論理演算に対して、別の図形データ配置部を用
いても良い。
【００１７】次に、前処理部による元図形データにより
表される図形の縮小、拡大を、図６により、具体的例を
挙げて説明しておく。図６（ａ）は元図形データにより
表される図形１１７、１１８、１１９を示したものであ
る。ここでは、説明を分かり易くするため、元図形デー
タにより表される図形１１７、１１８、１１９は、それ
ぞれ、図５にて説明した場合の図形１１３、１１４、１
１５と同じ図形としておく。元図形データを＋Ｘ方向、
＋Ｙ方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置して、得
られる図形データと、−Ｘ方向、−Ｙ方向にＬ１／２だ
けそれぞれ移動して配置して、元図形データを＋Ｘ方
向、−Ｙ方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置し
て、得られる図形データと、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、にＬ
１／２だけそれぞれ移動して配置して、これらを重ねて
表示すると、概略図６（ｂ）のようになる。したがっ
て、元図形データを＋Ｘ方向、＋Ｙ方向にＬ１／２だけ
それぞれ移動して配置して、得られる図形データと、−
Ｘ方向、−Ｙ方向、にＬ１／２だけそれぞれ移動して配
置して、得られる図形データと、＋Ｘ方向、−Ｙ方向に
Ｌ１／２だけそれぞれ移動して配置して、得られる図形
データと、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、にＬ１／２だけそれぞ
れ移動して配置して得られる図形データとの論理和によ
り、得られる図形データにより表される図形は、概略図
６（ｃ）のようになる。図６（ｃ）示す図形は、図６
（ａ）に示す図形を、その位置を変えずに、Ｘ方向、Ｙ
方向に幅Ｌ１だけ拡大処理したもので、その補助図形１
７２は、図５に示した処理と同様にして、図６（ｄ）の
ように配置して発生される。尚、図６（ｄ）に示す正方
形の補助図形１７２の一辺ｌ１とＬ１とは、Ｌ１＜ｌ１
の関係である。また、、元図形データを＋Ｘ方向、＋Ｙ
方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置して、得られ
る図形データと、−Ｘ方向、−Ｙ方向、にＬ１／２だけ
それぞれ移動して配置して、得られる図形データと、＋
Ｘ方向、−Ｙ方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置
して、得られる図形データと、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、に
Ｌ１／２だけそれぞれ移動して配置して得られる図形デ
ータとの論理積により、得られる図形データにより表さ
れる図形は、概略図６（ｅ）のようになる。図６（ｅ）
示す図形は、図６（ａ）に示す図形を、その位置を変え
ずに、Ｘ方向、Ｙ方向に幅Ｌ１だけ縮小処理したもの
で、その補助図形１７３は、図５に示した処理と同様に
して、図６（ｆ）のように配置して発生される。尚、図
６（ｆ）に示す正方形の補助図形１７３の一辺ｌ２とＬ
１とは、Ｌ２＜ｌ１の関係である。
表される図形の縮小、拡大を、図６により、具体的例を
挙げて説明しておく。図６（ａ）は元図形データにより
表される図形１１７、１１８、１１９を示したものであ
る。ここでは、説明を分かり易くするため、元図形デー
タにより表される図形１１７、１１８、１１９は、それ
ぞれ、図５にて説明した場合の図形１１３、１１４、１
１５と同じ図形としておく。元図形データを＋Ｘ方向、
＋Ｙ方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置して、得
られる図形データと、−Ｘ方向、−Ｙ方向にＬ１／２だ
けそれぞれ移動して配置して、元図形データを＋Ｘ方
向、−Ｙ方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置し
て、得られる図形データと、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、にＬ
１／２だけそれぞれ移動して配置して、これらを重ねて
表示すると、概略図６（ｂ）のようになる。したがっ
て、元図形データを＋Ｘ方向、＋Ｙ方向にＬ１／２だけ
それぞれ移動して配置して、得られる図形データと、−
Ｘ方向、−Ｙ方向、にＬ１／２だけそれぞれ移動して配
置して、得られる図形データと、＋Ｘ方向、−Ｙ方向に
Ｌ１／２だけそれぞれ移動して配置して、得られる図形
データと、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、にＬ１／２だけそれぞ
れ移動して配置して得られる図形データとの論理和によ
り、得られる図形データにより表される図形は、概略図
６（ｃ）のようになる。図６（ｃ）示す図形は、図６
（ａ）に示す図形を、その位置を変えずに、Ｘ方向、Ｙ
方向に幅Ｌ１だけ拡大処理したもので、その補助図形１
７２は、図５に示した処理と同様にして、図６（ｄ）の
ように配置して発生される。尚、図６（ｄ）に示す正方
形の補助図形１７２の一辺ｌ１とＬ１とは、Ｌ１＜ｌ１
の関係である。また、、元図形データを＋Ｘ方向、＋Ｙ
方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置して、得られ
る図形データと、−Ｘ方向、−Ｙ方向、にＬ１／２だけ
それぞれ移動して配置して、得られる図形データと、＋
Ｘ方向、−Ｙ方向にＬ１／２だけそれぞれ移動して配置
して、得られる図形データと、−Ｘ方向、＋Ｙ方向、に
Ｌ１／２だけそれぞれ移動して配置して得られる図形デ
ータとの論理積により、得られる図形データにより表さ
れる図形は、概略図６（ｅ）のようになる。図６（ｅ）
示す図形は、図６（ａ）に示す図形を、その位置を変え
ずに、Ｘ方向、Ｙ方向に幅Ｌ１だけ縮小処理したもの
で、その補助図形１７３は、図５に示した処理と同様に
して、図６（ｆ）のように配置して発生される。尚、図
６（ｆ）に示す正方形の補助図形１７３の一辺ｌ２とＬ
１とは、Ｌ２＜ｌ１の関係である。
【００１８】後処理部３００は、発生させた補助図形間
で重なりがある場合には、重なり図形を一部取り除く等
の処理を行うものである。
で重なりがある場合には、重なり図形を一部取り除く等
の処理を行うものである。
【００１９】結局、図１に示す図形データ発生装置１０
０は、所望のサイズの正方形を、各図形の突出した角部
に、その位置を調整して、発生させることができる。ま
た、ここでは、発生させる補助図形を正方形としている
が、入力図形データを移動配置する際のＸ方向、Ｙ方向
の移動量を変えて、長方形とすることもできる。発生さ
せる補助図形を正方形とする場合の利点は、処理するデ
ータ量を少なくして、処理時間を実用レベルとしたいた
めである。
０は、所望のサイズの正方形を、各図形の突出した角部
に、その位置を調整して、発生させることができる。ま
た、ここでは、発生させる補助図形を正方形としている
が、入力図形データを移動配置する際のＸ方向、Ｙ方向
の移動量を変えて、長方形とすることもできる。発生さ
せる補助図形を正方形とする場合の利点は、処理するデ
ータ量を少なくして、処理時間を実用レベルとしたいた
めである。
【００２０】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
フオトマスクのパターン形成用の元図形データから、ウ
エハへの転写形状を補正するための、光近接効果補正用
の補正図形データを発生させる装置で、処理の際、扱う
データ量が膨大とならず、且つ、処理時間が実用的とな
る図形データ発生装置の提供を可能とした。これによ
り、半導体の微細加工に十分対応できるものとした。
フオトマスクのパターン形成用の元図形データから、ウ
エハへの転写形状を補正するための、光近接効果補正用
の補正図形データを発生させる装置で、処理の際、扱う
データ量が膨大とならず、且つ、処理時間が実用的とな
る図形データ発生装置の提供を可能とした。これによ
り、半導体の微細加工に十分対応できるものとした。
【図１】本発明の図形データ発生装置の実施の形態の１
例の概略構成図
例の概略構成図
【図２】図形データにより表される図形のＸ方向、Ｙ方
向移動配置を説明するための図
向移動配置を説明するための図
【図３】図形データにより表される図形の論理演算を説
明するための図
明するための図
【図４】前処理部の概略構成図
【図５】図形論理演算による補正図形の発生を説明する
ための図
ための図
【図６】前処理部による補正図形の発生位置変化を説明
するための図
するための図
【図７】従来の補正図形の発生方法を説明するための図
【図８】補正図形の発生位置の特定を説明するための図
【図９】図形データと表される図形の関係を説明するか
めの図
めの図
【図１０】補助図形の必要性を説明するための図
１００ 図形データ発生装置 １１０ 元図形データ １１１、１１１Ａ、１１２、１１２Ａ 図形 １１３、１１３Ａ、１１３Ｂ、１１３Ｃ、１１３Ｄ
図形 １１４、１１４Ａ、１１４Ｂ、１１４Ｃ、１１４Ｄ
図形 １１５、１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃ、１１５Ｄ
図形 １１６、１１７、１１８ 図形 １２０ 入力データ １３０ 第１の図形データ配置部 １３１ ＋Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 １３２ −Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 １３３ ＋Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 １３４ −Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 １４１、１４２、１４３、１４４ 図形データ １５０ 第１の論理演算部 １５１、１５２ 論理和処理部 １５５、１５６ 図形データ １６０ 排他的論理処理 １６５ 図形データ １７０ 補助図形データ １７１、１７２、１７３ 補助図形 ２００ 前処理部 ２１０ 第２の図形データ配置部 ２１１ ＋Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 ２１２ −Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 ２１３ ＋Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 ２１４ −Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 ２２１、２２２、２２３、２２４ 図形データ ２３１ 第２の論理演算部 ２３６ 第３の論理演算部 ２４１、２４２ 図形データ ３００ 後処理部 ４１０ 設計図形データ ４１５ 形成パターン ４２０ 補正図形データ ４２５ 形成パターン
図形 １１４、１１４Ａ、１１４Ｂ、１１４Ｃ、１１４Ｄ
図形 １１５、１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃ、１１５Ｄ
図形 １１６、１１７、１１８ 図形 １２０ 入力データ １３０ 第１の図形データ配置部 １３１ ＋Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 １３２ −Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 １３３ ＋Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 １３４ −Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 １４１、１４２、１４３、１４４ 図形データ １５０ 第１の論理演算部 １５１、１５２ 論理和処理部 １５５、１５６ 図形データ １６０ 排他的論理処理 １６５ 図形データ １７０ 補助図形データ １７１、１７２、１７３ 補助図形 ２００ 前処理部 ２１０ 第２の図形データ配置部 ２１１ ＋Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 ２１２ −Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 ２１３ ＋Ｘ方向、−Ｙ方向移動配置
処理 ２１４ −Ｘ方向、＋Ｙ方向移動配置
処理 ２２１、２２２、２２３、２２４ 図形データ ２３１ 第２の論理演算部 ２３６ 第３の論理演算部 ２４１、２４２ 図形データ ３００ 後処理部 ４１０ 設計図形データ ４１５ 形成パターン ４２０ 補正図形データ ４２５ 形成パターン
Claims (4)
- 【請求項１】 フォトマスクのパターンを形成するため
の設計データで、種々の図形情報から構成された、Ｘ−
Ｙ座標表現の図形データである元図形データ（設計デー
タとも言う）を用い、元図形データによりＸ−Ｙ座標面
に表現される各図形の突出した角部に、光近接効果補正
用のＸ方向幅Ｌ、Ｙ方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正
方形からなる補正図形を発生させる図形データ発生装置
であって、元図形データを、あるいはこれを処理した処
理データを、入力図形データとして用い、入力図形デー
タの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置
とした第１の図形データを作成し、入力図形データの座
標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした
第２の図形データを作成し、入力図形データの座標を＋
Ｘ方向、−Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第３の
図形データを作成し、入力図形データの座標を−Ｘ方
向、＋Ｙ方向に、Ｌ／２移動した配置とした第４の図形
データを作成する第１の図形データ配置部と、第１の図
形データ配置部により得られる第１の図形データと第２
の図形データの図形論理演算の論理和処理を施して第５
の図形データを作成し、第１の図形データ配置部により
得られる第３の図形データと第４の図形データの図形論
理演算の論理和処理を施して第６の図形データを作成
し、更に、第５の図形データと第６の図形データの図形
論理演算の排他的論理和処理を施して、Ｘ方向幅Ｌ、Ｙ
方向幅Ｌの１辺の長さをＬとする正方形からなる、光近
接効果補正用の補正図形を発生させる第１の論理演算部
とを備えたものであることを特徴とする図形データ発生
装置。 - 【請求項２】 請求項１において、元図形データにより
表される各図形に対しての、補正図形の発生位置を調整
するために、元図形データにより表される各図形を拡大
処理ないし、縮小処理した処理データを得るための演算
処理を行う前処理部を備えていることを特徴とする図形
データ発生装置。 - 【請求項３】 請求項２において、前処理部が、元図形
データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、所定の距離Ｌ１
移動した配置とした第７の図形データを作成し、元図形
データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離Ｌ１移動し
た配置とした第８の図形データを作成し、元図形データ
の座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配置
とした第９の図形データを作成し、元図形データの座標
を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離Ｌ１移動した配置とした
第１０の図形データを作成する第２の図形データ配置部
と、第２の図形データ配置部により得られる第７の図形
データ、第８の図形データ、第９の図形データ、第１０
の図形データの図形論理演算の論理和処理を施す第２の
論理演算部とを備えたものであることを特徴とする図形
データ発生装置。 - 【請求項４】 請求項２ないし３において、前処理部
が、元図形データの座標を＋Ｘ方向、＋Ｙ方向に、所定
の距離Ｌ２移動した配置とした第１１の図形データを作
成し、元図形データの座標を−Ｘ方向、−Ｙ方向に、距
離Ｌ２移動した配置とした第１２の図形データを作成
し、元図形データの座標を＋Ｘ方向、−Ｙ方向に、距離
Ｌ２移動した配置とした第１３の図形データを作成し、
元図形データの座標を−Ｘ方向、＋Ｙ方向に、距離Ｌ２
移動した配置とした第１４の図形データを作成する第３
の図形データ配置部と、第３の図形データ配置部により
得られる第１１の図形データ、第１２の図形データ、第
１３の図形データ、第１４の図形データの図形論理演算
の論理積処理を施す第３の論理演算部とを備えたもので
あることを特徴とする図形データ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11586798A JP3475321B2 (ja) | 1998-04-13 | 1998-04-13 | 図形データ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11586798A JP3475321B2 (ja) | 1998-04-13 | 1998-04-13 | 図形データ発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11295875A true JPH11295875A (ja) | 1999-10-29 |
| JP3475321B2 JP3475321B2 (ja) | 2003-12-08 |
Family
ID=14673128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11586798A Expired - Fee Related JP3475321B2 (ja) | 1998-04-13 | 1998-04-13 | 図形データ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3475321B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6570174B1 (en) | 1998-12-14 | 2003-05-27 | Nec Electronics Corporation | Optical proximity effect correcting method in semiconductor manufacturing process, which can sufficiently correct optical proximity effect, even under various situations with regard to size and shape of design pattern, and space width and position relation between design patterns |
-
1998
- 1998-04-13 JP JP11586798A patent/JP3475321B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6570174B1 (en) | 1998-12-14 | 2003-05-27 | Nec Electronics Corporation | Optical proximity effect correcting method in semiconductor manufacturing process, which can sufficiently correct optical proximity effect, even under various situations with regard to size and shape of design pattern, and space width and position relation between design patterns |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3475321B2 (ja) | 2003-12-08 |
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Legal Events
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