JPH11289041A - Manufacture of multilayer lead frame - Google Patents

Manufacture of multilayer lead frame

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JPH11289041A
JPH11289041A JP8995098A JP8995098A JPH11289041A JP H11289041 A JPH11289041 A JP H11289041A JP 8995098 A JP8995098 A JP 8995098A JP 8995098 A JP8995098 A JP 8995098A JP H11289041 A JPH11289041 A JP H11289041A
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尚 中川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify a manufacturing process of a multilayer lead frame and remarkably reduce the manufacturing cost. SOLUTION: In this manufacturing method, a second lead frame 2b is laminated on a first lead frame 2a, and four portions of a linked strip belt 7 is compressed and worked to be 50%, thereby bonding them. In the first frame 2a, a die pad 3 is formed in a region surrounded by the linked strip belt 7 via a suspension lead 6. In the second frame 2b, an inner lead 4 and an outer lead 5 are formed in the region surrounded by the linked strip belt 7. The two frames are composed of copper material, and nickel, palladium and a very thin gold plating film are previously formed in order.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数のリードフレ
ームを重ね合わせて接合した多層リードフレームの製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer lead frame in which a plurality of lead frames are overlapped and bonded.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、半導体装置用のリードフレームは
金属単板をプレス加工により所定の形状に打ち抜いて製
造している。図3は一般的なリードフレームの平面図で
あり、連結条帯7で囲まれた領域に半導体素子(図示せ
ず)を搭載するダイパット3、ダイパット3を連結条帯
7に連結する吊りリード6、ダイパット3の近傍に延び
半導体素子と結線するためのインナーリード4、および
インナーリード4に連続しプリント基板などに実装する
ためのアウターリード5を備えている。
2. Description of the Related Art Usually, a lead frame for a semiconductor device is manufactured by punching a single metal plate into a predetermined shape by press working. FIG. 3 is a plan view of a general lead frame. A die pad 3 on which a semiconductor element (not shown) is mounted in a region surrounded by a connecting strip 7, and a suspension lead 6 for connecting the die pad 3 to the connecting strip 7. And an inner lead 4 extending near the die pad 3 and connected to the semiconductor element, and an outer lead 5 connected to the inner lead 4 and mounted on a printed circuit board or the like.

【0003】近年、複数のリードフレームを積層した種
々の多層リードフレームが用いられている。図4(a)
〜(d)は、従来の多層リードフレームの一例を示す説
明図である。図4(a)は多層リードフレームの平面図
であり、図3で説明した金属単板からなるリードフレー
ム1と同じ構成となっていて、連結条帯7、ダイパット
3、吊りリード6、インナーリード4、アウターリード
5などを備えている。この多層リードフレーム2は、図
3(b)に示す連結条帯7で囲まれた領域に吊りリード
6を介してダイパット3を形成した第1のフレーム2a
と、図4(c)に示す連結条帯7で囲まれた領域にイン
ナーリード4およびアウターリード5を備えた第2のフ
レーム2bとから構成される。図4(d)にA−A断面
図を示すように、第1のフレーム2aの上に第2のフレ
ーム2bを重ね合わせ、連結条帯7の部分に接着剤11
を介して両者を接合した構成となっている。
[0003] In recent years, various multilayer lead frames in which a plurality of lead frames are stacked have been used. FIG. 4 (a)
(D) is an explanatory view showing an example of a conventional multilayer lead frame. FIG. 4A is a plan view of the multilayer lead frame, which has the same configuration as the lead frame 1 made of a single metal plate described with reference to FIG. 4, outer leads 5 and the like. This multilayer lead frame 2 has a first frame 2 a in which a die pad 3 is formed via a suspension lead 6 in a region surrounded by a connecting strip 7 shown in FIG.
And a second frame 2b provided with an inner lead 4 and an outer lead 5 in a region surrounded by a connecting strip 7 shown in FIG. 4D, the second frame 2b is superimposed on the first frame 2a, and the adhesive 11
, And the two are joined together.

【0004】このような多層リードフレームを用いる理
由の一つに、リードの多ピン化が挙げられる。金属単板
をプレス加工により打ち抜きリードフレームを形成する
にあたり、吊りリードを打ち抜くために必要なスペース
の分、インナーリード間のピッチが狭くなり、ピン数を
増やすことができない。このため、ダイパットとインナ
ーリードとを別々のフレームに形成し、両者を接合した
多層リードフレームを用いることで上記の問題を解消で
きる。
One of the reasons for using such a multilayer lead frame is to increase the number of pins in the lead. In forming a lead frame by stamping a metal veneer by pressing, the pitch between inner leads is narrowed by the space required for punching the suspension leads, and the number of pins cannot be increased. Therefore, the above problem can be solved by forming the die pad and the inner lead in separate frames and using a multilayer lead frame in which both are joined.

【0005】また、リードフレームの少量多品種化が進
み、リードの本数や配列の異なる様々なリードフレーム
を形成する度に、高価な大型の精密金型を新たに用意し
なければならず、リードフレームのコストが高くなって
しまう。このため、リードの本数や配列が様々に異なる
フレームを用意し、これらを適宜選択してダイパットを
形成した別のフレームと組み合わせることでリードフレ
ームのコストを低くすることができる。
[0005] In addition, as lead frames have become smaller and more diversified, each time various lead frames having different numbers or arrangements of leads are formed, expensive large precision dies must be newly prepared. The cost of the frame increases. For this reason, it is possible to reduce the cost of the lead frame by preparing frames with various numbers and arrangements of leads and selecting these appropriately and combining them with another frame on which a die pad is formed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記説明した2枚のリ
ードフレームを接合するための接着剤は、両面に接着剤
層を備えたフィルムを用いている。しかしながら、この
ようなフィルムはそれ自体が高価であり、リードフレー
ムにフィルムを貼り付ける工程も必要となるため、多層
リードフレームのコストが高くなってしまうという問題
がある。
As the adhesive for joining the two lead frames described above, a film having an adhesive layer on both surfaces is used. However, such a film is expensive in itself, and also requires a step of attaching the film to a lead frame, so that there is a problem that the cost of the multilayer lead frame is increased.

【0007】ほかにも、溶接により2枚のリードフレー
ムを接合する方法が用いられることがあるが、銅系素材
など導電率の高い材料の場合には、溶接作業時にスプラ
ッシュが発生しリードフレームの品質を低下させるなど
の問題がある。
[0007] In addition, a method of joining two lead frames by welding is sometimes used. However, in the case of a material having a high conductivity such as a copper-based material, a splash occurs during welding and a lead frame is formed. There are problems such as lower quality.

【0008】本発明は、上記問題を解決するものであ
り、接着剤を用いることなく、容易にかつ安価に複数の
リードフレームを接合することができる多層リードフレ
ームの製造方法を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problem and to provide a method for manufacturing a multilayer lead frame which can easily and inexpensively join a plurality of lead frames without using an adhesive. And

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数のリード
フレームを重ね合わせ、所定領域を圧縮加工することに
より接合し、複数のリードフレームを一体化する多層リ
ードフレームの製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a method for manufacturing a multi-layer lead frame in which a plurality of lead frames are overlapped, a predetermined area is joined by compression working, and the plurality of lead frames are integrated.

【0010】常温で延性金属材料の重ね目を圧縮して境
界面を局部的に塑性変形すると金属材料同士が接合する
冷間圧接法と呼ばれる金属接合方法は、金属面同士をÅ
単位の距離に近づけると金属原子の自由電子が共通化し
金属結合が行われる原理を利用したものである。冷間圧
接を良好に行うには、接触面積を増加させるための圧力
と表面に生成皮膜がない純粋金属同士を近づける2つの
要素が重要である。
[0010] A metal joining method called a cold pressure welding method in which the overlap of ductile metal materials is compressed at room temperature and the boundary surface is locally plastically deformed to join the metal materials together is called a cold welding method.
It is based on the principle that the free electrons of a metal atom become common and metal bonding is performed when the distance is approached. In order to perform a good cold pressure welding, two factors are important: a pressure for increasing the contact area, and two pure metals having no formed film on the surface.

【0011】本発明は、リードフレームの重ね合わせた
厚さの30%〜60%に圧縮加工するもので、冷間圧接
に十分な圧力が加わり良好な金属接合が得られる。
According to the present invention, the compression processing is performed to 30% to 60% of the superposed thickness of the lead frame, and a sufficient pressure is applied to the cold welding to obtain good metal bonding.

【0012】また本発明は、複数のリードフレームにあ
らかじめ金属めっき皮膜を形成したものである。金属め
っき皮膜が形成された面同士を対向させて圧縮加工を行
うと、金属めっき皮膜が破断し酸化膜のない清浄な新生
面が現れるため、良好な冷間圧接を行うことができる。
この金属めっき皮膜は、素材金属よりも延性の小さいも
のが良く、例えば素材金属が銅材である場合は、ニッケ
ル、金、銀、またはパラジウムなどをめっきするとよ
い。
According to the present invention, a metal plating film is formed on a plurality of lead frames in advance. When the compression processing is performed with the surfaces on which the metal plating films are formed facing each other, the metal plating film breaks and a clean new surface without an oxide film appears, so that good cold welding can be performed.
The metal plating film preferably has less ductility than the material metal. For example, when the material metal is a copper material, nickel, gold, silver, palladium, or the like may be plated.

【0013】また本発明は、圧縮加工する領域は金属材
料の側面を含む、若しくは断面が露出した領域を含むこ
とが望ましい。2枚のリードフレームを重ね合わせ、側
面または断面が露出した領域を圧縮加工すると、上方の
リードフレームが下方のリードフレームにめり込み、そ
の部分で金属が一体化することで2枚のリードフレーム
をより強固に接合することができる。このため、圧縮領
域は広いほど接合強度が強くなり、一定の表面積であれ
ば、断面積が広いほど接合強度は強くなるから、リード
フレームの側面を含む領域を圧縮加工したり、リードフ
レームの一部に貫通孔を設けて断面を露出させ、この部
分を圧縮加工するなどすれば接合強度をさらに大きくす
ることができる。
Further, in the present invention, it is desirable that the region to be subjected to the compression working includes a side surface of the metal material or a region whose cross section is exposed. When the two lead frames are overlapped and the side or cross-section exposed area is compressed, the upper lead frame digs into the lower lead frame, and the metal is integrated at that part, thus making the two lead frames more Can be firmly joined. For this reason, the larger the compression area, the higher the bonding strength. If the surface area is constant, the larger the cross-sectional area, the higher the bonding strength. By providing a through-hole in the portion to expose the cross section and compressing this portion, the joining strength can be further increased.

【0014】具体的には、本発明はダイパットおよびダ
イパットを支持する吊りリードを備えた第1のリードフ
レームと、インナーリードおよびアウターリードを備え
た第2のリードフレームを用意し、前記2枚のリードフ
レームを所定の位置で重ね合わせ、前記重ね合わせた領
域のうち、後工程で切り離される連結条帯の一部を圧縮
加工することにより、前記圧縮加工した領域で前記2枚
のリードフレームを一体化するものである。
More specifically, the present invention provides a first lead frame having a die pad and a suspension lead for supporting the die pad, and a second lead frame having an inner lead and an outer lead. The lead frames are overlapped at a predetermined position, and a part of the connecting strip that is cut off in a later step is compressed in the overlapped area, so that the two lead frames are integrated in the compressed area. It becomes something.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】(実施の形態1)図1(a)〜(e)は本
実施の形態による多層リードフレームの製造方法を示す
説明図である。まず、図1(a)に示す連結条帯7で囲
まれた領域に吊りリード6を介してダイパット3を形成
した第1のフレーム2aと、図1(b)に示す連結条帯
7で囲まれた領域にインナーリード4およびアウターリ
ード5を形成した第2のフレーム2bを用意する。この
2枚のフレームは、板厚0.25mmの銅材をプレス加
工により打ち抜き形成したもので、その表面にはニッケ
ル、パラジウム、ごく薄い金めっき皮膜が順に形成され
ている。
(Embodiment 1) FIGS. 1A to 1E are explanatory views showing a method for manufacturing a multilayer lead frame according to the present embodiment. First, a first frame 2a in which a die pad 3 is formed via a suspension lead 6 in a region surrounded by a connecting strip 7 shown in FIG. 1A and a connecting strip 7 shown in FIG. A second frame 2b in which the inner lead 4 and the outer lead 5 are formed in the set area is prepared. These two frames are formed by punching a copper material having a thickness of 0.25 mm by press working, and nickel, palladium, and a very thin gold plating film are sequentially formed on the surfaces thereof.

【0017】次いで、図1(c)に示すように、第1の
フレーム2aの上に第2のフレーム2bを重ね合わせ金
型(図示せず)内にセットする。この状態で連結条帯7
の4ヶ所(図示は2ヶ所のみ)をパンチ31で圧縮加工
する。圧縮率は30%〜60%であることが望ましく本
実施の形態では50%に圧縮加工した。
Next, as shown in FIG. 1C, the second frame 2b is overlaid on the first frame 2a and set in a mold (not shown). In this state, connecting strip 7
Are compressed by the punch 31 at four locations (only two locations shown). The compression ratio is desirably 30% to 60%, and in this embodiment, the compression processing is performed to 50%.

【0018】図1(d)は、このようにして製造した多
層リードフレームの平面図である。連結条帯7には4カ
所の圧縮領域12があり、この部分で第1のフレームと
第2のフレームが接合している。
FIG. 1D is a plan view of the multilayer lead frame manufactured as described above. The connecting strip 7 has four compression regions 12 at which the first frame and the second frame are joined.

【0019】この後、図1(e)に示すように、多層リ
ードフレーム2のダイパット3に半導体素子21を搭載
し、半導体素子21とインナーリード4の間をボンディ
ングワイヤ22で接続する。そしてこれらを樹脂23で
封止した後、多層リードフレーム2の不要部分、すなわ
ち連結条帯7を切り離し、半導体装置が完成する。
Thereafter, as shown in FIG. 1E, the semiconductor element 21 is mounted on the die pad 3 of the multilayer lead frame 2, and the semiconductor element 21 and the inner lead 4 are connected by bonding wires 22. After these are sealed with the resin 23, unnecessary portions of the multilayer lead frame 2, that is, the connecting strips 7 are cut off, and the semiconductor device is completed.

【0020】本実施の形態では、第1および第2のフレ
ームが接合した2層リードフレームについて説明した
が、3層以上の接合にも適用できる。
In the present embodiment, a two-layer lead frame in which the first and second frames are joined has been described. However, the present invention can be applied to joining of three or more layers.

【0021】リードフレームの素材には銅材を用いた
が、これに限ることなく鉄−ニッケル合金やアルミニウ
ムなど他の金属でも同様の方法で製造することができ
る。また、第1のフレームと第2のフレームの素材金属
が異なる場合でも同様である。
Although the lead frame is made of a copper material, the invention is not limited to this, and other metals such as an iron-nickel alloy and aluminum can be manufactured in the same manner. The same applies to the case where the first and second frames are made of different metal materials.

【0022】(実施の形態2)図2(a)に示すよう
に、ダイパット3および吊りリード6を備えた第1のフ
レーム2aの連結条帯7には、あらかじめ一対の半円状
の貫通孔13、13間に、フレーム長手方向に対して平
行となるような接合補助バー14aが形成されている。
接合補助バー14aは、実施の形態1で説明した圧縮領
域12と同様、連結条帯7に4カ所形成したが、他の3
カ所は図示を省略した。
(Embodiment 2) As shown in FIG. 2A, a connecting strip 7 of a first frame 2a having a die pad 3 and a suspension lead 6 has a pair of semicircular through holes in advance. A joining auxiliary bar 14a is formed between 13 and 13 so as to be parallel to the longitudinal direction of the frame.
As in the case of the compression region 12 described in the first embodiment, the joining auxiliary bar 14a is formed at four locations on the connecting strip 7;
The illustration is omitted at the places.

【0023】一方、図2(b)に示すように、インナー
リード4およびアウターリード5を備えた第2のフレー
ム2bの連結条帯7には、第1のフレーム2aと同じ箇
所に一対の半円状の貫通孔13、13間に接合補助バー
14bを形成した。ただし、第2のフレーム2bにおい
ては、接合補助バー14bがフレームの長手方向と垂直
となるように形成した。
On the other hand, as shown in FIG. 2 (b), the connecting strip 7 of the second frame 2b provided with the inner lead 4 and the outer lead 5 has a pair of halves at the same place as the first frame 2a. A joining auxiliary bar 14b was formed between the circular through holes 13 and 13. However, in the second frame 2b, the joining auxiliary bar 14b was formed so as to be perpendicular to the longitudinal direction of the frame.

【0024】これにより、第1のフレーム2aと第2の
フレーム2bを重ね合わせたときには、図2(c)にそ
の拡大図を示すように、第1および第2のフレーム2
a、2bの接合補助バー14a、14bがクロスするよ
うに重なり、この部分を圧縮加工することにより、第2
の接合補助バー14bが第1の接合補助バー14aにめ
り込み、より大きな接合強度を得ることができる。
As a result, when the first frame 2a and the second frame 2b are superimposed, as shown in the enlarged view of FIG.
a and 2b are overlapped so that the joining auxiliary bars 14a and 14b cross each other, and by compressing this portion, the second
Of the first joining auxiliary bar 14a can be sunk into the first joining auxiliary bar 14a, and a larger joining strength can be obtained.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、2
枚もしくはそれ以上のリードフレームを重ね合わせ、圧
縮加工するだけで両者を接合できる。このため、接着剤
を用いる必要がなく多層リードフレームのコストを大幅
に低減することができる。また、銅などの金属でも溶接
のようにスプラッシュが飛散するなどないため、多層リ
ードフレームの品質が安定する。
As described above, according to the present invention, 2
Two or more lead frames can be joined only by overlapping and compressing. Therefore, it is not necessary to use an adhesive, and the cost of the multilayer lead frame can be significantly reduced. In addition, the quality of the multilayer lead frame is stable because splash such as welding does not occur even in a metal such as copper.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による多層リードフレームの製造方法を
示す説明図
FIG. 1 is an explanatory view showing a method for manufacturing a multilayer lead frame according to the present invention.

【図2】本発明の他の実施の形態の多層リードフレーム
の製造方法を示す説明図
FIG. 2 is an explanatory view showing a method for manufacturing a multilayer lead frame according to another embodiment of the present invention.

【図3】一般的なリードフレームの平面図FIG. 3 is a plan view of a general lead frame.

【図4】従来の多層リードフレームの一例を示す説明図FIG. 4 is an explanatory view showing an example of a conventional multilayer lead frame.

【符号の説明】 2 多層リードフレーム 2a 第1のフレーム 2b 第2のフレーム 3 ダイパット 4 インナーリード 5 アウターリード 6 吊りリード 7 連結条帯 12 圧縮領域 13 貫通孔 14a 接合補助バー 14b 接合補助バー 31 パンチ[Description of Signs] 2 Multilayer lead frame 2a First frame 2b Second frame 3 Die pad 4 Inner lead 5 Outer lead 6 Suspended lead 7 Connecting strip 12 Compression region 13 Through hole 14a Joining assist bar 14b Join assist bar 31 Punch

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のリードフレームを重ね合わせ、前
記リードフレームの所定領域を圧縮加工することによ
り、前記圧縮加工した領域で前記複数のリードフレーム
を接合することを特徴とする多層リードフレームの製造
方法。
1. A method of manufacturing a multi-layer lead frame, comprising: stacking a plurality of lead frames; compressing a predetermined area of the lead frame; and joining the plurality of lead frames in the compressed area. Method.
【請求項2】 前記圧縮加工する領域は、前記リードフ
レームを半導体装置として組み立てた後に切り離す領域
である請求項1記載の多層リードフレームの製造方法。
2. The method for manufacturing a multilayer lead frame according to claim 1, wherein the region to be compressed is a region where the lead frame is separated after being assembled as a semiconductor device.
【請求項3】 前記圧縮加工する領域は、前記複数のリ
ードフレームの側面若しくは断面を含む領域である請求
項1記載の多層リードフレームの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the region to be compressed is a region including a side surface or a cross section of the plurality of lead frames.
【請求項4】 前記複数のリードフレームを重ね合わせ
た厚さの30%〜60%に圧縮加工する請求項1記載の
多層リードフレームの製造方法。
4. The method for manufacturing a multilayer lead frame according to claim 1, wherein said plurality of lead frames are compression-processed to 30% to 60% of a superposed thickness.
【請求項5】 前記複数のリードフレームにあらかじめ
金属めっき皮膜を形成した請求項1記載の多層リードフ
レームの製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein a metal plating film is formed on the plurality of lead frames in advance.
【請求項6】 連結条帯で囲まれた領域にダイパットお
よびこのダイパットを支持する吊りリードを備えた第1
のフレームと、連結条帯で囲まれた領域にインナーリー
ドおよびアウターリードを備えた第2のフレームとを用
意し、前記第1のフレームと前記第2のフレームを重ね
合わせ、前記連結条帯の所定領域を圧縮加工することに
より、前記圧縮加工した領域で前記第1のフレームと第
2のフレームを接合することを特徴とする多層リードフ
レームの製造方法。
6. A first pad having a die pad and a suspension lead for supporting the die pad in a region surrounded by the connecting strip.
And a second frame provided with an inner lead and an outer lead in a region surrounded by the connecting strip, and the first frame and the second frame are overlapped with each other. A method for manufacturing a multilayer lead frame, comprising compressing a predetermined area to join the first frame and the second frame in the compressed area.
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