JPH11274550A - Surface mount type photo interrupter and manufacture thereof - Google Patents

Surface mount type photo interrupter and manufacture thereof

Info

Publication number
JPH11274550A
JPH11274550A JP8959898A JP8959898A JPH11274550A JP H11274550 A JPH11274550 A JP H11274550A JP 8959898 A JP8959898 A JP 8959898A JP 8959898 A JP8959898 A JP 8959898A JP H11274550 A JPH11274550 A JP H11274550A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
circuit board
housing
photointerrupter
surface mount
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8959898A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4165670B2 (en
Inventor
Akihisa Tanabe
陽久 田辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Electronics Co Ltd
Original Assignee
Citizen Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Electronics Co Ltd filed Critical Citizen Electronics Co Ltd
Priority to JP08959898A priority Critical patent/JP4165670B2/en
Publication of JPH11274550A publication Critical patent/JPH11274550A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4165670B2 publication Critical patent/JP4165670B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a low-cost ultrasmall-size surface mount type photo interrupter wherein the manufacturing man-hour is less because an LED and P-Tr(photo transistor) are processed on the same substrate, and the optical axis alignment is easy. SOLUTION: An LED 3 and P-Tr 4 are die-bonded or wire-bonded on the same surface of a glass epoxy resin or similar circuit board 21 with through-hole electrodes 22a, 22b formed on the side face, and a metal- or plastic-made box 24 having a light shield for the outside, slits 24a, 24b forming light paths of both elements, light reflecting faces 24c, 24d and specified gap G is adhered to the photo interrupter body sealed with an epoxy resin or similar seal resin 8. If necessary, an Ni plating layer or the like is formed on the reflecting faces to raise the reflection efficiency. Since it is manufactured in the collective condition of molding in multiple cavities in the most steps, the manufacturing cost is low.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は被検出物の有無を無
接点で検出する表面実装型フォトインタラプタ及びその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface mount photointerrupter for detecting the presence or absence of an object without contact, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ファクシミリ、プリンター、フロ
ッピディスクドライブ等に、非接触で物体の有無を検出
してスイッチング信号を得ることができるフォトインタ
ラプタが広く使用されている。一般的なフォトインタラ
プタの構造は図14に示すように、フォトインタラプタ
1はケース2の対向する部分に発光素子3(例えば、赤
外LED)と受光素子4(例えば、フォトトランジス
タ、以下、P−Trと呼ぶ)とを取り付け、発光素子3
からの光をギャップGを介して受光素子4が受光するよ
うに構成されている。上記構成によりギャップG内に被
検出物が入り光が遮断されると受光素子4側の出力が変
化し、この出力変化をスイッチング信号として使用する
ものである。
2. Description of the Related Art In recent years, photo-interrupters capable of detecting a presence or absence of an object without contact and obtaining a switching signal have been widely used in facsimile machines, printers, floppy disk drives, and the like. As shown in FIG. 14, the structure of a general photo-interrupter is such that a photo-interrupter 1 has a light-emitting element 3 (for example, an infrared LED) and a light-receiving element 4 (for example, a phototransistor; Tr) is attached, and the light emitting element 3
Is received by the light receiving element 4 via the gap G. With the above configuration, when an object enters the gap G and the light is blocked, the output of the light receiving element 4 changes, and this output change is used as a switching signal.

【0003】前記フォトインタラプタの構造において、
前記ケース2はプラスチックのモールドで形成され、対
向する素子収納部に発光素子3と受光素子4を収納した
後、スリット内を通る光軸の位置調整を行い、光軸が一
致する位置を保持しながらエポキシ樹脂で前記素子収納
部を封止し、固着したものであった。従って、モールド
成形では検出精度を決めるスリット内の光軸の位置調整
精度を高めることが非常に困難であった。
In the structure of the photointerrupter,
The case 2 is formed of a plastic mold. After the light-emitting element 3 and the light-receiving element 4 are stored in the opposing element storage sections, the position of the optical axis passing through the slit is adjusted to maintain the position where the optical axes coincide. While sealing the element housing portion with epoxy resin, it was fixed. Therefore, it is very difficult to increase the accuracy of adjusting the position of the optical axis in the slit that determines the detection accuracy in molding.

【0004】そこで、前記検出精度を決めるスリット内
の光軸の位置調整精度を向上するために金属のスリット
板を用いたフォトインタラプタの製造方法の技術が特開
平5−110129号公報に開示されている。図15及
び図16にてその概要を説明する。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-110129 discloses a technique for manufacturing a photointerrupter using a metal slit plate in order to improve the position adjustment accuracy of the optical axis in the slit which determines the detection accuracy. I have. The outline will be described with reference to FIGS.

【0005】図15はフォトインタラプタの斜視図、図
16は受発光側の各1次モールド体及びスリット板を2
次モールド金型内にインサートした状態を示す断面図で
ある。図において、リード端子5へ発光素子であるLE
D3又は受光素子であるP−Tr4をダイボンドし、他
方のリード端子6へ金線等のボンディングワイヤー7で
ワイヤーボンドし、熱硬化性の封止樹脂8、例えば、エ
ポキシ樹脂で注型又はトランスファーモールド方式によ
り受発光側の各1次モールド体を形成する。
FIG. 15 is a perspective view of a photo-interrupter, and FIG.
It is sectional drawing which shows the state inserted in the next mold. In the figure, a lead terminal 5 is connected to a light emitting element LE.
D3 or P-Tr4 which is a light receiving element is die-bonded, wire-bonded to the other lead terminal 6 with a bonding wire 7 such as a gold wire, and cast or transfer molded with a thermosetting sealing resin 8 such as an epoxy resin. Each primary molded body on the light receiving / emitting side is formed by the method.

【0006】次に、金属板で光の通路となるスリット9
aを備えたスリット板9を形成する。該スリット板9は
2次モールド金型へインサート成形するための折り曲げ
られたリード部9bを備えている。前記受発光側の各1
次モールド体とスリット板とを位置決めして2次モール
ド金型内へ挿入し、熱可塑性の遮光性樹脂10、例え
ば、ポリフェニレンサルファイドで射出成形を行い、各
1次モールド体とスリット板とを一体化する。射出成形
後、2次モールド金型より離型して、切断、分離して、
図15のような単体のフォトインタラプタ11が得られ
る。
Next, a slit 9 serving as a light passage in a metal plate.
The slit plate 9 provided with a is formed. The slit plate 9 has a bent lead portion 9b for insert molding into a secondary mold. Each one of the light receiving and emitting sides
The secondary mold body and the slit plate are positioned and inserted into the secondary mold, and injection molding is performed with a thermoplastic light-shielding resin 10, for example, polyphenylene sulfide, and each primary mold body and the slit plate are integrated. Become After injection molding, release from the secondary mold, cut and separate,
A single photo interrupter 11 as shown in FIG. 15 is obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たフォトインタラプタの製造方法には次のような問題点
がある。LED、P−Trの製造工程を別々に行わなけ
ればならないため、1次モールド体と2次モールド体を
組合せる時、光軸の位置調整が困難であり、製造コスト
も高価であった。また、更にモールド金型が複雑になる
と共に、スリット板の曲げ精度も起因してモールド体の
スリットの位置精度が低下した。モールド成形のための
金型製作コスト及び金型維持費が必要となった。モール
ド本体へのLED及びP−Trのインサート成形が必要
となるため工数の増加及び製造コストが高価であった。
また二度のモールド工程の加熱によりLED、P−Tr
へ熱応力等のストレスが加わり信頼性に悪影響を及ぼす
等の課題があった。
However, the above-described method for manufacturing a photointerrupter has the following problems. Since the manufacturing process of the LED and the P-Tr must be performed separately, it is difficult to adjust the position of the optical axis when combining the primary mold and the secondary mold, and the manufacturing cost is high. In addition, the mold becomes more complicated, and the positional accuracy of the slits of the molded body is reduced due to the bending accuracy of the slit plate. Mold manufacturing cost and mold maintenance cost for molding are required. Since the insert molding of the LED and the P-Tr into the mold body is required, the number of steps is increased and the manufacturing cost is expensive.
In addition, LED, P-Tr
There is a problem that stress such as heat stress is applied to the device, adversely affecting reliability.

【0008】本発明は上記従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、高精度、高分解能を実現し、小
型で高寿命、高信頼性の生産性に優れた極めて安価な表
面実装型フォトインタラプタ及びその製造方法を提供す
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to realize an extremely inexpensive surface mounting device which realizes high accuracy and high resolution, is compact, has a long life, and has high productivity. And a method of manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明における表面実装型フォトインタラプタは、
発光素子からの光をギャップを介して受光素子が受光し
て被検出物の有無を無接点で検出する表面実装型フォト
インタラプタにおいて、前記発光素子又は受光素子を絶
縁基板に実装し、封止樹脂で封止すると共に、両素子の
光路となる光の反射面とスリットとを設け、且つ、外部
への遮光と所定のギャップを設けた筺体とを組み合わせ
たことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, a surface mount type photo interrupter according to the present invention comprises:
In a surface-mount photointerrupter in which light from a light emitting element is received by a light receiving element via a gap and the presence or absence of an object is detected in a contactless manner, the light emitting element or the light receiving element is mounted on an insulating substrate, and a sealing resin is provided. And a slit provided with a light reflecting surface serving as an optical path of both elements, and a combination of light shielding to the outside and a housing provided with a predetermined gap.

【0010】また、前記絶縁基板は側面に外部電極とし
てのスルーホール電極を設けたことを特徴とするもので
ある。
Further, the insulating substrate is provided with a through-hole electrode as an external electrode on a side surface.

【0011】また、前記筺体は、金属又はプラスチック
材で形成されていることを特徴とするものである。
Further, the housing is formed of metal or plastic material.

【0012】また、前記筺体に形成した両素子の光路と
なる光の反射面にメッキ層を形成して反射効率をアップ
したことを特徴とするものである。
Further, the present invention is characterized in that a plating layer is formed on a light reflection surface serving as an optical path of both elements formed in the housing to improve the reflection efficiency.

【0013】また、前記メッキ層は、ニッケルメッキで
あることを特徴とするものである。
Further, the plating layer is nickel-plated.

【0014】また、前記両素子を樹脂封止した絶縁基板
と前記筺体とを接着剤で固着したことを特徴とするもの
である。
Further, the present invention is characterized in that an insulating substrate in which the two elements are resin-sealed and the casing are fixed with an adhesive.

【0015】また、前記筺体に形成した反射面の角度
は、45°±10°以内であることを特徴とするもので
ある。
Further, the angle of the reflection surface formed on the housing is within 45 ° ± 10 °.

【0016】また、前記絶縁基板と相対し、且つ、平行
な前記筺体の頂部形状は頂面が広くした略四角形状であ
ることを特徴とするものである。
[0016] Further, the top shape of the housing facing and parallel to the insulating substrate is a substantially square shape having a wide top surface.

【0017】また、発光素子からの光をギャップを介し
て受光素子が受光して被検出物の有無を無接点で検出す
る表面実装型フォトインタラプタの製造方法において、
絶縁基板であるガラスエポキシ樹脂等よりなる多数個取
りする集合回路基板に複数列のスルーホールを穴明けす
るスルーホール加工工程と、前記集合回路基板の上面に
複数列の発光素子及び受光素子を実装するための実装用
電極パターン及び前記スルーホールにマザーボード等の
プリント基板と接続するスルーホール電極を形成する電
極パターン形成工程と、前記集合回路基板上に複数個の
発光素子及び受光素子をダイボンド及びワイヤーボンド
する実装工程と、前記スルーホール上にドライフィルム
等のマスク部材を貼付し、型枠をセットし、エポキシ樹
脂等の封止樹脂を前記型枠に充填し、キュアして硬化さ
せる樹脂封止工程、又は型枠を使用しないポッティング
による樹脂封止工程と、樹脂封止工程迄を終了した前記
集合回路基板を、直交するカットラインに沿ってダイシ
ング又はスライシングにより単体の回路基板に分割する
切断工程迄を進めておき、一方、前記両素子の光路とな
る光の反射面とスリットとを設け、且つ、外部への遮光
と、所定のギャップを設けた金属又はプラスチック材等
で成形した筺体のプレス加工工程、又はプラ成形加工工
程と、必要に応じて前記筺体の反射面にメッキ層を形成
するメッキ工程を終えて筺体を形成し、次に、前記切断
工程で分割した単体の回路基板に前記筺体を被せて組合
せ、接着剤等の固着手段で一体化する固着工程で完成品
となり、これら一連の工程から構成されたことを特徴と
するものである。
Further, in a method of manufacturing a surface mount type photointerrupter in which light from a light emitting element is received by a light receiving element via a gap and the presence or absence of an object is detected without contact.
A through-hole processing step of drilling a plurality of rows of through holes in a collective circuit board made of a large number of insulating substrates, such as glass epoxy resin, and mounting a plurality of rows of light emitting elements and light receiving elements on the upper surface of the collective circuit board An electrode pattern forming step for forming a mounting electrode pattern and a through-hole electrode connected to a printed board such as a mother board in the through-hole, and die-bonding and wire-bonding a plurality of light emitting elements and light receiving elements on the collective circuit board. Bonding mounting process, a mask member such as a dry film is stuck on the through hole, a mold is set, and a sealing resin such as an epoxy resin is filled in the mold, and the resin is cured and cured. Step, or a resin sealing step by potting without using a mold, and the assembled circuit board that has been completed up to the resin sealing step, A cutting process of dividing into a single circuit board by dicing or slicing along an intersecting cut line is advanced in advance, while a light reflecting surface and a slit serving as an optical path of the two elements are provided, and After the shading, the press forming step of the casing formed of metal or plastic material or the like provided with a predetermined gap, or the plastic forming step, and the plating step of forming a plating layer on the reflection surface of the casing as necessary A casing is formed, and then, the casing is put on a single circuit board divided in the cutting step, combined with the casing, and integrated by a fixing means such as an adhesive to form a completed product. It is characterized by having.

【0018】また、発光素子からの光をギャップを介し
て受光素子が受光して被検出物の有無を無接点で検出す
る表面実装型フォトインタラプタの製造方法において、
絶縁基板であるガラスエポキシ樹脂等よりなる多数個取
りする集合回路基板に複数列のスルーホールを穴明けす
るスルーホール加工工程と、前記集合回路基板の上面に
複数列の発光素子及び受光素子を実装するための実装用
電極パターン及び前記スルーホールにマザーボード等の
プリント基板と接続するスルーホール電極を形成する電
極パターン形成工程と、前記集合回路基板上に複数個の
発光素子及び受光素子をダイボンド及びワイヤーボンド
する実装工程と、前記スルーホール上にドライフィルム
等のマスク部材を貼付し、型枠をセットし、エポキシ樹
脂等の封止樹脂を前記型枠に充填し、キュアして硬化さ
せる樹脂封止工程、又は型枠を使用しないポッティング
による樹脂封止工程とにより、樹脂封止迄を完了させた
集合回路基板を形成しておき、一方、前記両素子の光路
となる光の反射面とスリットとを設け、且つ、外部への
遮光と所定のギャップを設けた多数個取りする金属又は
プラスチック材等で成形した筺体集合体のプレス加工工
程、又はプラ成形加工工程と、必要に応じて前記筺体集
合体の各筺体反射面にメッキ層を形成するメッキ工程と
により筺体集合体を形成し、次に、前記樹脂封止迄を完
了してある集合回路基板に前記筺体集合体を被せて組合
せ、接着剤等の固着手段で一体化する固着工程を経た
後、一体化したものを直交するカットラインに沿ってダ
イシング又はスライシングにより単体のフォトインタラ
プタに分割する切断工程からなることを特徴とするもの
である。
Further, in a method of manufacturing a surface mount type photointerrupter in which light from a light emitting element is received by a light receiving element through a gap and the presence or absence of an object is detected without contact.
A through-hole processing step of drilling a plurality of rows of through holes in a collective circuit board made of a large number of insulating substrates, such as glass epoxy resin, and mounting a plurality of rows of light emitting elements and light receiving elements on the upper surface of the collective circuit board An electrode pattern forming step for forming a mounting electrode pattern and a through-hole electrode connected to a printed board such as a mother board in the through-hole, and die-bonding and wire-bonding a plurality of light emitting elements and light receiving elements on the collective circuit board. Bonding mounting process, a mask member such as a dry film is stuck on the through hole, a mold is set, and a sealing resin such as an epoxy resin is filled in the mold, and the resin is cured and cured. Process, or a resin sealing step by potting without using a mold, to form an assembled circuit board that has been completed up to resin sealing. Meanwhile, on the other hand, a housing assembly formed of a metal or plastic material or the like, which is provided with a light reflecting surface and a slit serving as an optical path of the two elements, and is provided with light shielding to the outside and a predetermined gap provided. Forming a housing assembly by pressing the body, or plastic molding, and, if necessary, forming a plating layer on a reflection surface of each housing of the housing assembly; After the assembly process is completed, the housing assembly is put on the assembled circuit board, assembled, and integrated through a fixing means such as an adhesive, and then subjected to dicing or slicing along the orthogonal cut line. And a cutting step of dividing the photointerrupter into single photointerrupters.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下図面に基づいて本発明におけ
る表面実装型フォトインタラプタ及びその製造方法につ
いて説明する。図1及び図2は本発明の第1の実施の形
態であり、図1は、表面実装型フォトインタラプタ単体
の断面図、図2は、図1の斜視図である。図において、
従来技術と同一部材は同一符号で示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A surface mount type photointerrupter and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 show a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a sectional view of a surface mount type photointerrupter alone, and FIG. 2 is a perspective view of FIG. In the figure,
The same members as those in the prior art are denoted by the same reference numerals.

【0020】図1及び図2において、20は表面実装型
フォトインタラプタであり、その構成は、平面が略矩形
形状をした絶縁基板のガラスエポキシ樹脂等よりなる回
路基板21の同一面上に形成された電極パターン23a
及び23bにそれぞれ発光素子であるLED3及び受光
素子であるP−Tr4をダイボンド及びワイヤーボンド
実装されている。前記電極パターン23a及び23bは
側面に形成された外部接続電極となるスルーホール電極
22a及び22bと連通し、前記LED3及びP−Tr
4のそれぞれはエポキシ樹脂等よりなる封止樹脂8で封
止され、フォトインタラプタ単体20Aを形成する。
In FIGS. 1 and 2, reference numeral 20 denotes a surface-mount type photointerrupter, which is formed on the same surface of a circuit board 21 made of glass epoxy resin or the like as an insulating substrate having a substantially rectangular flat surface. Electrode pattern 23a
And 23b are mounted with LED3 as a light emitting element and P-Tr4 as a light receiving element by die bonding and wire bonding, respectively. The electrode patterns 23a and 23b communicate with through-hole electrodes 22a and 22b serving as external connection electrodes formed on side surfaces, and the LED 3 and the P-Tr
Each of 4 is sealed with a sealing resin 8 made of an epoxy resin or the like to form a single photointerrupter 20A.

【0021】一方、24は、筺体であり、Bs材、Al
材、SuS材等の金属薄板をプレス加工で、スリット部
の穴明けや本体部を絞り加工で形成する。若しくは、プ
ラスチック材料で金型を使って射出成形加工で成形す
る。前記いずれかの方法で成形した筺体24は、外部へ
の遮光と、両素子の光路となるスリット24a、24b
とギャップGを挟み左右が略対称に約45°傾斜した光
の反射面24c、24dとを備えている。尚、必要に応
じて前記反射面24c、24dには、図示しないメッキ
層を形成することにより、更に反射効率をアップさせる
ことができる。
On the other hand, 24 is a housing, made of Bs material, Al
A metal thin plate such as a material or a SuS material is formed by press working, and a hole is formed in a slit portion and a main body is formed by drawing. Alternatively, it is formed by injection molding using a mold with a plastic material. The housing 24 molded by any one of the above-described methods is provided with light shielding to the outside and slits 24a and 24b serving as optical paths of both elements.
And light reflecting surfaces 24c and 24d, which are approximately symmetrically inclined about 45 ° with respect to the gap G. The reflection efficiency can be further increased by forming a plating layer (not shown) on the reflection surfaces 24c and 24d as necessary.

【0022】次に、前述したフォトインタラプタ単体2
0Aの回路基板21の外周縁部又は前記筺体24の下部
内周縁部の接合面に接着剤を塗布又は印刷し、フォトイ
ンタラプタ単体20Aと筺体24を組合せ接着すること
で表面実装型フォトインタラプタ20が完成される。
Next, the above-described photointerrupter unit 2
The surface mount type photointerrupter 20 is formed by applying or printing an adhesive on the outer peripheral edge of the circuit board 21 of 0A or the joining surface of the lower inner peripheral edge of the housing 24, and combining and bonding the photointerrupter unit 20A and the housing 24 together. Be completed.

【0023】以上の構成による表面実装型フォトインタ
ラプタ20は、LED3からの光が筺体24の略45°
傾斜した内面側の反射面24cで略90度反射してスリ
ット24aを通過しギャップGを介してスリット24b
を通過、更に反射面24dで略90度反射して、P−T
r4が受光する。このとき光の通路であるギャップG内
に被検出物が入り光が遮断されると、P−Tr4の出力
が変化して被検出物の有無を検出する。
The surface-mount type photointerrupter 20 having the above-described configuration allows the light from the LED 3 to be approximately 45 ° of the housing 24.
The light is reflected by approximately 90 degrees on the inclined reflecting surface 24c on the inner surface side, passes through the slit 24a, passes through the gap G, and passes through the slit 24b.
, And is further reflected at approximately 90 degrees by the reflection surface 24d, so that PT
r4 receives light. At this time, when an object enters the gap G, which is a light path, and the light is blocked, the output of the P-Tr 4 changes to detect the presence or absence of the object.

【0024】従って、従来の方法では、LED3とP−
Tr4をそれぞれ別工程で、1次モールド体として形成
し、2次モールド体にインサート成形で光軸の位置調整
を保持しながら行う等工数面、精度面、金型の複雑さ、
或いは二度の成形による素子への熱応力、ストレスでの
信頼性、コスト面等多くの課題を抱えていたが、本発明
では、LED3とP−Tr4を回路基板21の同一面上
で同時形成するため、製造工数も少なく、また上述のよ
うにプレス加工やプラ成形加工の金型精度でスリット2
4a、24bの位置精度や加工ギャップGの精度を正確
に出すことができる。更に、反射を利用しているため、
光軸位置調整も特別に必要ない等、従来に比べて工数、
精度、信頼性、コスト面で優れている。
Therefore, in the conventional method, the LED 3 and the P-
Tr4 is formed as a primary mold body in a separate process, and the number of man-hours, accuracy, mold complexity, etc. are adjusted while holding the position of the optical axis by insert molding in the secondary mold body.
Alternatively, the LED 3 and the P-Tr 4 were simultaneously formed on the same surface of the circuit board 21 in the present invention, although there were many problems such as thermal stress on the element due to twice molding, reliability under stress, cost, etc. As a result, the number of manufacturing steps is small, and the slit 2
The position accuracy of the 4a and 24b and the accuracy of the processing gap G can be accurately obtained. Furthermore, because of the use of reflection,
There is no special need to adjust the optical axis position.
Excellent in accuracy, reliability and cost.

【0025】次に、表面実装型フォトインタラプタの製
造方法について説明する。図3〜図8は、前記筺体が単
体の場合の製造方法で、図3は、集合回路基板にスルー
ホール加工及び電極パターン形成工程を示す斜視図であ
る。図4は、LED及びP−Trのダイボンド及びワイ
ヤーボンド実装工程を示す斜視図である。図5は、樹脂
封止工程を示す斜視図である。図6は、実装から樹脂封
止工程迄を終了した集合回路基板の切断工程後の分割さ
れたフォトインタラプタ単体の斜視図である。図7は、
筺体の外観斜視図である。図8は、筺体の裏面側から見
た外観斜視図である。
Next, a method of manufacturing a surface mount photointerrupter will be described. 3 to 8 show a manufacturing method in the case where the housing is a single body, and FIG. 3 is a perspective view showing a through-hole processing and an electrode pattern forming step on the collective circuit board. FIG. 4 is a perspective view showing a die bonding and wire bonding mounting process of the LED and the P-Tr. FIG. 5 is a perspective view showing a resin sealing step. FIG. 6 is a perspective view of the divided photointerrupter alone after the cutting step of the collective circuit board which has been completed from the mounting to the resin sealing step. FIG.
It is an external appearance perspective view of a housing. FIG. 8 is an external perspective view seen from the back side of the housing.

【0026】図3において、スルーホール加工工程は、
絶縁基板のガラスエポキシ樹脂等よりなる100mm〜
200mm角程度の集合回路基板21Aに回路基板21
を多数個取りするための各列毎同ピッチでNC切削又は
プレス等の加工手段で穴明けし、スルーホール22を形
成する。
In FIG. 3, the through-hole processing step includes:
100mm ~ made of glass epoxy resin etc. for insulating substrate
The circuit board 21 is mounted on the collective circuit board 21A of about 200 mm square.
Are drilled by a processing means such as NC cutting or pressing at the same pitch for each row to form a large number of pieces, thereby forming through holes 22.

【0027】次に、メッキ工程において、前記スルーホ
ール22の壁面を含む集合回路基板21Aの全表面を洗
浄した後、集合回路基板21Aの全表面に無電解メッキ
で銅メッキ層を形成後、電極パターン形成工程に移り、
マスク合わせ、露光、現像、エッチング、レジスト塗
布、マスク合わせ、露光、現像等の各工程を経て、銅の
電極パターンを形成し、最終に電解メッキでNiメッ
キ、その上にAuメッキを施して完了する。こうして前
記集合回路基板21Aの上面にLED3及びP−Tr4
の実装用の電極パターン23a及び23bと、スルーホ
ール電極22a(22b)が形成される。
Next, in a plating step, after cleaning the entire surface of the collective circuit board 21A including the wall surfaces of the through holes 22, a copper plating layer is formed on the entire surface of the collective circuit board 21A by electroless plating. Move to the pattern formation process,
Through the steps of mask alignment, exposure, development, etching, resist coating, mask alignment, exposure, development, etc., a copper electrode pattern is formed, and finally Ni plating by electrolytic plating and Au plating on it are completed I do. Thus, the LED 3 and the P-Tr 4 are disposed on the upper surface of the collective circuit board 21A.
Are formed, and the through-hole electrodes 22a (22b) are formed.

【0028】図4は、実装工程の説明図で、ダイボンド
工程において、前記実装用電極パターン23a及び23
b上に異方性導電シート又は異方性導電接着剤、或いは
導電性接着剤を塗布又は印刷する。例えば、銀ペースト
の場合は、LED3又はP−Tr4の各素子を銀ペース
ト上に搭載し、その後キュア炉に入れて銀ペーストを硬
化させて固着する。
FIG. 4 is an explanatory view of a mounting step. In the die bonding step, the mounting electrode patterns 23a and 23a are formed.
An anisotropic conductive sheet, an anisotropic conductive adhesive, or a conductive adhesive is applied or printed on b. For example, in the case of a silver paste, each element of the LED 3 or the P-Tr 4 is mounted on the silver paste, and then placed in a curing furnace to cure and fix the silver paste.

【0029】ワイヤーボンド工程では、前記固着された
LED3及びP−Tr4のファースト側から金線等のボ
ンディングワイヤー7で決められたセカンド側パターン
にワイヤーボンド接続する。
In the wire bonding step, wire bonding is performed from the first side of the fixed LED 3 and P-Tr 4 to a second side pattern determined by a bonding wire 7 such as a gold wire.

【0030】図5は、樹脂封止工程を示す図で、先ず、
前記集合回路基板21Aのスルーホール22上に樹脂が
スルーホール内へ流れ込むのを防止するため、粘着テー
プ等のマスク部材25を貼付する。次に、所定のギャッ
プGを確保するため、取り個数に応じた複数列の図示し
ない型枠をセットし、エポキシ樹脂等の封止樹脂8を型
枠に充填後、キュアして硬化させる。封止樹脂8が硬化
した後、前記型枠を取り除く。
FIG. 5 is a view showing a resin sealing step.
In order to prevent the resin from flowing into the through holes on the through holes 22 of the collective circuit board 21A, a mask member 25 such as an adhesive tape is attached. Next, in order to secure a predetermined gap G, a plurality of rows of molds (not shown) are set according to the number of pieces to be taken, and after filling the mold with a sealing resin 8 such as an epoxy resin, the molds are cured and cured. After the sealing resin 8 is cured, the mold is removed.

【0031】前記集合回路基板21Aの材質がガラスエ
ポキシ樹脂、封止樹脂8がエポキシ樹脂で、共に同じエ
ポキシ系であるため線膨張係数も同じでキュア等の高温
時における基板と樹脂の剥離や反りが少なく、密着強度
の高い信頼性に優れた樹脂封止後の集合回路基板21A
が得られる。
The material of the collective circuit board 21A is glass epoxy resin, and the sealing resin 8 is epoxy resin. Since both are of the same epoxy type, they have the same linear expansion coefficient, and peel off or warp the resin from the board at high temperatures such as curing. Circuit board 21A after resin encapsulation with low adhesion, high adhesion strength and excellent reliability
Is obtained.

【0032】切断工程は、前述した実装から樹脂封止工
程迄終了した集合回路基板21Aを、直交するX、Yの
カットライン26、27に沿ってダイシング又はスライ
シングマシン等で切断し、図6に示すようなフォトイン
タラプタ単体20Aに分割する。前記X方向のカットラ
イン26はスルーホール22上を通るので、分割断面に
は半円状をしたLED3側のスルーホール電極22a
と、P−Tr4側のスルーホール電極22bがそれぞれ
の列毎に現れ、図6の如く単体に分割されたとき対称位
置に各電極がきてマザーボード等と接続する外部接続電
極となる。
In the cutting step, the assembled circuit board 21A that has been completed from the mounting to the resin sealing step is cut by a dicing or slicing machine or the like along the orthogonal X and Y cut lines 26 and 27, as shown in FIG. The photo interrupter is divided into single photo interrupters 20A as shown. Since the cut line 26 in the X direction passes over the through-hole 22, the through-hole electrode 22a on the LED 3 side having a semicircular shape in the divided cross section is shown.
Then, the through-hole electrodes 22b on the P-Tr4 side appear in each column, and when divided into single units as shown in FIG. 6, each electrode comes to a symmetrical position and becomes an external connection electrode connected to a motherboard or the like.

【0033】図7及び図8に示すように、筺体の加工工
程は、前述したように、Bs材、Al材、SuS材等の
金属薄板をプレス加工でスリット部の穴明けや本体部に
絞り加工で成形する。若しくはプラスチック材料で金型
を使って射出成形加工で成形する。これらいずれかの方
法で成形した筺体24は、外部への遮光と両素子の光路
となるスリット24a、24bとギャップGを挟み左右
が略対称に約45°傾斜した光の反射面24c、24d
備えている。尚、必要に応じて前記反射面24c、24
dには、例えば無電解Niメッキ等のメッキ層(図示し
ない)を形成することにより更に反射率をアップさせる
ことが出来る。
As shown in FIG. 7 and FIG. 8, as described above, in the processing step of the housing, a thin metal plate such as a Bs material, an Al material, or a SuS material is pressed to form a hole in a slit portion or to squeeze a main body portion. Form by processing. Alternatively, it is formed by injection molding using a mold with a plastic material. The housing 24 molded by any of these methods has light-reflecting surfaces 24c and 24d that are approximately symmetrically inclined about 45 ° left and right with slits 24a and 24b and a gap G serving as light paths to the outside and optical paths of both elements.
Have. The reflection surfaces 24c, 24c
For d, the reflectance can be further increased by forming a plating layer (not shown) of, for example, electroless Ni plating.

【0034】最終工程となる一体化するための接着工程
は、前述したフォトインタラプタ単体20Aの回路基板
21の外周縁部又は前記筺体24の下部内周縁部の接合
面に、接着剤を塗布又は印刷し、フォトインタラプタ単
体20Aと筺体24を組合せ接着することで一体化し、
図1及び図2に示すような表面実装型フォトインタラプ
タ20が完成する。
In the final bonding step for integration, the adhesive is applied or printed on the bonding surface of the outer peripheral portion of the circuit board 21 of the photointerrupter unit 20A or the lower inner peripheral portion of the housing 24. Then, the photointerrupter unit 20A and the housing 24 are combined and bonded to be integrated,
The surface mount photointerrupter 20 as shown in FIGS. 1 and 2 is completed.

【0035】次に、表面実装型フォトインタラプタの第
2の実施の形態について説明する。前述した製造方法で
はフォトインタラプタ単体と筺体単体とを接着して表面
実装型フォトインタラプタを形成する方法を述べたが、
ここではフォトインタラプタ集合体と筺体集合体とを接
着し、最終工程で切断、分割することで表面実装型フォ
トインタラプタを得る製造方法について述べる。
Next, a description will be given of a second embodiment of the surface mount photointerrupter. In the manufacturing method described above, the method of forming a surface-mount type photo interrupter by bonding the photo interrupter alone and the housing alone has been described.
Here, a manufacturing method of bonding a photointerrupter assembly and a housing assembly and cutting and dividing the photointerrupter in a final step to obtain a surface mount photointerrupter will be described.

【0036】図9及び図10は、フォトインタラプタ集
合体と筺体集合体それぞれの製造方法を説明する図であ
って、図9は、集合回路基板にスルーホール加工、電極
パターン形成、LED及びP−Trをダイボンド及びワ
イヤーボンド実装、樹脂封止の各工程を経たフォトイン
タラプタ集合体を示す斜視図である。図10は、筺体集
合体の斜視図である。
FIGS. 9 and 10 are views for explaining a method of manufacturing each of the photointerrupter assembly and the housing assembly. FIG. 9 shows through hole processing, electrode pattern formation, LED and P-type fabrication on the assembly circuit board. It is a perspective view which shows the photointerrupter aggregate which passed Tr by die bond and wire bond mounting, and each process of resin sealing. FIG. 10 is a perspective view of the housing assembly.

【0037】図9において、ガラスエポキシ樹脂等より
なる多数個取りする集合回路基板21Aに、LED3と
P−Tr4を別々にして、フォトインタラプタ1個毎の
相当位置の各列毎に、スルーホール加工工程で、前述と
同様に、マザーボード等のプリント基板と接続するスル
ーホール電極を形成するスルーホール22を穴明けす
る。電極パターン形成工程で、前記集合回路基板21A
の上面にLED3及びP−Tr4の実装用電極パターン
23a及び23bと、この電極パターンと接続するスル
ーホール電極22a及び22bを形成する。実装工程
は、前記集合回路基板21A上のLED3及びP−Tr
4をダイボンド及びワイヤーボンドする。樹脂封止工程
は、前記スルーホール22上に図示しない粘着シート等
のカバー部材を貼付し、LED3及びP−Tr4がそれ
ぞれ独立した島状になる如く型枠をセットし、エポキシ
樹脂等の封止樹脂8を型枠に充填し、キュアして硬化さ
せる。以上によりフォトインタラプタ集合体20Bが構
成される。尚、フォトインタラプタ集合体20Bの隅部
には、後述する筺体集合体と位置決めするためのガイド
穴21aが、少なくとも、対角の位置に2個形成されて
いる。
In FIG. 9, the LED 3 and the P-Tr 4 are separately provided on the collective circuit board 21A made of glass epoxy resin or the like, and through-hole processing is performed for each row at a position corresponding to each photo interrupter. In the process, a through-hole 22 for forming a through-hole electrode connected to a printed circuit board such as a motherboard is formed in the same manner as described above. In the electrode pattern forming step, the collective circuit board 21A
Are formed on the upper surface of the mounting electrode patterns 23a and 23b of the LED 3 and the P-Tr 4, and through-hole electrodes 22a and 22b connected to the electrode patterns. The mounting process includes the LED 3 and the P-Tr on the collective circuit board 21A.
4 is die-bonded and wire-bonded. In the resin sealing step, a cover member such as an adhesive sheet (not shown) is attached on the through hole 22, a mold is set so that the LED 3 and the P-Tr 4 become independent islands, and sealing with epoxy resin or the like is performed. The resin 8 is filled in a mold, cured and cured. Thus, the photointerrupter assembly 20B is configured. At the corner of the photo interrupter assembly 20B, at least two diagonal guide holes 21a for positioning with a housing assembly to be described later are formed.

【0038】図10において、筺体集合体24Aは、前
述のフォトインタラプタ集合体20Bと後工程で一体化
される。従って、筺体集合体24Aを構成する各筺体部
と前記フォトインタラプタ集合体20Bを構成する各フ
ォトインタラプタ単体とが一致するように筺体集合体2
0Aが設計されている。そして、その加工方法には、プ
レス加工或いはプラスチック成形加工の2通りがある。
プレス加工は、BS材、アルミ材、SUS材等の金属薄
板24Bをプレス機でスリット部の穴明けや本体部の絞
り加工等で行って成形する。また、プラスチック成形加
工は、プラスチック材料を金型を使って射出成形機で諸
形状を成形する。これらいずれかの方法で成形した筺体
集合体24Aの各筺体部は、各部への遮光と両素子の光
路となるスリット24a、24bとギャップGを挟み、
左右が略対称に約45°傾斜した光の反射面24c、2
4dを備えている。また、前記反射面24c、24dに
は更に反射効率をアップさせるため、例えば無電解Ni
メッキ等のメッキ層(図示しない)を形成する。尚、筺
体集合体24Aの隅部には、ガイド穴24eが前記フォ
トインタラプタ集合体20Bに形成したガイド穴21a
と同様に少なくとも、対の位置に2個形成されている。
次工程でガイド穴同志が重なって位置決めされる。
In FIG. 10, the housing assembly 24A is integrated with the photointerrupter assembly 20B in a later step. Therefore, the housing assembly 2 is configured such that the respective housing portions constituting the housing assembly 24A and the individual photointerrupters constituting the photointerrupter assembly 20B coincide with each other.
OA is designed. And there are two types of processing methods, such as press processing and plastic molding processing.
The press working is performed by forming a thin metal plate 24B made of a BS material, an aluminum material, a SUS material or the like by punching a slit portion or drawing a main body portion by a press machine. In plastic molding, various shapes are molded from a plastic material by using an injection molding machine using a mold. Each housing part of the housing assembly 24A molded by any of these methods interposes a gap G with slits 24a and 24b serving as light shielding to each part and optical paths of both elements,
Light reflecting surface 24c, left and right approximately symmetrically inclined by about 45 °, 2
4d. In order to further increase the reflection efficiency, the reflection surfaces 24c and 24d are made of, for example, electroless Ni.
A plating layer (not shown) such as plating is formed. In the corner of the housing assembly 24A, a guide hole 24e is formed in the photo-interrupter assembly 20B.
Similarly, at least two are formed at the paired positions.
In the next step, the guide holes overlap and are positioned.

【0039】一体化工程は、前記フォトインタラプタ集
合体20Bと筺体集合体24Aの両方又は一方の各要部
に接着剤を塗布又は印刷し、前記両者のガイド穴21a
と24eとを合致させて位置決めし、両者を固着して表
面実装型フォトインタラプタ20の集合体を形成する。
In the integrating step, an adhesive is applied or printed on each or both of the photo interrupter assembly 20B and the housing assembly 24A, and the guide holes 21a of the both.
And 24e are aligned and positioned, and they are fixed to form an assembly of the surface mount photointerrupter 20.

【0040】最終工程となる切断工程は、前工程の前記
一体化工程で形成した表面実装型フォトインタラプタ2
0の集合体を直交するX、Yのカットライン26、27
に沿って、ダイシング又はスライシングマシン等で単体
にカット分割することで図1、図2に示すような表面実
装型フォトインタラプタ20が完成する。
The final cutting step is the surface mounting type photointerrupter 2 formed in the above-mentioned integration step of the previous step.
X, Y cut lines 26, 27 orthogonal to the set of 0
The surface mount type photo-interrupter 20 as shown in FIGS. 1 and 2 is completed by being cut and divided into single pieces by a dicing or slicing machine along.

【0041】以上、筺体が単体の場合と集合体の場合の
2つの製造方法について説明したが、いずれの場合にお
いても、LEDとP−Trが多数個取りする集合回路基
板の同一面上で各工程毎に一括処理されるため効率が高
く、また100mm〜200mm角程度の集合回路基板
におけるフォトインタラプタ取り個数が約1000個前
後可能で製造コストを極めて安価にすることができる。
The two manufacturing methods, that is, the case where the housing is a single body and the case where the housing is an aggregate have been described above. In any case, the LED and the P-Tr are individually mounted on the same surface of a collective circuit board. Since batch processing is performed for each process, the efficiency is high, and the number of photointerrupters to be mounted on a collective circuit board of about 100 mm to 200 mm square can be about 1000 pieces, so that the manufacturing cost can be extremely reduced.

【0042】図11〜図13は、本発明の第1、第2の
実施の形態に係わり、図11は筺体の外観斜視図、図1
2は筺体の裏面側の斜視図、図13は表面実装型フォト
インタラプタの断面図である。
FIGS. 11 to 13 relate to the first and second embodiments of the present invention. FIG. 11 is an external perspective view of a housing.
2 is a perspective view of the back side of the housing, and FIG. 13 is a cross-sectional view of the surface mount photointerrupter.

【0043】前述した第1、第2の実施の形態で説明し
た筺体と異なるところは、回路基板21と相対し、且つ
平行な前記筺体き上面頂部24eの形状を、表面積を広
く略四角形状としたことである。筺体24の上面頂部2
4eを広くすることにより、マウント機での頂部吸着が
確実となり、表面実装型フォトインタラプタのマザーボ
ード等への供給安定性が向上する。
The difference from the housings described in the first and second embodiments is that the shape of the top surface 24e of the upper surface of the housing which is opposed to and parallel to the circuit board 21 has a large surface area and a substantially square shape. It was done. Top part 2 of the upper surface of the housing 24
By making 4e wider, the suction at the top of the mounting machine is ensured, and the supply stability of the surface mount photointerrupter to the motherboard or the like is improved.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板及び筺体は集合体で製造するので多数個取りが可能
でり、また、製造工程の大半は集合状態のままで進めら
れるので製造コストは極めて安価である。また、光軸合
わせが極めて容易となる。
As described above, according to the present invention,
Since the substrate and the housing are manufactured in an aggregate, a large number of individual substrates can be obtained. Further, since most of the manufacturing process is performed in an assembled state, the manufacturing cost is extremely low. Moreover, optical axis alignment becomes extremely easy.

【0045】更に、絶縁基板である集合回路基板の材質
がガラス繊維入りエポキシ樹脂基板であり、封止樹脂に
エポキシ樹脂を使用するので双方が同じエポキシ系で線
膨張係数も同一なため、高温、低温、湿度等における相
互の固定力が強く信頼性が高い。
Further, the material of the collective circuit board, which is an insulating board, is an epoxy resin board containing glass fiber. Since epoxy resin is used for the sealing resin, both are of the same epoxy type and have the same linear expansion coefficient. The mutual fixing force at low temperature, humidity, etc. is strong and the reliability is high.

【0046】また、筺体は金属板のプレス加工或いはプ
ラスチック成形加工のため、金型によるスリット位置や
ギャップ幅を高精度に加工でき、信頼性が向上する。
Further, since the housing is formed by pressing a metal plate or molding a plastic, the slit position and the gap width by the die can be processed with high precision, and the reliability is improved.

【0047】また、必要により前記筺体の反射面である
内面にメッキ等の表面処理を施すことにより反射効率を
アップすることができる。
Further, by applying a surface treatment such as plating to the inner surface, which is the reflection surface of the housing, as required, the reflection efficiency can be improved.

【0048】また、筺体の頂部の面積を広く形成するこ
とにより、マウント機での頂部の吸着が確実となり、表
面実装型フォトインタラプタのマザーボード等への供給
安定性が向上する。
Further, by forming the area of the top portion of the housing to be large, suction of the top portion by the mounting machine is ensured, and the supply stability of the surface mount photointerrupter to the motherboard or the like is improved.

【0049】また、それぞれの集合体の一体化は従来の
ように複雑な2次モールド金型を使用することがないた
め、発光素子及び受光素子が熱応力や機械的応力等の悪
影響を受けることがなく高信頼性、高精度が実現でき
る。
In addition, since the assembly of each assembly does not use a complicated secondary mold as in the prior art, the light emitting element and the light receiving element are adversely affected by thermal stress, mechanical stress and the like. And high reliability and high accuracy can be realized.

【0050】以上のように、超小型で、しかも高精度、
高分解能を実現可能で、更に市場が要求している小型、
SMD及び高寿命、高信頼性で、極めて安価な表面実装
型フォトインタラプタ及びその製造方法を提供すること
ができる。
As described above, an ultra-compact, high-precision,
High resolution can be realized, and the small size required by the market,
It is possible to provide an SMD, a long-life, high-reliability, extremely inexpensive surface-mount photointerrupter and a method for manufacturing the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係わる表面実装型
フォトインタラプタの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a surface-mount photointerrupter according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の表面実装型フォトインタラプタの外観を
示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an appearance of the surface mount photointerrupter of FIG.

【図3】本発明の表面実装型フォトインタラプタの製造
方法に係わり、集合回路基板にスルーホール加工及び電
極パターン形成工程を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a process of forming a through hole and forming an electrode pattern on a collective circuit board according to the method of manufacturing a surface mount photointerrupter of the present invention.

【図4】図3の集合回路基板に、LED及びP−Trを
ダイボンド及びワイヤーボンド実装工程を示す斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view showing a die bonding and wire bonding mounting process of an LED and a P-Tr on the collective circuit board of FIG. 3;

【図5】図4の集合回路基板の樹脂封止工程を示す斜視
図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a resin sealing step of the collective circuit board of FIG. 4;

【図6】図5の集合回路基板をダイシング工程にて分割
した単体のフォトインタラプタの斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view of a single photointerrupter obtained by dividing the collective circuit board of FIG. 5 in a dicing process.

【図7】本発明の筺体単体の外観斜視図である。FIG. 7 is an external perspective view of a housing alone according to the present invention.

【図8】図7の筺体の裏面側の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of the back side of the housing of FIG. 7;

【図9】本発明の表面実装型フォトインタラプタの第2
の実施の形態に係わり、集合回路基板にスルーホール加
工、電極パターン形成、LED及びP−Trをダイボン
ド及びワイヤーボンド実装、樹脂封止の工程を経たフォ
トインタラプタ集合体の斜視図である。
FIG. 9 shows a second example of the surface mount photointerrupter of the present invention.
FIG. 13 is a perspective view of a photointerrupter assembly that has been subjected to through-hole processing, electrode pattern formation, LED and P-Tr die-bonding and wire-bonding mounting, and resin sealing on a collective circuit board according to the embodiment.

【図10】本発明の第2の実施の形態に係わる筺体を集
合体で製造する場合の斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view of a case where a housing according to a second embodiment of the present invention is manufactured as an aggregate.

【図11】本発明の第1、第2の実施の形態に係わる筺
体の外観斜視図である。
FIG. 11 is an external perspective view of a housing according to the first and second embodiments of the present invention.

【図12】図11の裏面側の斜視図である。FIG. 12 is a perspective view of the back side of FIG. 11;

【図13】本発明の第1、第2の実施の形態に係わる表
面実装型フォトインタラプタの断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view of the surface mount photointerrupter according to the first and second embodiments of the present invention.

【図14】一般的なフォトインタラプタの回路構成図で
ある。
FIG. 14 is a circuit configuration diagram of a general photo interrupter.

【図15】従来のフォトインタラプタの斜視図である。FIG. 15 is a perspective view of a conventional photointerrupter.

【図16】図15のA−A線断面図である。FIG. 16 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 LED(発光素子) 4 P−Tr(受光素子) 7 ボンディングワイヤー 8 封止樹脂 20 表面実装型フォトインタラプタ 20A フォトインタラプタ単体 20B フォトインタラプタ集合体 21 回路基板 21a、24e ガイド穴 21A 集合回路基板 22 スルーホール 22a、22b スルーホール電極 23a、23b 電極パターン 24 筺体 24a、24b スリット 24c、24d 反射面 24e 頂部 25 マスク部材 26 X方向カットライン 27 Y方向カットライン G ギャップ Reference Signs List 3 LED (light emitting element) 4 P-Tr (light receiving element) 7 bonding wire 8 sealing resin 20 surface mount type photo interrupter 20A single photo interrupter 20B photo interrupter assembly 21 circuit board 21a, 24e guide hole 21A assembly circuit board 22 through Hole 22a, 22b Through-hole electrode 23a, 23b Electrode pattern 24 Housing 24a, 24b Slit 24c, 24d Reflective surface 24e Top 25 Mask member 26 X-direction cut line 27 Y-direction cut line G gap

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 発光素子からの光をギャップを介して受
光素子が受光して被検出物の有無を無接点で検出する表
面実装型フォトインタラプタにおいて、前記発光素子又
は受光素子を絶縁基板に実装し、封止樹脂で封止すると
共に、両素子の光路となる光の反射面とスリットとを設
け、且つ、外部への遮光と所定のギャップを設けた筺体
とを組み合わせたことを特徴とする表面実装型フォトイ
ンタラプタ。
1. A surface-mounted photointerrupter in which a light-receiving element receives light from a light-emitting element via a gap and detects the presence or absence of an object without contact, wherein the light-emitting element or the light-receiving element is mounted on an insulating substrate. In addition to being sealed with a sealing resin, a light reflecting surface and a slit serving as an optical path of both elements are provided, and light shielding to the outside and a housing provided with a predetermined gap are combined. Surface mount type photo interrupter.
【請求項2】 前記絶縁基板は側面に外部電極としての
スルーホール電極を設けたことを特徴とする請求項1記
載の表面実装型フォトインタラプタ。
2. The surface mount photointerrupter according to claim 1, wherein the insulating substrate has a through hole electrode as an external electrode on a side surface.
【請求項3】 前記筺体は、金属又はプラスチック材で
形成されていることを特徴とする請求項1記載の表面実
装型フォトインタラプタ。
3. The surface mount photointerrupter according to claim 1, wherein the housing is formed of a metal or a plastic material.
【請求項4】 前記筺体に形成した両素子の光路となる
光の反射面にメッキ層を形成して反射効率をアップした
ことを特徴とする請求項1記載の表面実装型フォトイン
タラプタ。
4. The surface mount type photo-interrupter according to claim 1, wherein a plating layer is formed on a light reflection surface serving as an optical path of both elements formed in said housing to increase reflection efficiency.
【請求項5】 前記メッキ層は、ニッケルメッキである
ことを特徴とする請求項1記載の表面実装型フォトイン
タラプタ。
5. The surface mount photointerrupter according to claim 1, wherein said plating layer is nickel plating.
【請求項6】 前記両素子を樹脂封止した絶縁基板と前
記筺体とを接着剤で固着したことを特徴とする請求項1
記載の表面実装型フォトインタラプタ。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the housing and the insulating substrate in which the two elements are sealed with a resin are fixed with an adhesive.
The surface-mounted photointerrupter described.
【請求項7】 前記筺体に形成した反射面の角度は、4
5°±10°以内であることを特徴とする請求項1記載
の表面実装型フォトインタラプタ。
7. The angle of the reflection surface formed on the housing is 4
2. The surface mount photointerrupter according to claim 1, wherein the angle is within 5 ° ± 10 °.
【請求項8】 前記絶縁基板と相対し、且つ、平行な前
記筺体の頂部形状は頂面を広くした略四角形状であるこ
とを特徴とする請求項1記載の表面実装型フォトインタ
ラプタ。
8. The surface mount photointerrupter according to claim 1, wherein a top shape of the housing facing and parallel to the insulating substrate is a substantially square shape having a wide top surface.
【請求項9】 発光素子からの光をギャップを介して受
光素子が受光して被検出物の有無を無接点で検出する表
面実装型フォトインタラプタの製造方法において、絶縁
基板であるガラスエポキシ樹脂等よりなる多数個取りす
る集合回路基板に複数列のスルーホールを穴明けするス
ルーホール加工工程と、前記集合回路基板の上面に複数
列の発光素子及び受光素子を実装するための実装用電極
パターン及び前記スルーホールにマザーボード等のプリ
ント基板と接続するスルーホール電極を形成する電極パ
ターン形成工程と、前記集合回路基板上に複数個の発光
素子及び受光素子をダイボンド及びワイヤーボンドする
実装工程と、前記スルーホール上にドライフィルム等の
マスク部材を貼付し、型枠をセットし、エポキシ樹脂等
の封止樹脂を前記型枠に充填し、キュアして硬化させる
樹脂封止工程、又は型枠を使用しないポッティングによ
る樹脂封止工程と、樹脂封止工程迄を終了した前記集合
回路基板を、直交するカットラインに沿ってダイシング
又はスライシングにより単体の回路基板に分割する切断
工程迄を進めておき、一方、前記両素子の光路となる光
の反射面とスリットとを設け、且つ、外部への遮光と、
所定のギャップを設けた金属又はプラスチック材等で成
形した筺体のプレス加工工程、又はプラ成形加工工程
と、必要に応じて前記筺体の反射面にメッキ層を形成す
るメッキ工程を経て筺体を形成し、次に、前記切断工程
で分割した単体の回路基板に前記筺体を被せて組合せ、
接着剤等の固着手段で一体化する固着工程で完成品とな
り、これら一連の工程から構成されたことを特徴とする
表面実装型フォトインタラプタの製造方法。
9. A method for manufacturing a surface mount photointerrupter in which light from a light emitting element is received by a light receiving element via a gap and the presence or absence of an object to be detected is detected in a contactless manner. A through-hole processing step of drilling a plurality of rows of through-holes in a collective circuit board comprising a plurality of pieces, and a mounting electrode pattern for mounting a plurality of rows of light-emitting elements and light-receiving elements on an upper surface of the collective circuit board; An electrode pattern forming step of forming a through-hole electrode connected to a printed circuit board such as a motherboard in the through-hole; a mounting step of die-bonding and wire-bonding a plurality of light-emitting elements and light-receiving elements on the collective circuit board; A mask member such as a dry film is attached on the hole, a mold is set, and a sealing resin such as an epoxy resin is molded into the mold. Filling the frame, curing and curing the resin sealing step, or the resin sealing step by potting without using a mold, and the assembled circuit board that has been completed up to the resin sealing step, along the orthogonal cut line Up to the cutting step of dividing into a single circuit board by dicing or slicing, on the other hand, providing a light reflecting surface and a slit to be the optical path of the two elements, and, and shielding to the outside,
A casing is formed through a pressing step of a casing molded of a metal or a plastic material or the like provided with a predetermined gap, or a plastic molding step, and, if necessary, a plating step of forming a plating layer on a reflection surface of the casing. Next, the housing is put on the single circuit board divided in the cutting step and combined,
A method for manufacturing a surface-mount type photointerrupter, wherein a finished product is formed by a fixing step of integrating with a fixing means such as an adhesive, and the series of these steps is constituted.
【請求項10】 発光素子からの光をギャップを介して
受光素子が受光して被検出物の有無を無接点で検出する
表面実装型フォトインタラプタの製造方法において、絶
縁基板であるガラスエポキシ樹脂等よりなる多数個取り
する集合回路基板に複数列のスルーホールを穴明けする
スルーホール加工工程と、前記集合回路基板の上面に複
数列の発光素子及び受光素子を実装するための実装用電
極パターン及び前記スルーホールにマザーボード等のプ
リント基板と接続するスルーホール電極を形成する電極
パターン形成工程と、前記集合回路基板上に複数個の発
光素子及び受光素子をダイボンド及びワイヤーボンドす
る実装工程と、前記スルーホール上にドライフィルム等
のマスク部材を貼付し、型枠をセットし、エポキシ樹脂
等の封止樹脂を前記型枠に充填し、キュアして硬化させ
る樹脂封止工程、又は型枠を使用しないポッティングに
よる樹脂封止工程とにより、樹脂封止迄を完了させた集
合回路基板を形成しておき、一方、前記両素子の光路と
なる光の反射面とスリットとを設け、且つ、外部への遮
光と所定のギャップを設けた多数個取りする金属又はプ
ラスチック材等で成形した筺体集合体のプレス加工工
程、又はプラ成形加工工程と、必要に応じて前記筺体集
合体の各筺体反射面にメッキ層を形成するメッキ工程と
により筺体集合体を形成し、次に、前記樹脂封止迄を完
了してある集合回路基板に前記筺体集合体を被せて組合
せ、接着剤等の固着手段で一体化する固着工程を経た
後、一体化したものを直交するカットラインに沿ってダ
イシング又はスライシングにより単体のフォトインタラ
プタに分割する切断工程からなることを特徴とする表面
実装型フォトインタラプタの製造方法。
10. A method for manufacturing a surface mount photointerrupter in which light from a light emitting element is received by a light receiving element via a gap and the presence or absence of an object is detected in a contactless manner. A through-hole processing step of drilling a plurality of rows of through-holes in a collective circuit board comprising a plurality of pieces, and a mounting electrode pattern for mounting a plurality of rows of light-emitting elements and light-receiving elements on an upper surface of the collective circuit board; An electrode pattern forming step of forming a through-hole electrode connected to a printed circuit board such as a motherboard in the through-hole; a mounting step of die-bonding and wire-bonding a plurality of light-emitting elements and light-receiving elements on the collective circuit board; Paste a mask member such as a dry film on the hole, set a mold, and apply a sealing resin such as an epoxy resin Filling the mold, curing and curing the resin sealing process, or the resin sealing process by potting without using the mold, to form a collective circuit board that has been completed up to resin sealing, Forming a reflection surface and a slit of light serving as an optical path of the two elements, and a step of pressing a housing assembly formed of a metal or plastic material or the like, which is provided with a light-shielding element and a predetermined gap provided with a predetermined gap; Alternatively, a housing assembly is formed by a plastic molding process step and, if necessary, a plating step of forming a plating layer on each housing reflection surface of the housing assembly, and then the steps up to the resin sealing are completed. After passing through a fixing step of putting the housing assembly on the assembly circuit board and assembling them, and integrating them with an adhesive or other fixing means, dicing or slicing the integrated components along a perpendicular cut line to form a single unit. Surface mount photointerrupter manufacturing method characterized by comprising the cutting step of dividing the bets interrupter.
JP08959898A 1998-03-19 1998-03-19 Surface mount type photointerrupter and method of manufacturing the same Expired - Lifetime JP4165670B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08959898A JP4165670B2 (en) 1998-03-19 1998-03-19 Surface mount type photointerrupter and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08959898A JP4165670B2 (en) 1998-03-19 1998-03-19 Surface mount type photointerrupter and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11274550A true JPH11274550A (en) 1999-10-08
JP4165670B2 JP4165670B2 (en) 2008-10-15

Family

ID=13975220

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08959898A Expired - Lifetime JP4165670B2 (en) 1998-03-19 1998-03-19 Surface mount type photointerrupter and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4165670B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006269777A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Rohm Co Ltd Plate mounting photointerrupter and manufacturing method thereof
JP2007059657A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Citizen Electronics Co Ltd Photo interrupter
JP2007059658A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Citizen Electronics Co Ltd Photo interrupter
JP2007109851A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Citizen Electronics Co Ltd Photo interrupter
JP2008034420A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Shinko Denshi Kk Photointerrupter
US7459711B2 (en) 2005-03-24 2008-12-02 Rohm Co., Ltd. Surface mount type photo interrupter and method for manufacturing the same
JP2014207395A (en) * 2013-04-16 2014-10-30 新日本無線株式会社 Optical semiconductor device and manufacturing method of the same
JP2016213504A (en) * 2011-08-08 2016-12-15 ローム株式会社 Photointerrupter and mounting structure of photointerrupter
US11585959B2 (en) 2019-08-29 2023-02-21 Canon Kabushiki Kaisha Optical sensor

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006269777A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Rohm Co Ltd Plate mounting photointerrupter and manufacturing method thereof
US7459711B2 (en) 2005-03-24 2008-12-02 Rohm Co., Ltd. Surface mount type photo interrupter and method for manufacturing the same
JP2007059657A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Citizen Electronics Co Ltd Photo interrupter
JP2007059658A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Citizen Electronics Co Ltd Photo interrupter
JP2007109851A (en) * 2005-10-13 2007-04-26 Citizen Electronics Co Ltd Photo interrupter
JP2008034420A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Shinko Denshi Kk Photointerrupter
JP2016213504A (en) * 2011-08-08 2016-12-15 ローム株式会社 Photointerrupter and mounting structure of photointerrupter
JP2014207395A (en) * 2013-04-16 2014-10-30 新日本無線株式会社 Optical semiconductor device and manufacturing method of the same
US11585959B2 (en) 2019-08-29 2023-02-21 Canon Kabushiki Kaisha Optical sensor

Also Published As

Publication number Publication date
JP4165670B2 (en) 2008-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3507251B2 (en) Optical sensor IC package and method of assembling the same
JPH11274550A (en) Surface mount type photo interrupter and manufacture thereof
JP3900613B2 (en) Surface mount type chip component and manufacturing method thereof
JP4246855B2 (en) Reflective optical sensor and manufacturing method thereof
JP2002203920A (en) Solid-state image pickup device and its manufacturing method
JP3193780B2 (en) Manufacturing method of reflection type optical coupling device
JPH08186284A (en) Surface-mounting photocoupler and its manufacture
CN212434647U (en) Optical chip packaging structure and photoelectric device
KR102459822B1 (en) semiconductor device
JPH11145508A (en) Photo-interrupter and manufacture thereof
JP3640456B2 (en) Photo-interrupter
JP3792321B2 (en) Photointerrupter and method for manufacturing the same
JP2000012892A (en) Photointerrupter
JP2009042469A (en) Optical module, method of manufacturing optical module, optoelectronic composite circuit composed by using optical module and method of manufacturing the same
JP2981371B2 (en) Optical coupling device
JP3493302B2 (en) Optical coupling device and manufacturing method thereof
JP3101007B2 (en) Transmission type optical coupling device
JPH08204049A (en) Manufacture of package for optical component
JP2006269777A (en) Plate mounting photointerrupter and manufacturing method thereof
US20230327056A1 (en) Surface mountable optoelectronic device with side walls including slots filled with a laminated encapsulant material
JP3585952B2 (en) Optical coupling device
JPH11145506A (en) Photo-interrupter and manufacture thereof
JP2006303183A (en) Surface mounting photointerrupter and its fabrication process
JP4086347B2 (en) Manufacturing method of surface mount type photocoupler
JPH11163391A (en) Optical semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080228

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080528

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080624

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080723

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080723

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140808

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term