JPH11268172A - Transparent barrier film, and laminate material and packaging container using the film - Google Patents
Transparent barrier film, and laminate material and packaging container using the filmInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は透明バリアフィルム
とこれを用いた積層材および包装用容器に係り、特に優
れたバリアー性、透明性および耐衝撃性を備える透明バ
リアフィルムと、優れた保存適性と電子レンジ適性およ
び後加工適性を有する積層材、包装用容器に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent barrier film, a laminated material and a packaging container using the same, and more particularly to a transparent barrier film having excellent barrier properties, transparency and impact resistance, and excellent storage suitability. And a laminate and packaging container having microwave oven suitability and post-processing suitability.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、酸素ガスおよび水蒸気等に対
するバリア性を備え、食品や医薬品等の良好な保存適性
を有する包装用材料として、種々のものが開発され提案
されているが、近年それらとして、可撓性プラスチック
基材の上にポリ塩化ビニリデンやエチレンビニルアルコ
ール共重合体のコーテンィグ層を設けた構成からなる透
明バリアフィルムや、可撓性プラスチック基材の上に酸
化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設
けた構成からなる透明バリアフィルム、また、それらを
使用した包装用積層材および包装用容器等が提案されて
いる。2. Description of the Related Art Conventionally, various materials have been developed and proposed as packaging materials having a barrier property against oxygen gas and water vapor and having good storage suitability for foods and pharmaceuticals. A transparent barrier film consisting of a coating layer of polyvinylidene chloride or ethylene vinyl alcohol copolymer on a flexible plastic substrate, or silicon oxide, aluminum oxide, etc. on a flexible plastic substrate. A transparent barrier film having a configuration in which an inorganic oxide vapor-deposited film is provided, and a packaging laminate and a packaging container using the same have been proposed.
【０００３】これらのものは、従来のアルミニウム箔等
を使用した包装用積層材等と比較して透明性に優れ、同
時に水蒸気、酸素ガス等に対し高いバリア性と保香性等
を有し、包装用材料、その他等にその需要が大いに期待
されているものである。[0003] These materials are excellent in transparency as compared with conventional laminated materials for packaging using aluminum foil or the like, and at the same time, have high barrier properties against water vapor, oxygen gas, etc. The demand for packaging materials, etc. is greatly expected.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
透明バリアフィルム、それを使用した包装用積層材等の
うち、ポリ塩化ビニリデンやエチレンビニルアルコール
共重合体のコーティング層を設けた透明バリアフィルム
においては、酸素、水蒸気に対するバリア性が十分でな
く、特に高温での殺菌処理においてバリア性の著しい低
下が生じるという問題がある。さらに、ポリ塩化ビニリ
デンのコーティング層を設けた透明バリアフィルムは、
焼却時に有毒なダイオキシンを発生し、環境への悪影響
が懸念されている。However, among the above-mentioned transparent barrier films and packaging laminates using the same, among the above-mentioned transparent barrier films provided with a coating layer of polyvinylidene chloride or an ethylene vinyl alcohol copolymer, In addition, there is a problem that the barrier properties against oxygen and water vapor are not sufficient, and the barrier properties are significantly reduced particularly in sterilization treatment at a high temperature. Furthermore, a transparent barrier film provided with a coating layer of polyvinylidene chloride
Poisonous dioxins are generated during incineration, and there is a concern that it will have a negative impact on the environment.
【０００５】一方、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無
機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリアフィルムは、環境
への影響もほとんどなく、良好なバリア性を示す。しか
しながら、従来のアルミニウム箔を用いた包装用積層材
等と比べた場合、酸素、水蒸気等に対するバリア性能が
劣るという問題点がある。On the other hand, a transparent barrier film provided with a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide and aluminum oxide has almost no effect on the environment and exhibits good barrier properties. However, there is a problem that the barrier performance against oxygen, water vapor, and the like is inferior to a conventional laminate material for packaging using aluminum foil.
【０００６】更に、生活水準の向上に伴い、包装用材料
に求められる性能も一層の高い性能が要求されてきてい
る。すなわち、優れた透明性を有し、かつ、高いバリア
性をもった透明バリアフィルムが求められている。[0006] Further, as the standard of living is improved, higher performance is required for packaging materials. That is, a transparent barrier film having excellent transparency and high barrier properties is required.
【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、優れた透明性と高いバリア性を有し、耐
衝撃性にも優れた透明バリアフィルムと、さらに後加工
適性を有する積層材と、内容物の充填包装適性が良好な
包装用容器を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and has a transparent barrier film having excellent transparency and high barrier properties, excellent impact resistance, and further suitable for post-processing. It is an object of the present invention to provide a laminated material and a packaging container having good filling and packaging suitability for contents.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の透明バリアフィルムは、基材フィル
ムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられ
たバリア層とを少なくとも有し、前記バリア層は物理気
相蒸着法（ＰＶＤ法）により形成された酸化珪素を主体
とする薄膜であって波長６３３ｎｍにおける屈折率が
１．４６〜１．６０の範囲内にあるような構成とした。In order to achieve the above object, a transparent barrier film of the present invention comprises a base film and a barrier layer provided on at least one surface of the base film. The barrier layer is a thin film mainly composed of silicon oxide formed by physical vapor deposition (PVD), and has a refractive index at a wavelength of 633 nm in the range of 1.46 to 1.60. The configuration was adopted.
【０００９】また、本発明の透明バリアフィルムは、基
材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に
設けられたバリア層とを少なくとも有し、前記バリア層
は物理気相蒸着法（ＰＶＤ法）により形成された酸化珪
素を主体とする薄膜であり、該バリア層の赤外分光法に
より測定した分光スペクトルにおいて、１０００〜１１
００ｃｍ-1の範囲に最も大きな吸収を示すピークとして
現れる珪素原子と酸素原子からなる伸縮振動吸収（Ｓｉ
−Ｏ−Ｓｉ伸縮モード）のピークの位置が１０２０〜１
０５０ｃｍ-1の範囲内にあるような構成とした。Further, the transparent barrier film of the present invention has at least a base film and a barrier layer provided on at least one surface of the base film, and the barrier layer is formed by physical vapor deposition (PVD). Method) is a thin film mainly composed of silicon oxide formed by the above method, and in the spectrum of the barrier layer measured by infrared spectroscopy, 1000 to 11
Stretching vibration absorption (Si) composed of silicon atoms and oxygen atoms appearing as a peak showing the largest absorption in the range of 00 cm -1
-O-Si stretching mode) has a peak position of 1,200 to 1,
The configuration was such that it was within the range of 050 cm -1 .
【００１０】そして、本発明の透明バリアフィルムは、
前記基材フィルムが二軸延伸ポリプロピレンフィルム、
二軸延伸ポリアミドフィルム、および、二軸延伸ポリエ
チレンテレフタレートフィルムのいずれかであるような
構成とした。[0010] The transparent barrier film of the present invention comprises
The base film is a biaxially oriented polypropylene film,
The configuration was such that it was either a biaxially stretched polyamide film or a biaxially stretched polyethylene terephthalate film.
【００１１】本発明の積層材は、上記の透明バリアフィ
ルムの少なくとも一方の面にヒートシール性樹脂層を設
けたような構成とした。The laminated material of the present invention has such a structure that a heat-sealing resin layer is provided on at least one surface of the transparent barrier film.
【００１２】また、本発明の積層材は、上記の透明バリ
アフィルムのバリア層上にヒートシール性樹脂層を設け
たような構成、バリア層が形成されていない基材フィル
ム上に基材を積層して備えるような構成とし、さらに、
基材上にヒートシール性樹脂層を備えるような構成とし
た。Further, the laminated material of the present invention has a structure in which a heat-sealing resin layer is provided on the barrier layer of the above-mentioned transparent barrier film, and a substrate is laminated on a substrate film on which no barrier layer is formed. To be prepared, and
The heat sealing resin layer was provided on the substrate.
【００１３】また、本発明の積層材は、バリア層とヒー
トシール性樹脂層との間にアンカーコート剤層および／
または接着剤層を有するような構成とした。Further, the laminate of the present invention comprises an anchor coat agent layer and / or a heat transfer layer between the barrier layer and the heat-sealing resin layer.
Alternatively, a configuration having an adhesive layer was adopted.
【００１４】本発明の包装用容器は、上記の積層材を用
い、ヒートシール性樹脂層を熱融着して製袋または製函
したような構成とした。The packaging container of the present invention has a configuration in which the above-described laminated material is used to form a bag or a box by heat-sealing a heat-sealing resin layer.
【００１５】このような本発明では、酸化珪素を主体と
した薄膜からなるバリア層が優れた透明性を備えるとと
もに緻密であり、透明バリアフィルムに極めて高い透明
性とバリアー性および耐衝撃性を付与し、この透明バリ
アフィルムを用いた積層材は、上記の各特性に加えヒー
トシール性樹脂層による後加工適性が付与され、この積
層材を製袋または製函した包装用容器は優れた内容物の
充填包装適性が備えられている。In the present invention, the barrier layer composed of a thin film mainly composed of silicon oxide has excellent transparency and is dense, and imparts extremely high transparency, barrier properties and impact resistance to the transparent barrier film. The laminated material using the transparent barrier film is provided with post-processing suitability by a heat-sealable resin layer in addition to the above-mentioned respective properties. Filling and packaging suitability.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照しながら説明する。透明バリアフィルム 図１は本発明の透明バリアフィルムの一実施形態を示す
概略断面図である。図１において透明バリアフィルム１
は基材フィルム２と、この基材フィルム２の一方の面に
形成されたバリアー層３とからなる。尚、本発明の透明
バリアフィルムは、基材フィルム２の両面にバリア層３
を備えるものでもよい。 （基材フィルム）本発明の透明バリアフィルム１を構成
する基材フィルム２は、バリア層３を保持し得る透明な
フィルムであれば特に制限はなく、透明バリアフィルム
の使用目的等から適宜選択することができる。具体的に
は、基材フィルム２としてポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン等のポリオレフィン系樹脂、（メタ）ア
クリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系
樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体ケン化物、ポリビニルアルコール、ポリカー
ボネート系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹
脂、アセタール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂等の延伸（一軸ないし二軸）または未延伸の可
撓性樹脂フィルムを用いることができる。基材フィルム
２の厚さとしては、５〜５００μｍ、好ましくは１０〜
１００μｍの範囲内で適宜設定することができる。Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Transparent Barrier Film FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of the transparent barrier film of the present invention. In FIG. 1, the transparent barrier film 1
Comprises a base film 2 and a barrier layer 3 formed on one surface of the base film 2. In addition, the transparent barrier film of the present invention has a barrier layer 3 on both sides of the base film 2.
May be provided. (Base Film) The base film 2 constituting the transparent barrier film 1 of the present invention is not particularly limited as long as it is a transparent film capable of holding the barrier layer 3, and is appropriately selected from the purpose of use of the transparent barrier film and the like. be able to. Specifically, as the base film 2, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutene, (meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polystyrene resins, polyvinylidene chloride resins, and ethylene-vinyl acetate copolymers are used. Stretched (uniaxial or biaxial) or unstretched flexible resin film of unified saponified product, polyvinyl alcohol, polycarbonate resin, fluorine resin, polyvinyl acetate resin, acetal resin, polyester resin, polyamide resin, etc. Can be used. The thickness of the base film 2 is 5 to 500 μm, preferably 10 to 500 μm.
It can be set appropriately within the range of 100 μm.
【００１７】また、上記のような基材フィルム２は、必
要に応じて、その表面にアンカーコート剤等をコーティ
ングして表面平滑化処理等を施したものであってもよ
い。 （バリア層）本発明の透明バリアフィルム１を構成する
バリア層３は、真空蒸着法、スパッタリング法等の物理
気相蒸着法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏ
ｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）により形成された酸化珪素
を主体とする薄膜からなる層である。この酸化珪素薄膜
の構成要素としては、基本的には、主として珪素および
酸素からなる薄膜であり、その構成比率は問わないが、
好ましくは、珪素と酸素の構成原子数の比率で、１対
１．０から１対２．０の範囲であることが望ましい。ま
た、酸化珪素薄膜の主たる構成要素である珪素および酸
素の他に、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、
カリウム、ナトリウム、チタン、ジルコニウム、イット
リウム等の金属や、炭素、ホウ素、窒素、フッ素等の非
金属元素が含まれていても構わない。Further, the base film 2 as described above may be, if necessary, coated on its surface with an anchor coating agent or the like and subjected to a surface smoothing treatment or the like. (Barrier Layer) The barrier layer 3 constituting the transparent barrier film 1 of the present invention is formed by a physical vapor deposition method (Physical Vapor Depo) such as a vacuum evaporation method and a sputtering method.
It is a layer composed of a thin film mainly composed of silicon oxide formed by a method such as a position method or a PVD method. As a component of the silicon oxide thin film, it is basically a thin film mainly composed of silicon and oxygen, and its composition ratio is not limited.
Preferably, the ratio of the number of constituent atoms of silicon and oxygen is in the range of 1: 1.0 to 1: 2.0. In addition to silicon and oxygen, which are the main components of the silicon oxide thin film, aluminum, magnesium, calcium,
Metals such as potassium, sodium, titanium, zirconium and yttrium, and non-metal elements such as carbon, boron, nitrogen and fluorine may be contained.
【００１８】本発明では、上記の酸化珪素薄膜は、波長
６３３ｎｍにおける屈折率が１．４６〜１．６０の範囲
内にあるような酸化珪素薄膜、および／または、赤外分
光法による分光スペクトルにおいて１０２０〜１０５０
ｃｍ-1の範囲内に珪素原子と酸素原子からなる伸縮振動
吸収（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮モード）のピークをもつよう
な酸化珪素薄膜である。In the present invention, the silicon oxide thin film has a refractive index at a wavelength of 633 nm in the range of 1.46 to 1.60, and / or a spectroscopic spectrum by infrared spectroscopy. 1020 to 1050
The silicon oxide thin film has a peak of stretching vibration absorption (Si—O—Si stretching mode) composed of silicon atoms and oxygen atoms in the range of cm −1 .
【００１９】本発明における屈折率とは、光学的測定、
すなわち、エリプソメトリー法、あるいは、分光特性測
定によって得られるものである。また、屈折率は測定光
の波長による依存性をもつので、本発明でいう屈折率
は、測定光の波長が６３３ｎｍであるときの屈折率をい
う。In the present invention, the refractive index means an optical measurement,
That is, it is obtained by ellipsometry or spectral characteristic measurement. Further, since the refractive index depends on the wavelength of the measuring light, the refractive index in the present invention refers to the refractive index when the wavelength of the measuring light is 633 nm.
【００２０】ここで、上記のような可視光領域の屈折率
は、対象としている媒体中の光散乱能よって決定され
る。光散乱は、電子によって生じるため、ある原子の光
散乱能は、その原子に帰属する電子の数や状態によって
決まり、原子の種類によってほぼ一定の値になる。した
がって、媒体の屈折率は、媒体中に含まれている原子の
一原子当たりの光散乱能と、光散乱を生じさせる原子が
単位体積当たりに含まれる量に比例する。すなわち、単
位体積当たりに含まれる原子の数が一定であれば、その
原子の構成比率（媒体の化学組成）によって屈折率が決
まる。例えば、珪素と酸素の場合、珪素の方が光散乱光
が高いため、珪素が多く、酸素が少ない場合に屈折率が
高くなる。また、媒体の化学組成が一定であれば、単位
体積当たり含まれる原子の数が多いほど、すなわち、原
子間の距離が短く緻密な状態を形成しているほど、屈折
率は高くなる。Here, the refractive index in the visible light region as described above is determined by the light scattering power in the target medium. Since light scattering is caused by electrons, the light scattering ability of a certain atom is determined by the number and state of the electrons belonging to the atom, and has a substantially constant value depending on the type of the atom. Therefore, the refractive index of the medium is proportional to the light scattering ability per atom of the atoms contained in the medium and the amount of the atoms that cause light scattering per unit volume. That is, if the number of atoms contained per unit volume is constant, the refractive index is determined by the composition ratio of the atoms (chemical composition of the medium). For example, in the case of silicon and oxygen, since silicon has higher light scattered light, the refractive index increases when the amount of silicon is large and the amount of oxygen is small. Further, if the chemical composition of the medium is constant, the refractive index increases as the number of atoms contained per unit volume increases, that is, as the distance between the atoms becomes shorter and denser.
【００２１】本発明においては、上記の測定により得ら
れる波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．４６〜１．６
０の範囲内にあることが必要であり、酸化珪素薄膜の屈
折率が１．４６未満であると、上述のように、原子間隔
が広がって媒体が疎な状態となり、酸化珪素薄膜の緻密
性が失われ、バリア層３が必要とされる十分なバリア
性、耐衝撃性を確保することができない。したがって、
屈折率は高い程好ましいが、上述したように、化学組成
を維持したままで最大限緻密性を向上させても１．６０
を超えるような屈折率をもつ酸化珪素薄膜の成膜は困難
である。それ以上に屈折率を上昇させると、化学組成に
変化が生じ、酸素に対する珪素の比率が増大して珪素の
酸化度が減少することになり、このような珪素の酸化度
の減少は、酸化珪素薄膜の可視光に対する吸収係数の上
昇を来し、バリア層３に着色を生じるので好ましくな
い。尚、酸化珪素薄膜の屈折率は、成膜方式、成膜条件
によって変えることができる。In the present invention, the refractive index at a wavelength of 633 nm obtained by the above measurement is 1.46 to 1.6.
0, and when the refractive index of the silicon oxide thin film is less than 1.46, as described above, the medium becomes sparse due to the widened atomic spacing, and the denseness of the silicon oxide thin film is reduced. Is lost, and sufficient barrier properties and impact resistance required for the barrier layer 3 cannot be secured. Therefore,
The higher the refractive index is, the more preferable. However, as described above, even if the maximum compactness is improved while maintaining the chemical composition, the refractive index is 1.60.
It is difficult to form a silicon oxide thin film having a refractive index of more than. Increasing the refractive index further causes a change in the chemical composition, which increases the ratio of silicon to oxygen and decreases the degree of oxidation of silicon. It is not preferable because the absorption coefficient of the thin film with respect to visible light increases and the barrier layer 3 is colored. Note that the refractive index of the silicon oxide thin film can be changed depending on a film formation method and film formation conditions.
【００２２】本発明における赤外分光スペクトルは、透
過法、または、反射法により測定される酸化珪素薄膜の
赤外光に対する吸収特性である。上記の測定によって測
定した場合に得られる赤外吸収ピークのうち、１０００
〜１１００ｃｍ-1の間にあって、最も大きな吸収を示す
ピークは、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の伸縮振動ピークである
ことが知られている。本発明においては、酸化珪素薄膜
における上記のピークが１０２０〜１０５０ｃｍ-1の範
囲内であることが必要とされる。ピーク位置が１０２０
ｃｍ-1未満であると、バリア層３に着色を生じるので好
ましくない。また、１０５０ｃｍ-1を超えると、酸化珪
素薄膜の緻密性が低下して、バリア層３が必要とされる
十分なバリア性、耐衝撃性を確保することができない。
尚、酸化珪素薄膜の上記のピーク位置は、成膜方式、成
膜条件によって変えることができる。The infrared spectrum in the present invention is an absorption characteristic of a silicon oxide thin film for infrared light measured by a transmission method or a reflection method. Of the infrared absorption peaks obtained when measured by the above measurement, 1000
It is known that the peak exhibiting the largest absorption between 1100 cm −1 is the stretching vibration peak of the Si—O—Si bond. In the present invention, the above peak in the silicon oxide thin film needs to be within the range of 1020 to 1050 cm -1 . Peak position is 1020
If it is less than cm −1 , the barrier layer 3 is colored, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 1050 cm -1 , the denseness of the silicon oxide thin film is reduced, and sufficient barrier properties and impact resistance required for the barrier layer 3 cannot be secured.
Note that the above-mentioned peak position of the silicon oxide thin film can be changed depending on a film formation method and film formation conditions.
【００２３】透明バリアフィルム１のバリア層３である
酸化珪素薄膜の膜厚としては、使用する基材フィルム２
の種類、酸化珪素薄膜の成膜条件等によっても異なる
が、例えば、５０〜３０００Å程度、好ましくは、１０
０〜１０００Å程度の範囲内で任意に選択して設定する
ことができる。The thickness of the silicon oxide thin film which is the barrier layer 3 of the transparent barrier film 1
Although it varies depending on the type of silicon oxide thin film and the conditions for forming the silicon oxide thin film, for example, about 50 to 3000 °, preferably 10 °
It can be arbitrarily selected and set within a range of about 0 to 1000 °.
【００２４】尚、本発明においては、上記のような酸化
珪素薄膜からなるバリア層３に、後加工適性を向上させ
る目的で、コロナ処理、プラズマ処理、シランカップリ
ング処理等の表面処理を施しても構わない。In the present invention, the barrier layer 3 made of a silicon oxide thin film is subjected to a surface treatment such as a corona treatment, a plasma treatment, and a silane coupling treatment for the purpose of improving post-processing suitability. No problem.
【００２５】次に、基材フィルム２上へのバリア層３の
形成方法について説明する。例えば、真空蒸着法による
基材フィルム２上への酸化珪素薄膜の形成は、酸化珪素
の一形態である二酸化珪素を原料として、これを真空チ
ャンバー内で加熱して基材フィルム２上に酸化珪素の薄
膜を形成してバリア層３とすることができる。また、一
酸化珪素を原料とし、真空チャンバー内に酸素ガスを導
入しながら基材フィルム２上に酸化珪素の薄膜を形成し
てバリア層３とすることもできる。Next, a method for forming the barrier layer 3 on the base film 2 will be described. For example, formation of a silicon oxide thin film on the base film 2 by a vacuum evaporation method uses silicon dioxide which is a form of silicon oxide as a raw material, and heats it in a vacuum chamber to form a silicon oxide thin film on the base film 2. Can be formed as the barrier layer 3. Alternatively, the barrier layer 3 may be formed by forming a thin film of silicon oxide on the base film 2 while using silicon monoxide as a raw material and introducing oxygen gas into the vacuum chamber.
【００２６】スパッタリング法による基材フィルム２上
への酸化珪素薄膜の形成では、高周波スパッタリング
法、酸化反応直流スパッタリング法、マグネトロンスパ
ッタリング法等を用いることができる。In forming the silicon oxide thin film on the base film 2 by the sputtering method, a high frequency sputtering method, an oxidative direct current sputtering method, a magnetron sputtering method, or the like can be used.
【００２７】上記の高周波スパッタリング法による基材
フィルム２上への酸化珪素薄膜の形成は、二酸化珪素を
ターゲット物質として電極表面に設置し、アルゴンガス
等の不活性ガスをチャンバー内に導入し、チャンバー内
の圧力を０．１〜５Ｐａ程度に維持し、上記電極に周波
数が例えば１３．５６ＭＨｚの高周波で数百ボルトの電
圧を印加することにより、チャンバー内で放電を生じさ
せてターゲット物質のスパッタリングを行い、これによ
り基材フィルム２上に酸化珪素の薄膜を形成してバリア
層３とすることができる。The formation of the silicon oxide thin film on the base film 2 by the high frequency sputtering method is performed by setting silicon dioxide as a target material on the surface of the electrode, introducing an inert gas such as an argon gas into the chamber. By maintaining the internal pressure at about 0.1 to 5 Pa and applying a voltage of several hundred volts at a frequency of, for example, 13.56 MHz to the electrode, a discharge is generated in the chamber to sputter the target material. By doing so, a thin film of silicon oxide can be formed on the base film 2 to form the barrier layer 3.
【００２８】また、酸化反応直流スパッタリング法によ
る基材フィルム２上への酸化珪素薄膜の形成は、ホウ素
等の不純物を添加することで導電性を高めた金属珪素を
ターゲット物質として電極表面に設置し、アルゴンガス
等の不活性ガスおよび／または酸素ガスをチャンバー内
に導入し、チャンバー内の圧力を０．１〜５Ｐａ程度に
維持し、上記電極にマイナス数百ボルトの直流電圧を印
加することにより、チャンバー内で放電を生じさせてタ
ーゲット物質のスパッタリングを行い、ターゲット物質
を酸化させて基材フィルム２上に酸化珪素の薄膜を形成
しバリア層３とすることができる。The formation of the silicon oxide thin film on the base film 2 by the oxidative direct-current sputtering method is performed by placing metallic silicon whose conductivity has been increased by adding impurities such as boron as a target material on the electrode surface. By introducing an inert gas such as an argon gas and / or an oxygen gas into the chamber, maintaining the pressure in the chamber at about 0.1 to 5 Pa, and applying a DC voltage of minus several hundred volts to the electrode. A target material is sputtered by generating a discharge in the chamber, and the target material is oxidized to form a thin film of silicon oxide on the base film 2, thereby forming the barrier layer 3.
【００２９】さらに、マグネトロンスパッタリング法に
よる基材フィルム２上への酸化珪素薄膜の形成は、上記
の高周波スパッタリング法や酸化反応直流スパッタリン
グ法において、ターゲット物質を設置する電極付近に永
久磁石または電磁石を設置して磁界を形成し、これによ
り放電の電子密度を高めスパッタリングの効率を向上さ
せて酸化珪素の薄膜を基材フィルム２上に形成するもの
である。Further, the formation of the silicon oxide thin film on the base film 2 by the magnetron sputtering method is performed by setting a permanent magnet or an electromagnet near the electrode on which the target material is set in the above-mentioned high frequency sputtering method or oxidation reactive DC sputtering method. Thus, a magnetic field is formed, thereby increasing the electron density of discharge and improving the efficiency of sputtering, thereby forming a thin film of silicon oxide on the base film 2.
【００３０】図２は巻取り式の真空蒸着装置の一例を示
す概略的構成図である。図２において、真空蒸着装置１
０１は、真空チャンバー１０２、このチャンバー１０２
内に配設された供給ロール１０３ａ、巻取りロール１０
３ｂ、コーティングドラム１０４と、仕切り板１０９，
１０９で真空チャンバー１０２と仕切られた蒸着チャン
バー１０５、この蒸着チャンバー１０５に配設されたる
つぼ１０６、蒸発源１０７、マスク１０８，１０８とを
備えている。この真空蒸着装置１０１では、真空チャン
バー１０２の中で、供給ロール１０３ａから繰り出す基
材フィルム２は、コーティングドラム１０４を通り、蒸
着チャンバー１０５の中に入る。この蒸着チャンバー１
０５内では、るつぼ１０６によって熱せられた蒸着源１
０７から原料が蒸発し、この蒸発した原料は上記の冷却
したコーティングドラム１０４上においてマスク１０
８，１０８間に位置する基材フィルム２上に付着して酸
化珪素の薄膜を形成する。次いで、酸化珪素の薄膜を形
成した基材フィルム２を真空チャンバー１０２内に送り
出して巻取りロール１０３ｂに巻き取ることによって、
本発明にかかる酸化珪素の薄膜からなるバリア層を有す
る透明バリアフィルムを製造することができる。尚、蒸
着チャンバー１０５内に、必要に応じて酸素吹出し口
（図示せず）より酸素等を噴出させながら酸化珪素の薄
膜を形成してもよい。積層材 次に、本発明の積層材について、上述の本発明の透明バ
リアフィルム１を用いた例を挙げて説明する。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a winding type vacuum evaporation apparatus. In FIG. 2, a vacuum deposition apparatus 1
01 is a vacuum chamber 102, this chamber 102
Supply roll 103a, take-up roll 10
3b, coating drum 104, partition plate 109,
An evaporation chamber 105 partitioned from the vacuum chamber 102 by 109, a crucible 106 provided in the evaporation chamber 105, an evaporation source 107, and masks 108, 108 are provided. In the vacuum deposition apparatus 101, the base film 2 fed from the supply roll 103a in the vacuum chamber 102 passes through the coating drum 104 and enters the deposition chamber 105. This deposition chamber 1
05, the deposition source 1 heated by the crucible 106
07 evaporates, and the evaporated material is transferred to the mask 10 on the cooled coating drum 104.
A thin film of silicon oxide is formed by adhering onto the base film 2 located between the positions 8, 108. Next, the substrate film 2 on which the silicon oxide thin film is formed is sent out into the vacuum chamber 102 and wound up on a winding roll 103b.
A transparent barrier film having a barrier layer composed of a silicon oxide thin film according to the present invention can be manufactured. Note that a thin film of silicon oxide may be formed in the vapor deposition chamber 105 while blowing oxygen or the like from an oxygen outlet (not shown) as needed. Laminated Material Next, the laminated material of the present invention will be described with reference to an example using the above-described transparent barrier film 1 of the present invention.
【００３１】図３は、本発明の積層材の実施形態を示す
概略断面図である。図３において積層材１１は、基材フ
ィルム２の一方の面にバリア層３を備えた透明バリアフ
ィルム１と、この透明バリアフィルム１のバリア層３上
にアンカーコート剤層および／または接着剤層１２を介
して形成したヒートシール性樹脂層１３とを備えてい
る。FIG. 3 is a schematic sectional view showing an embodiment of the laminated material of the present invention. In FIG. 3, a laminated material 11 includes a transparent barrier film 1 having a barrier layer 3 on one surface of a base film 2, and an anchor coat agent layer and / or an adhesive layer on the barrier layer 3 of the transparent barrier film 1. And a heat-sealable resin layer 13 formed therebetween.
【００３２】積層材１１を構成するアンカーコート剤層
１２は、例えば、アルキルチタネート等の有機チタン系
アンカーコート剤、イソシアネート系アンカーコート
剤、ポリエチレンイミン系アンカーコート剤、ポリブタ
ジエン系アンカーコート剤等を使用して形成することが
できる。アンカーコート剤層１２の形成は、上記のよう
なアンカーコート剤を、例えば、ロールコート、グラビ
アコート、ナイフコート、ディップコート、スプレイコ
ート等の公知のコーティング法でコーティングし、溶
剤、希釈剤等を乾燥除去して行うことができる。上記の
アンカーコート剤の塗布量としては、０．１〜５ｇ／ｍ
2 （乾燥状態）程度が好ましい。The anchor coating agent layer 12 constituting the laminated material 11 uses, for example, an organic titanium anchor coating agent such as alkyl titanate, an isocyanate anchor coating agent, a polyethyleneimine anchor coating agent, a polybutadiene anchor coating agent, or the like. Can be formed. The formation of the anchor coat agent layer 12 is performed by coating the above-mentioned anchor coat agent with a known coating method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating, and the like. Drying and removal can be performed. The coating amount of the above anchor coating agent is 0.1 to 5 g / m.
About 2 (dry state) is preferable.
【００３３】また、積層材１１を構成する接着剤層１２
は、例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリア
ミド系、エポキシ系、ポリ（メタ）アクリル系、ポリ酢
酸ビニル系、ポリオレフィン系、カゼイン、ワックス、
エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、ポリブタジエ
ン系等のビヒクルを主成分とする溶剤型、水性型、無溶
剤型、あるいは、熱溶融型等の各種のラミネ- ト用接着
剤を使用して形成することができる。接着剤層１２の形
成は、上記のようなラミネート用接着剤を、例えば、ロ
ールコート、グラビアコート、ナイフコート、デッブコ
ート、スプレイコート、その他のコーティング法でコー
ティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去して行うことが
できる。上記のラミネート用接着剤の塗布量としては
０．１〜５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）程度が好ましい。The adhesive layer 12 constituting the laminated material 11
For example, polyurethane-based, polyester-based, polyamide-based, epoxy-based, poly (meth) acryl-based, polyvinyl acetate-based, polyolefin-based, casein, wax,
Using various types of laminating adhesives, such as solvent-based, aqueous-based, solvent-free, or hot-melt-based adhesives, whose main components are vehicles such as ethylene- (meth) acrylic acid copolymer and polybutadiene. Can be formed. The adhesive layer 12 is formed by coating the above-mentioned laminating adhesive with, for example, a roll coat, a gravure coat, a knife coat, a deb coat, a spray coat, or another coating method, and drying and removing a solvent, a diluent, and the like. You can do it. The amount of the laminating adhesive applied is preferably about 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).
【００３４】積層材１１を構成するヒートシール性樹脂
層１３に用いるヒートシール性樹脂としては、熱によっ
て溶融し相互に融着し得る樹脂を挙げることができる。
具体的には、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレ
ン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエ
チレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸共重合
体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレンーメタ
クリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合
体、メチルペンテンポリマー、ポリブテンポリマー、ポ
リエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系
樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸、フマール酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル系樹脂、ポリ( メタ) アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル系樹脂等を使用することができる。ヒートシール性樹
脂層１３は、上述のようなヒートシール性樹脂を塗布し
て形成してもよく、また、上述のようなヒートシール性
樹脂からなるフィルムないしシートをラミネートして形
成してもよい。このようなヒートシール性樹脂層１３の
厚みは、５〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ
の範囲内で設定することができる。Examples of the heat-sealing resin used for the heat-sealing resin layer 13 constituting the laminated material 11 include resins that can be melted by heat and fused to each other.
Specifically, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene Methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polybutene polymer, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride An acid-modified polyolefin resin modified with an unsaturated carboxylic acid such as an acid, fumaric acid, and itaconic acid, a polyvinyl acetate resin, a poly (meth) acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, and the like can be used. The heat-sealable resin layer 13 may be formed by applying the heat-sealable resin as described above, or may be formed by laminating a film or sheet made of the heat-sealable resin as described above. . The thickness of the heat-sealing resin layer 13 is 5 to 300 μm, preferably 10 to 100 μm.
Can be set within the range.
【００３５】図４は、本発明の積層材の他の実施形態を
示す概略断面図である。図４において積層材２１は、基
材フィルム２の一方の面にバリア層３を備えた透明バリ
アフィルム１と、この透明バリアフィルム１のバリア層
３上にアンカーコート剤層および／または接着剤層２２
を介して形成したヒートシール性樹脂層２３と、透明バ
リアフィルム１の基材フィルム２の他方の面（バリア層
非形成面）に設けられた基材２４とを備えている。FIG. 4 is a schematic sectional view showing another embodiment of the laminated material of the present invention. In FIG. 4, a laminated material 21 includes a transparent barrier film 1 having a barrier layer 3 on one surface of a base film 2, and an anchor coat agent layer and / or an adhesive layer on the barrier layer 3 of the transparent barrier film 1. 22
And a base material 24 provided on the other surface (the surface on which the barrier layer is not formed) of the base film 2 of the transparent barrier film 1.
【００３６】積層材２１を構成するアンカーコート剤
層、接着剤層２２およびヒートシール性樹脂層２３は、
上述の積層材１１を構成するアンカーコート剤層、接着
剤層１２およびヒートシール性樹脂層１３と同様とする
ことができ、ここでの説明は省略する。The anchor coat agent layer, the adhesive layer 22 and the heat-sealable resin layer 23 constituting the laminated material 21
It can be the same as the anchor coat agent layer, the adhesive layer 12 and the heat-sealable resin layer 13 that constitute the laminated material 11 described above, and the description is omitted here.
【００３７】積層材２１を構成する基材２４としては、
例えば、積層材２１が包装用容器を構成する場合、基材
２４が基本素材となることから、機械的、物理的、化学
的、その他等において優れた性質を有し、特に、強度を
有して強靭であり、かつ耐熱性を有する樹脂のフィルム
ないしシートを使用することができる。具体的には、ポ
リエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系
樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、フッ
素系樹脂等の強籾な樹脂の延伸（一軸ないし二軸）また
は未延伸のフィルムないしシートを挙げることができ
る。この基材２４の厚みは、５〜１００μｍ、好ましく
は１０〜５０μｍ程度が望ましい。As the base material 24 constituting the laminated material 21,
For example, when the laminated material 21 forms a packaging container, since the base material 24 is a basic material, it has excellent properties in mechanical, physical, chemical, etc., and particularly has strength. A resin film or sheet which is strong and tough and has heat resistance can be used. Specifically, stretching of strong resin such as polyester resin, polyamide resin, polyaramid resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyacetal resin, fluorine resin, etc. (uniaxial or biaxial) Or an unstretched film or sheet can be mentioned. The thickness of the substrate 24 is desirably about 5 to 100 μm, preferably about 10 to 50 μm.
【００３８】また、本発明においては、基材２４に、例
えば、文字、図形、記号、絵柄、模様等の所望の印刷絵
柄を通常の印刷法で表刷り印刷あるいは裏刷り印刷が施
されていてもよい。このような文字等は、積層材２１を
構成する透明バリアフィルム１が優れた透明性を有する
ので、この透明バリアフィルム１を介して極めて良好に
視認することができる。In the present invention, a desired print pattern such as, for example, a character, a figure, a symbol, a picture, or a pattern is printed on the base material 24 by a normal printing method. Is also good. Such characters and the like can be visually recognized very well through the transparent barrier film 1 because the transparent barrier film 1 constituting the laminated material 21 has excellent transparency.
【００３９】さらに、本発明では、基材２４として、例
えば、紙層を構成する各種の紙基材を使用することがで
きる。具体的には、賦形性、耐屈曲性、剛性等をもたせ
た紙基材であり、例えば、強サイズ性の晒または未晒の
紙基材、あるいは純白ロール紙、クラフト紙、板紙、加
工紙等の紙基材を使用することができる。このような紙
基材としては、坪量約８０〜６００ｇ／ｍ2 程度のも
の、好ましくは、坪量約１００〜４５０ｇ／ｍ2 程度の
ものを使用することが望ましい。Further, in the present invention, as the base material 24, for example, various paper base materials constituting a paper layer can be used. Specifically, it is a paper substrate having shapeability, bending resistance, rigidity, etc., for example, a strong size bleached or unbleached paper substrate, or pure white roll paper, kraft paper, paperboard, processed Paper substrates such as paper can be used. Examples of such paper substrates, of the order of a basis weight of about 80~600g / m 2, preferably, it is desirable to use of about a basis weight of about 100~450g / m 2.
【００４０】また、本発明では、基材２４として、上述
の樹脂のフィルムないしシートと上述の紙基材とを併用
して使用することもできる。In the present invention, as the substrate 24, the above-mentioned resin film or sheet and the above-mentioned paper substrate can be used in combination.
【００４１】図５は、本発明の積層材の他の実施形態を
示す概略断面図である。図５において積層材３１は、基
材フィルム２の一方の面にバリア層３を備えた透明バリ
アフィルム１と、この透明バリアフィルム１のバリア層
３上にアンカーコート剤層および／または接着剤層３２
を介して形成したヒートシール性樹脂層３３と、透明バ
リアフィルム１の基材フィルム２の他方の面（バリア層
非形成面）に設けられた基材３４と、この基材３４上に
形成したヒートシール性樹脂層３５とを備えている。FIG. 5 is a schematic sectional view showing another embodiment of the laminated material of the present invention. In FIG. 5, a laminated material 31 includes a transparent barrier film 1 having a barrier layer 3 on one surface of a base film 2, and an anchor coat agent layer and / or an adhesive layer on the barrier layer 3 of the transparent barrier film 1. 32
A heat-sealable resin layer 33 formed through the base material, a base material 34 provided on the other surface (non-barrier layer forming surface) of the base material film 2 of the transparent barrier film 1, and a base material 34 formed on the base material 34 And a heat-sealing resin layer 35.
【００４２】積層材３１を構成するアンカーコート剤
層、接着剤層３２およびヒートシール性樹脂層３３，３
５は、上述の積層材１１を構成するアンカーコート剤
層、接着剤層１２およびヒートシール性樹脂層１３と同
様とすることができ、また、積層材３１を構成する基材
３４は、上述の積層材２１を構成する基材２４と同様と
することができるので、ここでの説明は省略する。The anchor coating agent layer, the adhesive layer 32 and the heat-sealable resin layers 33 and 3 constituting the laminated material 31
5 can be the same as the anchor coat agent layer, the adhesive layer 12 and the heat-sealable resin layer 13 that constitute the laminated material 11 described above, and the base material 34 that constitutes the laminated material 31 is Since it can be the same as the base material 24 constituting the laminated material 21, the description is omitted here.
【００４３】尚、本発明の積層材には、さらに、例え
ば、水蒸気、水等のバリア性を有する低密度ポリエチレ
ン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状
低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロ
ピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシート、ある
いは、酸素、水蒸気等に対するバリア性を有するポリ塩
化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸
ビニル共重合体ケン化物等の樹脂のフィルムないしシー
ト、樹脂に顔料等の着色剤、その他、所望の添加剤を加
えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の
着色樹脂のフィルムないしシート等を使用することがで
きる。The laminated material of the present invention further includes, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene having a barrier property against water vapor, water and the like. Resin film or sheet such as copolymer, or resin film or sheet such as polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer having a barrier property against oxygen, water vapor, etc. And various kinds of colored resin films or sheets having a light-shielding property, which are formed by adding a desired colorant and other desired additives and kneading to form a film.
【００４４】これらの材料は、一種または２種以上を組
み合わせて使用することができ、厚みは任意であるが、
通常、５〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ程
度である。These materials can be used alone or in combination of two or more, and the thickness is optional.
Usually, it is about 5 to 300 μm, preferably about 10 to 100 μm.
【００４５】さらに、包装用容器の用途に本発明の積層
材が使用される場合、通常、包装用容器は物理的にも化
学的にも過酷な条件におかれることから、積層材にも厳
しい包装適性が要求される。具体的には、変形防止強
度、落下衝撃強度、耐ピンホール性、耐熱性、密封性、
品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が
要求され、このため、本発明の積層材には、上記のよう
な諸条件を充足する材料を任意に選択して、基材フィル
ム１、基材２４，３４、あるいは、他の構成部材として
使用することができる。具体的には、低密度ポリエチレ
ン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低
密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピ
レン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオ
ノマ一樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エ
チレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチ
ルペンテンポリマー、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン
系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ
（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン
共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリ
アセタール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ
ース等の公知の樹脂のフィルムないしシートから任意に
選択して使用することができる。その他、例えば、セロ
ハン等のフィルム、合成紙等も使用することができる。Furthermore, when the laminated material of the present invention is used for packaging, the packaging is usually subjected to severe physical and chemical conditions. Packaging suitability is required. Specifically, deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealability,
Various conditions such as quality preservation, workability, hygiene, etc. are required. For this reason, the laminated material of the present invention is arbitrarily selected from materials satisfying the above-mentioned various conditions, It can be used as the film 1, the substrates 24, 34, or other components. Specifically, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate Polymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (Meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin , Polycarbonate Resin,
Polyvinyl alcohol resin, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, etc. can do. In addition, for example, a film such as cellophane, synthetic paper, or the like can be used.
【００４６】上記のフィルムないしシートは、未延伸、
一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μｍから３００μｍ程度の範囲から選択して使用する
ことができ、積層位置は特に制限はない。また、本発明
においては、フィルムないしシートは、押し出し成膜、
インフレーション成膜、コーティング膜等のいずれの性
状の膜でもよい。The above film or sheet is unstretched,
Any of those uniaxially or biaxially stretched can be used. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from a range of about several μm to 300 μm, and the lamination position is not particularly limited. In the present invention, the film or sheet is formed by extrusion film formation,
Any film such as an inflation film or a coating film may be used.
【００４７】上述の積層材１１，２１，３１のような本
発明の積層材は、通常の包装材料をラミネートする方
法、例えば、ウエットラミネーション法、ドライラミネ
ーション法、無溶剤型ドライラミネーション法、押し出
しラミネーション法、Ｔダイ押し出し成形法、共押し出
しラミネーション法、インフレーション法、共押し出し
インフレーション法等を用いて製造することができる。The laminated materials of the present invention, such as the laminated materials 11, 21 and 31 described above, can be formed by laminating ordinary packaging materials, for example, wet lamination, dry lamination, solventless dry lamination, extrusion lamination. It can be manufactured using a T-die extrusion molding method, a co-extrusion lamination method, an inflation method, a co-extrusion inflation method, or the like.
【００４８】尚、上記の積層を行う際に、必要ならば、
例えば、コロナ処理、オゾン処理等の前処理をフィルム
に施すことができ、また、例えば、イソシアネート系
（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエ
ン系、有機チタン系等のアンカーコーティング剤、ある
いはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル
系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロース系等の
ラミネート用接着剤等の公知の接着剤等を使用すること
ができる。包装用容器 次に、本発明の包装用容器について説明する。When performing the above-mentioned lamination, if necessary,
For example, a film can be subjected to a pretreatment such as a corona treatment and an ozone treatment. For example, an anchor coating agent such as an isocyanate (urethane), polyethyleneimine, polybutadiene, and organic titanium, or a polyurethane, Known adhesives such as polyacrylic, polyester-based, epoxy-based, polyvinyl acetate-based, and cellulose-based adhesives for lamination can be used. Next, the packaging container of the present invention will be described.
【００４９】本発明の包装用容器は、本発明の積層材を
用いて熱融着により製袋または製函したものである。The packaging container of the present invention is obtained by subjecting the laminated material of the present invention to bag making or box making by heat fusion.
【００５０】具体的には、包装用容器が軟包装袋の場
合、本発明の積層材のヒートシール性樹脂層の面を対向
させて折り重ねるか、あるいは、本発明の積層材二枚を
重ね合わせ、その周辺端部を、例えば、側面シール型、
二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼り
シール型、合掌貼りシール型（ピローシール型）、ひだ
付シール型、平底シール型、角底シール型、その他等の
ヒートシール形態により熱融着してシール部を形成する
こにより、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製
造することができる。Specifically, when the packaging container is a soft packaging bag, the heat-sealing resin layer of the laminated material of the present invention may be folded with the surfaces thereof facing each other, or two laminated materials of the present invention may be laminated. Together, the peripheral end, for example, a side seal type,
Heat due to heat sealing form such as two-sided seal type, three-sided seal type, four-sided seal type, envelope-attached seal type, gasket-attached seal type (pillow seal type), pleated seal type, flat bottom seal type, square bottom seal type, etc. By fusing to form a seal portion, various types of packaging containers according to the present invention can be manufactured.
【００５１】上記において、熱融着は、例えば、バーシ
ール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシ
ール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行
うことができる。In the above, the heat fusion can be performed by a known method such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, and an ultrasonic seal.
【００５２】図６は、上記のような本発明の包装用容器
の一実施形態を示す斜視図である。図６において包装用
容器５１は、１組の本発明の積層材１１を、そのヒート
シール性樹脂層１３が対向するように重ね合わせ、この
状態で周辺部の三方において熱融着を行ってシール部５
２を形成したものである。この包装用容器は５１は、周
辺部の残りの一方に形成された開口部５３から内容物を
充填することができる。そして、内容物を充填した後
に、上記開口部５３を熱融着してシール部を形成するこ
とにより、内容物を充填包装した包装用容器とすること
ができる。FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment of the packaging container of the present invention as described above. In FIG. 6, a packaging container 51 is obtained by laminating a set of laminated materials 11 of the present invention so that their heat-sealable resin layers 13 are opposed to each other. Part 5
2 is formed. The packaging container 51 can be filled with contents from an opening 53 formed in the other one of the peripheral portions. Then, after filling the contents, the opening 53 is heat-sealed to form a seal portion, whereby a packaging container filled with the contents can be obtained.
【００５３】本発明の包装用容器は、上記の他に、例え
ば、自立性包装袋（スタンデイングパウチ）等も可能で
あり、さらに、本発明の積層材を使用してチューブ容器
等も製造することができる。In addition to the above, the packaging container of the present invention can be, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch). Further, a tube container or the like can be manufactured using the laminated material of the present invention. Can be.
【００５４】尚、本発明においては、上記のような包装
用容器に、例えば、ワンピースタイプ、ツウーピースタ
イプ、その他の注出ロ、あるいは開閉用ジッパー等を任
意に取り付けることができる。In the present invention, for example, a one-piece type, a two-piece type, another pouring device, or a zipper for opening and closing can be arbitrarily attached to the packaging container as described above.
【００５５】また、本発明の包装用容器が紙基材を含む
液体充填用紙容器の場合、紙基材を積層した本発明の積
層材を使用して、所望の紙容器を製造するためのブラン
ク板を作製し、このブランク板を使用して胴部、底部、
頭部等を形成することにより、例えば、ブリックタイ
プ、フラットタイプあるいはゲーベルトップタイプの液
体用紙容器等を製造することができる。また、その形状
は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのもの
でも製造することができる。When the packaging container of the present invention is a liquid-filled paper container containing a paper substrate, a blank for producing a desired paper container using the laminated material of the present invention in which the paper substrates are laminated. Make a board, using this blank board, trunk, bottom,
By forming the head or the like, for example, a brick type, flat type or Goebel top type liquid paper container or the like can be manufactured. Moreover, the shape can be manufactured by any of a rectangular container, a circular or other cylindrical paper can, and the like.
【００５６】図７は、本発明の包装用容器である上記の
液体充填用紙容器の一実施形態を示す斜視図であり、図
８は、図７に示される包容用容器に用いるブランク板の
平面図である。ブランク板７０は、例えば、図５に示さ
れる本発明の積層材３１を使用し、容器形成における折
り曲げ加工用の押圧線ｍ，ｍ・・・と、容器６１の胴部
６２を構成する胴部パネル７１，７２，７３，７４と、
容器６１の頂部６３を構成する頂部パネル７１ａ，７２
ａ，７３ａ，７４ａと、容器６１の底部６４を構成する
底部パネル７１ｂ，７２ｂ，７３ｂ，７４ｂと、筒体形
成用の熱融着用パネル７５とを備えるように打ち抜き加
工して作製されたものである。このブランク板７０を押
圧線ｍ，ｍ・・・で折り曲げ、胴部パネル７１の端部内
側と熱融着用パネル７５の外側とを熱融着して筒体を形
成し、その後、底部パネル７１ｂ，７２ｂ，７３ｂ，７
４ｂを押圧線ｍ，ｍ・・・で折り曲げ熱融着し、頂部の
開口から液体を充填した後に、頂部パネル７１ａ，７２
ａ，７３ａ，７４ａを押圧線ｍ，ｍ・・・で折り曲げ熱
融着することにより、液体を充填包装した包装用容器６
１とすることができる。FIG. 7 is a perspective view showing an embodiment of the above-mentioned liquid-filled paper container which is the packaging container of the present invention. FIG. 8 is a plan view of a blank plate used for the container shown in FIG. FIG. The blank plate 70 uses, for example, the laminated material 31 of the present invention shown in FIG. 5, and includes pressing lines m, m,... For bending in forming the container, and a trunk forming the trunk 62 of the container 61. Panels 71, 72, 73, 74,
Top panels 71a, 72 constituting the top 63 of the container 61
a, 73a, 74a, a bottom panel 71b, 72b, 73b, 74b constituting a bottom 64 of the container 61, and a heat-sealing panel 75 for forming a cylindrical body. is there. This blank plate 70 is bent by pressing lines m, m,..., And the inside of the end of the body panel 71 and the outside of the heat-sealing panel 75 are heat-sealed to form a cylindrical body, and thereafter, the bottom panel 71b , 72b, 73b, 7
4b are bent by pressing lines m, m, and are heat-sealed and filled with liquid from the top opening, and then the top panels 71a, 72
a, 73a, 74a are bent by pressing lines m, m,.
It can be 1.
【００５７】本発明の包装用容器は、種々の飲食品、接
着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカ
イロ等の雑貨品、その他等の種々の物品の充填包装に使
用されるものである。The packaging container of the present invention is used for filling and packaging of various articles such as various foods and drinks, chemicals such as adhesives and adhesives, cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods such as chemical warmers and the like. Things.
【００５８】[0058]
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （実施例１）基材フィルムとしてロール状の二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製ルミ
ラーＳ−１０、厚み１２μｍ、幅６００ｍｍ、長さ５０
００ｍ）を準備し、これを図２に示されるような巻取り
式の真空蒸着装置の真空チャンバー内に装着した。次
に、真空蒸着装置のチャンバー内を、油回転ポンプおよ
び油拡散ポンプにより、到達真空度３．０×１０-5Ｔｏ
ｒｒ（４．０×１０-3Ｐａ）まで減圧した。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Example 1 A roll-shaped biaxially stretched polyethylene terephthalate film (Lumirror S-10 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 12 μm, width 600 mm, length 50) as a base film
00m) was prepared and mounted in a vacuum chamber of a roll-up type vacuum evaporation apparatus as shown in FIG. Next, the ultimate vacuum degree of 3.0 × 10 −5 To in the chamber of the vacuum vapor deposition device was controlled by an oil rotary pump and an oil diffusion pump.
The pressure was reduced to rr (4.0 × 10 −3 Pa).
【００５９】また、原料（蒸発源）として一酸化珪素
（高純度化学研究所（株）製、純度９９．５％、粒径３
〜５μｍ）を準備し、銅製のるつぼ内に載置した。As a raw material (evaporation source), silicon monoxide (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd., purity 99.5%, particle size 3)
５5 μm) and placed in a copper crucible.
【００６０】次に、蒸着チャンバーのコーティングドラ
ムの近傍に酸素ガスを流量３ｓｌｍで導入し、真空ポン
プと蒸着チャンバーとの間にあるバルブの開閉度を制御
することにより、成膜時のチャンバー内の圧力を３．０
×１０-4Ｔｏｒｒ（４．０×１０-2Ｐａ）に保った。そ
して、ピアス型電子銃を用い、約１０ｋＷの電力を印加
して、銅製るつぼ内の蒸発源を加熱して蒸発させ、コー
ティングドラム上を走行する基材フィルム上に酸化珪素
の薄膜を形成した。基材フィルムの走行速度は、酸化珪
素薄膜の膜厚が５００Åとなるように１２０ｍ／分に設
定した。また、酸化珪素薄膜の膜厚は、蛍光Ｘ線分析装
置（理学電気（株）製ＲＩＸ−３１００）を用いて測定
した。これにより、本発明の透明バリアフィルム（試料
１）を得た。 （比較例１）成膜時のチャンバー内の圧力を１．０×１
０-4Ｔｏｒｒ（１．３×１０-2Ｐａ）とし、また、酸化
珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように、基材フィルム
の走行速度を１５０ｍ／分に設定した他は、実施例１と
同様にして、バリアフィルム（比較試料１−１）を得
た。Next, oxygen gas is introduced at a flow rate of 3 slm into the vicinity of the coating drum of the vapor deposition chamber, and the degree of opening and closing of a valve between the vacuum pump and the vapor deposition chamber is controlled. Pressure to 3.0
It was kept at × 10 -4 Torr (4.0 × 10 -2 Pa). Then, using a pierce-type electron gun, an electric power of about 10 kW was applied to heat and evaporate the evaporation source in the copper crucible to form a thin film of silicon oxide on the base film running on the coating drum. The running speed of the base film was set to 120 m / min so that the thickness of the silicon oxide thin film became 500 °. The thickness of the silicon oxide thin film was measured using a fluorescent X-ray analyzer (RIX-3100 manufactured by Rigaku Corporation). Thus, a transparent barrier film (Sample 1) of the present invention was obtained. (Comparative Example 1) The pressure in the chamber during film formation was set to 1.0 × 1
Example 1 except that 0-4 Torr (1.3 × 10 −2 Pa) and the running speed of the base film was set to 150 m / min so that the thickness of the silicon oxide thin film was 500 °. In the same manner as in the above, a barrier film (Comparative Sample 1-1) was obtained.
【００６１】また、成膜時のチャンバー内の圧力を１．
０×１０-3Ｔｏｒｒ（１．３×１０-1Ｐａ）とし、ま
た、酸化珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように、基材
フィルムの走行速度を１００ｍ／分に設定した他は、実
施例１と同様にして、バリアフィルム（比較試料１−
２）を得た。 （実施例２）基材フィルムとしてシート状の二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製ルミ
ラーＳ−１０、厚み１００μｍ、大きさ２００ｍｍ×１
５０ｍｍ）を準備し、バッチ式の真空蒸着装置のチャン
バー内に設置した。The pressure in the chamber during film formation was set to 1.
0 × 10 −3 Torr (1.3 × 10 −1 Pa) and the running speed of the base film was set to 100 m / min so that the thickness of the silicon oxide thin film was 500 °. In the same manner as in Example 1, the barrier film (Comparative Sample 1-
2) was obtained. Example 2 A sheet-shaped biaxially stretched polyethylene terephthalate film (Lumirror S-10 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 100 μm, size 200 mm × 1) was used as a base film.
50 mm) and placed in a chamber of a batch-type vacuum evaporation apparatus.
【００６２】次に、バッチ式の真空蒸着装置のチャンバ
ー内を、油回転ポンプおよび油拡散ポンプにより、到達
真空度２．０×１０-5Ｔｏｒｒ（２．７×１０-3Ｐａ）
まで減圧した。Next, the inside of the chamber of the batch-type vacuum evaporation apparatus is reached at an ultimate vacuum of 2.0 × 10 −5 Torr (2.7 × 10 −3 Pa) by an oil rotary pump and an oil diffusion pump.
The pressure was reduced to
【００６３】また、原料（蒸発源）として一酸化珪素
（高純度化学研究所（株）製、純度９９．５％、粒径３
〜５μｍ）を準備し、銅製のるつぼ内に載置した。As a raw material (evaporation source), silicon monoxide (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd., purity 99.5%, particle size 3)
５5 μm) and placed in a copper crucible.
【００６４】次に、蒸着チャンバーのコーティングドラ
ムの近傍に酸素ガスを流量２０ｓｃｃｍで導入し、真空
ポンプと蒸着チャンバーとの間にあるバルブの開閉度を
制御することにより、成膜時のチャンバー内の圧力を
３．０×１０-4Ｔｏｒｒ（４．０×１０-2Ｐａ）に保っ
た。そして、ピアス型電子銃を用い、約１ｋＷの電力を
印加して、銅製るつぼ内の蒸発源を加熱して蒸発させ、
基材フィルム上に酸化珪素の薄膜を形成した。成膜時間
は、酸化珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように３分３
０秒間に設定した。また、酸化珪素薄膜の膜厚は、蛍光
Ｘ線分析装置（理学電気（株）製ＲＩＸ−３１００）を
用いて測定した。これにより、本発明の透明バリアフィ
ルム（試料２−１）を得た。Next, an oxygen gas is introduced at a flow rate of 20 sccm into the vicinity of the coating drum of the deposition chamber, and the degree of opening and closing of a valve between the vacuum pump and the deposition chamber is controlled. The pressure was maintained at 3.0 × 10 −4 Torr (4.0 × 10 −2 Pa). Then, using a pierce-type electron gun, applying an electric power of about 1 kW to heat and evaporate the evaporation source in the copper crucible,
A silicon oxide thin film was formed on a substrate film. The deposition time was 3 minutes 3 so that the thickness of the silicon oxide thin film was 500 °.
It was set to 0 seconds. The thickness of the silicon oxide thin film was measured using a fluorescent X-ray analyzer (RIX-3100 manufactured by Rigaku Corporation). Thereby, the transparent barrier film of the present invention (sample 2-1) was obtained.
【００６５】また、成膜時のチャンバー内の圧力を７．
０×１０-4Ｔｏｒｒ（９．３×１０-2Ｐａ）とし、ま
た、酸化珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように、成膜
時間を５分間に設定した他は、試料２−１と同様にし
て、本発明の透明バリアフィルム（試料２−２）を得
た。 （比較例２）原料（蒸発源）として二酸化珪素（高純度
化学研究所（株）製、純度９９．９９％、粒径２〜３μ
ｍ）を使用し、蒸着チャンバー内への酸素ガス導入は行
わず、また、ピアス型電子銃への印加電力を０．８ｋＷ
とし、酸化珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように、成
膜時間を３分間に設定した他は、実施例２と同様にし
て、バリアフィルム（比較試料２）を得た。 （実施例３）基材フィルムとしてシート状の二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製ルミ
ラーＳ−１０、厚み１００μｍ、大きさ２００ｍｍ×１
５０ｍｍ）を準備し、バッチ式のスパッタリング装置の
チャンバー内に設置した。Further, the pressure in the chamber during film formation is set at 7.
Sample 2-1 was prepared in the same manner as in Sample 2-1 except that 0 × 10 −4 Torr (9.3 × 10 −2 Pa) was set and the film formation time was set to 5 minutes so that the silicon oxide thin film had a thickness of 500 °. Similarly, a transparent barrier film of the present invention (Sample 2-2) was obtained. (Comparative Example 2) Silicon dioxide (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd., purity 99.99%, particle size 2-3 μm) as a raw material (evaporation source)
m), oxygen gas was not introduced into the deposition chamber, and the power applied to the pierce type electron gun was 0.8 kW.
A barrier film (Comparative Sample 2) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the film formation time was set to 3 minutes so that the thickness of the silicon oxide thin film became 500 °. (Example 3) A sheet-shaped biaxially stretched polyethylene terephthalate film (Lumirror S-10 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 100 µm, size 200 mm x 1)
50 mm) and placed in a chamber of a batch-type sputtering apparatus.
【００６６】次に、バッチ式のスパッタリング装置のチ
ャンバー内を、油回転ポンプおよび油拡散ポンプによ
り、到達真空度１．０×１０-5Ｔｏｒｒ（１．３×１０
-3Ｐａ）まで減圧した。Next, the inside of the chamber of the batch type sputtering apparatus was reached by an oil rotary pump and an oil diffusion pump to an ultimate vacuum of 1.0 × 10 −5 Torr (1.3 × 10 5 Torr).
-3 Pa).
【００６７】また、原料（ターゲット）として、ホウ素
を添加した単結晶珪素（三菱マテリアル（株）製、純度
９９．９９９９％、直径１５０ｍｍ）を準備した。Further, as a raw material (target), single crystal silicon to which boron was added (purity: 99.9999%, diameter: 150 mm, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) was prepared.
【００６８】次に、チャンバー内に酸素ガスを流量５ｓ
ｃｃｍで、アルゴンガスを流量３０ｓｃｃｍで導入し、
真空ポンプとチャンバーとの間にあるバルブの開閉度を
制御することにより、成膜時のチャンバー内の圧力を
１．０×１０-3Ｔｏｒｒ（１．３×１０-1Ｐａ）に保っ
た。そして、ターゲットに直流電源を用いて約１ｋＷの
電力を印加してスパッタリングを行い、基材フィルム上
に酸化珪素の薄膜を形成した。成膜時間は、酸化珪素薄
膜の膜厚が５００Åとなるように３分３０秒間に設定し
た。また、酸化珪素薄膜の膜厚は、蛍光Ｘ線分析装置
（理学電気（株）製ＲＩＸ−３１００）を用いて測定し
た。これにより、本発明の透明バリアフィルム（試料３
−１）を得た。Next, oxygen gas is introduced into the chamber at a flow rate of 5 seconds.
ccm, argon gas is introduced at a flow rate of 30 sccm,
By controlling the degree of opening and closing of a valve between the vacuum pump and the chamber, the pressure in the chamber during film formation was kept at 1.0 × 10 −3 Torr (1.3 × 10 −1 Pa). Then, about 1 kW of power was applied to the target using a DC power supply to perform sputtering, thereby forming a thin film of silicon oxide on the base film. The film formation time was set to 3 minutes and 30 seconds so that the thickness of the silicon oxide thin film became 500 °. The thickness of the silicon oxide thin film was measured using a fluorescent X-ray analyzer (RIX-3100 manufactured by Rigaku Corporation). Thereby, the transparent barrier film of the present invention (Sample 3)
-1) was obtained.
【００６９】また、酸素ガスの流量を３．７５ｓｃｃｍ
とし、酸化珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように成膜
時間を３分間に設定した他は、試料３−１と同様にし
て、本発明の透明バリアフィルム（試料３−２）を得
た。 （比較例３）酸素ガスの流量を２．５ｓｃｃｍとし、酸
化珪素薄膜の膜厚が５００Åとなるように成膜時間を２
分５０秒間に設定した他は、実施例３と同様にして、バ
リアフィルム（比較試料３）を得た。 （評価）上記のようにして作製した各透明バリアフィル
ムの酸化珪素薄膜について、屈折率と赤外吸収ピーク位
置を下記のようにして測定し、結果を下記の表１に示し
た。Further, the flow rate of the oxygen gas is set to 3.75 sccm.
A transparent barrier film of the present invention (Sample 3-2) was obtained in the same manner as in Sample 3-1 except that the film formation time was set to 3 minutes so that the thickness of the silicon oxide thin film became 500 °. . (Comparative Example 3) The flow rate of oxygen gas was set to 2.5 sccm, and the film formation time was set to 2 so that the thickness of the silicon oxide thin film became 500 °.
A barrier film (Comparative Sample 3) was obtained in the same manner as in Example 3, except that the time was set to 50 minutes. (Evaluation) The refractive index and infrared absorption peak position of the silicon oxide thin film of each transparent barrier film produced as described above were measured as described below, and the results are shown in Table 1 below.
【００７０】屈折率 エリプソメトリー（Ｊｏｂｉｎ Ｙｖｏｎ社製 ＵＶＩ
ＳＥＬ）を用いて可視光域全域において測定し、波長６
３３ｎｍにおける測定値を屈折率とした。 Refractive index ellipsometry (UVI manufactured by Jobin Yvon)
SEL), and measured over the entire visible light range.
The measured value at 33 nm was defined as the refractive index.
【００７１】赤外吸収ピーク位置 フーリエ変換赤外分光測定装置（日本分光（株）製 Ｆ
Ｔ／ＩＲ−６００）を用いて測定し、１０００〜１１０
０ｃｍ-1の間にあって、最も大きな吸収を示すピークを
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉの伸縮振動吸収のピークとし、そのピー
ク位置を測定した。 Infrared Absorption Peak Position Fourier Transform Infrared Spectrometer (manufactured by JASCO Corporation, F
T / IR-600).
The peak having a maximum absorption between 0 cm −1 was defined as the peak of stretching vibration absorption of Si—O—Si, and the peak position was measured.
【００７２】また、上記のようにして作製した各透明バ
リアフィルムについて、下記の条件で酸素透過率、水蒸
気透過率、および後加工適性・充填包装適性を測定、評
価して、結果を下記の表１に示した。For each of the transparent barrier films produced as described above, the oxygen permeability, the water vapor permeability, and the suitability for post-processing and filling / packaging were measured and evaluated under the following conditions. 1 is shown.
【００７３】酸素透過率 酸素ガス透過率測定装置（モダンコントロール社製ＯＸ
ＴＲＡＮ２／２０）を用いて、温度２３℃、湿度５０％
ＲＨで測定した。 Oxygen permeability Oxygen gas permeability measuring device (OX manufactured by Modern Control Co., Ltd.)
TRAN 2/20), temperature 23 ° C, humidity 50%
Measured at RH.
【００７４】酸素バリア性の実用レベル：６．０ｃｃ／
ｍ2 ・ｄａｙ・ａｔｍ以下水蒸気透過率 水蒸気透過率測定装置（モダンコントロール社製ＰＥＲ
ＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１）を用いて、温度３８℃、湿
度１００％ＲＨで測定した。Practical level of oxygen barrier property: 6.0 cc /
m 2 · day · atm or less Water vapor permeability Water vapor permeability measurement device (PER manufactured by Modern Control Co., Ltd.)
MATRAN-W3 / 31) at a temperature of 38 ° C. and a humidity of 100% RH.
【００７５】水蒸気バリア性の実用レベル：６．０ｇ／
ｍ2 ・ｄａｙ・ａｔｍ以下後加工適性・充填包装適性 ２液硬化型ポリウレタン系樹脂の７％溶液からなる接着
剤を使用し、作製した各透明バリアフィルムの酸化珪素
薄膜上に接着剤層（厚み１μｍ）を形成した。次いで、
このプライマー層上に、低密度ポリエチレンを押し出し
コートして、厚み６０μｍのヒートシール性樹脂層を形
成し、図３に示されるような層構成の積層材を作製し
た。次に、各積層材を使用し、製袋機により製袋して図
６に示されるような３方シール型のプラスチック袋を製
造し、このプラスチック袋に醤油を充填した後、開口部
を熱融着して充填包装製品を製造した。この一連の加工
における適性を下記基準で評価して、後加工適性・充填
包装適性とした。Practical level of water vapor barrier property: 6.0 g /
m 2 · day · atm or less Post-processing suitability / fill-packing suitability Using an adhesive consisting of a 7% solution of a two-component curable polyurethane resin, an adhesive layer (thickness) was formed on the silicon oxide thin film of each transparent barrier film produced. 1 μm). Then
A low-density polyethylene was extrusion-coated on the primer layer to form a heat-sealable resin layer having a thickness of 60 μm, thereby producing a laminated material having a layer configuration as shown in FIG. Next, using each laminated material, a three-side sealed plastic bag as shown in FIG. 6 is manufactured by a bag making machine, and after filling the plastic bag with soy sauce, the opening is heated. Fused to produce a filled packaging product. Suitability in this series of processing was evaluated based on the following criteria, and the result was regarded as post-processing suitability and filling and packaging suitability.
【００７６】（評価基準） ○：外観上欠陥はなく、通用環境下で数日経過後の内容
物に全く変質がなく鮮度を保持していた。(Evaluation Criteria) ：: No defects in appearance, and the contents after several days passed without any alteration under normal environment, and maintained freshness.
【００７７】×：外観上欠陥を生じた、あるいは、通用
環境下で数日経過後の内容物に著しい変質が生じた。X: Defects appeared on the appearance, or the contents were remarkably deteriorated after several days in a normal environment.
【００７８】[0078]
【表１】 表１に示されるように本発明の透明バリアフィルムは、
いずれも優れたバリア性と後加工適性、充填包装適性を
有し、透明性にも優れることが確認された。[Table 1] As shown in Table 1, the transparent barrier film of the present invention comprises:
All were confirmed to have excellent barrier properties, suitability for post-processing, suitability for filling and packaging, and excellent transparency.
【００７９】一方、比較試料１−２、比較試料２は、本
発明の透明バリアフィルムに比べて酸素バリア性、水蒸
気バリア性とも大きく劣り、さらに後加工適性、充填包
装適性も不十分なものであった。また、比較試料１−
１、比較試料３は、バリア性、後加工適性、充填包装適
性は良好であるものの、着色が生じて透明性のないもの
であった。On the other hand, Comparative Samples 1-2 and Comparative Sample 2 are inferior in both oxygen barrier property and water vapor barrier property as compared with the transparent barrier film of the present invention, and further have insufficient post-processing suitability and filling / packaging suitability. there were. Comparative sample 1-
1. Comparative Sample 3 had good barrier properties, suitability for post-processing, and suitability for filling and packaging, but was colored and lacked transparency.
【００８０】[0080]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば物
理気相蒸着法（ＰＶＤ法）により形成した酸化珪素を主
体とする薄膜からなるバリア層が、波長６３３ｎｍにお
ける屈折率が１．４６〜１．６０の範囲内にある、およ
び／または、赤外分光法による分光スペクトルにおいて
１０２０〜１０５０ｃｍ-1の範囲内に珪素原子と酸素原
子からなる伸縮振動吸収（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮モード）
のピークをもつものであり、優れた透明性をもつととも
に、緻密であり高いバリア性および耐衝撃性をもつの
で、このようなバリア層を備えた透明バリアフィルム
は、透明性に優れ、曲げなどによるクラックの発生がな
く高いバリア性を安定して維持することができ、また、
廃棄時における環境上の問題やバリア性の湿度依存もな
い。この透明バリアフィルムを用いた積層材は、上記の
各特性に加えヒートシール性樹脂層による後加工適性を
備えるものであり、このような積層材を製袋または製函
した包装用容器は、内容物の充填包装適性に優れ、か
つ、良好な電子レンジ適性を有する。As described in detail above, according to the present invention, the barrier layer composed of a thin film mainly composed of silicon oxide formed by physical vapor deposition (PVD) has a refractive index of 1.33 at a wavelength of 633 nm. Stretching vibration absorption (Si-O-Si stretching mode) consisting of silicon atoms and oxygen atoms in the range of 46 to 1.60 and / or in the range of 1020 to 1050 cm -1 in the spectrum by infrared spectroscopy. )
The transparent barrier film provided with such a barrier layer is excellent in transparency, bending, etc., because it has high transparency, and is dense and has high barrier properties and impact resistance. High barrier properties can be stably maintained without the occurrence of cracks due to
There is no environmental problem at the time of disposal, and there is no dependency on barrier properties against humidity. The laminated material using this transparent barrier film has post-processing suitability with a heat-sealable resin layer in addition to the above-described properties. It has excellent suitability for filling and packaging of materials and good suitability for microwave ovens.
【図１】本発明の透明バリアフィルムの一実施形態を示
す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a transparent barrier film of the present invention.
【図２】本発明の透明バリアフィルムの製造に使用する
真空蒸着装置の一例を示す概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a vacuum evaporation apparatus used for manufacturing the transparent barrier film of the present invention.
【図３】本発明の透明バリアフィルムを用いた積層材の
一実施形態を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view showing an embodiment of a laminated material using the transparent barrier film of the present invention.
【図４】本発明の透明バリアフィルムを用いた積層材の
他の実施形態を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing another embodiment of a laminated material using the transparent barrier film of the present invention.
【図５】本発明の透明バリアフィルムを用いた積層材の
他の実施形態を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the laminated material using the transparent barrier film of the present invention.
【図６】本発明の透明バリアフィルムを用いた包装用容
器の一実施形態を示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view showing an embodiment of a packaging container using the transparent barrier film of the present invention.
【図７】本発明の透明バリアフィルムを用いた包装用容
器の他の実施形態を示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view showing another embodiment of a packaging container using the transparent barrier film of the present invention.
【図８】図７に示される包装用容器の製造に使用するブ
ランク板の平面図である。FIG. 8 is a plan view of a blank plate used for manufacturing the packaging container shown in FIG.
１…透明バリアフィルム ２…基材フィルム ３…バリア層 １１，２１，３１…積層材 １２，２２，３２…アンカーコート剤層、接着剤層 １３，２３，３３…ヒートシール性樹脂層 ２４，３４…基材 ３５…ヒートシール性樹脂層 ５１，６１…包装用容器 １０１…真空蒸着装置 １０２…真空チャンバー １０４…コーティングドラム １０５…蒸着チャンバー １０７…原料 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent barrier film 2 ... Base film 3 ... Barrier layer 11,21,31 ... Laminated material 12,22,32 ... Anchor coating agent layer, adhesive layer 13,23,33 ... Heat sealing resin layer 24,34 ... Base material 35 ... Heat-sealable resin layer 51,61 ... Packing container 101 ... Vacuum deposition device 102 ... Vacuum chamber 104 ... Coating drum 105 ... Deposition chamber 107 ... Raw material
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ３２Ｂ 27/36 Ｂ３２Ｂ 27/36 // Ｂ６５Ｄ 5/40 Ｂ６５Ｄ 5/40 Ａ 30/02 30/02 Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B32B 27/36 B32B 27/36 // B65D 5/40 B65D 5/40 A 30/02 30/02
Claims (9)
くとも一方の面に設けられたバリア層とを少なくとも有
し、前記バリア層は物理気相蒸着法（ＰＶＤ法）により
形成された酸化珪素を主体とする薄膜であって波長６３
３ｎｍにおける屈折率が１．４６〜１．６０の範囲内に
あることを特徴とする透明バリアフィルム。At least one substrate film and a barrier layer provided on at least one surface of the substrate film, wherein the barrier layer is formed of silicon oxide formed by a physical vapor deposition (PVD) method A thin film mainly composed of
A transparent barrier film having a refractive index at 3 nm in the range of 1.46 to 1.60.
くとも一方の面に設けられたバリア層とを少なくとも有
し、前記バリア層は物理気相蒸着法（ＰＶＤ法）により
形成された酸化珪素を主体とする薄膜であり、該バリア
層の赤外分光法により測定した分光スペクトルにおい
て、１０００〜１１００ｃｍ-1の範囲に最も大きな吸収
を示すピークとして現れる珪素原子と酸素原子からなる
伸縮振動吸収（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮モード）のピークの
位置が１０２０〜１０５０ｃｍ-1の範囲内にあることを
特徴とする透明バリアフィルム。2. A semiconductor device comprising at least a base film and a barrier layer provided on at least one surface of the base film, wherein the barrier layer is formed by a physical vapor deposition (PVD) method. And a stretching vibration absorption comprising silicon atoms and oxygen atoms appearing as a peak showing the largest absorption in the range of 1000 to 1100 cm -1 in a spectrum of the barrier layer measured by infrared spectroscopy ( A transparent barrier film, wherein the peak position of (Si-O-Si stretching mode) is in the range of 1020 to 1050 cm -1 .
ピレンフィルム、二軸延伸ポリアミドフィルム、およ
び、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのい
ずれかであることを特徴とする請求項１または請求項２
に記載の透明バリアフィルム。3. The film according to claim 1, wherein the substrate film is any one of a biaxially oriented polypropylene film, a biaxially oriented polyamide film, and a biaxially oriented polyethylene terephthalate film.
4. The transparent barrier film according to 1.
の透明バリアフィルムの少なくとも一方の面にヒートシ
ール性樹脂層を設けたことを特徴とする積層材。4. A laminate comprising a heat-sealing resin layer provided on at least one surface of the transparent barrier film according to claim 1.
の透明バリアフィルムのバリア層上にヒートシール性樹
脂層を設けたことを特徴とする積層材。5. A laminated material comprising a heat-sealing resin layer provided on a barrier layer of the transparent barrier film according to claim 1.
ム上に基材を積層して備えることを特徴とする請求項５
に記載の積層材。6. The method according to claim 5, wherein a substrate is laminated on a substrate film on which no barrier layer is formed.
The laminated material according to the above.
ことを特徴とする請求項６に記載の積層材。7. The laminated material according to claim 6, wherein a heat-sealing resin layer is provided on the base material.
にアンカーコート剤層および／または接着剤層を有する
ことを特徴とする請求項４乃至請求項７のいずれかに記
載の積層材。8. The laminate according to claim 4, further comprising an anchor coat agent layer and / or an adhesive layer between the barrier layer and the heat-sealing resin layer.
の積層材を用い、ヒートシール性樹脂層を熱融着して製
袋または製函したことを特徴とする包装用容器。9. A packaging container obtained by heat-sealing a heat-sealable resin layer using the laminated material according to claim 4 to form a bag or a box.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10095317A JPH11268172A (en) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | Transparent barrier film, and laminate material and packaging container using the film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10095317A JPH11268172A (en) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | Transparent barrier film, and laminate material and packaging container using the film |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007045137A Division JP4616850B2 (en) | 2007-02-26 | 2007-02-26 | Method for producing transparent barrier film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11268172A true JPH11268172A (en) | 1999-10-05 |
Family
ID=14134382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10095317A Pending JPH11268172A (en) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | Transparent barrier film, and laminate material and packaging container using the film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11268172A (en) |
-
1998
- 1998-03-24 JP JP10095317A patent/JPH11268172A/en active Pending
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